KR100734961B1

KR100734961B1 - 오토핏 투 마스크 특징이 있는 원격 통신 마스크 시험성능을 가진 시험 및 측정 기기

Info

Publication number: KR100734961B1
Application number: KR1020000055777A
Authority: KR
Inventors: 레츠피터제이.
Original assignee: 텍트로닉스 인코포레이티드
Priority date: 1999-09-24
Filing date: 2000-09-22
Publication date: 2007-07-03
Also published as: EP1089079A3; DE60015472T2; CN1184754C; DE60015472D1; US6728648B1; CN1290077A; JP3670944B2; EP1089079A2; EP1089079B1; KR20010050593A; JP2001099869A

Abstract

표시 화면 상의 초기 마스크 및 파형 위치는 오토셋 투 마스크 기능에 의하여 정해질 수 있다. 오토셋 투 마스크 기능이 완료된 후 일어나는 위반이 검출될 때, 시험 중인 파형 및 마스크의 추가 정렬은 오토핏 투 마스크 기능에 의하여 제어된다. 화소가 래스터라이저에 의하여 래스터 메모리 내에 합성되기 때문에, 파형 화소와 마스크 화소 사이의 충돌(즉, 마스크 위반)을 검출하기 위하여 마스크 화소와 파형 화소가 실질적으로 실시간에 비교된다. 마스크 위반이 있는 경우, 마스크 위반 신호가 발생된다. 본 발명의 다른 실시예에서는, 오토핏 투 마스크 기능이 마스크 위반 신호에 응답하여, 파형이 마스크 내에 맞추어 질 때까지 표시 래스터화를 사용하여 파형을 새로운 위치에 자동적으로 리드로한다. 또 다른 실시예에서는, 오토핏 투 마스크 기능이 마스크 위반 신호에 응답하여, 파형이 마스크 내에 맞추어 질 때까지 원격 통신 마스크를 새로운 위치에 자동적으로 리드로한다.

마스크, 파형, 화소, 위반, 래스터라이저, 래스터 메모리

Description

오토핏 투 마스크 특징이 있는 원격 통신 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기 {A TEST AND MEASUREMENT INSTRUMENT HAVING TELECOMMUNICATIONS MASK TESTING CAPABILITY WITH AN AUTOFIT TO MASK FEATURE}

도 1은 본 발명의 용도에 적합한 오실로스코프를 간단하게 도시한 개략도.

도 2는 도 1의 기기에 사용된 메모리 플레인을 간단하게 도시한 도면.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 원격 통신 마스크 및 파형의 화면 표시를 나타낸 도면.

도 4는 도 3의 원격 통신 마스크의 일부 확대도.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 원격 통신 마스크 및 파형의 화면 표시를 나타낸 도면.

본 출원은 1999년 9월 24일 피터 제이. 레츠 및 스티븐 씨. 헤링에 의하여 원격 통신 마스크 시험(TELECOMMUNICATIONS MASK TESTING)이라는 발명의 명칭으로 출원된 미합중국 가 특허출원 제60/155,977호를 우선권으로 주장한다.

본 출원은 2000년 6월 29일 대리인 관리번호 7011-US2인 레츠에 의하여 마스 크 줌 특징이 있는 원격 통신 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기(A TEST AND MEASUREMENT INSTRUMENT HAVING TELECOMMUNICATIONS MASK TESTING CAPABILITY WITH A MASK ZOOM FEATURE)라는 발명의 명칭으로 출원된 미합중국 특허출원 제09/607,573호 및 2000년 7월 19일 대리인 관리번호 7011-US3인 레츠 및 헤링에 의하여 다중-채널 원격 통신 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기(A TEST AND MEASUREMENT INSTRUMENT HAVING MULTI-CHANNEL TELECOMMUNICATIONS MASK TESTING)라는 발명의 명칭으로 출원된 미합중국 특허출원 제________호에 관한 것이며, 상기 두 건은 본 출원의 동일 양수인에게 양도된 것으로서 전술한 미합중국 가 출원을 또한 우선권으로 주장한다.

본 발명은 일반적인 시험 및 측정 기기, 특히 원격 통신 마스크 특징을 채택하는 시험 및 측정 기기에 관한 것이다.

