JP3689069B2

JP3689069B2 - ＳｉＣウエハー酸化装置

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Publication number: JP3689069B2
Application number: JP2002173577A
Authority: JP
Inventors: 高稔山本; 由明禅野
Original assignee: 株式会社エピクエスト
Priority date: 2002-06-14
Filing date: 2002-06-14
Publication date: 2005-08-31
Anticipated expiration: 2022-06-14
Also published as: JP2004022688A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はＳｉＣ基板を酸化し酸化膜を生成する酸化装置に関する。ＳｉＣ結合が堅固であり酸化されにくいので耐火部材として用いられる。耐摩耗性を増強するため煉瓦の材料としてＳｉＣを添加することがある（▲１▼特開２０００−３１９０６３）。繊維状にしたＳｉＣは耐熱性、強度に優れるのでセラミックの一部に加えられセラミック複合体として厳しい使用環境において使用される製品に用いられる（▲２▼特開平１１−４９５７０）。
【０００２】
ＳｉＣの粉末は包装用フィルム、リチウムイオン電池の負極活物質として用いられる（▲３▼特開２００１−２２０１２４）。ＳｉＣはまた適当な電気抵抗があって、しかも酸化しにくいので減圧雰囲気（１Ｐａ〜１００００Ｐａ）でＳｉＣヒータとしても用いられる（▲４▼特開平８−１９１０４９）。また炭素繊維の上にＳｉＣ被膜を形成することによって炭素繊維の弱点である耐酸化性、耐腐食性を補うように用いられる（▲５▼特開平１１−３０２０９０）。そのようにＳｉＣは活性にとぼしく、耐火性、耐熱性、耐酸化性、耐腐食性、耐摩耗性に優れた材料として粉体、粒状体、ブロック体、被膜などとして用いられてきた。
【０００３】
【従来の技術】
そのような不活性物質とされてきたＳｉＣに新しい用途が開けつつある。それは半導体デバイス材料としての用途である。ＳｉＣ（炭化珪素）は新規なパワーデバイス用半導体として注目されている。パワーデバイスというのはパワートランジスタやサイリスタなどで高耐圧、大電流を扱うことができる半導体デバイスのことである。既にＳｉのパワートランジスタやサイリスタが既に広く利用されている。Ｓｉパワーデバイスの実績は豊富でその堅固な地位に揺るぎはない。
【０００４】
しかしＳｉ半導体よりもＳｉＣ半導体は幾つかの優れた点がある。ＳｉＣはバンドギャップがＳｉの３倍程度も広い。バンドギャップが大きいのでＳｉＣを用いた半導体素子は高耐圧になる筈である。またＳｉＣの飽和移動度はＳｉの２倍もあるので高速で絶縁破壊しにくい素子を作製できる可能性がある。不純物濃度を高くしても絶縁破壊が起こりにくいのでトランジスタ、サイリスタにした場合のオン抵抗をＳｉの場合よりも低くできる可能性がある。オン抵抗が低いということは大電流を流すことができる、ということである。もともと耐火材料に使われるぐらいでＳｉ半導体よりもはるかに高温に耐えられるから素子の冷却がより簡易になる。
【０００５】
そのようにバンドギャップが広く電子移動度が高く耐圧が高く耐熱性があり堅牢なのであるから優れた半導体素子材料となる可能性がある。
【０００６】
しかしＳｉＣデバイスを製造するまでには幾つか克服しなければならない問題点がある。まずＳｉＣ単結晶を製造するのが難しい。半導体デバイス製造の出発材料としての単結晶ＳｉＣウエハーがなかなか得られない。固体ＳｉＣ原料を２０００℃以上に加熱しても融液にならない。だから通常のチョクラルスキー法、ブリッジマン法などで単結晶を育成できない。固体原料を加熱すると昇華するので特別な昇華法によって種結晶の上にＳｉＣの単結晶を成長させるという方法が試みられている。
【０００７】
そのような方法で単結晶ウエハーができるようになってきた。が、今でもせいぜい直径２インチ程度であり、最大でも直径３インチ程度のごく小さいＳｉＣウエハーしか得られないという状況である。
【０００８】
その他にも問題がある。不純物のドープによってｎ型、ｐ型の導電性を得るようにするのが半導体デバイスに共通の特徴である。しかし現在のところＳｉＣは不純物ドープによって任意のキャリヤ濃度のｐ型、ｎ型にするということは難しい。だから当然にＳｉＣはｐｎ接合を作るのが難しい。金属とのショットキー接合を作ることはできる。金属とのショットキー接合によるダイオードが試作されている。そのダイオードでは数百Ｖの耐圧があるのが確かめられた、という。
