JP3635247B2 - 光学活性な中間体および該製造法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 43
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 12
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 23
- -1 Glutaric acid ester Chemical class 0.000 claims description 19
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 claims description 6
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract description 2
- HVYWMOMLDIMFJA-DPAQBDIFSA-N cholesterol Chemical compound C1C=C2C[C@@H](O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2 HVYWMOMLDIMFJA-DPAQBDIFSA-N 0.000 abstract 2
- 102000004286 Hydroxymethylglutaryl CoA Reductases Human genes 0.000 abstract 1
- 108090000895 Hydroxymethylglutaryl CoA Reductases Proteins 0.000 abstract 1
- 235000012000 cholesterol Nutrition 0.000 abstract 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract 1
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 5
- OHPIOMMEWYTXCL-UHFFFAOYSA-N 3-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxypentanedioic acid Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)OC(CC(O)=O)CC(O)=O OHPIOMMEWYTXCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 4
- YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N Diazomethane Chemical compound C=[N+]=[N-] YXHKONLOYHBTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940121710 HMGCoA reductase inhibitor Drugs 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 239000002471 hydroxymethylglutaryl coenzyme A reductase inhibitor Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 3
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001981 tert-butyldimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([H])(C([H])([H])[H])[*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 239000012359 Methanesulfonyl chloride Substances 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N R-2-phenyl-2-hydroxyacetic acid Natural products OC(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 IWYDHOAUDWTVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000011914 asymmetric synthesis Methods 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QARBMVPHQWIHKH-UHFFFAOYSA-N methanesulfonyl chloride Chemical compound CS(Cl)(=O)=O QARBMVPHQWIHKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDQQGXBWOLQHBU-CYBMUJFWSA-N methyl (3r)-3-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxy-6-dimethoxyphosphoryl-5-oxohexanoate Chemical compound COC(=O)C[C@H](O[Si](C)(C)C(C)(C)C)CC(=O)CP(=O)(OC)OC BDQQGXBWOLQHBU-CYBMUJFWSA-N 0.000 description 2
- UXSDCRJLQQRDBQ-ZRIYNBNISA-N methyl (3r)-3-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxy-6-methylsulfinyl-5-oxohexanoate Chemical compound COC(=O)C[C@H](O[Si](C)(C)C(C)(C)C)CC(=O)CS(C)=O UXSDCRJLQQRDBQ-ZRIYNBNISA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229940096701 plain lipid modifying drug hmg coa reductase inhibitors Drugs 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 0 *[C@](CC(*1)=C*=O)CC1=O Chemical compound *[C@](CC(*1)=C*=O)CC1=O 0.000 description 1
- YURNCBVQZBJDAJ-UHFFFAOYSA-N 2-heptenoic acid Chemical compound CCCCC=CC(O)=O YURNCBVQZBJDAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001397 3-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ASNHGEVAWNWCRQ-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)oxolane-2,3,4-triol Chemical compound OCC1(O)COC(O)C1O ASNHGEVAWNWCRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- JFKWZVQEMSKSBU-AWEZNQCLSA-N benzyl (2s)-2-hydroxy-2-phenylacetate Chemical compound O=C([C@@H](O)C=1C=CC=CC=1)OCC1=CC=CC=C1 JFKWZVQEMSKSBU-AWEZNQCLSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- FZFAMSAMCHXGEF-UHFFFAOYSA-N chloro formate Chemical compound ClOC=O FZFAMSAMCHXGEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- WLXALCKAKGDNAT-UHFFFAOYSA-N