일반적으로, 원격 통신 산업에서는 특정 신호가 ITU-T 및 ANSI와 같은 국내 및 국제 통신 표준에 의하여 설정된 매개 변수를 준수하는 가의 여부를 판정하는 시험을 행한다. 이러한 컴플라이언스 시험의 주된 방식은 오실로스코프에 의하여 획득된 파형의 펄스 형상을 파형 "마스크"와 비교하는 것이다. 마스크는 최저 및 최대 진폭 값, 소정의 비트 전송 속도, 및 신호 에지 상의 정해진 최저 슬로프(즉, 최저 대역폭)를 가지는 경로를 정의한다. 시험 중인 신호가 경로 경계 내에 있는 경우, 신호는 시험을 통과한다. 이러한 종류의 시험이 원격 통신 마스크 시험으로 알려져 있다.

최근에 오실로스코프 특징에서 "오토셋 투 마스크(AUTOSET TO MASK)" 기능으 로 기술 혁신이 이루어졌다. 오토셋 투 마스크 기능은 수평, 수직 및 트리거 세팅을 오실로스코프 상에 자동적으로 설정하여 예상 신호를 수용하고, 마스크를 오실로스코프 디스플레이 상에 겹친다. 오토셋 투 마스크 기능 동작에 후속하여 수평 및 수직 스케일이 공칭값으로 설정되고, 파형을 얻고, 입력 아날로그-디지털 변환기의 세팅 조정으로 파형의 스케일 및 위치가 조정되고, 마스크가 표시된다. 유감스럽게도, 오토셋 투 마스크 기능이 마스크를 수직 또는 수평 방향으로 바람직하지 않은 오프셋으로 디스플레이 상에 위치시키는 것이 종종 관찰되었다. 마스크가 부정확하게 배치될 수 있는 가능성은 얻어질 신호의 형상 및 오토셋 투 마스크 기능을 실행하는데 사용된 특정의 연산을 포함하여 여러 가지 요인에 좌우된다.

오토셋 투 마스크 기능은 단지 얻어진 파형을 셋업하고 마스크를 표시하는 것으로 이해해야 한다. 시험할 파형이 마스크 영역 내로 침입(즉, 위반 또는 마스크 히트)하는 것을 억제하지는 않는다. 따라서, 오토셋 투 마스크 기능은 상기 위반을 정정하지 않는다.

이 점에 관해서, 원격 통신 표준은 통신 신호의 수직 오프셋에 약간의 공차가 허용되는 경우가 가끔 있다는 점을 유의해야 한다. 즉, 원격 통신 표준은 펄스 폭, 및 상승 시간과 같은 다른 신호 특성에 대하여 더 관계(즉, 꼭 맞는 공차를 나타냄)가 있는 것이 일반적이다. 원격 통신 마스크가 상기와 같은 오프셋 때문에 부정확하게 위치되는 경우, 완전하게 허용가능한 다른 신호(즉, 반드시 통과해야 하는 신호)가 나중에 시험할 때 마스크 영역 내로 침입하는 것이 불필요하게 실패하지 않는다.

상기 문제에 대한 종래 기술의 한 가지 해결책은 오레건주 비버턴 소재 텍트로닉스 인코포레이티드에서 제조된 텍트로닉스 2400 DITS(Digital Interface Test System)에 사용된 소프트웨어에 있었다. 상기 장치에서, 파형은 오실로스코프에 의하여 얻어지고, 래스터되어 기억된다. 래스터된 파형의 각 화소는 특정 수평(즉, 시간) 위치의 마스크에 의하여 점유된 특정 리스트의 수직 세그멘트 포인트에 표시된다. 다음에, 래스터된 파형의 개별 화소가 판독되고, 대응하는 수직 어레이의 마스크 세그멘트 위치와 하나씩 비교되어 마스크 영역의 화소와 파형이 일치되는 가를 알게 된다. 화소와 파형이 일치하는 경우, "마스크 히트"가 일어났다고 한다. 상기의 소프트웨어 해결책은 일어난 "마스크 히트"의 횟수를 계산하고, 마스크 히트의 개수가 제로로 감소될 때까지 마스크를 재위치(디스플레이 상에 수평으로 또는 수직으로)시킨다. 물론, 이것은 시험 중인 신호가 적용가능한 표준에 실제로 대응하는 경우를 가정한 것이다. 상기 종래의 해결책은 래스터된 파형 데이터가 실시간에 동작되지 않고 오히려 사후 처리되었다는 점에 유의하는 것이 중요하다.

