JP3670944B2 - 測定機器及び測定方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般に、測定機器及び測定方法に関し、特に、テレコム（テレコミュニケーション）マスク機能を用いる測定機器及び測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
テレコミュニケーション業界においては、ＩＴＵ−Ｔ（International Telecommunication Union-Telecommunication Sector）やＡＮＳＩ（American National Standards Institute）などの通信標準化団体が定めたパラメータに特定信号が適合するか否かの判断を行う試験は一般的である。係る適合試験を行う主要な方法では、オシロスコープにより取り込んだ波形のパルス形状を「マスク」波形と比較する。このマスクは、最小及び最大振幅値、所定のビット・レート、信号エッジの所定の最小傾き（即ち、最小帯域幅）を有する経路（２個のマスクの間の経路）を定義する。被試験信号が経路の境界内に入る場合、この信号は試験を合格する。この種の試験は、テレコム・マスク試験として知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
オシロスコープにおける最近の新機能は、「マスクへの自動設定（AUTOSET TO MASK）」である。（以下、この機能をマスク自動設定機能と呼ぶ。）このマスク自動設定機能は、期待した信号に適合するようにオシロスコープの水平、垂直及びトリガの設定を自動的に設定して、オシロスコープの表示上でマスクを重ねることである。自動設定マスク機能の操作手順では、水平及び垂直のスケールを規定値に設定し、波形を取り込み、入力Ａ／Ｄ変換器の設定を調整して波形のスケール及び位置を調整し、マスクを表示する。しかし、残念ながら、マスク自動設定機能では、表示上のマスクに垂直又は水平方向の望ましくないオフセットが時々起きる。このマスクの不正確な配置の可能性は、取り込む信号の形状や、マスク自動設定機能を実施するのに用いる特定のアルゴリズムにより左右される。
【０００４】
マスク自動設定機能は、単に、取り込み波形を設定し、マスクを表示することだと理解されている。被試験波形によるマスク領域への侵入（即ち、波形とマスクの衝突、又はマスク・ヒット）がチェックされなかった。よって、マスク自動設定機能は、かかる衝突の補正を行わなかった。
【０００５】
この点に関して、テレコミュニケーション規格では、通信信号に対する垂直オフセットのいくらかの誤差がしばしば許容されていることに留意されたい。すなわち、テレコミュニケーション規格は、通常、パルス幅や立ち上がり時間などの他の信号特性に一層関係している（即ち、厳格な許容度を示す）。係るオフセットによりテレコム・マスク（以下、単に、マスクと呼ぶこともある）が不正確に配置されると、その後の試験において、完全に許容範囲内の信号（即ち、合格するはずの信号）にもかかわらず、波形がマスク領域に侵入するので、不合格となってしまう。
【０００６】
この問題に対する従来の解決策の１つは、本願出願人のアメリカ合衆国オレゴン州ビーバートンのテクトロニクス・インコーポレイテッドが製造している２４００型ＤＩＴＳ（デジタル・インタフェース・テスト・システム）を用いたソフトウェアである。このテスト・システムでは、波形をオシロスコープで取り込み、ラスタ化し、蓄積している。ラスタ化した波形の各ピクセルは、特定の水平（即ち、時間）位置にて、特定リストになったマスクの占める垂直セグメント・ポイントを示す。その後、ラスタ化された波形の個別のピクセルが読出され、マスク・セグメント位置の対応する垂直配列と１つずつ比較されて、ピクセルがマスク領域内となり、波形と一致するかを判断する。もし一致するならば、「マスク・ヒット（波形のピクセルがマスクに重なる）」となる。これは、純粋なソフトウェア解決方法であり、生じた「マスク・ヒット」の数を計数して、このマスク・ヒットの数が零になるまで、マスクの位置を（表示上で水平又は垂直に）再調整する。勿論、ここでは、被試験信号が、適切な規格に実際に対応していると仮定している。従来の解決方法では、実時間で動作せず、ラスタ化した波形データを後処理していることが重要である。
