KR100725212B1

KR100725212B1 - 마스크 줌 특징이 있는 원격 통신 마스크 시험 성능을가진 시험 및 측정 기기

Info

Publication number: KR100725212B1
Application number: KR1020000055778A
Authority: KR
Inventors: 레츠피터제이.
Original assignee: 텍트로닉스 인코포레이티드
Priority date: 1999-09-24
Filing date: 2000-09-22
Publication date: 2007-06-04
Also published as: CN1290078A; EP1094321A2; JP3670945B2; KR20010050594A; CN1166091C; EP1094321A3; EP1094321B1; DE60040129D1; JP2001099870A; US6642926B1

Abstract

원격 통신 마스크 시험 줌 기능이 마스크 화소를 래스터 메모리 내에 묘사한다. 이와 같이 하여, 마스크가 파형으로 간주된다. 화소가 래스터라이저에 의하여 래스터 메모리 내에 합성되기 때문에, 파형 화소와 마스크 화소 사이의 충돌(즉, 마스크 위반)을 검출하기 위하여 마스크 화소와 파형 화소가 실질적으로 실시간에 비교된다. 마스크는 파형으로 간주되기 때문에 래스터라이저에 의하여 컨트롤러의 제어로 확대축소 가능하고 재위치 또한 가능하다. 마스크는 마스크 화소와 파형 화소 양자 모두가 래스터라이저에 의하여 컨트롤러의 제어로 화소 형태로 래스터 메모리에 기억되기 때문에 파형에 끼워질 수 있다.

마스크, 줌 기능, 파형, 화소, 위반, 래스터라이저, 래스터 메모리

Description

마스크 줌 특징이 있는 원격 통신 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기 {A TEST AND MEASUREMENT INSTRUMENT HAVING TELECOMMUNICATIONS MASK TESTING CAPABILITY WITH A MASK ZOOM FEATURE}

도 1은 본 발명의 용도에 적합한 오실로스코프를 간단하게 도시한 개략도.

도 2는 도 1의 기기에 사용된 메모리 면을 간단하게 도시한 도면.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 원격 통신 마스크 및 파형의 화면 표시를 나타낸 도면.

도 4는 도 3의 원격 통신 마스크의 일부 확대도.

본 출원은 1999년 9월 24일 피터 제이. 레츠 및 스티븐 씨. 헤링에 의하여 원격 통신 마스크 시험(TELECOMMUNICATIONS MASK TESTING)이라는 발명의 명칭으로 출원된 미합중국 가 특허출원 제60/155,977호를 우선권으로 주장한다.

본 출원은 2000년 6월 22일 대리인 관리번호 7011-US1인 레츠에 의하여 오토핏 투 마스크 특징이 있는 원격 통신 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기(A TEST AND MEASUREMENT INSTRUMENT HAVING TELECOMMUNICATIONS MASK TESTING CAPABILITY WITH AN AUTOFIT TO MASK FEATURE)라는 발명의 명칭으로 출원된 미합중국 특허출원 제09/602,575호 및 2000년 7월 19일 대리인 관리번호 7011-US3인 레츠 및 헤링에 의하여 다중-채널 원격 통신 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기(A TEST AND MEASUREMENT INSTRUMENT HAVING MULTI-CHANNEL TELECOMMUNICATIONS MASK TESTING CAPABILITY)라는 발명의 명칭으로 출원된 미합중국 특허출원 제09/619,067호에 관한 것이며, 상기 두 건은 본 출원의 동일 양수인에게 양도된 것으로서 전술한 미합중국 가 출원을 또한 우선권으로 주장한다.

본 발명은 일반적인 시험 및 측정 기기, 특히 원격 통신 마스크 특징을 채택하는 시험 및 측정 기기에 관한 것이다.