diazoethane Chemical compound CC=[N+]=[N-] WLXALCKAKGDNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FESAXEDIWWXCNG-UHFFFAOYSA-N diethyl(methoxy)borane Chemical compound CCB(CC)OC FESAXEDIWWXCNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VONWDASPFIQPDY-UHFFFAOYSA-N dimethyl methylphosphonate Chemical compound COP(C)(=O)OC VONWDASPFIQPDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hexane Chemical compound CCOCC.CCCCCC ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- LKFANOWXMJEZDI-AREMUKBSSA-N methyl (3r)-3-[tert-butyl(dimethyl)silyl]oxy-5-oxo-6-(triphenyl-$l^{5}-phosphanylidene)hexanoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=CC(=O)C[C@H](CC(=O)OC)O[Si](C)(C)C(C)(C)C)C1=CC=CC=C1 LKFANOWXMJEZDI-AREMUKBSSA-N 0.000 description 1
- XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N methyl chloroformate Chemical compound COC(Cl)=O XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSEFCHWGJNHZNT-UHFFFAOYSA-M methyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 LSEFCHWGJNHZNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XYDYWTJEGDZLTH-UHFFFAOYSA-N methylenetriphenylphosphorane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=C)C1=CC=CC=C1 XYDYWTJEGDZLTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 125000000037 tert-butyldiphenylsilyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[Si]([H])([*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F9/5352—Phosphoranes containing the structure P=C-
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- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
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- C07F9/02—Phosphorus compounds
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- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種医薬品の原料として有用な光学活性な化合物とその製造法を提供する。例えば、光学活性なＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤を高収率で大規模に製造するためには、本発明が提供する光学活性なカルボン酸エステルは極めて重要である。
【０００２】
【従来の技術】
この種の光学活性体の製造方法としては、ラセミ体の光学分割法あるいは不斉合成法が知られている。しかしながら、従来用いられてきたこのような方法では、種々の特殊な試薬や酵素を使用したり、また反応工程が繁雑であったりした。また、光学分割法においては、実用に供せられる程度に光学純度の高い活性体が得られている例は余り知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従って、光学純度の高い化合物を得ることは、医薬品を始めとする種々の化合物の合成にとって、極めて重要な意味を有する。
【０００４】
本発明は、立体選択的に反応を進行させて、安価な試薬で、大量にかつ簡便に光学純度の高い化合物を得る不斉合成法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前述の事情を鋭意研究した結果、中間体として有用な光学活性体の製造方法を見出した。
【０００６】
即ち、本発明は式Ｉ：
【０００７】
【化５】
【０００８】
（式中、Ｒ1は水素またはヒドロキシ保護基；Ｒ2’は水素または置換基を有していてもよい低級アルキル；Ｑは−ＣＨ＝Ｐ（Ｒ3）3または−ＣＨＸ’Ｘ；Ｒ3は置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよいアリール；Ｘは−Ｐ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5または−Ｓ（Ｏ）Ｒ4；Ｒ4およびＲ5はそれぞれ水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアリールまたはハロゲン；Ｘ’は水素または低級アルキル；＊は不斉炭素原子をそれぞれ意味する。）
で示される化合物を高い光学純度で得る方法を提供するものである。
【０００９】
即ち、本製造方法は、化合物（ＩＩ−（Ｒ））
【００１０】
【化６】
【００１１】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
または化合物（ＩＩ−（Ｓ））
【００１２】
【化７】
【００１３】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
を下記（ａ）または（ｂ）の方法により、目的化合物である光学活性なカルボン酸エステル（Ｉ）に変換することから成る。即ち、
（ａ）法
（１）化合物（ＩＩ−（Ｒ））または（ＩＩ−（Ｓ））をエステル交換反応、即ち、置換基を有していてもよいアルコール、例えばメタノールまたはエタノール等、を塩基性触媒、例えば、ナトリウムアルコキシド、ピリジンまたはアルミニウムアルコキシド等、の存在下反応させることにより化合物（ＩＩＩ−（Ｒ））：
【００１４】
【化８】
【００１５】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有し、Ｒ2は置換基を有していてもよい低級アルキルを意味する。）
または化合物（ＩＩＩ−（Ｓ））：
【００１６】
【化９】
【００１７】
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同意義を有する。）
を得、
（２）次いで、遊離カルボン酸をハロゲン化剤（例えば、三ハロゲン化リン、五ハロゲン化リン等のハロゲン化リン、またはハロゲン化チオニル）と、好ましくは塩基性物質（例えば、ピリジン等の有機塩基）の存在下で反応させることにより酸ハライドに変換するか、あるいは塩基性物質（例えば、トリエチルアミン等）の存在下、ハロぎ酸エステル（例えば、クロロぎ酸メチル、クロロぎ酸エチル、クロロぎ酸イソブチル等）と反応させることにより混酸無水物とする。
（３）次いで，（ＩＶａ）：
【００１８】
【化１０】
【００１９】
（式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ前記と同意義を有する。）
で示されるリンイリド化合物と反応させ、所望により加水分解反応に付し、目的化合物（Ｉａ−（Ｒ））