【０００９】
様々の電界効果トランジスタ、バイポーラトランジスタ、パワートランジスタの提案が多数なされているが、それはＳｉ半導体をなぞっただけのいまだ架空の提案といってよい。それは周辺技術が未成熟であって、低転位ＳｉＣ基板の製造の問題、オーミック電極の問題、ｎ型不純物ドープの問題、ｐ型ドープの問題、酸化膜の問題など基本的な問題が解決されていないからである。
【００１０】
そのようにＳｉＣ半導体はまだまだ研究途上にあって解決すべき問題がいくつもある。それらをコツコツと一つ一つ解決して行かなければならない。ここで問題にするのは酸化膜の製造である。酸化膜は絶縁膜としてデバイス製造に必要である。ＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＧａＮなどの化合物半導体の場合はそれ自身を酸化して絶縁膜とするということはしない。ＳｉＮ、ＡｌＮ、ＳｉＯ_２などの絶縁膜を付加するということになる。
【００１１】
しかしＳｉの場合はそれ自身を酸化し酸化膜（ＳｉＯ_２）によって絶縁膜を構成する。Ｓｉ半導体が豊かな実績をもつのは、一つには所望の酸化膜を容易に作製できたからである。ＳｉＣの場合の酸化装置は先行例というほどのものがないのでＳｉ半導体の酸化装置について述べよう。Ｓｉの場合の酸化は理論によく従い優れた再現性で酸化膜を形成することができる。
【００１２】
Ｓｉ基板の酸化は乾燥酸素を用いるドライ酸化と水蒸気を用いるウエット酸化がある。水蒸気の方が拡散係数がずっと高いのでウエット酸化の方が１０倍程度酸化速度が早い。Ｓｉ半導体の場合、酸素（或いは水蒸気）雰囲気で比較的低温で加熱することによって容易にＳｉＯ_２絶縁膜が製造できる。Ｓｉウエハーの熱酸化炉としては３種類のものがある。
【００１３】
（Ａ）横型拡散炉
水平に置かれた石英管の廻りにコイル状のヒータを巻いておき、１５０枚のＳｉウエハーを立てて石英ボートに入れ、ボートを石英管に挿入し、酸素ガスあるいは水蒸気ガスを石英管に導入し、抵抗加熱ヒータによって７００℃〜８００℃に加熱し、ボートを５ｃｍ／分程度の速度で少しずつ熱分布の中で横移動させることによってＳｉウエハーを酸化する。必要な酸化膜の厚さによって酸化時間は異なる。ウエハーを立てて保持するからウエハー面内にストレスがかからずスループットが高いという利点がある。
【００１４】
（Ｂ）縦型拡散炉
縦に置かれた石英管の廻りにコイル状のヒータを巻いておき、縦型のウエハーカセットに１００枚程度のウエハーを水平に保持し、酸素ガスあるいは水蒸気ガスを石英管に導入しながら抵抗加熱ヒータによって加熱しＳｉウエハーを熱酸化する。ウエハーを水平保持するからウエハー面内での温度均一性が良い。大量処理するのでスループットも高い。ガス流れが上から下へと向かうので外気を巻き込みにくいという利点がある。しかしウエハーを３点で支持し重みによってウエハーが歪むので応力が生じ易いという問題がある。
【００１５】
（Ｃ）ＲＴＰ装置（Rapid Thermal Processing）
石英でできたウエハー室の内部に回転できる金属リングを設ける。上方にはランプハウスがあり多数のハロゲンランプが均一分布で設けられる。ランプハウスは石英板でできた密封空間である。ハロゲンランプはランプハウスによってＳｉウエハーの酸素雰囲気と遮断される。ウエハー室のリングの上にピンによって一枚のＳｉウエハーを支持し回転させる。ウエハー室に酸素、水蒸気ガスを吹き込む。回転するＳｉウエハーの表面を多数のハロゲンランプによって照射し加熱する。ランプ加熱であるから昇温時間が極めて短い。数十秒程度でＳｉウエハー表面を熱酸化することができる。面内均一性は数十個のランプの分布を均一にすることによって充分に実現される。雰囲気ガスの制御が厳密で短時間処理できるという利点がある。反面、１枚ずつの処理になるからスループットは低い。
【００１６】
Ｓｉの熱酸化はそのように抵抗加熱ヒータによって加熱するＡ、Ｂの方式と、ハロゲンランプによって加熱するＣの方式がある。加熱温度は７００℃〜１０００℃程度である。温度を上げるほど酸素の拡散速度が早くなり処理時間は短くなるが熱歪みも大きくなるし電力費も嵩むので好ましくない。Ｓｉの熱酸化の場合は酸素原子の残留が問題になることがある。ＳｉＯ_２層の内部に酸素原子が残留すると所望の電気抵抗、静電容量が得られない。しかしＳｉと酸素しか存在しないのだから熱酸化は比較的簡単である。