일반적으로, 원격 통신 산업에서는 특정 신호가 ITU-T 및 ANSI와 같은 국내 및 국제 통신 표준에 의하여 설정된 매개 변수를 준수하는가의 여부를 판정하는 시험을 행한다. 이러한 컴플라이언스 시험의 주된 방식은 오실로스코프에 의하여 획득된 파형의 펄스 형상을 파형 "마스크"와 비교하는 것이다. 마스크는 최저 및 최대 진폭 값, 소정의 비트 전송 속도, 및 신호 에지 상의 정해진 최저 슬로프(즉, 최저 대역폭)를 가지는 경로를 정의한다. 시험 중인 신호가 경로 경계 내에 있는 경우, 신호는 시험을 통과한다. 이러한 종류의 시험이 원격 통신 마스크 시험으로 알려져 있다.

최근에 오실로스코프 특징에서 "오토셋 투 마스크(AUTOSET TO MASK)" 기능으로 기술 혁신이 이루어졌다. 오토셋 투 마스크 기능은 수평, 수직 및 트리거 설정을 오실로스코프 상에 자동적으로 설정하여 예상 신호를 수용하고, 마스크를 오실로스코프 디스플레이 상에 겹친다. 오토셋 투 마스크 기능 동작에 후속하여 수평 및 수직 스케일이 공칭값으로 설정되고, 파형을 얻고, 입력 아날로그-디지털 변환기의 설정 조정으로 파형의 스케일 및 위치가 조정되고, 마스크가 표시된다.

오토셋 투 마스크 기능이 얻어진 파형을 셋업하고 마스크를 표시한 후, 원격 통신 마스크 시험 소프트웨어가 파형이 적용가능한 원격 통신 표준과 일치되지 않는 것으로 나타낼 수 있는 시험할 파형의 마스크 영역 내 침입(즉, 위반 또는 마스크 히트)을 검사한다.

많은 원격 통신 애플리케이션에 있어서, 위반이 일어나는 영역에 근접한 디스플레이 상에 "줌-인(zoom-in)"하여 사용자가 보다 근접해서 검사를 실행할 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 유감스럽게도, 종래 기술의 원격 통신 시험 장치는 후술하는 이유로 상기와 같은 성능을 갖지 못하였다.

시험 중인 마스크와 파형이 수평 및 수직 재배치를 위하여 "함께 로크"되고 "줌"(즉, 확대)되도록 하여 보다 근접해서 검사할 수 있는 해결책이 필요하다.

본 발명에 따른 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기는, 제1 파형 및 그것의 후속 파형의 샘플을 획득하는 획득 시스템; 마스크를 형성하는 마스크 화소 데이터를 생성하는 컨트롤러; 상기 샘플, 상기 마스크 화소 데이터, 및 상기 후속 파형을 기억하는 메모리; 상기 메모리의 메모리 위치로부터 데이터를 판독하고, 상기 데이터를 상기 후속 파형의 샘플과 결합하여 그 결합 결과를 상기 메모리 위치 내에 기입하는 래스터라이저; 상기 메모리에 결합되어 상기 마스크 및 상기 파형을 표시하는 디스플레이 회로; 및 상기 컨트롤러에 결합되고, 디스플레이 상의 파형 위치 및 스케일에 영향을 미치도록 사용자가 조정하는 복수의 입력 장치를 포함하고, 상기 마스크 화소 데이터는 식별 코드를 포함하고, 상기 컨트롤러는 상기 래스터라이저로 하여금, 상기 복수의 입력 장치 중 하나가 상기 디스플레이 상의 상기 위치 및 상기 스케일 중 하나를 변경하도록 조정될 때, 상기 파형의 표시 및 상기 마스크의 표시 사이의 공간 관계를 유지하도록 하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른, 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기에서 마스크 및 파형 디스플레이의 스케일과 위치 중 어느 하나를 변경시키는 방법은, 제1 파형의 샘플을 획득하는 단계; 마스크를 형성하는 마스크 화소 데이터를 생성하는 단계; 상기 제1 파형의 샘플을 복수의 메모리 면(plane)을 가진 메모리 내에 기억시키는 단계; 상기 마스크 화소 데이터를 상기 메모리 내에 기억시키는 단계; 후속 파형의 샘플을 획득하는 단계; 상기 메모리의 메모리 위치로부터 데이터를 판독하고, 상기 데이터를 상기 후속 파형의 샘플과 결합하여 그 결합 결과를 상기 메모리 위치 내에 기입하는 단계; 상기 마스크 및 상기 파형의 표시를 디스플레이하는 단계; 컨트롤러에 결합되고, 디스플레이 상의 파형 위치 및 스케일에 영향을 미치도록 사용자가 조정하는 복수의 입력 장치의 설정을 판독하는 단계; 및 상기 복수의 입력 장치 중 하나가 상기 디스플레이 상의 상기 파형 위치 및 상기 스케일 중 하나를 변경시키도록 조정될 때, 상기 파형의 표시 및 상기 마스크의 표시 사이의 공간 관계를 유지시키는 단계를 포함하고, 상기 제1 파형의 데이터, 상기 추가 파형의 데이터, 및 상기 마스크 화소 데이터가 모두 상기 메모리의 단일 메모리 면(252)에 기억되며, 상기 마스크 화소 데이터가 식별 코드를 포함하는 것을 특징으로 한다.
도 1은 본 발명을 실행하는데 유용한 디지털 오실로스코프(100)를 간단하게 도시한 블록도이다. 상기와 같은 오실로스코프로는 예를 들면, 오레건주 비버턴 소재 텍트로닉스사 제품인 TDS-3000 디지털 형광체 오실로스코프(Digital Phosphor Oscilloscope: DPO)일 수 있다.