【００２０】
【化１１】
【００２１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2’およびＲ3はそれぞれ前記と同意義を有する。）
または（Ｉａ−（Ｓ））：
【００２２】
【化１２】
【００２３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2’およびＲ3はそれぞれ前記と同意義を有する。）
を得る。
（ｂ）法
（１）化合物（ＩＩ−（Ｒ））または化合物（ＩＩ−（Ｓ））をＣＨ2Ｘ’Ｘ（ＩＶｂ）：
（式中、ＸおよびＸ’はそれぞれ前記と同意義を有する。）
と有機溶媒中、塩基の存在下反応させ、所望によりさらにエステル化反応に付すことにより、目的化合物（Ｉｂ−（Ｓ））：
【００２４】
【化１３】
【００２５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2’、ＸおよびＸ’はそれぞれ前記と同意義を有する。）
または化合物（Ｉｂ−（Ｒ））：
【００２６】
【化１４】
【００２７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2’、ＸおよびＸ’はそれぞれ前記と同意義を有する。）
をそれぞれ得る反応である。
【００２８】
即ち、工程（ａ）では、（３Ｒ、２’Ｒ）グルタル酸エステル（ＩＩ−（Ｒ））から化合物（Ｉａ−（Ｒ））が、（３Ｓ，２’Ｓ）グルタル酸エステル（ＩＩ−（Ｓ））から化合物（Ｉａ−（Ｓ））がそれぞれ得られる。また、工程（ｂ）では、（ＩＩ−（Ｒ））から（Ｉｂ−（Ｓ））が、（ＩＩ−（Ｓ））から（Ｉｂ−（Ｒ））がそれぞれ得られる。
【００２９】
それぞれの反応工程で得られた化合物（Ｉ）のＲ体およびＳ体は共に有用であるが、ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤の中間体としては、（Ｒ）体がより好ましい。従って、工程（ａ）では（３Ｒ，２’Ｒ）グルタル酸エステル（ＩＩ−（Ｒ））から得られた化合物（Ｉａ−（Ｒ））が、工程（ｂ）では、（３Ｓ，２’Ｓ）グルタル酸エステル（ＩＩ−（Ｓ））から得られた化合物（Ｉｂ−（Ｒ））が有用な中間体として用いられる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
また、本発明で出発原料として用いられる化合物（ＩＩ）は特開平２−２５０８５２号明細書記載の方法に従って合成される。即ち、
酸無水物：
【００３１】
【化１５】
【００３２】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
をｎ−ＢｕＬｉ等のアルキルリチウム試薬または金属ナトリウム等の塩基の存在下、不活性有機溶媒（ヘキサン、アセトン、塩化メチレン、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリル）中、（Ｒ）−または（Ｓ）−アリール酢酸誘導体と反応させることにより化合物（ＩＩ−（Ｒ））：
【００３３】
【化１６】
【００３４】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
または化合物（ＩＩ−（Ｓ））：
【００３５】
【化１７】
【００３６】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
で示される（３Ｒ，２’Ｒ）または（３Ｓ，２’Ｓ）グルタル酸エステルを得られる。
【００３７】
本明細書中、ヒドロキシ保護基としては、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アリル、ベンジル、テトラヒドロピラニル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルなどのエーテル形成保護基、アセチル、ベンゾイルなどのエステル形成保護基、メチルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、フェニルスルホニルなどのスルホン酸エステル形成保護基などが挙げられるが、本発明においては、エーテル形成保護基、特にｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルが好ましい。
【００３８】
「置換基を有していてもよい低級アルキル」とは、一般に直鎖状または分枝状の炭素原子１〜６個のアルキルを意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、２−メチルブチル、ｎ−ヘキシルおよびイソヘキシルなどが挙げられ、それぞれハロゲンまたはアミノ等で置換されていてもよい。
【００３９】
「置換基を有していてもよい低級アルコキシ」とは、一般に直鎖状または分枝状の炭素原子１〜６個のアルキルオキシを意味し、当該アルキルは前記低級アルキルの例示をすべて含有する。
【００４０】
「置換基を有していてもよりアリール」とは、一般に炭素数６〜１２個の芳香族基を意味し、例えばフェニル、トリル、キシリル、ビフェニルおよびナフチル等が挙げられ、該アリールは前記のアルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアミノ等で置換されていてもよい。
【００４１】
ハロゲンとは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を意味する。
【００４２】
本発明を詳細に説明するために以下に実施例を示し、本発明を更に具体的に説明するが、これらによって本発明の範囲は限定されるものではない。
【００４３】
実施例で用いられる略字は、以下に示す意味を表わす。
【００４４】
Ｍｅ：メチル
Ｅｔ：エチル
Ｐｒ：プロピル
Ｂｕ：ブチル
Ｐｈ：フェニル
【００４５】
【実施例】
（参考例１）
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５−オキソ−６−トリフェニルホスホラニリデンヘキサン酸メチル（Ｉａ−（Ｒ）−１）
【００４６】
【化１８】
【００４７】
（第１工程）
（ＩＩＩ−（Ｒ）−１）の合成
【００４８】
【化１９】
【００４９】
（３Ｒ）３−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］グルタル酸 １−（（Ｒ）−（−）−マンデル酸）エステル*1６５ｇ（１６４ｍｍｏｌ）をできるだけ少量のメタノール６０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下、０℃でナトリウムメトキシドのメタノール溶液（２８％メタノール溶液３１０ｍｌ、１．６ｍｏｌ）に４５分間かけて滴下する。このとき内温は、７℃以下であった。０℃で３０分間攪拌した後、濃塩酸１５０ｍｌ−水３００ｍｌ−塩化メチレン５００ｍｌの混合物に氷冷下で攪拌しながら反応溶液をあけて、有機層を分取する。水層を塩化メチレン２００ｍｌで抽出し、それぞれの有機層を希塩酸、次いで食塩水で洗浄する。有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除去することによりハーフエステル体（ＩＩＩ−（Ｒ）−１）４５．０７ｇ（１６３ｍｍｏｌ、収率９９％）を得る。
【００５０】
【化２０】
【００５１】
*1：特開平２−２５０８５２号公報第１０頁記載の方法に従って合成することができる。
【００５２】
（第２工程）
得られた化合物（ＩＩＩ−（Ｒ）−１）５５３ｍｇ（２ｍｍｏｌ）をエーテル１０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下−７８℃でトリエチルアミン０．３６２ｍｌ（２．６ｍｍｏｌ）、次いでクロロ炭酸エチル０．２３０ｍｌ（２．４ｍｍｏｌ）を滴下する。攪拌を更に１時間続け、水洗、炭酸ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。イソプロピルエーテルを減圧下留去すると１，５−エトキシカルボニル メチル−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシペンタンジオエートを得る。
【００５３】
【化２１】
【００５４】
