JPH07151836A - 荷電粒子線試験装置及び半導体集積回路試験装置 - Google Patents

荷電粒子線試験装置及び半導体集積回路試験装置

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JPH07151836A
JPH07151836A JP5301618A JP30161893A JPH07151836A JP H07151836 A JPH07151836 A JP H07151836A JP 5301618 A JP5301618 A JP 5301618A JP 30161893 A JP30161893 A JP 30161893A JP H07151836 A JPH07151836 A JP H07151836A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 異常個所がわかり易いLSM像を得る。 【構成】 各試験パターンの始めにトリガ信号を発生
し、遅延手段23で設定遅延量だけ遅延され、その遅延
出力で電子ビームパルスがIC15に照射され、その2
次電子が検出器16で検出され、画像データとしてメモ
リ18,19の一方に取込まれる。各トリガごとに遅延
量が一定量ずつ増加されることを1水平走査ごとに繰返
し、1画面分のデータを取得すると、取得完了信号を信
号発生器11へ送る。信号発生器11では取得完了信号
を受信するごとに、電源電圧のような動作条件を交互に
変更して同一の試験を行う。また条件信号を発生し、画
像データの蓄積をメモリ18と19とに交互に切替え
る、メモリ18と19のデータの差を表示する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は電子ビームやイオンビ
ーム等の荷電粒子線を半導体集積回路に照射し、発生す
る2次電子の量を測定し、その半導体集積回路の電位分
布を濃淡画像として表示して不良部分を判定すること等
に用いられる試験装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、電子ビーム試験装置において動
作中の半導体集積回路(以下ICと記す)に電子ビーム
を照射し、そのとき発生する2次電子の量を測定し、そ
のことを同一の試験パターンについて順次電子ビーム照
射位置をずらし、2次電子の量に応じた濃淡画像を表示
することが行われている。この場合の表示像は、例えば
図7Aに示すように、ICの配線パターン像1〜4が現
れるが、高レベル電位が与えられている配線からの2次
電子は少なく、表示画像においてパターン像1,2のよ
うに黒く表示される。一方、低レベル電位が与えられて
いる配線からの2次電子は多く、表示画像においてパタ
ーン像3,4のように白く表示され、配線以外の部分1
5はその発生2次電子が高レベル部分及び低レベル部分
における各2次電子の中間であって灰色に表示される。
図6Aの画像をストロボ像と云う。
【0003】この表示画像に対応する印加試験パターン
が知られており、つまり、各配線の正常時の電位が知ら
れているから、この表示画像を見て、そのICが正しく
動作しているか、どの部分が異常であるか等の判断をす
ることができる。又、試験信号の設定したタイミング点
から設定したタイミング点の間、電子ビームを位置水平
走査させ、前記両タイミング点ごとに水平走査線を順次
ずらして垂直走査し、例えば図7Aに示すように横軸が
水平走査線の位置及び試験信号の時間軸を示す画像を形
成することが行われている。図7Aにおいて配線パター
ン像は対応配線に図7Bに示す試験信号1aが印加さ
れ、そのタイミング点T0 からT1 までにおけるその配
線の電位の経時変化を配線パターン像1は示し、従って
0 から低レベルの部分ΔT1 は配線パターン像1に最
初の白部分L1 として表示され、次の高レベル部分ΔT
2 は配線パターン像1の次の部分L2 に黒部分として表
示され、次の低レベル部分は配線パターン像1における
次の白部分L3として表示される。配線パターン像2及
び3は試験信号2a及び3aがそれぞれ対応配線に印加
され、そのタイミング点T0 乃至T1 の間に対応する像
である。このように試験信号の時間変化も表示するよう
にした像はLSM像と呼ばれている。これは1画面で時
間的変化の状態を知ることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図6Aに示した像を得
る場合にそのSN比を高くするため、同一画像をくり返
し取得すると、ICの表面の絶縁保護膜に電荷が溜まり
6B、6Cに示すように高レベルの配線パターン像と低
レベルの配線パターン像との区別ができなくなり、つい
には同一の灰色の表示となってしまう。従って高いSN
比のものを得ることができなかった。
【0005】又、図6Aに示したように、試験信号の設