상기 해결책은 저속 원격 신호용 표준과는 확실하게 일치되도록 아주 잘 실행되지만, 소프트웨어에 더 집중하게 되어 시간이 많이 소모되기 쉽다. 필요로 하는 것은 시험 중인 신호에 대하여 원격 통신 마스크를 적절하게 표시하는 문제를 보다 빠르고 소프트웨어에 덜 집중하는 해결책이다.

표시 화면 상의 초기 마스크 및 파형 위치는 오토셋 투 마스크 기능에 의하 여 정해질 수 있다. 오토셋 투 마스크 기능이 완료된 후 일어나는 위반이 검출될 때, 시험 중인 파형 및 마스크의 추가 정렬은 오토핏 투 마스크 기능에 의하여 제어된다. 화소가 래스터라이저에 의하여 래스터 메모리 내에 합성되기 때문에, 파형 화소와 마스크 화소 사이의 충돌(즉, 마스크 위반)을 검출하기 위하여 마스크 화소와 파형 화소가 실질적으로 실시간에 비교된다. 마스크 위반이 있는 경우, 마스크 위반 신호가 발생된다.

본 발명의 다른 실시예에서는, 오토핏 투 마스크 기능이 마스크 위반 신호에 응답하여, 파형이 마스크 내에 맞추어 질 때까지 표시 래스터화를 사용하여 파형을 새로운 위치에 자동적으로 리드로(redraw)한다.

또 다른 실시예에서는, 오토핏 투 마스크 기능이 마스크 위반 신호에 응답하여, 파형이 마스크 내에 맞추어 질 때까지 원격 통신 마스크를 새로운 위치에 자동적으로 리드로한다.

도 1은 본 발명을 실행하는데 유용한 디지털 오실로스코프(100)를 간단하게 도시한 블록도이다. 입력 신호가 아날로그-디지털 변환기(111)를 포함하는 획득 회로(acquisition circuitry)(110)에 가해진다. 획득 회로(110)는 가해진 입력 신호를 실질적으로 계속해서 고속으로 샘플링하여 이 샘플을 획득 메모리(120) 내에 기억시킨다.

동작 시에, 디지털 오실로스코프(100)는 프로브(간략하게 하기 위하여 도시되지 않음)가 관찰 중인 회로의 일부 노드와 접촉되는 포인트에 존재하는 전압을 주기적으로 샘플링하여 입력 신호(즉, 파형)의 성질에 관한 정보를 얻는다. 오실로스코프 프로브 및 오실로스코프(100)의 전방 단부는 신호, 또는 일부 소정의 신호 분수나 배수를 정확하게 반복하여 이것을 아날로그-디지털 변환기(111)에 제공하도록 설계된다. 아날로그-디지털 변환기(111)의 출력은 획득 메모리(120)에 기억된 일련의 멀티-비트 디지털 단어이다. 연속적으로 얻어진 샘플이 획득 메모리 내의 순차 관련 어드레스, 즉 시간 스케일 관련 어드레스에 기억된다. 이들 어드레스의 데이터는 최종적으로 래스터라이저(140)에 의하여 시간 스케일로 다시 변환되어 래스터 메모리(150) 내에 기억된다. 휘도 또는 색 매퍼(INTENSITY OR COLOR MAPPER)(180)와 같은 디스플레이 하드웨어가 래스터 메모리(150)의 내용을 판독하여 이 데이터를 래스터 스캔 디스플레이(RASTER SCAN DISPLAY)(190)에 가한다. 전술한 바의 시간 스케일은 오실로스코프의 래스터 스캔 디스플레이(190)의 x-축을 따라 수평 거리로 나타낸다.

참고를 위하여, 래스터는 수평 열 및 수직 칼럼으로 구성된다. 각 열은 위치 번호로 수직축(y-축)을 따라 나타낼 수 있고, 각 칼럼은 위치 번호로 수평축(x-축)을 따라 나타낼 수 있다. 일반적으로, 디지털 오실로스코프에서, 획득 메모리 위치의 데이터 내용으로부터 도출된 전압 진폭값은 조사(照射)된 화소의 수직 위치(열 번호)를 정하고, 획득 메모리의 어드레스로부터 도출된 시간값은 수평 위치(칼럼 번호)를 정한다. 2차원 래스터 메모리에 대한 내용을 제공하도록 획득 메모리의 내용 및 어드레스를 확장시키는 처리가 "래스터화"로 알려져 있다.