更に窒素気流下、ＤＭＳＯ２０ｍｌに６０％水素化ナトリウムおよび臭化メチルトリフェニルホスホニウム１．２９ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を加えて５０℃にて３時間攪拌した。１，５−エトキシカルボニル メチル−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシペンタンジオエートをＴＨＦ１０ｍｌに溶解した溶液に前記のメチレントリフェニルホスホランのＤＭＳＯ溶液を−１０℃にて滴下する。そのまま１時間攪拌を続け水中に反応混合物を添加しイソプロピルエーテルで抽出する。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶液を濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製し目的化合物（Ｉａ−（Ｒ）−１）７４０ｍｇ（収率：６９％）を得られる。これはエーテル−ヘキサンから結晶化させることができる。
【００５５】
【化２２】
【００５６】
（実施例１（ａ））
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ジメトキシホスフィニル−５−オキソヘキサン酸メチル（Ｉｂ−（Ｒ）−１）
【００５７】
【化２３】
【００５８】
（１）窒素気流下２．４４ｍｌ（２２．５ｍｍｏｌ）のジメチルメチルホスホネートのＴＨＦ３０ｍｌ溶液に−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液１４．１ｍｌ（２２．５ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下する。溶液を−７８℃で３０分間攪拌し、その間に白色沈殿を得る。得られた懸濁液に化合物（３Ｓ）３−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］グルタル酸 １−（（Ｓ）−（＋）−マンデル酸）エステル*2１．９８３ｇ（５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を５分間かけて滴下する。生成したスラリーを−７８℃で３時間攪拌し、均一の溶液を得る。得られた溶液を氷冷した塩化メチレン−２Ｎ塩酸の混合液で抽出する。塩化メチレン層は水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して粗ケトホスホネートのカルボン酸を得る。
*2：（Ｓ）−（＋）−マンデル酸ベンジルエステルを出発原料として（３Ｒ）３−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］グルタル酸 １−（（Ｒ）−（−）−マンデル酸）エステルと同様の方法で合成される。
（２）次いで、得られた抽出残渣をエーテル１００ｍｌに溶解し、氷冷下、別に調製したジアゾメタンのエーテル溶液を少量ずつ加えて、窒素ガスの発生が終わり、過剰のジアゾメタンの黄色が残存するまで加える。溶液を濃縮し残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製し、純粋な目的化合物（Ｉｂ−（Ｒ）−１）８３１ｍｇ（収率：４３％）を得る。
【００５９】
【化２４】
【００６０】
（実施例１（ｂ））
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ジメトキシホスフィニル−５−オキソヘキサン酸メチル（Ｉｂ−（Ｒ）−１）の別途合成方法
【００６１】
【化２５】
【００６２】
（１）化合物１ ８４１ｍｇ（２．２８ｍＭ）の塩化メチレン溶液８．５ｍｌにトリエチルアミン０．７９２ｍｌ（５．７ｍＭ）を加えて−７８℃に冷却してそこに塩化メタンスルホニル０．２１２ｍｌ（２．７４ｍＭ）を加える。反応混合物を徐々に室温に戻し、３０分間攪拌を続ける。反応液を希塩酸に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。抽出液は炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。この抽出液を濃縮して粗化合物２ ６５９ｍｇを得る（Ｚ：Ｅ＝１：３）。
【００６３】
【化２６】
【００６４】
（２）得られた化合物２ ６５９ｍｇをメタノール７ｍｌに溶解して、そこに０℃でナトリウムメトキシドのメタノール溶液１Ｎ０．１８ｍｌを加える。０℃で２０分間攪拌し、希塩酸に注ぎ塩化メチレンで抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリウムで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより化合物（Ｉｂ−（Ｒ）−１）４８１ｍｇ（収率：６７％）を得た。
【００６５】
（実施例２（ａ））
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−メチルスルフィニル−５−オキソヘキサン酸メチル（Ｉｂ−（Ｒ）−２）
【００６６】
【化２７】
【００６７】
ＴＨＦ２７０ｍｌとジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）２５．６ｍｌ（０．３６ｍｏｌ）の溶液に−３０℃でｎ−ＢｕＬｉの１．６Ｍヘキサン溶液１６８ｍｌを加える。２０分間攪拌した後、−７０℃で（３Ｓ）３−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］グルタル酸 １−（（Ｓ）−（＋）−マンデル酸）エステル２３．７９ｇ（６０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１２０ｍｌを滴下する。温度を次第に上げて−１５℃で３０分間攪拌した後、希塩酸にあけて塩化メチレンで抽出する。有機層を希塩酸、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、粗カルボン酸の溶液を得る。
Ｒｆ＝０．８（クロロホルム／メタノール＝３／１）
得られた粗カルボン酸の溶液に−２０℃でジアゾメタン／エチルエーテルをジアゾメタンの黄色が持続するまで少量ずつ加えて処理する。こうして得られたメチルエステルの溶液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（アセトン／酢酸エチル＝１／１）にて精製して目的化合物（Ｉｂ−（Ｒ）−２）１４．４３ｇ（収率：７１％）を得る。
【００６８】
【化２８】
【００６９】
（実施例２（ｂ））
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−メチルスルフィニル−５−オキソヘキサン酸メチル（Ｉｂ−（Ｒ）−２）の別途合成方法
【００７０】
【化２９】
【００７１】
（１）化合物３ ３４８ｍｇ（１．０８ｍＭ）の塩化メチレン溶液５ｍｌに−７８℃でトリエチルアミン０．４１ｍｌ（２．７ｅｑ）、塩化メタンスルホニル０．１１ｍｌ（１．３ｅｑ）を加える。混合物を室温で２時間攪拌し、希塩酸に注ぎ塩化メチレンで抽出し、化合物４ ３６４ｍｇを得た（ＮＭＲにより４種の異性体の混合物であると判明）。
【００７２】
【化３０】
【００７３】
（２）得られた化合物４ ３２３ｍｇを４ｍｌのメタノールに溶解し、０℃でナトリウムメトキシドのメタノール溶液０．２ｅｑを加える。２０分間攪拌した後、希塩酸に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、乾燥、濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的化合物（Ｉｂ−（Ｒ）−２）３６６ｍｇ（８２％）を得る。
【００７４】
本発明方法により得られた化合物は種々のＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤の側鎖として用いられる。以下にその一例を示す。
【００７５】
（参考例２）
（＋）７［４−（４−フルオロフェニル）−２−イソプロピル−５−メチル−（１−メチルスルホニル）ピロール−３−イル］−（３Ｒ，５Ｓ）−ジヒドロキシ−（Ｅ）−６−ヘプテン酸ナトリウムの合成
【００７６】
【化３１】
【００７７】