입력 신호가 아날로그-디지털(analog to digial: A/D) 변환기(111)를 포함하는 획득 회로(acquisition circuitry)(110)에 가해진다. 획득 회로(110)는 가해진 입력 신호를 실질적으로 계속해서 고속으로 샘플링하여 이 샘플을 획득 메모리(120) 내에 기억시킨다.

동작 시에, 디지털 오실로스코프(100)는 프로브(간략하게 하기 위하여 도시되지 않음)가 관찰 중인 회로의 일부 노드와 접촉되는 포인트에 존재하는 전압을 주기적으로 샘플링하여 입력 신호(즉, 파형)의 성질에 관한 정보를 얻는다. 오실로스코프 프로브 및 오실로스코프(100)의 전방 단부는 신호, 또는 일부 소정의 신호 분수나 배수를 정확하게 반복하여 이것을 아날로그-디지털 변환기(111)에 제공하도록 설계된다. 아날로그-디지털 변환기(111)의 출력은 획득 메모리(120)에 기억된 일련의 멀티-비트 디지털 단어이다. 연속적으로 얻어진 샘플이 획득 메모리 내의 순차 관련 어드레스, 즉 시간 스케일 관련 어드레스에 기억된다. 이들 어드레스의 데이터는 최종적으로 래스터라이저(140)에 의하여 시간 스케일로 다시 변환 되어 래스터 메모리(150) 내에 기억된다. 휘도 또는 색 매퍼(INTENSITY OR COLOR MAPPER)(180)와 같은 디스플레이 하드웨어가 래스터 메모리(150)의 내용을 판독하여 이 데이터를 래스터 스캔 디스플레이(RASTER SCAN DISPLAY)(190)에 가한다. 전술한 바의 시간 스케일은 오실로스코프의 래스터 스캔 디스플레이(190)의 x-축을 따라 수평 거리로 나타낸다.

참고를 위하여, 래스터는 수평 열 및 수직 칼럼으로 구성된다. 각 열은 위치 번호로 수직축(y-축)을 따라 나타낼 수 있고, 각 칼럼은 위치 번호로 수평축(x-축)을 따라 나타낼 수 있다. 일반적으로, 디지털 오실로스코프에서, 획득 메모리 위치의 데이터 내용으로부터 도출된 전압 진폭값은 조사(照射)된 화소의 수직 위치(열 번호)를 정하고, 획득 메모리의 어드레스로부터 도출된 시간값은 수평 위치(칼럼 번호)를 정한다. 2차원 래스터 메모리에 대한 내용을 제공하도록 획득 메모리의 내용 및 어드레스를 확장시키는 처리가 "래스터화"로 알려져 있다.