래스터라이저(140)는 획득 메모리(120)의 내용을 판독하고, 래스터 메모리(50)의 관련 위치 내용을 판독하고, 상기 두 가지 내용을 결합하고 이렇게 하여 얻어진 값을 래스터 메모리(150) 내에 다시 기억(즉, 합성)시킴으로써 합성 멀티-비트 그레이 스케일 파형(grayscale waveform)을 형성한다. 실질적으로 동시에, 다중-기능 래스터 감쇠 유닛(MULTI-FUNCTION RASTER DECAY unit)(170)은 래스터 메모리(150)의 내용을 판독하고, 데이터를 소정의 속도로 감소시키고, 감쇠된 값을 추후 표시를 위하여 래스터 메모리(150)에 다시 기억시킨다. 전술한 기능 모두는, 예를 들면, PowerPC G3 마이크로프로세서, 전용 ASIC일 수 있는 컨트롤러(130), 또는 다중 프로세서로서 사용될 수 있는 컨트롤러(130)의 제어로 동작될 수 있다.

래스터 메모리(150)가 도 2에 래스터 메모리(250)로서 상세하게 도시되어 있다. 래스터 메모리(250)는 3개의 메모리 면, 즉 그레이 스케일 면(GREY SCALE(GS) PLANE)(252), 벡터 면(VECTOR PLANE)(254), 및 사용자 인터페이스 면(User Interface(UI) PLANE)(256)을 포함한다. 당업자는 상기 구조를 메모리 "면(plane)"으로 쉽게 생각할 수 있지만, 이것들은 실제로 고속 SRAM 디스플레이 메모리의 연속된 블록이라는 점을 이해할 수 있을 것이다.

파형 데이터는 각각의 메모리 위치가 9비트 길이인, 512 x 402 매트릭스로 배열된 205,824 메모리 위치 어레이인 그레이 스케일 면(252) 내에 기입된다. 9비트는 휘도, 색, 및 화소가 마스크 화소인지 파형 화소인지의 여부를 정한다.

벡터 면(254)은 수리 연산(예를 들면, 채널 1과 채널 2로부터의 신호의 합)의 결과로부터 얻은 파형을 표시하거나, 또는 사전 기억된 기준 파형을 표시하는데 사용된다. 벡터 면(254)은 각각의 메모리 위치가 2비트 길이인, 512 x 402 매트릭스로 배열된 205,824 메모리 위치 어레이이다. 2비트는 소정의 화소마다 3 가지 레벨의 휘도 및 "오프" 상태를 정한다는 점을 또한 유의해야 한다.

사용자 인터페이스 면(256)은 텍스트 문자와 결합된 화소 데이터를 기억하는데 사용되며, 전체가 640 x 480인 화면 영역을 포함한다. 따라서, 사용자 인터페이스 면(256)은 각각의 메모리 위치가 4비트 길이인, 640 x 480 매트릭스로 배열된 307,200 메모리 위치 어레이이다. 4비트는 소정의 화소마다 색 및 휘도 레벨을 정한다.

상기 3개의 면(252, 254, 256)으로부터 출력된 출력 신호가 판독되어, 디스플레이 판독 하드웨어 유닛(DISPLAY READOUT HARDWARE unit)(280)에 일반적으로 60 Hz 속도로 표시되도록 결합된다.

도 3은 오실로스코프의 표시 화면 상에 표시된 일반적인 원격 통신 마스크(310, 320)의 두 부분을 도시한다. 도 1의 컨트롤러(130)가 원격 통신 마스크를 디스플레이 메모리 내에 묘사한다. 상기 원격 통신 마스크는 일련의 기억된 X-Y 포인트로 형성된 일련의 다각형(예를 들면, 사다리꼴)으로 묘사된다. 원격 통신 마스크는 최종 목적에 따라 두 개의 메모리 면 중 어느 하나에 묘사될 수 있다. 그 목적이 원격 통신 마스크를 단지 보이게 하거나 또는 원격 통신 마스크를 화면 주위로 움직이게 하려는 경우, 이것은 벡터 면(254) 내에 묘사된다. 그러나, 그 목적이 상기 오토핏 투 마스크 기능의 파형 데이터와 비교를 실행하려는 경우, 원격 통신 마스크는 그레이 스케일 면(252) 내에 묘사된다. 이것은 래스터라이저가 파형 데이터 및 원격 통신 마스크 데이터 양자 모두에 액세스하여, 화소가 래스터 메모리(250)의 그레이 스케일 면(252) 내에 묘사될 때, 상기 두 개의 데이터 사이의 위반을 검출(즉, 충돌 측정)해야 하기 때문에 필요하다.