参考例１で得られた化合物（Ｉａ−（Ｒ）−１）８０ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液０．２ｍｌに窒素雰囲気下、室温で４−（４−フルオロフェニル）−３−ホルミル−２−イソプロピル−５−メチル−１−メチルスルホニルピロール７３ｍｇ（０．２２５ｍｍｏｌ）を加えて、１１時間加熱還流し、溶媒を除去するとメチル ７［４−（４−フルオロフェニル）−２−イソプロピル−５−メチル−１−メチルスルホニルピロール−３−イル］−３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ−５−オキソ−６−ヘプテネートを得る（Ｒｆ＝０．４５、酢酸エチル／トルエン＝１／６）。得られた化合物にフッ化水素のアセトニトリル溶液（４６％フッ化水素溶液をアセトニトリルで２０倍に希釈したもの）１．５ｍｌを室温で加えて、１．５時間攪拌する。氷冷した炭酸水素ナトリウム水溶液にあけて、酢酸エチルで２回抽出する。有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濃縮する。カラムクロマトグラフィーにて精製して、メチル ７−［４−（４−フルオロフェニル）−２−イソプロピル−５−メチル−１−メチルスルホニルピロール−３−イル］−３−ヒドロキシ−５−オキソ−６−ヘプテネート４３ｍｇを得る（Ｒｆ＝０．３１、酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）。
【００７８】
得られた化合物６７ｍｇ（０．１４４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１．２ｍｌに溶解し、メタノール０．３ｍｌを加える。窒素雰囲気下−７８℃でジエチルメトキシボラン（１．０Ｍ ＴＨＦ溶液、１６０μｌ、０．１６ｍｍｏｌ）を加えて、２０分間攪拌する。次いで、水素化ホウ素ナトリウム６ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を加えて、１．５時間攪拌した後、酢酸０．２ｍｌを加える。反応溶液を氷冷した炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出する。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濃縮する。得られた残渣にメタノールを加えて再度濃縮する。この操作を３回繰り返してカラムクロマトグラフィーにて精製して目的化合物のメチルエステル体（Ａ）６１ｍｇ（収率：９１％）を得る（Ｒｆ＝０．２７、酢酸エチル／塩化メチレン＝１／３）。
【００７９】
得られたメチルエステル体（Ａ）５．６２ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）のエタノール溶液１８０ｍｌに氷冷下０．１Ｎ水酸化ナトリウム１１７ｍｌを滴下し室温で１時間攪拌する。溶媒を除去した後、エタノール５０ｍｌを加えて、再度濃縮する。この操作を３回繰り返し得られた残渣にエーテル１００ｍｌを加えて、室温で１時間攪拌すると白色結晶が得られる。この結晶を濾過して集め、エーテルで洗浄し目的化合物５．４７ｇ（収率：９６％）を得る。
【００８０】
【化３２】
【００８１】
［光学純度決定法］
前記参考例２で得られたメチルエステル体（Ａ）５８ｍｇ（０．１２４ｍｍｏｌ）のメタノール溶液０．６ｍｌに０℃で４Ｎ−ＮａＯＨ ６２μｌを加えて、１時間攪拌する。溶媒を除去して残渣を酢酸エチルに懸濁させて、０℃で２Ｎ−ＨＣｌ ０．１５ｍｌを加える。同温で５分間攪拌した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。得られた溶液に０℃で過剰のジアゾエタンのエーテル溶液を加えて５分間攪拌する。濃縮後、カラムクロマトグラフィーにて精製して、下記エチルエステル体４９ｍｇ（収率：８２％）を得る。
【００８２】
【化３３】
【００８３】
Ｒｆ：０．２５（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）
高速液体クロマトグラフィー：
カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ（ダイセル）ＯＤ ０．４６×２５ｃｍ
溶出液：ヘキサン／エタノール＝９０／１０
流出速度：０．５ｍｌ／ｍｉｎ．
波長：２５４ｎｍ
温度：４０℃
光学純度：９８％ｅｅ
【００８４】
【発明の効果】
本発明は、光学活性な各種医薬品原料、更に詳しくはＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤の原料を高い光学純度で収率良く得るための合成方法を提供するものである。
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種医薬品の原料として有用な光学活性な化合物とその製造法を提供する。例えば、光学活性なＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤を高収率で大規模に製造するためには、本発明が提供する光学活性なカルボン酸エステルは極めて重要である。
【０００２】
【従来の技術】
この種の光学活性体の製造方法としては、ラセミ体の光学分割法あるいは不斉合成法が知られている。しかしながら、従来用いられてきたこのような方法では、種々の特殊な試薬や酵素を使用したり、また反応工程が繁雑であったりした。また、光学分割法においては、実用に供せられる程度に光学純度の高い活性体が得られている例は余り知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従って、光学純度の高い化合物を得ることは、医薬品を始めとする種々の化合物の合成にとって、極めて重要な意味を有する。
【０００４】
本発明は、立体選択的に反応を進行させて、安価な試薬で、大量にかつ簡便に光学純度の高い化合物を得る不斉合成法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前述の事情を鋭意研究した結果、中間体として有用な光学活性体の製造方法を見出した。
【０００６】
即ち、本発明は式Ｉ：
【０００７】
【化５】
（式中、Ｒ1は水素またはヒドロキシ保護基；Ｒ2’は水素または置換基を有していてもよい低級アルキル；Ｑは−ＣＨ＝Ｐ（Ｒ3）3または−ＣＨＸ’Ｘ；Ｒ3は置換基を有していてもよい低級アルキルまたは置換基を有していてもよいアリール；Ｘは−Ｐ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5または−Ｓ（Ｏ）Ｒ4；Ｒ4およびＲ5はそれぞれ水素、置換基を有していてもよい低級アルキル、置換基を有していてもよい低級アルコキシ、置換基を有していてもよいアリールまたはハロゲン；Ｘ’は水素または低級アルキル；＊は不斉炭素原子をそれぞれ意味する。）
で示される化合物を高い光学純度で得る方法を提供するものである。
【０００９】
即ち、本製造方法は、化合物（ＩＩ−（Ｒ））
【００１０】
【化６】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
または化合物（ＩＩ−（Ｓ））
【００１２】
【化７】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
を下記（ａ）または（ｂ）の方法により、目的化合物である光学活性なカルボン酸エステル（Ｉ）に変換することから成る。即ち、
（ａ）法
（１）化合物（ＩＩ−（Ｒ））または（ＩＩ−（Ｓ））をエステル交換反応、即ち、置換基を有していてもよいアルコール、例えばメタノールまたはエタノール等、を塩基性触媒、例えば、ナトリウムアルコキシド、ピリジンまたはアルミニウムアルコキシド等、の存在下反応させることにより化合物（ＩＩＩ−（Ｒ））：
【００１４】
【化８】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有し、Ｒ2は置換基を有していてもよい低級アルキルを意味する。）
または化合物（ＩＩＩ−（Ｓ））：
【００１６】
【化９】
（式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同意義を有する。）
を得、
（２）次いで、遊離カルボン酸をハロゲン化剤（例えば、三ハロゲン化リン、五ハロゲン化リン等のハロゲン化リン、またはハロゲン化チオニル）と、好ましくは塩基性物質（例えば、ピリジン等の有機塩基）の存在下で反応させることにより酸ハライドに変換するか、あるいは塩基性物質（例えば、トリエチルアミン等）の存在下、ハロぎ酸エステル（例えば、クロロぎ酸メチル、クロロぎ酸エチル、クロロぎ酸イソブチル等）と反応させることにより混酸無水物とする。
（３）次いで，（ＩＶａ）：
【００１８】
【化１０】