定パターンにおけるデータをとりこむ場合は、その試験
パターンの印加に基く変化の経時状態を知ることができ
ない。しかし、LSM像ではこれを知ることができる
が、図7について先に述べたようにLSM像を得る場合
も同一条件でくり返し取得すると像が不明瞭になり、S
N比を向上させることはできなかった。
【0006】更に、動作を保持する順次回路と、動作を
保持しない論理回路とが複数従続的に設けられているI
Cにおいては、その不良の発生段(場所)と試験信号に
おける不良発生タイミングを知るには多くの画像を取得
する必要があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明によれば、試験
信号発生器から受信したトリガ信号は遅延手段により遅
延されて、荷電粒子線パルスを発生させるが、その遅延
量は、荷電粒子線によるICに対する水平又は垂直走査
位置と対応して設定される。又、試験信号発生器からI
Cの動作条件を変更したことを示す条件信号を受信する
ごとに、画像データの蓄積領域が切り替えられる。この
動作条件の変更は、所定量の画像データ、例えば1画面
分のデータを取得するごとに行われる。
【0008】画像データの表示は、現に取得中のものを
表示する場合、2つの蓄積領域内の両画像データの差を
表示する場合、この差の画像データとICのパターン形
状情報とを重畳して表示する場合等がある。遅延手段に
よる遅延は水平又は垂直走査の単位移動ごとに設定遅延
量に対して所定遅延量ずつ加算させる。或いは、ICの
走査をランダムに行わせ、そのランダム装置に水平又は
垂直位置において、予め記憶された遅延データを読み出
して、その遅延データを遅延回路に設定することにより
行われる。
【0009】
【実施例】図1にこの発明の実施例を示す。荷電粒子線
試験装置11として電子ビーム試験装置が用いられた場
合で、この試験装置11に試験信号発生器12が接続さ
れる。電子ビーム試験装置11において、真空チャンバ
ー13内で電子ビーム14がパルス状に発生され、チャ
ンバー13内のIC15に照射される。その照射により
発生した2次電子が2次電子検出器16で検出され、画
像データとして切替手段17により、画像メモリ18,
19のいずれかに記憶される。
【0010】試験信号発生器内の試験パターン発生部2
1から発生された試験パターン信号や電源信号等が試験
信号としてIC15へ供給され、IC15がこれに基い
て動作する。その試験パターン信号のくり返しと同期し
て、つまり各試験パターン信号の始めにトリガ信号発生
部22からトリガ信号が電子ビーム試験装置11内の遅
延手段23へ供給される。更に、動作電源電圧等のIC
15に対する動作条件を変更すると、そのことを示す条
件信号が条件信号発生部24から電子ビーム試験装置1
1の制御部25に供給される。図に示していないが、制
御部25に対して電子ビーム試験装置11の各種試験条
件を設定することができ、その設定に応じて制御部25
は各部を制御する。X走査手段26、Y走査手段27も
制御部25により制御され、これら走査手段26,27
により電子ビーム14が制御されて、IC15の設定さ
れた部分を水平・垂直走査する。
【0011】例えば図2Aに示す試験信号が発生され、
その繰返し時点にトリガ信号が図2Bに示すように発生
され、制御部25にトリガ信号に対し、図2Cに示すよ
うにタイミング点T0 からT1 までのデータの取込みと
して設定され、また1水平走査線につき取込むデータ数
がN個と設定されると、(T1 −T0 )/(N−1)の
単位時間Δtが求められ、遅延手段23の遅延量がt1
=T0 と初期設定される。最初のトリガ信号に遅延手段
23でt1 =T0 だけ遅延されてパルス発生器29へ入
力され、これより発生したパルスにより電子ビーム14
のパルスが発射され、IC15の2次電子が検出され
る。以下トリガ信号ごとに図2Dに示すようにt1 =T
0 に対し、順次Δtだけ多く遅延された電子ビームパル
スが発射され、画像データの取込みが行われる。またこ
の1画像データの取込みごとに電子ビーム14は1画素
分水平方向に移動される。つまりX走査手段26により
電子ビーム14が1画素分水平方向に移動されるごと
に、遅延手段23における設定遅延量がΔtだけ加算さ
れる。
【0012】このようにして1水平走査でタイミングT
0 〜T1 における画像データが取込まれ、同様に各水平
走査ごと画像データが取込まれ、1画面分の画像データ
の取込みが終了すると、取得完了信号が試験信号発生器
12へ送出される。この取得信号を受信すると試験信号
発生器12はIC動作条件を変更し、例えば電源電圧を
5Vから4Vに変更して条件信号を発生し、再び同様に
試験信号、トリガ信号を発生し、電子ビーム試験装置1
1は図2について述べたように、各トリガ信号ごとに順
次タイミングがずれた電子ビームパルスを発射して、画