도 3을 참조하면, 디지털 오실로스코프 등의 표시 화면(300) 상에, 상단부(310) 및 하단부(320)를 가진 원격 통신 마스크가 표시되어 있다. 상단부(310) 및 하단부(320) 각각은 다각형(예를 들면, 사다리꼴)으로 구성된 각기 다른 세그멘트를 포함한다.

오토셋 투 마스크 특징이 원격 통신 마스크(310, 320)를 표시 화면 상에 위치(래스터 메모리(150) 내에 기입)시키고, 파형(330)을 얻어서 공칭값으로 조정했다고 가정하자. 오토핏 투 마스크 기능을 제어하여 마스크 영역 내의 임의의 화소 데이터 감쇠를 방지한다(이로써 마스크가 계속해서 리드로되지 않아도 됨).

현재의 데이터가 래스터 메모리(250)의 그레이 스케일 면(252)의 관련 위치를 판독한 다음 새로운 데이터가 기입된다고 생각하자. 현재의 데이터는 그레이 스케일링 특징의 증분 부분을 실행시키도록 새로운 데이터와 결합된다(그레이 스케일링 특징의 감소 부분은 다중 기능 래스터 감쇠 유닛(170)에 의하여 달성됨). 결합된 데이터는 메모리 내에 다시 기입되어 표시된다.

본 발명은 현재의 데이터와 파형 데이터가 결합될 때, 포인트에서의 충돌 검출 동작의 실행으로 상기 특징이 매우 고속(대략 매초당 천만 포인트)으로 동작가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 현재의 화소 데이터는 상기 화소가 원격 통신 마스크의 일부임을 표시하는 경우, 파형 화소와 마스크 화소 사이의 충돌(즉, 위반)이 검출된다. 이 점에 관해서, 파형(330)은 오프셋 에러로 인하여 포인트(335, 337)에서 원격 통신 마스크를 위반하는 것으로 예시되어 있다. 제1 위반을 검출할 시(즉, 포인트(335)에서), 오토핏 투 마스크 특징은 상기 제1 위반이 더 이상 마스크를 위반하지 않을 때까지 얻어진 파형의 표시 위치를 보정하는 오프셋을 개시한다. 상기 파형의 위치를 파형(340)으로 예시한다. 즉, 설명을 위하여, 두 개의 파형(330, 340) 모두가 표시 화면(300) 상에 표시되어 있다. 실제로, 파형(340)은 재위치된 파형(330)이며, 양자 모두가 동시에 표시되지 않을 수 있다.

처음에는, 파형(330)이 입력 아날로그-디지털 변환기(111)의 이득 및 오프셋의 조정으로 재위치될 수 있는 것으로 생각할 수 있다. 이러한 방식으로 미세하게는 조정될 수 있는 반면, 더 많은 조정에는 측정이 이루어지기 전에 시간을 설정하는 것이 필요하다. 더욱 곤란한 점은, 조정으로 인하여 아날로그-디지털 변환기(111)의 동작이 여러 개의 소정 임계 레벨 중 하나를 횡단하는 경우, 회로 구성의 변경이 릴레이 접점을 전환시킬 수 있다. 릴레이마다 시간을 전환하고 시간을 정할 수 있으므로 마스크 시험이 실행될 수 있는 속도에 상당히 불리한 영향이 미칠 수 있다.

여기서, 파형(330)을 마스크에 대하여 재위치시키기 위하여 획득 시스템을 재구성할 필요가 없다는 점을 이해할 것이다. 또한, 파형을 래스터 메모리(250)의 그레이 스케일 면(252) 내의 새로운 위치에 리드로함으로써 파형(330)은 마스크에 대하여 재위치된다. 상기 동작이 표시된 파형 위치에 단지 영향을 미친다는 점에 유의하는 것이 중요하다. 이와 같이, 시간을 임의로 전혀 조정할 필요없이 파형이 마스크에 대하여 고속으로 재위치될 수 있다.