【０００７】
上述の解決方法は、低速のテレコミュニケーション信号の規格に対して最良に適合するように確実に動作するが、ソフトウェアによる処理で、時間がかかる傾向がある。よって、被試験信号に対するテレコム・マスクを適切に登録するために、高速で、ソフトウェアによる処理が少ない解決方法が望まれている。
【０００８】
したがって、本発明の目的は、波形及びマスクの相対的な表示位置を高速且つ自動的に調整して、規格内の波形がマスクと衝突しないようにする測定機器及び測定方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、マスク試験機能を有する測定機器であって；複数の波形サンプルを取り込む取り込み手段（１１０）と；マスク（３１０、３２０、５１０、５２０）を定義するマスク・ピクセル・データを発生する制御手段（１３０）と；波形サンプルを蓄積する取込みメモリ（１２０）と；マスクであることを示すマスク識別値を有するマスク・ピクセル・データを蓄積するラスタ・メモリ（１５０）と；取り込んだ特定の波形サンプルを書き込むべきラスタ・メモリの第１記憶場所から蓄積内容を読み出し、第１記憶場所がマスク・ピクセルを蓄積しているか否かを判断するラスタ化回路（１４０）とを具え；第１記憶場所が第１グループの記憶場所の１つであり；ラスタ化回路は、波形サンプルをラスタ・メモリに展開する際に、波形サンプルを書き込むべきラスタ・メモリの第１記憶場所から蓄積内容を読み出し、この読み出した蓄積内容がマスク識別値を有するマスク・ピクセル・データである場合に、波形サンプルがマスクに衝突していることを示す衝突信号を発生することを特徴とする
また、本発明は、マスク試験機能を有する測定機器におけるマスクとの衝突を補正する方法であって；波形サンプルを取り込むステップと；マスクを定義するマスク・ピクセル・データを発生するステップと；波形サンプル取込みメモリに蓄積するステップと；マスクであることを示すマスク識別値を有するマスク・ピクセル・データをラスタ・メモリに蓄積するステップと；波形サンプルを書き込むべきラスタ・メモリの第１グループの記憶場所の１つである第１記憶場所から蓄積内容を読み出して、第１記憶場所がマスク・ピクセルを蓄積しているか否かを判断するステップと；この判断に応じて、波形及びマスクの衝突を表す衝突信号を発生するステップと；マスク及び波形を表示スクリーン上に表示するステップと；衝突信号に応じて第２グループの記憶場所に波形サンプルを展開して、マスクの表示位置に対する波形の表示位置を変化させるステップとを具え；判断ステップは、ラスタ化回路が波形サンプルをラスタ・メモリに展開する際に、波形サンプルを書き込むべきラスタ・メモリの第１記憶場所から蓄積内容を読み出し、この読み出した蓄積内容がマスク識別値を有するマスク・ピクセル・データである場合に、波形サンプルがマスクに衝突していることを示す衝突信号を発生することを特徴としている。
【００１０】
本発明の実施例によれば、マスク及び波形の表示スクリーン上における最初の位置は、マスク自動設定機能により決まる。マスク自動設定機能の動作が完了した後に生じるマスクとの衝突の検出に応じて、被試験波形及びマスクとの更なる整列をマスク自動設定機能が制御する。比較手段であるラスタ化回路（ラスタライザ）がピクセルをラスタ・メモリに展開する際に、波形ピクセル及びマスク・ピクセルとの間での衝突を検出するために、マスク・ピクセル及び波形ピクセルとの比較を略実時間で行う。波形がマスクと衝突した（重なった）場合、マスク衝突信号を発生する。
【００１１】
本発明の別の実施例においては、マスク衝突信号に応答して、マスク自動設定機能は、表示のラスタ化機能を用いて、マスクで決まる境界内に波形がフィットするまで、新たな位置に波形を自動的に再描画する。
【００１２】
本発明の別の実施例においては、マスクで決まる境界内に波形がフィットするまで、マスク衝突信号に応答して、マスク自動設定機能が、新たな位置にテレコム・マスクを自動的に再描画する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明を実施するのに有用なデジタル・オシロスコープ１００の簡略化したブロック図である。入力信号を取り込み回路（取り込み手段）１１０に供給する。この取り込み回路１１０は、Ａ／Ｄ（アナログ・デジタル）変換器１１１を具えている。取り込み回路１１０は、供給された入力信号を高速に略連続的にサンプリングし、サンプル（サンプリングした入力信号の各値）を取り込みメモリ１２０に蓄積する。