像データの取込みを行う。
【0013】以下同様に1画面分の画像データの取得ご
とに取得完了信号を発生し、取得完了信号の受信ごとに
動作条件を交互に変更し、条件信号、試験信号、トリガ
信号を発生することを繰返す。また条件信号の受信ごと
に、画像データの取込みを画像メモリ18と19とに交
互に切替える。IC15の動作電源電圧が5Vの場合に
タイミング点T0 〜T1 間における配線1′,2′,
3′上の電位変化が図3Aの曲線1a,2a,3aと変
化し、これが正常動作とする。これに対し、電源電圧が
4Vに条件変更された場合にタイミング点T0 〜T1
における配線1′,2′,3′上の電位変化が図3Bの
曲線1a,2a,3aに示すようになったとする。つま
り配線1′は電位パターンの極性が反転し、配線2′は
同一電位パターンとなり、配線3bはタイミング点T2
〜T3 だけ極性が反転した。
【0014】このような状態において繰返し画像データ
を取得し、その各画像データを表示部31に表示する
と、図3Aの正常状態での取得画像は図3Cに示すよう
になる。即ち配線パターン像1は曲線1aの低レベルで
白に表示され、高レベルで黒に表示される。配線パター
ン像2は、曲線2aが低レベル、高レベルにかかわりな
く、灰色となっている、これは動作電源電圧が4Vに切
替っても、同一電位曲線となるため、動作条件の切替え
にかかわらず、配線2′における場所と時間とに対する
電位状態は変化しないため、保護絶縁膜に対する充電が
生じるためであり、つまり従来技術の問題点で指摘した
場合と同一である。配線パターン像3は、そのタイミン
グ点T1 〜T3 と対応する区間L23の低レベルでは白と
なり、その他の部分は、場所、時間について動作条件の
切替えで変化が生じないため、灰色となる。
【0015】一方、図3Bの異常状態での取得画像は図
3Dに示すようになる。即ち配線パターン像1は曲線1
aの高レベルで黒、低レベルで白が表示され、配線パタ
ーン像2は図3Cの場合と同様に変化がないため灰色と
なり、配線パターン像3は動作切替えで変化が生じた曲
線3aの区間T2 〜T3 の高レベルと対応する部分L 23
では黒、その他の部分は灰色となる。
【0016】このように図3C,Dから、動作状態を変
更し、この例では電源電圧を4Vに下げると、配線1′
では正常時と全く逆表示となり、異常となったことが理
解され、しかも場所的、経時的にも常に正常時と異なっ
たことが理解される。しかし配線2′では全く異常が生
じないこともわかり、配線3′では配線3′上の部分L
23で、タイミングT2 〜T3 の区間だけ低レベルから高
レベルに異常となったことが理解される。
【0017】更に図3Dに示した画像データから図3C
に示した画像データを引算し、その差の画像データを表
示すると図4Aに示すようになる。つまり配線パターン
像1は正常時の低レベルが高レベルになった部分L04
56は黒に、正常時の高レベルが低レベルになった部分
45、L61は白に表示される。動作条件を変更しても異
常とならなかった配線パターン像2は表示面上に全く現
われない。配線3′については低レベルから高レベルに
なった部分L23のみが黒となり、その他の部分は全く現
われない。この図4Aの表示は異常となったものだけが
図3C,Dの表示よりも、より明確に現われる。図3
C,Dは異常の表示状態は図4Aの表示に対し、明確さ
が少し劣るが各配線パターン像も現われるため、不良個
所の場所、時間的位置がよくわかる。
【0018】配線1′の電位が動作電源電圧5Vで図4
Bの曲線1aの場合に、動作電源電圧を4Vに下げる
と、図4Bの曲線1a′のように、低レベルのままとっ
た場合は、前記差画像データ像は図4C中の像L23のよ
うに高レベルが低レベルになった部分T23が白に表示さ
れる。更に曲線1a″のように曲線1a中の高レベル部
分の前半T24が電源電圧の低下により低レベルになった
場合は、差画像は部分T 24のみが白の像L24として現わ
れる。更に曲線1a''' のように曲線1aの高レベル部
分の後半T43が低レベルになると、差画像は部分T43
みが白の像L43となって現われる。このようにこの発明
では、配線電位の経時変化も知ることができる。なお曲
線1a″,1a''' の各場合はストロボ像ではそれぞれ
黒、白表示となる。
【0019】IC15を動作させない状態で、その表面
を電子ビーム走査して2次電子を検出し、あるいは試験
信号を印加するが一定の状態のまま、繰返し電子ビーム
走査して2次電子を検出してストロボ像を得るなどによ
り、IC15の表面の形状情報(画像データ)を取得
し、つまり例えば図3Cの表示と対応するIC部分につ
いては、図4Dに示すように配線1′,2′,3′の配
線パターン像1,2,3をそれぞれ2本線で表示するこ
とができるようにし、この形状情報をメモリ32に記憶
しておき、この形状情報と差画像データ(図4Aと対