【００１７】
ＳｉＣ半導体の場合も絶縁膜は酸化膜によって構成できるようである。ＳｉＣを酸化するとＳｉＯ_２＋ＣＯ_２となるが、ＣＯ_２はガスとなって排除され酸化膜として残るのはＳｉＯ_２である。単に保護や絶縁だけの目的の絶縁膜としてではなくてＭＯＳ−ＦＥＴのゲート絶縁膜としても有用であろうと考えられる。その場合は薄くて均一性が良くて欠陥のない酸化膜とならなければならない。
【００１８】
ＳｉＣ基板の表面を酸化して結果として残ったものはＳｉＯ_２であり、Ｓｉ半導体の場合と同様である。しかし、そうはいってもＳｉの場合のように容易ではない。
【００１９】
ＳｉＣの酸化装置としては、先述のＳｉ半導体の場合の酸化装置のような横型酸化装置Ａ、縦型酸化装置Ｂ、ＲＴＰ装置Ｃなどを転用することが考えられよう。しかしＳｉの酸化装置をそのままＳｉＣの酸化装置に応用することはできない。
【００２０】
Ｓｉはもともと酸化され易い材料である。常温でも酸化されＳｉウエハーの表面は常に自然酸化膜によって覆われている。しかしＳｉＣはＳｉより化学的にずっと安定であるから容易に酸化しない。常温では酸化しないし、酸素雰囲気でかなりの高温でなければ堅牢な酸化膜が得られない。
【００２１】
それだけではなくて炭素Ｃの残留の問題がある。ＳｉＣを酸化するとＣはＣＯ_２ガスとなって散逸しＳｉＯ_２酸化膜だけが残留すると考えられる。しかしながら炭素が完全に酸化されるかというとそうでもない。Ｃ、ＣＯ、ＣＯ_２が発生し、Ｃが残留することもある。Ｃの存在がＳｉＣの酸化膜形成の問題を複雑にしている。炭素Ｃは導電性をもつので、それは絶縁性を損なうし、厚みにしても静電容量が所定の値からずれてくるという可能性がある。さらに炭素は多数の不純物レベルを作り出すのでＦＥＴとしても所望の増幅作用が得られない。つまりＣが酸化膜ＳｉＯ_２の中に残留しては困る。
【００２２】
▲６▼特開２００１−２１０６３７は残留炭素の問題に初めて着眼したものである。熱酸化の場合に炭素が残留することがある。また熱酸化の後にアニールすることがあるがアニールによって炭素が発生することもある。そこで残留炭素Ｃと一旦できたＳｉＯ_２を反応させて、ＳｉＣとＣＯ、ＣＯ_２を作り出すようにしたら良いということを提案している。そのためには
【００２３】
ＳｉＯ_２＋３Ｃ→ＳｉＣ＋２ＣＯ＋Ｇ_３
【００２４】
ＳｉＯ_２＋２Ｃ→ＳｉＣ＋ＣＯ_２＋Ｇ_４
【００２５】
によって定義される還元反応のギブス自由エネルギーＧ_３、Ｇ_４が負であれば良い、と主張している。その反応のギブス自由エネルギーを負にするためには酸素濃度が極めて低くかつ高温であれば良いと述べている。特にＧ_３を負にするのは難しくて、酸素モル濃度が１０^−３でも１２００℃以上でなければならないとしている。上記の反応は酸化反応ではなく一旦できたＳｉＯ_２を利用して残留炭素を減らそうとした還元反応である。
【００２６】
化学反応は物質に内在するギブス自由エネルギーを減らす方向に進むものである。Ｇ_３、Ｇ_４が負だということは反応を右に進行させるということである。右に進行させ還元反応をおこさせて残留炭素Ｃを除く。本質的に還元反応だから酸素濃度はできるだけ低くなくてはならない。ギブス自由エネルギーに酸素濃度はＲＴｌｏｇ［Ｏ^２］の形で含まれるから、それは当然である。その項は負であるが、酸素濃度が低いほど、温度Ｔが高いほど大きく負になるから全体として負になるには、酸素濃度が低く温度Ｔが高いほど良いと言っている。
【００２７】
これは酸化でなく還元の問題であるが、１２００℃以上ということを述べている文献だから、ここに挙げている。しかし還元性雰囲気だから加熱ヒータの設計はずいぶんと楽になる。ヒータが酸化されるという問題がないからである。しかし、この文献はヒータの構造については何も述べていない。
【００２８】
特に電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）のゲート酸化膜とする場合は炭素の残留が問題になることもある。それは導電性を与え絶縁性を落とすし静電容量の値も所望の値からずれてきてスイッチ電圧の閾値がばらつくという問題を引き起こす可能性がある。
【００２９】
本発明者は、一旦熱酸化したＳｉＣをまたまた還元するという文献▲６▼の手法には首肯することができない。しかし残留炭素が問題であるということには同意できる。本発明者は酸化反応と還元反応の組み合わせ（▲６▼）でなく、酸化反応だけで良質の酸化膜を製造したいと思う。そのためには残留するＣができるだけ少なくなるようにしなければならない。それにできたＳｉＯ_２膜が高品質のものでなければならない。そのためにはＳｉよりずっと高い温度でＳｉＣを熱酸化する必要がある、と思うのである。酸化反応