【００１４】
動作において、デジタル・オシロスコープ１００は、プローブ（図示せず）が接触した被試験回路のあるノードに存在する電圧を周期的にサンプリングして、入力信号（即ち、波形）の動きに関する情報を取り込む。オシロスコープ・プローブ及びオシロスコープ１００の入力段は、入力信号を正確に再現するように、又は、この入力信号を所定の倍率で減衰又は増幅して、Ａ／Ｄ変換器１１１に供給するように設計されている。Ａ／Ｄ変換器１１１の出力信号は、一連の多ビット・デジタル・ワードであり、取り込みメモリ１２０に蓄積される。連続的に取り込んだ複数サンプルを取り込みメモリ１２０内の関連した連続アドレスの記憶場所に蓄積する。なお、これらサンプルは、時間軸（タイム・スケール）に関連している。比較手段であるラスタ化回路（ラスタライザ）１４０が、これらアドレスにおけるデータを結局はタイム・スケールに戻し、ラスタ・メモリ１５０に蓄積する。輝度又は色マッピング回路（マッパー：輝度又は色を割り当てる回路）１８０の如き表示ハードウェアにより、ラスタ・メモリ１５０の内容を読み出し、データをラスタ走査表示器１９０に供給する。上述のタイム・スケールは、オシロスコープのラスタ走査表示器１９０のＸ軸に沿った水平距離として示される。これらマッパー１８０及び表示器１９０が表示手段を構成する。
【００１５】
従来技術と同様に、ラスタは、水平行と垂直列とで構成されている。各行は、垂直軸（Ｙ軸）に沿った位置番号で識別され、各列は、水平軸（Ｘ軸）に沿った位置番号で識別される。典型的には、デジタル・オシロスコープにおいて、取り込みメモリの記憶場所のデータ内容から得た電圧振幅値が、輝度の高いピクセルの垂直位置（行番号）を決定し、取り込みメモリのアドレスから得た時間値が水平位置（列番号）を決定する。取り込みメモリの内容及びアドレスを処理して、２次元ラスタ・メモリの内容を発生することは、「ラスタ化」として知られている。よって、ラスタ化を行う回路がラスタライザ（ラスタ化回路）である。
【００１６】
ラスタライザ１４０は、取り込みメモリ１２０の内容を読み出し、ラスタ・メモリ１５０の関連した記憶場所の内容を読み出し、これら２種類の内容を組み合わせて（即ち、複合化して）、その結果の値をラスタ・メモリ１５０に蓄積する。このように、ラスタライザの出力をラスタ・メモリに蓄積することを、本明細書では「展開」と呼ぶ。ほぼ同時に、多機能ラスタ減衰ユニット１７０は、ラスタ・メモリ１５０の内容を読み出し、これらデータを所定レートで減衰させて、減衰させた値をラスタ・メモリ１５０に蓄積して、後で表示する。この減衰機能により、デジタル・オシロスコープの表示がアナログ・オシロスコープと同様に時間経過に伴って表示が減衰するようになる。なお、同じ波形の繰り返しならば、常に同じ波形が書き込まれるため、実質的に減衰が生じないように見える。上述の総ての機能は、制御器（制御手段）１３０の制御下で動作する。この制御器１３０は、例えば、パワーＰＣＧ３マイクロプロセッサや、専用ＡＳＩＣでもよく、また、これらの代わりに、制御器１３０を多数のプロセッサで実現してもよい。
【００１７】
ラスタ・メモリ１５０の詳細を図２にラスタ・メモリ２５０として示す。ラスタ・メモリ２５０は、３個のプレーン・メモリ、即ち、グレー・スケール（ＧＳ）プレーン２５２、ベクトル・プレーン２５４及びＵＩ（ユーザ・インタフェース）プレーン２５６を具えている。この構成をメモリ「プレーン」として考えることは容易であるが、これらは、高速ＳＲＡＭ表示メモリが実際に隣接したブロックであることが当業者には理解できよう。
【００１８】
波形データは、ラスタライザ１４０により、グレー・スケール・プレーン２５２に書き込まれる。また、制御器１３０が発生したマスク・データも、後述のように、グレー・スケール・プレーン２５２に書き込まれる。（なお、後述のように、本発明を達成するために、実施例では、マスク・データをベクトル・プレーン２５４に書き込む。）このグレー・スケール・プレーン２５２は、５１２×４０２のマトリクスに配置された２０５８２４個のメモリ記憶場所の配列であり、各メモリ記憶場所は、９ビットの長さがある。これら９ビットが輝度及び色を定義すると共に、そのピクセルがマスク・ピクセルであるか波形ピクセルであるかも定義する。