"스파이럴 서치(spiral search)"가 파형을 마스크에 대하여 재위치시키는 한 가지 방법이다. 사용가능한 스파이럴 서치 형태를 도 4에 도시한다. 도 4의 사각형은 표시 화면(300)의 화소(또는 아마도 래스터 메모리(250)의 그레이 스케일 면(252) 내의 메모리 위치)를 나타낸다. 특히, 대각선으로 평행선이 그어진 화소(410)는 확대된 마스크 팁(310)을 나타낸다. 위치(435)는 도 3의 마스크 위반 영역(335)에 근접한 포인트를 나타낸다. 설명을 위하여, 충돌이 화소 0에서 검출되고, 마스크 위반을 표시하는 신호가 발생될 수 있고(예를 들면, 메모리 내에 설정된 "플래그" 비트), 화소 1 내지 28을 검사하는 스파이럴 서치가 시계반대방향 외측으로 전진할 수 있다고 가정한다. 각각의 화소(1 내지 28)는 또 다른 위반을 표시할 수 있다. 화소(29)가 마스크의 일부가 아니라고 가정하면(대각선으로 평행선이 그어지지 않게 표시된 바와 같이), 스파이럴 서치는 그 위치에서 종료될 수 있다. 화소(29)가 화소(0)의 바로 하측에 위치됨을 유의해야 한다. 상기 정지 포인트는 도 3의 파형(340) 배치가 맞는 것이 일반적이다. 즉, 스파이럴 서치를 화소(29)에서 정지함으로써 래스터라이저(140)가 파형(330) 화소 모두를 화면(330) 하측에 표시될 메모리 위치 내에 기억시킨다. 이로써 파형(340)이 파형(330)에 의하여 원래 점유된 위치 바로 하측의 화면(300) 상에 나타난다. 도 4에 있어서, 대각선으로 평행선이 그어진 화소를 사용하여 그레이 스케일 면(252)의 위치 내에 기억된 데이터값을 나타내고, 여기서 데이터값은 특정의 화소가 마스크의 일부인 가 의 여부를 표시한다. 또한, 소정의 서치 곡률이 오프셋 공차를 설정한다는 점을 유의해야 한다. 즉, 서치 곡률을 제한함으로써, 이동이 특정의 신호 기준에 의하여 한정된 오프셋 한도를 초과하는 경우, 파형이 수직으로 너무 멀리 이동하는 것이 방지된다.

당업자는 마스크 및 파형의 이동이 서로 관련이 있다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 다른 실시예에서 마스크를 이동시켜 파형을 정지(靜止) 상태로 유지할 수 있다. 상기 배열에 대한 화면 표시를 도 5에 도시한다.

도 5에 있어서, 위반이 마스크(510)의 영역(535, 537)에 발생하였다. 이에 응답하여, 스파이럴 서치가 시작되어 화소를 마스크(510)와 파형(540)이 일치하지 않는 영역(535)에 위치시킨다. 이 경우 마스크는 위반이 중단될 때까지 상측으로 이동한다. 이 새로운 마스크 위치를 겹쳐진 마스크(510')로 표시한다. 위반이 포인트(535') 또는 포인트(537')에 더 이상 발생하지 않음을 유의해야 한다.

마스크(510)가 컨트롤러(130)에 의하여 묘사되기 때문에, 파형에 대한 마스크의 이동은 마스크에 대한 파형의 이동보다 항상 훨씬 느리다. 사용자가 전체적인 검사 시간을 중요하게 생각하는 경우, 마스크를 리드로해야 하는 느린 배열이 허용가능하지 않을 수 있다. 동작 속도에 있어서, 파형에 대한 마스크의 이동은 획득 시스템보다는 디스플레이에 발생하기 때문에, 상기 대안은 설정 시간 및 릴레이 동작으로 인하여 필연적으로 지연되는 전술한 종래 기술에 비하여 여전히 빠르다.