【００３０】
ＳｉＣ＋２Ｏ_２→ＳｉＯ_２＋ＣＯ_２
【００３１】
が完全におこらず、余剰の炭素Ｃが残るというのはやはり温度が低いからである。より高温であれば、そのようなことは起こるはずがないのである。しかし酸化雰囲気で充分に高温に加熱できるヒータが現存しないから▲６▼は酸化を１０００℃程度で行い、その後１２００℃以上の非酸素雰囲気で還元してＣを除こうとしているのである。
【００３２】
面白い着想であるが、そもそも安定なＳｉＯ_２を炭素Ｃによって還元させるために、そのような高温が新たに必要になってきているのである。それは熱経済的に考えれば二重に無駄なことであると言わねばならない。
【００３３】
本発明者は一回の酸化で良質の酸化膜を作りたい。そのためにＳｉよりもずっと高い温度で酸化すればよい、と思う。Ｓｉよりずっと高い温度でというと１０００℃以上あるいは１２００℃以上の高温で酸化するということになろう。そのような高温を得るにはヒータとＳｉＣ基板をできるだけ近付ける必要がある。ヒータとＳｉＣ基板を近付けるとなるとヒータも酸素雰囲気にさらされる。すると酸素雰囲気でヒータに通電してヒータによって加熱することになるから抵抗加熱ヒータの場合ヒータ自体が酸化されてしまい劣化するという難点がある。酸素雰囲気で１０００℃を越えて発熱しヒータ自身は酸化されないというような都合の良い材料はない、と思う。
【００３４】
ヒータになるのだから電気の良導体でなければならない。しかも高温酸素雰囲気で酸化しないというような材料は得難い。タングステン（Ｗ）フィラメントはヒータとしてよく使われるが酸素があるとすぐに劣化する。ニクロム線、カンタル線などの金属抵抗線はやはり酸化されて役に立たない。酸化物ならそれ以上酸化する恐れはない訳であるが、酸化物は多くが絶縁体であり、電気の良導体でヒータに使えるというものは見出し難い。
【００３５】
非金属でヒータ材料としてよく使われるものにカーボン抵抗体がある。カーボンは電気をよく通し安価であるから炉のヒータ材料としてよく使われる。しかしカーボンヒータも酸素雰囲気にあると簡単に酸化されて燃えて二酸化炭素になり消滅する。これらの金属抵抗体、カーボン抵抗体をヒータとするには酸素のない雰囲気で使用しなければならない。
【００３６】
そこで現在は、ランプ加熱によって酸素雰囲気で加熱してＳｉＣ酸化膜を作るという試みがなされているようである。
【００３７】
ＳｉＣ基板酸化装置の従来例を図１に示す。
図１においてＳｉＣ基板１が透明石英管２の内部に置かれている。石英管２の外周部には多数のランプヒータ３が均一に設けられる。石英管２には酸素源ガス（乾燥酸素、水蒸気）が流される。酸素源ガスを流しながらランプヒータ３によってＳｉＣ基板１を照射して加熱することによってＳｉＣの表面をＳｉＯ_２に熱酸化する。ランプ加熱であるから抵抗加熱ヒータとは違って光を照射し光が熱に変換されてＳｉＣウエハーを加熱するということになる。真空ガラス容器に入れられたフィラメントに通電することによってランプが光るのであるから、フィラメントは酸素雰囲気とは切り離されており酸化の可能性はない。ランプ数やパワーを増やすことによって対象であるＳｉＣウエハーの温度を上げることができる。
【００３８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしランプ加熱法には欠点がある。ランプ一つ一つのパワーは小さいものである。だから、たくさんのランプをウエハーを囲むように分布させなければならない。小さいウエハーの場合は良いが、大型のウエハーではランプ加熱は難しい。大面積ウエハーの酸化には不適だということである。
【００３９】
それにＳｉＣはバンドギャップが広くて光に対して透明に近くランプ光を通してしまう。ランプ光の吸収が悪い。加熱効率が良くない。これも熱効率ということでは問題である。それだけではない。
【００４０】
ランプは光を照射するのであるから透明な石英管の内部にＳｉＣウエハーを、外部にランプを配置することになる。光を通すために中間にある容器は透明でなければならない。透明であって耐熱性が高い材料というと、それは石英管に限られる。石英管は優れた透明耐熱材料であるが、それでも１２００℃以上の温度には耐えられない。１２００℃以上に加熱すると軟化し溶融する。
【００４１】
だからランプ自体は１２００℃以上の色温度を持っているとしても石英管を通じて大型ＳｉＣウエハーを１２００℃以上の温度に加熱することは難しい。