래스터라이저(140)는 획득 메모리(120)의 내용을 판독하고, 래스터 메모리(150)의 관련 위치 내용을 판독하고, 상기 두 가지 내용을 결합하고 이렇게 하여 얻어진 값을 래스터 메모리(150) 내에 다시 기억(즉, 합성)시킴으로써 합성 멀티-비트 그레이 스케일 파형(grayscale waveform)을 형성한다. 실질적으로 동시에, 다중-기능 래스터 감쇠 유닛(MULTI-FUNCTION RASTER DECAY unit)(170)은 래스터 메모리(150)의 내용을 판독하고, 데이터를 소정의 속도로 감소시키고, 감쇠된 값을 추후 표시를 위하여 래스터 메모리(150)에 다시 기억시킨다. 전술한 기능 모두는, 예를 들면, PowerPC G3 마이크로프로세서, 전용 ASIC일 수 있는 컨트롤러(130), 또는 다중 프로세서로서 사용될 수 있는 컨트롤러(130)의 제어로 동작될 수 있다. 컨트롤러(130)에 결합된 4개의 사용자 컨트롤이 도시되어 있다. 컨트롤은 수평 위치 컨트롤(131), 수직 위치 컨트롤(132), 진폭(이득) 컨트롤(133), 및 수평 시간축 컨트롤(134)이다.

래스터 메모리(150)가 도 2에 래스터 메모리(250)로서 상세하게 도시되어 있다. 래스터 메모리(250)는 3개의 메모리 면, 즉 그레이 스케일 면(GREY SCALE(GS) PLANE)(252), 벡터 면(VECTOR PLANE)(254), 및 사용자 인터페이스 면(User Interface(UI) PLANE)(256)을 포함한다. 당업자는 상기 구조를 메모리 "면(plane)"으로 쉽게 생각할 수 있지만, 이것들은 실제로 고속 SRAM 디스플레이 메모리의 연속된 블록이라는 점을 이해할 수 있을 것이다.

파형 데이터는 각각의 메모리 위치가 9비트 길이인, 512 x 402 매트릭스로 배열된 205,824 메모리 위치 어레이인 그레이 스케일 면(252) 내에 기입된다. 9비트는 휘도, 색, 및 화소가 마스크 화소인지 파형 화소인지의 여부를 정한다.

벡터 면(254)은 수리 연산(예를 들면, 채널 1과 채널 2로부터의 신호의 합)의 결과로부터 얻은 파형을 표시하거나, 또는 사전 기억된 기준 파형을 표시하는데 사용된다. 벡터 면(254)은 각각의 메모리 위치가 2비트 길이인, 512 x 402 매트릭스로 배열된 205,824 메모리 위치 어레이이다. 2비트는 소정의 화소마다 3 가지 레벨의 휘도 및 "오프" 상태를 정한다는 점을 또한 유의해야 한다.

사용자 인터페이스 면(256)은 텍스트 문자와 결합된 화소 데이터를 기억하는데 사용되며, 전체가 640 x 480인 화면 영역을 포함한다. 따라서, 사용자 인터페 이스 면(256)은 각각의 메모리 위치가 4비트 길이인, 640 x 480 매트릭스로 배열된 307,200 메모리 위치 어레이이다. 4비트는 소정의 화소마다 색 및 휘도 레벨을 정한다.

상기 3개의 면(252, 254, 256)으로부터 출력된 출력 신호가 판독되어, 디스플레이 판독 하드웨어 유닛(DISPLAY READOUT HARDWARE unit)(280)에 일반적으로 60 Hz 속도로 표시되도록 결합된다.

