JP3664998B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は真空処理装置に関し、特別にはマルチチャンバータイプの真空処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図3は、従来例の真空処理装置1を示すが、これはいわゆるマルチチャンバータイプと言われるもので、中央に搬送室8を設け、この周囲に処理室2、3、4、5、6、7を配設させている。なお、このうち1つ又は2つの処理室は仕込室および/または取出室とされている。これら処理室2、3、4、5、6、7と中央の搬送室8との間には、各処理室と搬送室とを遮断する仕切弁Gが設けられている。搬送室8内には搬送ロボット9が設けられており、これにより各処理室から、例えば基板を取り出したり、次に処理をする基板を処理室内に導入させるようにしている。
【0003】
通常の搬送室8の圧力は各処理室2乃至7の圧力と同じ又は高く又は低くと常に変化する必要があり、仕切弁Gは図4に示す構成とされている。弁体10は右端面にシール部材11を装着させており、駆動ロッド12の先端部に固定されているが、これは駆動機構13により処理室C内に連通する開口部14を有する弁座14aから離脱する位置へと、そしてこれから下方へと移動させ、処理室Cと搬送室Dとを自由連通とする位置を取るべく駆動される。この駆動機構13は、例えば本出願人が先に提案した特開平7−27235号公報に記載されている「開閉機構」が用いられる。この機構によれば、弁体10は図示する着座位置から反時計方向に若干、回動し(B方向)、この後、下方へと移動する(A方向)。また図4に示す遮断位置を取る時には、弁体10は上動し、弁座14aに対向すると時計方向に若干、回動して弁座14aに着座する。通常の真空処理中は、搬送室Dの圧力は処理室Cの圧力より高く、このため弁体10は図示する着座位置で弁座14aに押圧されている。これにより安定な遮断作用が得られるのであるが、例えば他の処理室が連続して処理を行っているときに、処理室Cのメンテナンスを行なうべく、この処理室Cの圧力を大気圧にする場合がある。このとき搬送室Dの圧力は通常の圧力であるため、メンテナンス時の処理室Cの圧力は搬送室Dの圧力より高くなって弁体10を弁座14aから離脱する方向に作用する。したがって、通常は仕切弁Gの弁体10の駆動機構13にこの差圧に耐えるだけのシール機能を持たせるようになっている。然るに、弁座14aの開口部14の開口面積が大きくなるとこれに比例して弁体10の全体にかかる押圧力は更に大きくなり、大気圧に耐えるだけのシール機能が持てなくなる場合がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上述の問題に鑑みてなされ、処理室のメンテナンスを行なう場合でも、搬送室とこのメンテナンスを行なう処理室との間を確実に遮断することのできる真空処理装置を提供することを課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
以上の課題は、搬送室のまわりに複数の処理室を配設させ、これら各処理室を前記搬送室にそれぞれ仕切弁を介して接続してなる真空処理装置において、前記仕切弁は大気から遮断されている弁室と、該弁室内で前記搬送室に連通する第1開口部を有する第1弁座と、前記処理室に連通して前記第1開口部と対向している第2開口部を有する第2弁座と、前記第1弁座と前記第2弁座との間に位置し、前記第1弁座または前記第2弁座に選択的に当接可能とされている弁体とを有することを特徴とする真空処理装置、によって解決される。
【0006】
以上の構成により、処理室のメンテナンスを行なうべく大気圧とした場合には、弁体は搬送室に連通している第1開口部を有する第1弁座と当接しており、これにより処理室の大気圧により弁体を第1開口部を有する第1弁座に押圧させ、確実にこのメンテナンス時にも処理室と搬送室との間を遮断する。
【0007】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の実施の形態による真空処理室の要部を示すものであるが、仕切弁20において、開口部30及び31はそれぞれ処理室Cの壁部及び搬送室Dの壁部に形成した開口と連接しており、その開口端30a、31aは相対向しており、開口部30、31を形成させている弁ケース26がシール部材32を介して処理室C及び搬送室Dの側壁に気密に取り付けられており、内部に弁室Vを画成している。弁体21は下方の駆動装置24により、矢印A’、B’で示すように、上下及び左右に必要に応じて駆動する。弁体21の両面にはシール部材22、23が装着されており、図示する位置では開口端30a、31aとの間にあり、弁座としての開口端30aか31aに選択的に着座するように構成されている。
【0008】