同様に、石英管の外側にコイル状の抵抗加熱ヒータを設けたＳｉ酸化用のＡ、Ｂのような装置もヒータ温度を１２００℃以上にすると石英管が溶けてしまうので役には立たない。
【００４２】
現在試みられているＳｉＣ酸化は最高で１０００℃程度である。Ｓｉウエハーと違ってＳｉＣは１０００℃の高温でもなお不十分である。不十分というのは二つの意味がある。一つは酸化の進行速度が遅いということである。もう一つはできた酸化膜の品質が悪いということである。酸化膜の品質が悪いのは先述の残留炭素Ｃの問題もあるし膜の構造の問題もある。
【００４３】
だからＳｉＣを酸化して表面に高品質の酸化膜を形成するにはもっと高温で熱酸化する必要がある、と本発明者は考えている。図１のようなランプ加熱は大面積ウエハーには不向きだし温度は石英管の耐熱性によって制限される。図１のランプ加熱だと１０００℃がせいぜいであり１２００℃以上には絶対に加熱することができない。
【００４４】
つまり従来のランプ加熱では大型ウエハーの処理ができず、１２００℃以上には加熱できないという欠点がある。かといって、酸素雰囲気中で１４００℃の高温に耐え、かつ大面積抵抗加熱可能なヒータは現存しない。
【００４５】
本発明は、最高１４００℃の高温で大面積のＳｉＣウエハーを酸化処理できる酸化装置を提供する事を目的とする。
【００４６】
【課題を解決するための手段】
本発明のＳｉＣ酸化装置は、上半部がＳｉＣ、下半部が石英よりなるヒータ室に抵抗加熱ヒータを収容し、ヒータ室を非酸素雰囲気とし、ヒータ室の外側に、ＳｉＣウエハー、酸素ガス供給ノズルを設け、ＳｉＣウエハーは酸素雰囲気にあるが、抵抗加熱ヒータは非酸素雰囲気にあるようにしヒータの酸化を防ぎ、１４００℃の高温にＳｉＣウエハーを加熱できるようにする。
【００４７】
炉内にさらに、非酸化雰囲気のヒータ室を設け、そこに抵抗加熱ヒータを設けたというところが本発明の工夫の存するところである。酸素雰囲気で１４００℃以上の温度になっても酸化しないというような抵抗加熱ヒータ材料は存在しない。しかし本発明のようにヒータだけを非酸素雰囲気に収容してしまえばヒータは酸化しない。ヒータ室の外側は酸素雰囲気であるから、ヒータ室と炉内でヒータ室外とは厳密に遮断されていなければならない。
【００４８】
ランプ加熱でなくて抵抗加熱なので大面積のＳｉＣウエハーを対象にすることができるのである。抵抗加熱だから石英管でランプとＳｉＣウエハーの間を遮断する必要がない。本発明はＳｉＣによってＳｉＣウエハーと抵抗加熱ヒータの間を遮断しているが輻射熱を通すのだからＳｉＣでも良いわけである。
【００４９】
【発明の実施の形態】
本発明には次の利点がある。上記ヒータを離隔した構造によりヒータ自身は酸化から護ることができ、かつ大面積化にも対応できる。また石英を使用しないので１４００℃を越える温度まで加熱することができるようになる。ＳｉＣ基板の酸化速度を上げることができる。
【００５０】
［Ａ．抵抗加熱ヒータ］
対象となるＳｉＣウエハーが１４００℃になるのだからヒータの温度は１８００℃とか１９００℃にもなるかもしれない。そのような温度に耐えるものであれば良い。非酸素雰囲気にあるので酸化の心配をしなくてよい。耐熱性のある抵抗体であればヒータに使うことができる。安価なカーボンヒータが用いられる。その他にもＳｉＣヒータ、Ｗヒータなどを抵抗加熱ヒータとして利用できる。
【００５１】
［Ｂ．ヒータ室］
ヒータ室として上半分がＳｉＣ、下半分が石英の容器を用いる。下半分に石英を使うのは石英がかなりの耐熱性があり、しかも熱伝導が悪いのでチャンバ底壁に熱が伝わりにくくするためである。上半分にＳｉＣを使うのは耐熱性を重んじるからである。上半分は高熱状態になり石英では熱で持たない。サセプタは酸素に曝されるから高温になる部分をＳｉＣとする。ＳｉＣウエハーを酸化させるのが目的だから、その近辺にあるＳｉＣサセプタの表面も酸化されてしまう訳であるが、ある程度の厚みまで酸化が進行しＳｉＯ_２になれば、それ以上酸化が進行しない。ＳｉＯ_２は酸素雰囲気では安定である。
【００５２】
［Ｃ．雰囲気］
炉内であって、ヒータ室の外側は酸素雰囲気あるいは水蒸気雰囲気になる。それはＳｉＣを酸化するためだから当然である。ヒータ室の内部は一旦真空に引いてからＡｒ、ネオンなどの希ガスを導入してヒータを酸化から防護する。
【００５３】
［Ｄ．酸素供給］
ＳｉＣウエハーを酸化させるために、酸素源として、乾燥酸素あるいは水蒸気を吹き込む。水蒸気の方が拡散係数が１０倍近く高いので酸化速度は早い。
【００５４】