도 3은 오실로스코프의 표시 화면 상에 표시된 일반적인 원격 통신 마스크(310, 320)의 두 부분을 도시한다. 도 1의 컨트롤러(130)가 원격 통신 마스크를 디스플레이 메모리 내에 묘사한다. 상기 원격 통신 마스크는 일련의 기억된 X-Y 포인트로 형성된 일련의 다각형(예를 들면, 사다리꼴)으로 묘사된다. 원격 통신 마스크는 최종 목적에 따라 두 개의 메모리 면 중 어느 하나에 묘사될 수 있다. 그 목적이 원격 통신 마스크를 단지 보이게 하거나 또는 원격 통신 마스크를 화면 주위로 움직이게 하려는 경우, 이것은 벡터 면(254) 내에 묘사된다. 그러나, 그 목적이 레츠가 발명의 명칭 "오토핏 투 마스크 특징이 있는 원격 통신 마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기"(본 명세서에 참조하여 결합됨)으로 출원한 미합중국 특허출원 제09/602,575호에서와 같이 파형 데이터와의 비교를 실행하려는 경우, 원격 통신 마스크는 그레이 스케일 면(252) 내에 묘사된다. 이것은 래스터라이저가 파형 데이터 및 원격 통신 마스크 데이터 양자 모두에 액세스하여, 화소가 래스터 메모리(250)의 그레이 스케일 면(252) 내에 묘사될 때, 상기 두 개의 데이터 사이의 위반을 검출(즉, 충돌 측정)해야 하기 때문에 필요하다.

도 3을 참조하면, 디지털 오실로스코프 등의 표시 화면(300) 상에, 상단부(310) 및 하단부(320)를 가진 원격 통신 마스크가 표시되어 있다. 상단부(310) 및 하단부(320) 각각은 다각형(예를 들면, 사다리꼴)으로 구성된 각기 다른 세그멘트를 포함한다.

오토셋 투 마스크 특징이 원격 통신 마스크(310, 320)를 표시 화면 상에 위치(래스터 메모리(150) 내에 기입)시키고, 파형(330)을 얻어서 공칭값으로 조정했다고 가정하자. 오토핏 투 마스크 기능 일부를 제어하여 마스크 영역 내의 임의의 화소 데이터 감쇠를 방지한다(이로써 마스크가 계속해서 리드로되지 않아도 됨). 표시 화면 하측의 메뉴에서, 메뉴 옵션 오토핏 오프가 선택되었음을 유의해야 한다. 완전 오토핏 기능이 켜졌을 경우, 파형은 마스크 위반을 최종적으로 발생시킬 때까지 마스크에 대하여 일련의 새로운 위치에 반복적으로 리드로될 수 있다.

현재의 데이터가 래스터 메모리(250)의 그레이 스케일 면(252)의 관련 위치로부터 판독된 후 새로운 데이터가 메모리 내에 기입된다고 생각하자. 현재의 데이터는 그레이 스케일링 특징의 증분 부분을 실행시키도록 새로운 데이터와 결합된다(그레이 스케일링 특징의 감소 부분은 다중 기능 래스터 감쇠 유닛(170)에 의하여 달성됨). 결합된 데이터는 메모리 내에 다시 기입되어 표시된다.

도 1의 기기에 있어서, 현재의 래스터 메모리 데이터와 파형 데이터가 래스터라이저(140)에 의하여 결합될 때의 포인트에서 파형 화소와 마스크 화소 사이의 충돌 검출 동작이 실행된다. 따라서, 현재의 화소 데이터가 상기 화소가 원격 통신 마스크의 일부임을 표시하는 경우, 파형 화소와 마스크 화소 사이의 충돌(즉, 마스크 위반)이 검출된다. 이 점에 관해서, 파형(330)은 오프셋 에러로 인하여 포인트(335, 337)에서 원격 통신 마스크를 위반하는 것으로 예시되어 있다.