（式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ前記と同意義を有する。）
で示されるリンイリド化合物と反応させ、所望により加水分解反応に付し、目的化合物（Ｉａ−（Ｒ））
【００２０】
【化１１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2’およびＲ3はそれぞれ前記と同意義を有する。）
または（Ｉａ−（Ｓ））：
【００２２】
【化１２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2’およびＲ3はそれぞれ前記と同意義を有する。）
を得る。
（ｂ）法
（１）化合物（ＩＩ−（Ｒ））または化合物（ＩＩ−（Ｓ））をＣＨ2Ｘ’Ｘ（ＩＶｂ）：
（式中、ＸおよびＸ’はそれぞれ前記と同意義を有する。）
と有機溶媒中、塩基の存在下反応させ、所望によりさらにエステル化反応に付すことにより、目的化合物（Ｉｂ−（Ｓ））：
【００２４】
【化１３】
（式中、Ｒ1、Ｒ2’、ＸおよびＸ’はそれぞれ前記と同意義を有する。）
または化合物（Ｉｂ−（Ｒ））：
【００２６】
【化１４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2’、ＸおよびＸ’はそれぞれ前記と同意義を有する。）
をそれぞれ得る反応である。
【００２８】
即ち、工程（ａ）では、（３Ｒ、２’Ｒ）グルタル酸エステル（ＩＩ−（Ｒ））から化合物（Ｉａ−（Ｒ））が、（３Ｓ，２’Ｓ）グルタル酸エステル（ＩＩ−（Ｓ））から化合物（Ｉａ−（Ｓ））がそれぞれ得られる。また、工程（ｂ）では、（ＩＩ−（Ｒ））から（Ｉｂ−（Ｓ））が、（ＩＩ−（Ｓ））から（Ｉｂ−（Ｒ））がそれぞれ得られる。
【００２９】
それぞれの反応工程で得られた化合物（Ｉ）のＲ体およびＳ体は共に有用であるが、ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤の中間体としては、（Ｒ）体がより好ましい。従って、工程（ａ）では（３Ｒ，２’Ｒ）グルタル酸エステル（ＩＩ−（Ｒ））から得られた化合物（Ｉａ−（Ｒ））が、工程（ｂ）では、（３Ｓ，２’Ｓ）グルタル酸エステル（ＩＩ−（Ｓ））から得られた化合物（Ｉｂ−（Ｒ））が有用な中間体として用いられる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
また、本発明で出発原料として用いられる化合物（ＩＩ）は特開平２−２５０８５２号明細書記載の方法に従って合成される。即ち、
酸無水物：
【００３１】
【化１５】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
をｎ−ＢｕＬｉ等のアルキルリチウム試薬または金属ナトリウム等の塩基の存在下、不活性有機溶媒（ヘキサン、アセトン、塩化メチレン、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリル）中、（Ｒ）−または（Ｓ）−アリール酢酸誘導体と反応させることにより化合物（ＩＩ−（Ｒ））：
【００３３】
【化１６】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
または化合物（ＩＩ−（Ｓ））：
【００３５】
【化１７】
（式中、Ｒ1は前記と同意義を有する。）
で示される（３Ｒ，２’Ｒ）または（３Ｓ，２’Ｓ）グルタル酸エステルを得られる。
【００３７】
本明細書中、ヒドロキシ保護基としては、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アリル、ベンジル、テトラヒドロピラニル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリルなどのエーテル形成保護基、アセチル、ベンゾイルなどのエステル形成保護基、メチルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、フェニルスルホニルなどのスルホン酸エステル形成保護基などが挙げられるが、本発明においては、エーテル形成保護基、特にｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルが好ましい。
【００３８】
「置換基を有していてもよい低級アルキル」とは、一般に直鎖状または分枝状の炭素原子１〜６個のアルキルを意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、２−メチルブチル、ｎ−ヘキシルおよびイソヘキシルなどが挙げられ、それぞれハロゲンまたはアミノ等で置換されていてもよい。
【００３９】
「置換基を有していてもよい低級アルコキシ」とは、一般に直鎖状または分枝状の炭素原子１〜６個のアルキルオキシを意味し、当該アルキルは前記低級アルキルの例示をすべて含有する。
【００４０】
「置換基を有していてもよりアリール」とは、一般に炭素数６〜１２個の芳香族基を意味し、例えばフェニル、トリル、キシリル、ビフェニルおよびナフチル等が挙げられ、該アリールは前記のアルキル、アルコキシ、ハロゲンまたはアミノ等で置換されていてもよい。
【００４１】
ハロゲンとは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を意味する。
【００４２】
本発明を詳細に説明するために以下に実施例を示し、本発明を更に具体的に説明するが、これらによって本発明の範囲は限定されるものではない。
【００４３】
実施例で用いられる略字は、以下に示す意味を表わす。
【００４４】
Ｍｅ：メチル
Ｅｔ：エチル
Ｐｒ：プロピル
Ｂｕ：ブチル
Ｐｈ：フェニル
【００４５】
【実施例】
（参考例１）
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５−オキソ−６−トリフェニルホスホラニリデンヘキサン酸メチル（Ｉａ−（Ｒ）−１）
【００４６】
【化１８】
（第１工程）
（ＩＩＩ−（Ｒ）−１）の合成
【００４８】
【化１９】
（３Ｒ）３−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］グルタル酸 １−（（Ｒ）−（−）−マンデル酸）エステル*1６５ｇ（１６４ｍｍｏｌ）をできるだけ少量のメタノール６０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下、０℃でナトリウムメトキシドのメタノール溶液（２８％メタノール溶液３１０ｍｌ、１．６ｍｏｌ）に４５分間かけて滴下する。このとき内温は、７℃以下であった。０℃で３０分間攪拌した後、濃塩酸１５０ｍｌ−水３００ｍｌ−塩化メチレン５００ｍｌの混合物に氷冷下で攪拌しながら反応溶液をあけて、有機層を分取する。水層を塩化メチレン２００ｍｌで抽出し、それぞれの有機層を希塩酸、次いで食塩水で洗浄する。有機層を合わせて、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を除去することによりハーフエステル体（ＩＩＩ−（Ｒ）−１）４５．０７ｇ（１６３ｍｍｏｌ、収率９９％）を得る。
【００５０】
【化２０】
*1：特開平２−２５０８５２号公報第１０頁記載の方法に従って合成することができる。
【００５２】
（第２工程）
得られた化合物（ＩＩＩ−（Ｒ）−１）５５３ｍｇ（２ｍｍｏｌ）をエーテル１０ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下−７８℃でトリエチルアミン０．３６２ｍｌ（２．６ｍｍｏｌ）、次いでクロロ炭酸エチル０．２３０ｍｌ（２．４ｍｍｏｌ）を滴下する。攪拌を更に１時間続け、水洗、炭酸ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。イソプロピルエーテルを減圧下留去すると１，５−エトキシカルボニル メチル−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシペンタンジオエートを得る。
【００５３】
【化２１】