［Ｅ．酸素供給ノズル］
酸素供給ノズルは下面に多数の細かい穴をもっており、そこから均一分布になるように酸素、水蒸気を噴射するようになっている。酸素供給ノズルは上下方向に移動可能にするのが便利である。
【００５５】
［Ｆ．ＳｉＣウエハー支持機構］
ＳｉＣウエハーを支持する機構はＳｉＣウエハーを昇降可能に保持するようにする。そのようにすれば、ヒータ室に接触した状態でＳｉＣウエハーを加熱したり、ヒータ室と離隔した状態でＳｉＣウエハーを加熱したりすることができる。
【００５６】
［Ｇ．リフレクタ］
輻射熱を遮断するために数多くの耐熱材料の薄板を用いる。それをリフレクタと呼ぶが、タンタル（Ｔａ）薄板、タングステン（Ｗ）薄板、モリブデン（Ｍｏ）薄板などを積み重ねたものを用いることができる。板に突起を付けて接触面積を減らすことによって熱伝導を防ぎ輻射を減らすことができる。
【００５７】
【実施例】
本発明の実施例にかかるＳｉＣ酸化装置を図２に示す。本発明は抵抗加熱ヒータを用いる。非酸素雰囲気で１４００℃より少し高い温度に耐える素材であればよいので、ここではカーボンヒータ４を用いる。非酸素雰囲気なのでタングステンＷ線、タンタルＴａ線、ニクロム線、カンタル線ヒータ等でもよい。カーボンヒータは酸化雰囲気では燃えてしまって到底用いることができないが非酸素雰囲気（例えばＡｒなどの希ガス雰囲気）であればかなり高温まで利用できる。
【００５８】
渦巻状のカーボンヒータ４をここでは用いているが形状はもちろん任意である。非酸素雰囲気にするためにヒータ４の存在する空間を炉内の別の空間から遮断しなければならない。ヒータ４を炉内の空間から遮断するためにヒータ４の廻りに閉じられたヒータ室５を設ける。それが本発明の要諦である。
【００５９】
ヒータ室５は上部がＳｉＣサセプタ６よりなり下部が石英サセプタ７よりなる。ＳｉＣ／石英複合のヒータ室５というところに工夫が存する。ヒータ４の直近の上部は高熱になるからＳｉＣでサセプタを形成する。ヒータ４から離れた下半部は比較的温度が低く石英でも耐えられるので石英製とする。全体を石英製の閉空間とすると石英部分が軟化溶融する恐れがありヒータ温度を１４００℃まで上げることができない。
【００６０】
しかし本発明のように上半分をＳｉＣに下半部を石英にするとヒータ温度を１４００℃以上に上げることができる。ＳｉＣは耐熱材料として石英以上であるからである。全体をＳｉＣにすると高コストになってしまうこと及びチャンバーに熱を伝えにくくするため、それよりは半分だけをＳｉＣにして残りを熱伝導率の悪い石英にする。ヒータ４の直上には目的のＳｉＣウエハー８が戴置される。トレイのサイズによってウエハーのサイズ変更に対応できる。ここでは４インチ径のＳｉＣウエハー、６インチ径のＳｉＣウエハーにも対応できるようにしている。しかし現在入手できるＳｉＣウエハーはせいぜい２インチ径である。
【００６１】
酸化すべきＳｉＣウエハー８に対向して上方から酸素、水蒸気を供給するためのガスノズル９が垂下されている。これは上下動可能である。ガスノズル９の下方は多数の穴を穿孔した噴出口５９となっている。多数の噴出口５９によって近接した位置からＳｉＣウエハー８へ酸素、水蒸気を吹き付けることができるようになっている。
【００６２】
ガスノズル９、ヒータ４、ヒータ室５等を包囲するチャンバ２０はステンレス製の容器である。チャンバ２０は円形の底壁２２、円筒形の側壁２３、円形の天井壁２４よりなっている。天井壁２４と側壁２３の上フランジ２５はガスケット（図示しない）を介してボルト（図示しない）で締結されている。側壁の下フランジ２６と底壁２２はガスケットを介して接合されボルトで堅固に結合されている。
【００６３】
天井壁２４から垂下されているガスノズル９はノズル昇降機構２７によって昇降自在となっている。これは真空を保持するために伸縮できるベローズと直線導入機からなっている。
【００６４】
ガスノズル９に対向するＳｉＣウエハー８の方も昇降可能になっている。底壁２２に設けられたトレイ昇降機構２８はベローズと直線導入機からなり上昇下降できる。直線導入機は複数の支持棒２９を保持しそれを昇降する。支持棒２９の上頂部には円環状の支持プレート３０が固定されている。支持プレート３０の内周面には受け溝３３が切り欠いてある。受け溝３３によって円形凸型のトレイ３２の周辺部を把持するようになっている。トレイ３２の上に先述のＳｉＣウエハー８が戴置される。トレイ３２はカーボンの基材の表面にＳｉＣ被覆をかぶせたものである。ＳｉＣ被膜があるので基材のカーボンが酸化されないようになっている。カーボン自体は酸素がなければ耐熱性は充分である。もちろんトレイはその他のＳｉＣによって製作してもよい。