【００１９】
ベクトル・プレーン２５４を用いて、演算処理（例えば、チャネル１及びチャネル２からの信号の和）結果の波形を表示するか、又は、以前に蓄積した基準波形を表示する。ベクトル・プレーン２５４は、５１２×４０２のマトリクスに配置された２０５８２４個のメモリ記憶場所の配列であり、各メモリ記憶場所は２ビットの長さである。なお、この２ビットは、所定ピクセルに対して、３レベルの輝度と、オフ状態とを定義する点に留意されたい。
【００２０】
ユーザ・インタフェース・プレーン２５６を用いて、テキスト文字に関連したピクセル・データを蓄積するが、このプレーン２５６は、６４０×４８０のスクリーン領域全体をカバーする。よって、ユーザ・インタフェース・プレーン２５６は、６４０×４８０マトリクスに配置された３０７２００個のメモリ記憶場所の配列であり、各メモリ記憶場所は、４ビットの長さである。この４ビットにより、所定ピクセルの色及び輝度を定義する。
【００２１】
表示読出しハードウェア・ユニット２８０により、３個のプレーン２５２、２５４及び２５６から出力信号を読み出して組み合わせ、典型的には、６０Ｈｚレートで表示を行う。このユニット２８０の出力信号が輝度又は色マッパー１８０に供給される。
【００２２】
図３は、オシロスコープの表示スクリーンの表示を示す図であり、この表示には、典型的なテレコム・マスクの２個の部分３１０及び３２０が含まれている。図１の制御器１３０は、表示メモリ（ラスタ・メモリ１５０）内にテレコム・マスクを描画する。このテレコム・マスクは、蓄積された一連のＸ−Ｙポイントにより定義される一連のポリゴン（例えば、台形）として描画される。このテレコム・マスクは、その最終的な目的に応じて、２個のメモリ・プレーン２５２、２５４のいずれに書き込んでもよい。その目的が単にテレコム・マスクを観察する場合や、スクリーンでテレコム・マスクを移動させる場合、このテレコム・マスクをベクトル・プレーン２５４に描画する。しかし、その目的が、本発明によるマスク自動設定機能において、波形データと比較するためならば、テレコム・マスクをグレー・スケール・プレーン２５２にマスクを描画する。これは、波形データ及びテレコム・マスク・データをラスタ・メモリ２５０のグレー・スケール・プレーン２５２に描画すれば、波形データ及びテレコム・マスク・データの間の衝突を検出するために（即ち、波形及びマスクの衝突の判断のために）、ラスタライザ１４０が波形データ及びテレコム・データを比較する際に、グレー・スケール・プレーン２５２のみにアクセスすればよいためである。なお、ラスタライザ１４０は、波形をラスタ・メモリ１５０に展開する際に、この波形とラスタ・メモリ１５０に蓄積されたマスクとを比較して、マスク及び波形が衝突していないか否かを判断し、衝突した場合に衝突信号を発生する機能も備えている。
【００２３】
図３において、オシロスコープの表示スクリーン３００は、碁盤目状の目盛りを有する波形表示領域と、この波形表示領域の右側及び下側の文字（絵文字及び数字を含む）表示領域とから構成されている。波形表示領域に表示されたテレコム・マスクは、上側部分３１０及び下側部分３２０を有する。上側領域３１０及び下側領域３２０の各々は、複数ポリゴン（例えば、台形）から構成された複数の個別セグメントから構成されている。文字表示領域には、ユーザ・インタフェース・プレーン２５６の記憶内容に基づいて、オシロスコープの設定情報が表示されているが、本発明の要旨ではないと共に、一般的なデジタル・オシロスコープの設定情報の表示なので、説明を省略する。
【００２４】
マスク自動設定機能は、表示スクリーン上にテレコム・マスク３１０及び３２０を配置し（即ち、ラスタ・メモリ１５０に書込み）、波形３３０を取り込み、公称値に調整すると仮定する。マスク自動設定機能は、マスク領域内での任意のピクセル・データの制御を行うと共に、多機能ラスタ減衰ユニット１７０による減衰を阻止する（よって、マスクを連続的に再描画する必要がない）。
【００２５】