更に窒素気流下、ＤＭＳＯ２０ｍｌに６０％水素化ナトリウムおよび臭化メチルトリフェニルホスホニウム１．２９ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を加えて５０℃にて３時間攪拌した。１，５−エトキシカルボニル メチル−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシペンタンジオエートをＴＨＦ１０ｍｌに溶解した溶液に前記のメチレントリフェニルホスホランのＤＭＳＯ溶液を−１０℃にて滴下する。そのまま１時間攪拌を続け水中に反応混合物を添加しイソプロピルエーテルで抽出する。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶液を濃縮後シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製し目的化合物（Ｉａ−（Ｒ）−１）７４０ｍｇ（収率：６９％）を得られる。これはエーテル−ヘキサンから結晶化させることができる。
【００５５】
【化２２】
（実施例１（ａ））
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ジメトキシホスフィニル−５−オキソヘキサン酸メチル（Ｉｂ−（Ｒ）−１）
【００５７】
【化２３】
（１）窒素気流下２．４４ｍｌ（２２．５ｍｍｏｌ）のジメチルメチルホスホネートのＴＨＦ３０ｍｌ溶液に−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６Ｍヘキサン溶液１４．１ｍｌ（２２．５ｍｍｏｌ）を５分間かけて滴下する。溶液を−７８℃で３０分間攪拌し、その間に白色沈殿を得る。得られた懸濁液に化合物（３Ｓ）３−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］グルタル酸 １−（（Ｓ）−（＋）−マンデル酸）エステル*2１．９８３ｇ（５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を５分間かけて滴下する。生成したスラリーを−７８℃で３時間攪拌し、均一の溶液を得る。得られた溶液を氷冷した塩化メチレン−２Ｎ塩酸の混合液で抽出する。塩化メチレン層は水で２回洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮して粗ケトホスホネートのカルボン酸を得る。
*2：（Ｓ）−（＋）−マンデル酸ベンジルエステルを出発原料として（３Ｒ）３−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］グルタル酸 １−（（Ｒ）−（−）−マンデル酸）エステルと同様の方法で合成される。
（２）次いで、得られた抽出残渣をエーテル１００ｍｌに溶解し、氷冷下、別に調製したジアゾメタンのエーテル溶液を少量ずつ加えて、窒素ガスの発生が終わり、過剰のジアゾメタンの黄色が残存するまで加える。溶液を濃縮し残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）にて精製し、純粋な目的化合物（Ｉｂ−（Ｒ）−１）８３１ｍｇ（収率：４３％）を得る。
【００５９】
【化２４】
（実施例１（ｂ））
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ジメトキシホスフィニル−５−オキソヘキサン酸メチル（Ｉｂ−（Ｒ）−１）の別途合成方法
【００６１】
【化２５】
（１）化合物１ ８４１ｍｇ（２．２８ｍＭ）の塩化メチレン溶液８．５ｍｌにトリエチルアミン０．７９２ｍｌ（５．７ｍＭ）を加えて−７８℃に冷却してそこに塩化メタンスルホニル０．２１２ｍｌ（２．７４ｍＭ）を加える。反応混合物を徐々に室温に戻し、３０分間攪拌を続ける。反応液を希塩酸に注ぎ、塩化メチレンで抽出する。抽出液は炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。この抽出液を濃縮して粗化合物２ ６５９ｍｇを得る（Ｚ：Ｅ＝１：３）。
【００６３】
【化２６】
（２）得られた化合物２ ６５９ｍｇをメタノール７ｍｌに溶解して、そこに０℃でナトリウムメトキシドのメタノール溶液１Ｎ０．１８ｍｌを加える。０℃で２０分間攪拌し、希塩酸に注ぎ塩化メチレンで抽出する。抽出液を炭酸水素ナトリウムで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより化合物（Ｉｂ−（Ｒ）−１）４８１ｍｇ（収率：６７％）を得た。
【００６５】
（実施例２（ａ））
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−メチルスルフィニル−５−オキソヘキサン酸メチル（Ｉｂ−（Ｒ）−２）
【００６６】
【化２７】
ＴＨＦ２７０ｍｌとジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）２５．６ｍｌ（０．３６ｍｏｌ）の溶液に−３０℃でｎ−ＢｕＬｉの１．６Ｍヘキサン溶液１６８ｍｌを加える。２０分間攪拌した後、−７０℃で（３Ｓ）３−［（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ］グルタル酸 １−（（Ｓ）−（＋）−マンデル酸）エステル２３．７９ｇ（６０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１２０ｍｌを滴下する。温度を次第に上げて−１５℃で３０分間攪拌した後、希塩酸にあけて塩化メチレンで抽出する。有機層を希塩酸、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、粗カルボン酸の溶液を得る。
Ｒｆ＝０．８（クロロホルム／メタノール＝３／１）
得られた粗カルボン酸の溶液に−２０℃でジアゾメタン／エチルエーテルをジアゾメタンの黄色が持続するまで少量ずつ加えて処理する。こうして得られたメチルエステルの溶液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（アセトン／酢酸エチル＝１／１）にて精製して目的化合物（Ｉｂ−（Ｒ）−２）１４．４３ｇ（収率：７１％）を得る。
【００６８】
【化２８】
（実施例２（ｂ））
（３Ｒ）３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−メチルスルフィニル−５−オキソヘキサン酸メチル（Ｉｂ−（Ｒ）−２）の別途合成方法
【００７０】
【化２９】
（１）化合物３ ３４８ｍｇ（１．０８ｍＭ）の塩化メチレン溶液５ｍｌに−７８℃でトリエチルアミン０．４１ｍｌ（２．７ｅｑ）、塩化メタンスルホニル０．１１ｍｌ（１．３ｅｑ）を加える。混合物を室温で２時間攪拌し、希塩酸に注ぎ塩化メチレンで抽出し、化合物４ ３６４ｍｇを得た（ＮＭＲにより４種の異性体の混合物であると判明）。
【００７２】
【化３０】
（２）得られた化合物４ ３２３ｍｇを４ｍｌのメタノールに溶解し、０℃でナトリウムメトキシドのメタノール溶液０．２ｅｑを加える。２０分間攪拌した後、希塩酸に注ぎ、塩化メチレンで抽出し、乾燥、濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して目的化合物（Ｉｂ−（Ｒ）−２）３６６ｍｇ（８２％）を得る。
【００７４】
本発明方法により得られた化合物は種々のＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤の側鎖として用いられる。以下にその一例を示す。
【００７５】
（参考例２）
（＋）７［４−（４−フルオロフェニル）−２−イソプロピル−５−メチル−（１−メチルスルホニル）ピロール−３−イル］−（３Ｒ，５Ｓ）−ジヒドロキシ−（Ｅ）−６−ヘプテン酸ナトリウムの合成
【００７６】
【化３１】
参考例１で得られた化合物（Ｉａ−（Ｒ）−１）８０ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液０．２ｍｌに窒素雰囲気下、室温で４−（４−フルオロフェニル）−３−ホルミル−２−イソプロピル−５−メチル−１−メチルスルホニルピロール７３ｍｇ（０．２２５ｍｍｏｌ）を加えて、１１時間加熱還流し、溶媒を除去するとメチル ７［４−（４−フルオロフェニル）−２−イソプロピル−５−メチル−１−メチルスルホニルピロール−３−イル］−３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ−５−オキソ−６−ヘプテネートを得る（Ｒｆ＝０．４５、酢酸エチル／トルエン＝１／６）。得られた化合物にフッ化水素のアセトニトリル溶液（４６％フッ化水素溶液をアセトニトリルで２０倍に希釈したもの）１．５ｍｌを室温で加えて、１．５時間攪拌する。氷冷した炭酸水素ナトリウム水溶液にあけて、酢酸エチルで２回抽出する。有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濃縮する。カラムクロマトグラフィーにて精製して、メチル ７−［４−（４−フルオロフェニル）−２−イソプロピル−５−メチル−１−メチルスルホニルピロール−３−イル］−３−ヒドロキシ−５−オキソ−６−ヘプテネート４３ｍｇを得る（Ｒｆ＝０．３１、酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）。