【００６５】
輻射熱を遮断するために多くのリフレクタが用いられている。ヒータ室５内部においてヒータ４のすぐ下には下リフレクタ３５が複数枚設けられる。リフレクタはＷ、Ｍｏの薄板を何枚も重ねたものである。１枚のリフレクタで０．８の反射率がある。だからｍ枚あれば熱の透過率は０．２^ｍとなる。枚数ｍが多いほど熱を遮断する性能は向上する。Ｍｏの薄板が重なってしまうと熱伝導で熱が逃げるから薄いＷ、Ｍｏにはいくつもの突起を作っておき突起によって上下のＷ、Ｍｏ薄板が隔離するようにするかスペーサーを入れて隔離する。隔離することによって輻射熱をよりいっそう効率的に遮蔽することができるのである。
【００６６】
ＳｉＣサセプタ６の側方にはそれを包囲して横リフレクタ３６が設けられる。ガスノズル９の噴出口５９のすぐ上には上リフレクタ３７があり熱を反射するようにしている。この図ではリフレクタの保持機構が省略されている。実際にはＳｉＣの棒を立てて、それによって薄板であるリフレクタを保持する。そのようなリフレクタの組み合わせによってヒータ熱をＳｉＣウエハー８を含む狭い空間に閉じ込めるようにしている。ここで使用するリフレクタも耐熱素性のあるＳｉＣ又はＳｉＣコートのカーボンを用いる。
【００６７】
本発明は抵抗加熱ヒータ４をヒータ室５に閉じ込め酸素から遮蔽したところに創意工夫がなされている。ヒータ室５の構造を述べる。ヒータ室５は上部のＳｉＣサセプタ６と下部の石英サセプタ７を複合したものである。ＳｉＣサセプタ６は円筒形容器を逆さまにしたような形状をしている。ＳｉＣサセプタ６は円盤状の上板３８、円筒状の側板３９、下フランジ４２等よりなる。これらは全体がＳｉＣによってできている。ＳｉＣは１４００℃以上でも軟化溶融しない。その点で石英よりも耐熱性に優れている。だからＳｉＣサセプタを上半分に用いる。カーボンにＳｉＣをコートしたものでも良い。下半分は石英のサセプタとする。石英は１４００℃という高熱に耐えないが下半分だからそのような高温にはならない。石英は熱伝導が悪いのでＳｉＣの高温を下のチャンバ底壁２２へ伝えないという利点がある。それはステンレスであるチャンバを保護するためには有用な性質である。
【００６８】
ＳｉＣサセプタ６は目的とするＳｉＣウエハーと同じ材料であり、トレイもＳｉＣとすると、ウエハー、トレイ、サセプタの３者がＳｉＣとなるわけである。１４００℃もの高温になるとなかなかそれに耐える材料がない。それでどうしてもＳｉＣになってしまう。しかしＳｉＣウエハーは高純度の単結晶ＳｉＣであり、サセプタ、トレイなどは多結晶のＳｉＣである。当然にトレイのＳｉＣ、サセプタのＳｉＣも表面の一部が酸化されてしまうが、それは差し支えないことである。
【００６９】
ＳｉＣサセプタ６の下フランジ４２はシール部４０を介して石英サセプタ７の上フランジ４３に結合される。石英サセプタ７とＳｉＣサセプタ６の間にガスが通ってはいけないのでシール部４０が不可欠である。フランジ４２、４３はボルトで締結される。石英サセプタ７の下フランジ４５はチャンバ２０の底壁２２に固定される。だからＳｉＣサセプタ６、石英サセプタ７、底壁２２によって閉空間が形成される。閉空間には酸素が入らないようになっている。それだけでなく底壁２２に穿ったパージガス導入口５２、ガス排出口５３を通してアルゴン（Ａｒ）などの希ガスをヒータ室５へ導入するようになっている。Ａｒガスの作用でヒータ４の酸化を防止できる。
【００７０】
チャンバ２０の底壁２２にはさらに電流導入端子４７、５０が設けられる。それに続いてＭｏの電極棒４８、４９が縦方向に設けられる。Ｍｏの電極棒４８、４９は抵抗加熱ヒータ（カーボンヒータ）４の両端に接続されている。電極棒４８、４９はヒータ４を保持するとともに電流を供給する作用がある。ヒータ４は渦巻型の抵抗加熱ヒータである。できるだけ均熱性を良くするためにヒータの形状を工夫する。ヒータに与える電流は直流であっても交流であってもよい。底壁２２から上に向かう熱電対５５が温度をモニタしている。チャンバ２０の底壁２２には真空排気口５７が設けられ真空排気装置（図示しない）に接続されている。
【００７１】