新たなデータをラスタ・メモリ１５０のグレー・スケール・プレーン２５２に書き込む前に、このグレー・スケール・プレーン２５２の関連した記憶場所から既存のデータが読出される点に留意されたい。この既存データを新たなデータと組み合わせて、グレー・スケール機能の内で、増分されたピクセル・データ（即ち、輝度が高くなるピクセル・データ）を実現する。グレー・スケール機能の内で減分されたピクセル・データ（即ち、輝度の低くなるデータ）は、多機能ラスタ減衰ユニット１７０で実現する。この組み合わせたデータをラスタ・メモリ１５０のグレー・スケール・プレーン２５２に書き戻す。
【００２６】
本発明では、ラスタライザ１４０が、既存のデータ（マスク・データ）及び波形データを組み合わせる時点で、衝突検出動作を実行し、この機能を非常な高速（１秒当たり約１千万ポイント）で実現できる。よって、既存のピクセル・データが、このピクセルはテレコム・マスクの一部であることを示すと、波形ピクセルとマスク・ピクセルとを比較して、これらの衝突（即ち、バイオレーション、違反）を検出する。この点に関して更に説明すれば、オフセット・エラーのために、波形３３０は、ポイント（部分）３３５及び３３７にてテレコム・マスク３１０に衝突している。最初の衝突（即ち、ポイント３３５）を検出すると、マスク自動設定機能は、波形がマスクに衝突しなくなるまで、取り込んだ波形の表示位置のオフセットを調整する。調整後の波形位置を波形３４０で示す。すなわち、説明のために、２個の波形３３０及び３４０が表示スクリーン３００に同時に表示されているように示すが、実際には、波形３４０は、波形３３０を単に再配置したものであり、これら２個の波形が同時に表示されるものではない。
【００２７】
従来は、入力Ａ／Ｄ変換器１１１の利得及びオフセットを調整して、波形３３０の再配置を行なっていた。これにより微調整を行うが、粗調整には、測定が有効になるまで、ある程度の整定時間（セットリング・タイム）が必要であった。最悪の場合、調整により、Ａ／Ｄ変換器１１１の動作がいくつかの所定しきい値レベルの１つを横切ると、リレー接点が切り替えて、回路構成を変更していた。これらリレー切替時点及びセットリング・タイムは、マスク試験の実行速度に大きな影響を与えた。
【００２８】
しかし、本発明では、マスクに対して波形３３０を再配置（再位置決め）するためには、取り込みシステムを変更する必要がない。マスクに対して波形３３０を再配置することは、新たな位置における波形をラスタ・メモリ２５０のグレー・スケール・プレーン２５２にラスタライザ１４０が再描画することにより行える。この動作は、波形の表示位置のみに影響するだけである点に留意されたい。それなりに、マスクに対して波形を再位置決めすることは、いかなるセットリング・タイムも全く必要とせずに高速で実施できる。
【００２９】
「螺旋検索」は、マスクに対して波形を再位置決めする１つの方法である。図４は、螺旋検索の有用な形式を示す。図４における複数の矩形の各々は、表示スクリーン３００の単一のピクセル（又は、ラスタ・メモリ２５０のグレー・スケール・プレーン２５２における単一のメモリ記憶場所）を表す。特に、斜線を施したピクセル４１０は、マスク３１０の拡大したチップ（情報）を表す。位置４３５は、図３のマスク衝突領域３３５付近のポイントを表す。説明の便宜上、ピクセル０で衝突が検出され、マスク衝突を示す信号を発生し（例えば、メモリに「フラグ」ビットを設定し）、螺旋検索を反時計回転方向で外側に進めて、ピクセル１〜２８を試験すると仮定する。（なお、ピクセル番号は、ピクセルを表す矩形の中に記載されている。）ピクセル１〜２８の各々は、他の衝突を示すかもしれない。ピクセル２９がマスク部分ではなく（これを斜線がないことで示す）、この位置で螺旋検索が終わると仮定する。ピクセル２９がピクセル０の真下である点に留意されたい。この停止点は、一般に、図３の波形３４０の配置に一致する。すなわち、ピクセル２９における螺旋検索の終了により、ラスタライザ１４０は、波形３３０の総てのピクセルを、スクリーン３００上で、今までよりも下側に表示するメモリ記憶場所に蓄積する。これにより、スクリーン３００上で、波形３３０が以前に占めた位置の直ぐ下に波形３４０が現れる。図４では、ピクセルに斜線を施して、グレー・スケール・プレーン２５２の記憶場所に蓄積されたデータ値を示している。このデータ値（マスク識別値）は、特定のピクセルがマスクの一部か否かを表す。すなわち、マスク・ピクセル・データは、そのピクセルがマスクの一部であることを示すデータ値を有する。所定の検索半径により、オフセット許容値を設定できる点に留意されたい。すなわち、特定の信号規格が定義するオフセット限界を超えて波形が移動する場合、検索半径を限定することにより、波形が更に垂直方向に移動することを阻止する。