그러나, 상기 대안의 속도는 컨트롤러(130)를 마이크로프로세서로부터 전용 ASIC로 변경함으로써 향상될 수 있다. 이와 같이 하여, 마스크가 메모리에 묘사될 수 있는 속도가 크게 증가될 수 있다. 이러한 배열은 본 발명의 범위 내에 포함되는 것으로 생각된다.

상기 설명한 내용은 파형을 원격 통신 마스크에 대하여 재위치시키는 매우 고속인 방법 및 장치, 또는 원격 통신 마스크를 파형에 대하여 재위치시키는 고속 방법 및 장치에 관한 것이다.

또한, 마스크 화소 데이터와 파형 화소 데이터는 화소가 본 발명에 의하여 제공된 당해 기술에서 근본적으로 개선된 래스터 메모리 내에 기억될 때 래스터라이저에 의하여 실질적으로 실시간에 비교된다는 점을 이해하게 된다. 위반을 제거하기 위하여 정정되는 가의 여부도 마찬가지이다. 따라서, 다른 실시예에 있어서, 상기 장치가 위반을 검출할 시 위반을 나타내는 신호가 발생된다.

특정의 스파이럴 서치 방법을 설명하였지만, 당업자는 다른 서치 방법도 또한 사용될 수 있다는 점을 이해할 것이다. 본 발명은 디지털 오실로스코프에 대하여 설명하였으나, 본 발명은 논리 분석기, 또는 통신망 분석기, 등과 같은 다른 시험 및 측정 기기에도 적용가능하다는 점을 이해해야 한다.

마스크를 발생하는 X-Y 포인트를 전술한 바와 같이 설명하였으나, 당업자는 사용자가 자신의 개인 데이터를 시험 및 측정 기기의 데이터 포트를 통하여 PC로부터 다운로드하여 맞춤 마스크(custom mask)를 형성할 수 있다는 점을 이해할 것이다.

Claims

마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기에 있어서,

파형 샘플을 획득하는 획득 시스템;

마스크를 형성하는 마스크 화소 데이터를 발생하는 컨트롤러;

상기 파형 샘플 및 상기 마스크 화소 데이터―여기서 마스크 화소 데이터는 식별 코드를 포함함―를 기억하는 메모리; 및

메모리 위치를 판독하고, 상기 획득한 파형 샘플의 특정 파형 샘플이 마스크 화소를 현재 기억하는 메모리 위치―여기서 제1의 메모리 위치는 제1 군의 메모리 위치중 하나임―내에 기입되는 가를 실질적으로 실시간으로 결정하는 비교 회로;

를 포함하고,

상기 비교회로가 상기 결정에 응답하여 마스크 위반을 나타내는 위반 신호를 발생하는

시험 및 측정 기기.
제1항에 있어서,

상기 비교회로가 래스터라이저이고,

상기 메모리가 래스터 메모리이고, 및

상기 비교가, 상기 파형 샘플이 상기 래스터 메모리 내에 합성될 때, 상기 식별 코드에 대한 상기 래스터 메모리의 화소 데이터를 검사하는 상기 래스터라이 저에 의하여 실행되는

시험 및 측정 기기.
제2항에 있어서,

상기 래스터 메모리에 결합되어 상기 마스크 및 상기 파형을 표시하는 디스플레이 회로

를 추가로 포함하고,

상기 래스터라이저가 상기 파형을 상기 위반 신호에 응답하여 제2 군의 메모리 위치 내에 합성하고, 상기 제2 군의 메모리 위치로 인하여 상기 파형의 표시 위치가 상기 마스크의 표시 위치에 대하여 변경되는

시험 및 측정 기기.
제3항에 있어서,

상기 컨트롤러로 인하여 래스터라이저가 상기 파형 샘플을 서치 패턴에 응답하여 상기 제2 군의 메모리 위치 내에 합성되고, 파형 표시 위치를 마스크 위반을일으키지 않는 상기 마스크의 상기 표시 위치에 대하여 위치시키는

시험 및 측정 기기.
제3항에 있어서, 마스크 화소를 발생시키는 상기 컨트롤러가 마이크로프로세서인 시험 및 측정 기기.
제3항에 있어서, 마스크 화소를 발생시키는 상기 컨트롤러가 전용 ASIC인 시험 및 측정 기기.
제2항에 있어서,