以上の構成においてその作用を述べる。チャンバ２０を開きＳｉＣウエハー８を戴置したトレイ３２を、支持プレート３０の受け溝３３へ載せる。チャンバ２０を閉じる。真空排気装置によってチャンバ２０の内部を真空に引く。ヒータ室５の内部も別の真空排気装置で真空に引く。かわりにアルゴンなどの希ガスをヒータ室５の内部へ導入する。トレイ昇降装置２８を作動させ支持棒２９、支持プレート３０、トレイ３２の全体を下げ、トレイがＳｉＣサセプタ６の上板３８に接触するようにする。ヒータ電源からヒータ４に電流を流しヒータを加熱する。熱電対５５によってヒータ温度を監視しているからヒータ温度は常に分かる。天井壁の方へ引き上げられていたガスノズル９を下げる。ヒータが適当な温度に到達したときガスノズル９のガス噴出口５９から乾燥酸素ガスあるいは水蒸気をＳｉＣウエハー８に向けて噴射する。それによって１４００℃以上の高温でＳｉＣウエハーが酸化される。高品質の酸化膜が得られることになる。本図では記載されていないが、となりに投入室を設ければゲートバルブを介して酸化する室からウエハトレイを昇降装置を使って搬送できる。これにより毎回酸化室を開けなくてもトレイの出入れを可能にすることもできる。
【００７２】
【発明の効果】
本発明の構造はヒータをＳｉＣよりなる部分と石英よりなる部分からなる容器（ヒータ室）に入れ酸素雰囲気から切り離している。ヒータ室によってヒータは酸素雰囲気と切り離されている。だから高熱になってもヒータは酸化しない。ヒータが酸化から保護されているから電流を増やして輻射熱を増強し高温にすることができる。ヒータ温度を上げてＳｉＣ基板の加熱温度を１４００℃にまで上げることが可能になる。また抵抗加熱ヒータを用いるので大面積のＳｉＣウエハーを均一に加熱し均一に酸化することができる。石英の耐熱性が低いこと、ヒータが酸化されることもあって従来の抵抗加熱ヒータでは１２００℃以上にＳｉＣを加熱することは不可能であった。しかし本発明はヒータを非酸素雰囲気に置くことができるから１４００℃以上の温度にＳｉＣ基板を加熱することができる。それによって欠陥の少ない残留炭素のない高抵抗の酸化膜を得ることができる。ＭＯＳ−ＦＥＴのゲート酸化膜として好適な酸化膜となる。それによってＳｉＣのＦＥＴ製造の可能性を大きく開くものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】すでに提案されているランプ加熱によるＳｉＣ酸化装置の概略構成図。
【図２】非酸素雰囲気にあるヒータによって酸素雰囲気にあるＳｉＣウエハーを加熱するようにした本発明の実施例にかかるＳｉＣ酸化装置の断面図。
【符号の説明】
１ＳｉＣ基板
２石英管
３ランプヒータ
４カーボンヒータ
５ヒータ室
６ＳｉＣサセプタ
７石英サセプタ
８ＳｉＣウエハー
９ガスノズル
２０チャンバ
２２底壁
２３側壁
２４天井壁
２５上フランジ
２６下フランジ
２７ノズル昇降機構
２８トレイ昇降機構
２９支持棒
３０支持プレート
３２トレイ
３３受け溝
３５下リフレクタ
３６横リフレクタ
３７上リフレクタ
３８上板
３９側板
４０シール部
４２下フランジ
４３上フランジ
４５下フランジ
４７電流導入端子
４８電極棒
４９電極棒
５０電流導入端子
５２パージガス導入口
５３ガス排出口
５５熱電対
５７真空排気口
５９ガス噴出口

Claims

チャンバと、チャンバを真空に引く真空排気装置と、非酸素雰囲気で１４００℃の温度に耐えることができる抵抗材料でできておりチャンバ内に設けられＳｉＣウエハ−を加熱するための抵抗加熱ヒータと、チャンバ内に設けられ上半部はＳｉＣからなり下半部は石英からなり抵抗加熱ヒータを囲むヒータ室と、ヒータ室内部を真空排気し希ガスを供給しヒータ室を非酸素雰囲気にする装置と、チャンバ内でヒータ室の外側上方にありＳｉＣウエハ−を保持するトレイと、ＳｉＣウエハ−保持トレイの上方に設けられＳｉＣウエハ−の上面に酸素ガスあるいは水蒸気ガスを供給するガスノズルとよりなり、非酸素雰囲気にある抵抗加熱ヒータによって酸素雰囲気にあるＳｉＣウエハ−を１４００℃まで加熱することができるようにしたことを特徴とするＳｉＣウエハ−酸化装置。
ＳｉＣを保持するトレイは支持プレートによって保持され、支持プレートはトレイ昇降機構によって昇降可能になっていることを特徴とする請求項１に記載のＳｉＣウエハ−酸化装置。
ＳｉＣウエハ−を保持するトレイが、カーボンのトレイの表面にＳｉＣ層をコ−ティングしたものであるか、あるいはトレイの全体をＳｉＣで構成してあることを特徴とする請求項１又は２に記載のＳｉＣウエハ−酸化装置。
抵抗加熱ヒータがカーボンヒータであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のＳｉＣウエハ−酸化装置。
抵抗加熱ヒータがＳｉＣヒータであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のＳｉＣウエハ−酸化装置。