【００３０】
マスク及び波形の移動は、互いに相対的であることが当業者には理解できよう。よって、別の実施例として、マスクを移動させ、波形を静止させてもよい。かかる例のスクリーン表示を図５に示す。なお、図５の表示スクリーン５００において、波形表示領域及び文字情報表示領域は図３の場合と同じである。
【００３１】
図５において、マスク５１０の領域５３５及び５３７において衝突が生じている。これにより、螺旋検索が開始し、領域５３５内のピクセルを探す。この領域５３５では、マスク５１０及び波形５４０が一致していない。この場合、衝突が終わるまで、マスクを上方に移動させる。新たなマスク位置は、重なったマスク５１０’で示す。ポイント（部分）５３５’又はポイント５３７’では、最早衝突が起きない点に留意されたい。
【００３２】
制御器１３０がマスク５１０を描画するので、波形に対してマスクを移動させることは、マスクに対して波形を移動させることよりも、通常、非常に低速である。ユーザが総ての試験時間を考慮するならば、マスクを再描画しなければならないという低速な構成は受け入れがたい。動作速度を考慮すると、波形に対するマスクの移動は、取り込みシステムではなく表示において生じるので、このマスクを移動させる方法は、セットリング・タイム及びリレー動作により遅延が不可避の上述の従来の方法よりも依然高速である。
【００３３】
しかし、このマスクを移動させる方法の速度は、制御器１３０をマイクロプロセッサから専用ＡＳＩＣに変更することにより改善できる。この変更により、メモリにマスクを描画する速度が大幅に改善する。かかる構成は、本発明の要旨に含まれる。
【００３４】
上述は、テレコム・マスクに対して波形を再位置決めする非常に高速な方法及び装置であるし、波形に対してテレコム・マスクを再位置決めする非常に高速な方法及び装置である。
【００３５】
ピクセルをラスタ・メモリに蓄積すると、マスク・ピクセル・データ及び波形ピクセル・データを略実時間で比較するが、これは、従来技術に対する本発明の基本的な利点であることが理解できよう。衝突をなくす補正にかかわらず、この点は事実である。また、本発明の装置の別の実施例では、比較手段が衝突を検出すると、この衝突を示す衝突信号を発生する。
【００３６】
上述では、特定の螺旋検索方法を説明したが、他の検索方法も利用できることが当業者には理解できよう。また、本発明をデジタル・オシロスコープに関連して説明したが、ロジック・アナライザ、コミュニケーション・ネットワーク・アナライザなどの他の測定機器に本発明を適用できることも理解できよう。
【００３７】
Ｘ−Ｙポイントでマスクを発生して蓄積することを上述したが、独自のマスクを作成するために、測定機器のデータ・ポートを介してパーソナル・コンピュータから独自のデータをダウンロードできることも当業者には明らかであろう。
【００３８】
【発明の効果】
上述の如く、本発明によれば、波形及びマスクの相対的な表示位置を高速且つ自動的に調整して、規格内の波形がマスクと衝突しないようにできる。なお、マスクに対して波形の表示位置を変更する際に、新たに波形を取り込まず、既に取り込んだ波形を移動させるだけなので、略実時間で動作する。また、波形に対してマスクの表示位置を変更する場合も、新たな取り込みが不要なので、高速に実行できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明と共に使用するのに適するオシロスコープの簡略化されたブロック図である。
【図２】図１のオシロスコープに用いるメモリの複数プレーンを示すブロック図である。
【図３】本発明の一実施例に応じたテレコム・マスク及び波形のスクリーン表示を示す図である。
【図４】図３のテレコム・マスクの一部の拡大図である。
【図５】本発明の他の実施例に応じたテレコム・マスク及び波形のスクリーン表示を示す図である。