상기 래스터 메모리에 결합되어 상기 마스크 및 상기 파형을 표시하는 디스플레이 회로

를 추가로 포함하고,

마스크 화소를 발생시키는 상기 회로가 상기 마스크 화소를 상기 위반 신호에 응답하여 제2 군의 메모리 위치 내에 합성하고, 상기 제2 군의 메모리 위치로 인하여 상기 마스크의 표시 위치가 상기 파형의 표시 위치에 대하여 변경되는

시험 및 측정 기기.
제7항에 있어서,

상기 컨트롤러로 인하여 상기 마스크 화소가 서치 패턴에 응답하여 상기 제2 군의 메모리 위치 내에 합성되고, 마스크 표시 위치를 마스크 위반을 일으키지 않는 상기 파형의 표시 위치에 대하여 위치시키는

시험 및 측정 기기.
제8항에 있어서, 마스크 화소를 발생시키는 상기 회로가 마이크로프로세서인 시험 및 측정 기기.
제8항에 있어서, 마스크 화소를 발생시키는 상기 회로가 전용 ASIC인 시험 및 측정 기기.
제1항에 있어서,

상기 마스크에 관련된 데이터를 수신하는 데이터 포트

를 추가로 포함하고,

상기 컨트롤러가 상기 데이터 포트에 결합되어 상기 마스크에 관련된 상기 데이터로부터 마스크를 발생시키는

시험 및 측정 기기.
제1항에 있어서,

상기 시험 및 측정 기기가 디지털 오실로스코프인

시험 및 측정 기기.
마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기의 마스크 위반을 정정하는 방법에 있어서,

파형 샘플을 획득하는 단계;

마스크를 형성하는 마스크 화소 데이터를 발생시키는 단계;

상기 파형 샘플, 및 식별 코드를 포함하는 상기 마스크 화소 데이터를 메모리 내에 기억시키는 단계;

마스크 화소 데이터와 파형 샘플 데이터를 메모리 위치를 판독하여 비교하고, 상기 획득한 파형 샘플의 특정 파형 샘플이 마스크 화소를 현재 기억하는 메모리 위치―여기서 제1의 메모리 위치는 제1 군의 메모리 위치중 하나임―내에 기입되는 가를 실질적으로 실시간으로 결정하는 단계;

마스크 위반을 나타내는 위반 신호를 상기 결정에 응답하여 발생시키는 단계;

상기 마스크 및 상기 파형을 표시 화면 상에 표시하는 단계; 및

상기 파형 샘플을 상기 위반 신호에 응답하여 제2 군의 메모리 위치 내에 합성하고, 상기 파형의 표시 위치를 상기 마스크의 표시 위치에 대하여 변경시키는 단계

를 포함하는 마스크 위반 정정 방법.
제13항에 있어서,

상기 메모리가 래스터 메모리이고;

상기 비교 단계는 상기 파형 샘플이 상기 래스터 메모리 내에 합성될 때 상기 식별 코드에 대한 상기 래스터 메모리의 화소 데이터를 검사하는 래스터라이저에 의하여 실행되는

마스크 위반 정정 방법.
제14항에 있어서, 상기 합성 단계는

원하는 파형 표시 위치－여기서 상기 원하는 파형 위치는 마스크 위반을 야기하지 않음－를 상기 마스크의 상기 표시 위치에 대하여 위치시키기 위하여 상기 파형 샘플을 서치 패턴에 응답하여 상기 래스터라이저에 의하여 상기 제2 군의 메모리 위치 내에 합성시키는 단계

를 포함하는

마스크 위반 정정 방법.
제13항에 있어서,

상기 마스크 및 상기 파형을 디스플레이 상에 표시하는 단계; 및

상기 마스크 화소를 상기 위반 신호에 응답하여 제2 군의 메모리 위치―여기서 제2 군의 메모리 위치로 인하여 상기 마스크의 표시 위치가 상기 파형의 표시 위치에 대하여 변경됨―내에 합성시키는 단계

를 추가로 포함하는

마스크 위반 정정 방법.
제16항에 있어서,

원하는 마스크 표시 위치－여기서 상기 원하는 마스크 표시 위치는 마스크 위반을 야기하지 않음－를 상기 파형의 표시 위치에 대하여 위치시키기 위하여 상 기 마스크 화소를 서치 패턴에 응답하여 상기 제2 군의 메모리 위치 내에 합성시키는 단계

를 포함하는

마스크 위반 정정 방법.