応)とを重畳して表示することにより、注目すべき部分
を明確に表示し、かつそのIC上の場所も読取り易いよ
うにすることもできる。
【0020】上述では電子ビームの水平方向の移動と共
に電子ビームの照射タイミングをΔtずつ増加させた
が、つまり表示面上の水平方向が時間軸となるように画
像データを取得したが、垂直方向が時間軸となるように
画像データを取得してもよい。この場合は、電子ビーム
の同一水平走査線上では、トリガ信号に対する電子ビー
ム照射タイミングを一定値ti とし、次の水平走査線上
では電子ビーム照射タイミングをΔtだけ遅らせ、トリ
ガ信号に対し、ti +Δtのタイミングで電子ビームの
照射を行う。なお1水平走査において、同一点を照射し
ないように、1画像データを取得するごとに、Δtだけ
水平走査の開始を早くするとよい。
【0021】1水平走査中に、電子ビームの照射タイミ
ングをΔtずつ増加させる場合に、垂直走査をランダム
に行わせてもよい、つまり水平走査線の番号をランダム
に並べ、その並べられた水平走査線番号を、各1水平走
査ごとに順次選択する。また前述したように時間軸が垂
直方向となるように画像データを取得する場合におい
て、各水平走査を、その線上の各画素位置番号をランダ
ムに並べ、その並べた順に選択した画素位置に電子ビー
ムを照射するようにしてもよい。これらのように水平又
は垂直走査をランダムに行うことにより、接近した個所
を連続して電子ビーム照射することが避けられ、保護絶
縁膜のチャージの影響を少なくすることができる。この
手法は特に位置分解能を高くする場合に有効である。
【0022】同様に水平・垂直走査をランダムにさせて
もよい。例えば図5に示すように、水平走査上の各点に
電子ビームを偏向させるに必要なデータが水平偏向レジ
スタ34に記憶され、垂直走査上の各点に電子ビームを
偏向させるに必要なデータが垂直偏向レジスタ35に記
憶され、1水平走査線上の各画素点に対する電子ビーム
照射タイミング(トリガ信号に対する遅れ量)を示すデ
ータが遅延レジスタ36に記憶されている。全走査面の
各点の位置を示す番号がランダム発生器36から発生さ
れ、その下位ビットをアドレスとして水平偏向レジスタ
34と遅延レジスタ36が上位ビットをアドレスとして
垂直偏向レジスタ35がそれぞれ読出され、水平偏向レ
ジスタ34から読出されたデータがDA変換器38でア
ナログ信号に変換されて水平方向偏向器へ供給され、垂
直偏向レジスタ35から読出されたデータがDA変換器
39でアナログ信号に変換されて垂直偏向器へ供給さ
れ、遅延レジスタ36から読出されたデータがトリガ信
号を遅延する遅延回路41に設定され、その遅延回路4
1の出力がパルス発生器29へ供給される。
【0023】上述において、二つの動作条件での画像デ
ータを交互に取得するが、同一動作条件のものについ
て、それぞれ加算平均してSN比を向上させることもで
きる。1画面分の画像データを取込むに必要な時間は設
定条件にもよるが、その最大の時間を見込み、試験信号
発生器12側で、自動的に動作条件を変更し、電子ビー
ム試験装置11側では取得完了信号を発生しなくてもよ
い。1画面分のデータの取得ごとに動作条件をかえた
が、半画面分のデータの取得ごとなど所定の画面分のデ
ータの取得ごとに動作条件をかえてもよい。
【0024】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば電源
電圧、試験パターンクロック周波数などの動作条件を、
所定画面分のLSM像データを取得ごとに交互に切替え
ているため、注目している所を絶縁保護膜に影響されず
に明確に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例を示すブロック図。
【図2】図1の動作における試験信号と、トリガ信号
と、画像データ取得期間と、電子ビームパルス照射タイ
ミングとの関係例を示す図。
【図3】A及びBは配線上の信号例を示す図、C及びD
はそれぞれ対応取得画像データの表示例を示す図であ
る。
【図4】Aは差画像データの表示例を示す図、Bは配線
上の正常信号とその各種異常信号とを示す図、CはBに
おける各異常信号と対応した表示画像を示す図、DはI
Cの表面形状情報の表示画面の例を示す図である。
【図5】ランダム走査信号発生手段及び対応した遅延手
段23の例を示すブロック図。
【図6】従来装置における問題点を説明するためのスト
ロボ画像表示例を示す図。
【図7】AはLSM像表示の例を示す図、Bはその対応
配線上の信号を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 五石 晃 東京都練馬区旭町1丁目32番1号 株式会 社アドバンテスト内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 動作中の半導体集積回路に荷電粒子線を