상기 포인트에서, 오실로스코프 조작자가 마스크 위반이 일어나는 영역을 검사하기 위하여 선택할 수 있다. 이렇게 하기 위하여, 조작자는 도 3의 하단부의 메뉴에 도시된 바와 같이 파형 로크(Wfm Lock) 옵션을 선택한다. 파형 로크 특징을 선택함으로써 컨트롤러(130)가 파형 및 마스크 양자 모두를 수평 위치(131)와 수직 위치(132)의 설정 변경, 및 증폭(수직 이득)(133) 및 수평 시간축(134) 컨트롤의 설정 변경에 대하여 서로 따라 가도록 한다.

수평 및 수직 위치 컨트롤을 사용함으로써, 조작자가 마스크 및 파형 양자 모두를 화면 디스플레이 상에 여기저기로 이동시킬 수 있는 한편, 서로에 대한 상대적인 배치를 유지시킬 수 있다. 증폭 및 수평 시간축 설정을 사용함으로써, 조작자가 디스플레이 부분을 확대(즉, 줌-인 온)시킬 수 있는 한편, 확대된 파형 부분 및 원격 통신 부분의 상대적인 배치를 유지시킬 수 있다.

이 점에 관해서, 마스크 부분(410, 420) 및 파형(430)의 확대 영상이 도 4에 도시되어 있다. 컨트롤러(130)가 수평 위치 컨트롤(131), 수직 위치 컨트롤(132), 증폭(수직 이득) 컨트롤(133), 및 수평 시간축 컨트롤(134)의 설정을 판독함으로써 도 3의 영상을 도 4의 영상으로 변형시키기 시작한다. 다음에, 컨트롤러(130)가 적당한 래스터 메모리 위치를 연산하고 여기에 파형 및 마스크 화소가 래스터라이저(140)에 의하여 기입된다. 동작 시, 래스터라이저(140)는 컨트롤러(130)에 의하여 레지스터를 제어하도록 기입된 제어값에 응답하여 스케일링, 휘도 및 위치 변경을 실행하는 회로(도시되지 않음)를 포함한다. 이와 같이, 스케일링 및 위치가 신속하고 생 데이터(raw data)에 영향을 주지 않고 변경될 수 있다. 상기 스케일링동작의 결과를 도 4에 나타내며, 여기에서 위치(435)가 도 3의 마스크 위반 영역(335)를 나타낸다.

본 명세서에서 컨트롤러(130)는 마이크로프로세서 또는 전용 ASIC, 혹은 다른 형태의 컨트롤러일 수 있고, 상기 변형예는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 이해할 수 있을 것이다.

상기 개시된 내용은 파형 및 원격 통신 마스크를 재위치시키고 확대시키는 한편, 이들 사이의 공간 관계는 유지시키는 아주 고속인 방법 및 장치에 관한 것이다.

또한, 본 명세서에서 파형이 처리되는 방식과 동일하게 마스크를 래스터 메모리 화소 데이터로서 처리함으로써 원격 통신 마스크의 원하는 안정성이 제공된다는 점을 이해할 수 있을 것이다.

본 발명을 디지털 오실로스코프에 대하여 개시하였지만, 본 발명은 다른 시험 및 측정 기기, 예를 들면 논리 분석기, 또는 통신망 분석기 등에도 적용가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다.

마스크를 발생시키는 X-Y 포인트가 사전에 기억된 것으로 개시되었지만, 당업자는 사용자가 자신의 데이터를 시험 및 측정 기기의 데이터 포트를 통하여 PC로부터 다운로드하여 맞춤 마스크를 발생시킬 수 있다는 점을 이해할 것이다.