図2において、駆動装置24のケースには角部に丸みをおびさせたT字形状のガイド溝40が形成されており、これに弁体21の駆動ロッド25が上下に挿通されていて、その中間部にローラ42を設けている。また側方には圧空シリンダ44が設けられており、この駆動ロッド46に弁体21の駆動ロッド25が係合している。駆動装置である圧空シリンダ50により弁体駆動ロッド25を上方に駆動させると共に圧空シリンダ44の駆動ロッド46を図において右方へと押動させる(図2A)。これにより圧空シリンダ50の弁体駆動ロッド25の上方への駆動と共にローラ42は溝40の垂直部40aの右壁部に沿って転動しながら上昇し、圧空シリンダ44の駆動ロッド46は右方に付勢されていることにより、ガイド溝40のコーナー部に案内されて図2Bに示すようにガイド溝40の水平部の右方側へと導入される。これにより弁体駆動ロッド25の上端に固定された弁体21は上動の後、図において右方へと駆動され、よって弁座30aに着座する。次にこの弁体21を左方の弁座31aに着座させる場合には、まず弁体21は弁体駆動ロッド25の圧空シリンダ50の駆動により下方へと移動し、図2Aに示す位置をとり、これから圧空シリンダ50の駆動により上動するが、この時には圧空シリンダ44の駆動ロッド46は弁体駆動ロッド26を左方に付勢している。これによりローラ42はガイド溝40の左壁部に当接しながら転動し、T字状のガイド溝40の水平部40bの左方側へと導かれる。すなわち、弁体21は弁座31aに着座する。
【0009】
以上、本発明の実施の形態の構成について説明したが、次にこの作用について説明する。
【0010】
今、通常の真空処理中である場合には、搬送室Dの圧力のほうが処理室Cの圧力より高く、弁体21は図1に示す中間位置から駆動装置24により右方へと移動させられ、シール部材23が開口部30の弁座30aに着座させられる。これにより搬送室Dと処理室Cとの雰囲気は相遮断される。搬送室Dの圧力のほうが高いので、この差圧が弁体21に加わり、安定にシール作用を行なう。処理室Cのメンテナンスを行なうべく、この処理室の圧力を大気圧に戻す場合には、弁体21は図1に示す位置から左方へと駆動装置24により駆動され、開口部31の弁座31aに着座する。なお、他の処理室では連続的に処理を行なっているものとする。すなわち、独立した排気系統を有するものである。搬送室Dと処理室Cとは、雰囲気が相離隔される。今、処理室Cの圧力は大気圧であるので、搬送室Dの圧力より高くなり、弁体21は開口部31の弁座31aにこの差圧で押圧される。メンテナンス中、弁体21は開口部31の弁座31aに差圧で押圧されて安定な遮断作用を行なうことができる。なお、通常の処理中に搬送室Dから処理室Cへ、または処理室Cから搬送室Dへ基板をロボットにより搬入、搬出される場合には、弁体21は下方へ移動される。
【0011】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【0012】
例えば以上の駆動装置24では、図2に示す構成をとったが、勿論、これに限ることなく、弁体21を図示の位置から時計方向、又は反時計方向に傾動させて、開口端30a、31aと着脱させるようにしてもよい。
【0013】
また以上の実施の形態では、弁体21の両面にシール部材22、23を装着させたが、この代わりに開口部30、31の弁座30a、31aの端面にシール部材を装着させるようにしてもよい。
【0014】
【発明の効果】
以上述べたように本発明の真空処理装置によれば、処理室のメンテナンスにおいても、弁体により処理室と搬送室との間の雰囲気の遮断を確実に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態による真空処理室の要部の断面図である。
【図2】同同装置における駆動装置の概略側面図であって、弁体駆動ロッドの最下位置をとった場合を示す。
【図3】同右方位置をとった場合を示す。
【図4】同左方位置をとった場合を示す。
【図5】真空処理装置の平面図である。
【図6】本発明が適用される同真空処理装置における従来例の仕切弁の要部の拡大断面図である。
【符号の説明】
20 仕切弁
21 弁体
24 駆動装置
26 弁ケース
30、31 開口部
30a、31a 弁座
Claims (3)
- 搬送室のまわりに複数の処理室を配設させ、これら各処理室を前記搬送室にそれぞれ仕切弁を介して接続してなる真空処理装置において、前記仕切弁は大気から遮断されている弁室と、該弁室内で前記搬送室に連通する第1開口部を有する第1弁座と、前記処理室に連通して前記第1開口部と対向している第2開口部を有する第2弁座と、前記第1弁座と前記第2弁座との間に位置し、前記第1弁座または前記第2弁座に選択的に当接可能とされている弁体とを有することを特徴とする真空処理装置。
- 前記処理室内での真空処理中は、前記弁体は前記第2弁座と当接して前記搬送室と前記処理室との間を遮断していることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
- 前記処理室のメンテナンスを行なう時には、前記弁体は前記第1弁座と当接して前記搬送室と前記処理室との間を遮断していることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
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