    パルス的に照射し、その2次電子を検出して、上記半導
    体集積回路の電位分布の画像を得る荷電粒子線試験装置
    において、 上記半導体集積回路へ動作試験信号を供給する試験信号
    発生器からトリガ信号を受信し、そのトリガ信号に対
    し、荷電粒子線による上記半導体集積回路に対する水平
    又は垂直走査位置と対応した遅延を与えて荷電粒子線パ
    ルスを発生させる遅延手段と、 上記試験信号発生器から半導体集積回路の動作条件を変
    更したことを示す条件信号を受信するごとに、上記検出
    2次電子より得た画像データの蓄積領域を切り替える手
    段と、 を具備することを特徴とする荷電粒子線試験装置。
  2. 【請求項2】 試験信号発生器と荷電粒子線試験装置と
    よりなり、 上記試験信号発生器から動作試験信号を、上記荷電粒子
    線試験装置内の半導体集積回路へ供給してその半導体集
    積回路を動作させ、 その動作中に、上記荷電粒子線試験装置で荷電粒子線を
    パルス的に上記半導体集積回路へ照射し、その2次電子
    を検出して上記半導体集積回路の電位分布の画像を得る
    半導体集積回路試験装置において、 上記試験信号発生器に上記試験信号のくり返しごとに、
    その基準を示すトリガ信号を、上記荷電粒子線試験装置
    へ送信する手段と、 上記半導体集積回路の動作条件を変更させると、そのこ
    とを示す条件信号を上記荷電粒子線試験装置へ送信する
    手段とを備え、 上記荷電粒子線試験装置に受信した上記トリガ信号に対
    し、荷電粒子線による上記半導体集積回路に対する水平
    又は垂直走査位置と対応した遅延を与えて荷電粒子線パ
    ルスを発生させる遅延手段と、 上記条件信号を受信するごとに、上記検出2次電子より
    得た画像データの蓄積領域を切り替える手段とを備え、 ていることを特徴とする半導体集積回路試験装置。
  3. 【請求項3】 上記画像データ蓄積領域に蓄積された両
    画像データの差を表示する手段を具備することを特徴と
    する請求項1又は2記載の試験装置。
  4. 【請求項4】 上記半導体集積回路のパターン形状情報
    を記憶する手段と、上記パターン形状情報と上記差画像
    データとを重畳表示する手段を具備することを特徴とす
    る請求項3記載の試験装置。
  5. 【請求項5】 上記遅延手段は、上記水平又は垂直走査
    の単位移動ごとに、設定遅延量に対し所定遅延量ずつ加
    算させて、上記遅延を行う手段であることを特徴とする
    請求項1乃至4のいずれかに記載の試験装置。
  6. 【請求項6】 上記垂直又は水平走査がランダムにされ
    ることを特徴とする請求項5記載の試験装置。
  7. 【請求項7】 上記半導体集積回路に対する走査をラン
    ダムに行わせる手段を備え、上記遅延手段は上記ランダ
    ム走査における水平又は垂直位置に応じて、予め記憶さ
    れた遅延データを読み出して、上記トリガ信号を遅延す
    る遅延回路に設定する手段であることを特徴とする請求
    項1乃至4のいずれかに記載した試験装置。
JP5301618A 1993-11-08 1993-12-01 荷電粒子線試験装置及び半導体集積回路試験装置 Expired - Fee Related JP2901172B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7188031B1 (en) 2002-06-28 2007-03-06 Canon Kabushiki Kaisha Method for acquiring information of a biochip using time of flight secondary ion mass spectrometry and an apparatus for acquiring information for the application thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7188031B1 (en) 2002-06-28 2007-03-06 Canon Kabushiki Kaisha Method for acquiring information of a biochip using time of flight secondary ion mass spectrometry and an apparatus for acquiring information for the application thereof

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