JP3735627B2 - 反射鏡部材の製造方法 - Google Patents
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- 熱CVD法により1300〜1500℃、10〜300torrの減圧下で原料ガスと水素ガスとからなる反応ガスを導入し、成膜初期の反応ガスの原料ガス濃度を高め成膜し、その後で前記原料ガス濃度を前記成膜初期よりも低下せしめて成膜し、X線回折測定で(111)、(220)及び(311)のうち少なくとも1種の結晶が検出される炭化珪素膜を作製し、しかる後に炭化珪素膜の表面を研磨することを特徴とする反射鏡部材の製造方法。
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