Claims

마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기에 있어서,

제1 파형 및 그것의 후속 파형의 샘플을 획득하는 획득 시스템(110, 111, 120);

마스크를 형성하는 마스크 화소 데이터를 생성하는 컨트롤러(130);

상기 샘플, 상기 마스크 화소 데이터, 및 상기 후속 파형을 기억하는 메모리(150);

상기 메모리의 메모리 위치로부터 데이터를 판독하고, 상기 데이터를 상기 후속 파형의 샘플과 결합하여 그 결합 결과를 상기 메모리 위치 내에 기입하는 래스터라이저(140);

상기 메모리에 결합되어 상기 마스크 및 상기 파형을 표시하는 디스플레이 회로(190); 및

상기 컨트롤러에 결합되고, 디스플레이 상의 파형의 위치 및 스케일에 영향을 미치도록 사용자가 조정하는 복수의 입력 장치(131, 132, 133, 134)

를 포함하고,

상기 마스크 화소 데이터는 식별 코드를 포함하고, 상기 컨트롤러는 상기 래스터라이저로 하여금, 상기 복수의 입력 장치 중 하나가 상기 디스플레이 상의 상기 파형의 위치 및 스케일 중 하나를 변경하도록 조정될 때, 상기 파형의 표시 및 상기 마스크의 표시 사이의 공간 관계를 유지하도록 하는 것을 특징으로 하는 시험 및 측정 기기.
제1항에 있어서,

상기 메모리가 래스터 메모리(150)이고, 및

상기 마스크 화소 및 상기 샘플이 상기 래스터 메모리 내에 합성되는 것을 특징으로 하는 시험 및 측정 기기.
제2항에 있어서,

상기 마스크 화소를 생성하는 상기 컨트롤러가 마이크로프로세서인 것을 특징으로 하는 시험 및 측정 기기.
제3항에 있어서,

상기 마스크 화소를 생성하는 상기 컨트롤러가 전용 ASIC인 것을 특징으로 하는 시험 및 측정 기기.
제1항에 있어서,

상기 마스크에 관련된 데이터를 수신하는 데이터 포트를 추가로 포함하고,

상기 컨트롤러가 상기 데이터 포트에 결합되어 상기 마스크에 관련된 상기 데이터로부터 상기 마스크를 생성하는 것을 특징으로 하는 시험 및 측정 기기.
제1항에 있어서,

상기 시험 및 측정 기기가 디지털 오실로스코프인 것을 특징으로 하는 시험 및 측정 기기.
마스크 시험 성능을 가진 시험 및 측정 기기에서 마스크 및 파형 디스플레이의 스케일과 위치 중 어느 하나를 변경시키는 방법에 있어서,

제1 파형의 샘플을 획득하는 단계;

마스크를 형성하는 마스크 화소 데이터를 생성하는 단계;

상기 제1 파형의 샘플을 복수의 메모리 면(plane)을 가진 메모리 내에 기억시키는 단계;

상기 마스크 화소 데이터를 상기 메모리 내에 기억시키는 단계;

후속 파형의 샘플을 획득하는 단계;

상기 메모리의 메모리 위치로부터 데이터를 판독하고, 상기 데이터를 상기 후속 파형의 샘플과 결합하여 그 결합 결과를 상기 메모리 위치 내에 기입하는 단계;

상기 마스크 및 상기 파형의 표시를 디스플레이하는 단계;

컨트롤러에 결합되고, 디스플레이 상의 파형의 위치 및 스케일에 영향을 미치도록 사용자가 조정하는 복수의 입력 장치의 설정을 판독하는 단계; 및

상기 복수의 입력 장치 중 하나가 상기 디스플레이 상의 상기 파형의 위치 및 스케일 중 하나를 변경시키도록 조정될 때, 상기 파형의 표시 및 상기 마스크의 표시 사이의 공간 관계를 유지시키는 단계

를 포함하고,

상기 제1 파형의 데이터, 상기 추가 파형의 데이터, 및 상기 마스크 화소 데이터가 모두 상기 메모리의 단일 메모리 면(252)에 기억되며,

상기 마스크 화소 데이터가 식별 코드를 포함하는 것을 특징으로 하는 스케일 및 위치 변경 방법.
제7항에 있어서,

상기 메모리가 래스터 메모리이고;

상기 샘플 및 상기 마스크 화소가 상기 래스터 메모리의 단밀 메모리 면(252) 내에 합성되는 것을 특징으로 하는 스케일 및 위치 변경 방법.