【符号の説明】
１００ デジタル・オシロスコープ
１１０ 取り込み回路（取り込み手段）
１１１ Ａ／Ｄ変換器
１２０ 取り込みメモリ
１３０ 制御器（制御手段）
１４０ ラスタライザ（ラスタ化回路；比較手段）
１５０ ラスタ・メモリ
１７０ 多機能ラスタ減衰ユニット
１８０ 輝度又は色マッパー（マッピング回路：表示手段）
１９０ ラスタ走査表示器（表示手段）
２５０ ラスタ・メモリ
２５２ グレー・スケール・プレーン
２５４ ベクトル・プレーン
２５６ ユーザ・インタフェース・プレーン
２８０ 表示読出しハードウェア
３００、５００ 表示スクリーン
３１０、３２０ マスク
３３０ 波形
３４０ 移動後の波形
３３５、３３７ ポイント（衝突）
５１０、５２０ マスク
５１０’、５２０’ 移動後のマスク
５３５、５３７ ポイント（衝突）
５３５’、５３７’ ポイント（非衝突）
５４０ 波形

Claims (4)

1. マスク試験機能を有する測定機器であって、
   複数の波形サンプルを取り込む取り込み手段と、
   マスクを定義するマスク・ピクセル・データを発生する制御手段と、
   上記波形サンプルを蓄積する取込みメモリと、
   マスクであることを示すマスク識別値を有する上記マスク・ピクセル・データを蓄積するラスタ・メモリと、
   上記取り込んだ特定の波形サンプルを書き込むべき上記ラスタ・メモリの第１記憶場所から蓄積内容を読み出し、上記第１記憶場所が上記マスク・ピクセルを蓄積しているか否かを判断するラスタ化回路とを具え、
   上記第１記憶場所が第１グループの記憶場所の１つであり、
   上記ラスタ化回路は、上記波形サンプルを上記ラスタ・メモリに展開する際に、上記波形サンプルを書き込むべき上記ラスタ・メモリの第１記憶場所から蓄積内容を読み出し、この読み出した蓄積内容が上記マスク識別値を有する上記マスク・ピクセル・データである場合に、上記波形サンプルが上記マスクに衝突していることを示す衝突信号を発生することを特徴とする測定機器。
2. 上記ラスタ・メモリに結合し、上記マスク及び上記波形を表示する表示手段を更に具え、
   上記ラスタ化回路が上記衝突信号に応答して第２グループのメモリ記憶場所に上記波形サンプルを展開し、上記マスクの表示位置に対する上記波形の表示位置を変化させることを特徴とする請求項１の測定機器。
3. マスク試験機能を有する測定機器におけるマスクとの衝突を補正する方法であって、
   （ａ）波形サンプルを取り込むステップと、
   （ｂ）マスクを定義するマスク・ピクセル・データを発生するステップと、
   （ｃ）上記波形サンプルを取込みメモリに蓄積するステップと、
   （ｄ）マスクであることを示すマスク識別値を有する上記マスク・ピクセル・データをラスタ・メモリに蓄積するステップと、
   （ｅ）上記波形サンプルを書き込むべき上記ラスタ・メモリの第１グループの記憶場所の１つである第１記憶場所から蓄積内容を読み出して、上記第１記憶場所が上記マスク・ピクセルを蓄積しているか否かを判断するステップと、
   （ｆ）この判断に応じて、上記波形及び上記マスクの衝突を表す衝突信号を発生するステップと、
   （ｇ）上記マスク及び上記波形を表示スクリーン上に表示するステップと、
   （ｈ）上記衝突信号に応じて第２グループの記憶場所に上記波形サンプルを展開して、上記マスクの表示位置に対する上記波形の表示位置を変化させるステップとを具え、
   上記ステップ（ｅ）は、ラスタ化回路が上記波形サンプルを上記ラスタ・メモリに展開する際に、上記波形サンプルを書き込むべき上記ラスタ・メモリの第１記憶場所から蓄積内容を読み出し、この読み出した蓄積内容が上記マスク識別値を有する上記マスク・ピクセル・データである場合に、上記波形サンプルが上記マスクに衝突していることを示す上記衝突信号を発生することを特徴とする測定方法。
4. 上記ステップ（ｈ）は、上記ラスタ化回路が、検索パターンに応じて上記マスクの表示位置に対する上記波形の表示位置を探して、上記波形の表示位置が上記マスクと衝突しない上記第２グループの記憶場所に上記波形サンプルを展開することを特徴とする請求項３の測定方法。

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