【００７８】
得られた化合物６７ｍｇ（０．１４４ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１．２ｍｌに溶解し、メタノール０．３ｍｌを加える。窒素雰囲気下−７８℃でジエチルメトキシボラン（１．０Ｍ ＴＨＦ溶液、１６０μｌ、０．１６ｍｍｏｌ）を加えて、２０分間攪拌する。次いで、水素化ホウ素ナトリウム６ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を加えて、１．５時間攪拌した後、酢酸０．２ｍｌを加える。反応溶液を氷冷した炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出する。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濃縮する。得られた残渣にメタノールを加えて再度濃縮する。この操作を３回繰り返してカラムクロマトグラフィーにて精製して目的化合物のメチルエステル体（Ａ）６１ｍｇ（収率：９１％）を得る（Ｒｆ＝０．２７、酢酸エチル／塩化メチレン＝１／３）。
【００７９】
得られたメチルエステル体（Ａ）５．６２ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）のエタノール溶液１８０ｍｌに氷冷下０．１Ｎ水酸化ナトリウム１１７ｍｌを滴下し室温で１時間攪拌する。溶媒を除去した後、エタノール５０ｍｌを加えて、再度濃縮する。この操作を３回繰り返し得られた残渣にエーテル１００ｍｌを加えて、室温で１時間攪拌すると白色結晶が得られる。この結晶を濾過して集め、エーテルで洗浄し目的化合物５．４７ｇ（収率：９６％）を得る。
【００８０】
【化３２】
［光学純度決定法］
前記参考例２で得られたメチルエステル体（Ａ）５８ｍｇ（０．１２４ｍｍｏｌ）のメタノール溶液０．６ｍｌに０℃で４Ｎ−ＮａＯＨ ６２μｌを加えて、１時間攪拌する。溶媒を除去して残渣を酢酸エチルに懸濁させて、０℃で２Ｎ−ＨＣｌ ０．１５ｍｌを加える。同温で５分間攪拌した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。得られた溶液に０℃で過剰のジアゾエタンのエーテル溶液を加えて５分間攪拌する。濃縮後、カラムクロマトグラフィーにて精製して、下記エチルエステル体４９ｍｇ（収率：８２％）を得る。
【００８２】
【化３３】
Ｒｆ：０．２５（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１）
高速液体クロマトグラフィー：
カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ（ダイセル）ＯＤ ０．４６×２５ｃｍ
溶出液：ヘキサン／エタノール＝９０／１０
流出速度：０．５ｍｌ／ｍｉｎ．
波長：２５４ｎｍ
温度：４０℃
光学純度：９８％ｅｅ
【００８４】
【発明の効果】
本発明は、光学活性な各種医薬品原料、更に詳しくはＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤の原料を高い光学純度で収率良く得るための合成方法を提供するものである。
Claims (4)
- グルタル酸エステル（ＩＩ）：
を、ＣＨ2Ｘ’Ｘ（ＩＶｂ）：
（式中、Ｘは−Ｐ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5または−Ｓ（Ｏ）Ｒ4、Ｘ’は水素または低級アルキル、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ水素、置換基を有していてもよい低級アルキル（ただし、置換基を有する場合、該置換基はハロゲンまたはアミノである。）、置換基を有していてもよい低級アルコキシ（ただし、置換基を有する場合、該置換基はハロゲンまたはアミノである。）、置換基を有していてもよいアリール（ただし、置換基を有する場合、該置換基は低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲンまたはアミノである。）またはハロゲンを意味する。）
と反応させることを特徴とする化合物（Ｉ’）：
の合成法。 - グルタル酸エステル（ＩＩ）：
を、ＣＨ2Ｘ’Ｘ（ＩＶｂ）：
（式中、Ｘは−Ｐ（Ｏ）Ｒ4Ｒ5または−Ｓ（Ｏ）Ｒ4、Ｘ’は水素または低級アルキル、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ水素、置換基を有していてもよい低級アルキル（ただし、置換基を有する場合、該置換基はハロゲンまたはアミノである。）、置換基を有していてもよい低級アルコキシ（ただし、置換基を有する場合、該置換基はハロゲンまたはアミノである。）、置換基を有していてもよいアリール（ただし、置換基を有する場合、該置換基は低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲンまたはアミノである。）またはハロゲンを意味する。）
と反応させ、さらにエステル化反応に付すことを特徴とする化合物（Ｉ）：
の合成法。 - 化合物（ＩＩ）が（３Ｒ，２’Ｒ）体である請求項１または２に記載の合成法。
- 化合物（ＩＩ）が（３Ｓ，２’Ｓ）体である請求項１または２に記載の合成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001218860A JP3635247B2 (ja) | 1991-06-19 | 2001-07-18 | 光学活性な中間体および該製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-176209 | 1991-06-19 | ||
| JP17620991 | 1991-06-19 | ||
| JP2001218860A JP3635247B2 (ja) | 1991-06-19 | 2001-07-18 | 光学活性な中間体および該製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50928592A Division JP3233403B2 (ja) | 1991-06-19 | 1992-05-14 | 光学活性な中間体および該製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002088054A JP2002088054A (ja) | 2002-03-27 |
| JP3635247B2 true JP3635247B2 (ja) | 2005-04-06 |
Family
ID=16009533
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50928592A Expired - Lifetime JP3233403B2 (ja) | 1991-06-19 | 1992-05-14 | 光学活性な中間体および該製造法 |
| JP2001218860A Expired - Lifetime JP3635247B2 (ja) | 1991-06-19 | 2001-07-18 | 光学活性な中間体および該製造法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50928592A Expired - Lifetime JP3233403B2 (ja) | 1991-06-19 | 1992-05-14 | 光学活性な中間体および該製造法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5354879A (ja) |
| EP (1) | EP0554455B1 (ja) |
| JP (2) | JP3233403B2 (ja) |
| KR (1) | KR100216011B1 (ja) |
| AT (1) | ATE161262T1 (ja) |
| DE (1) | DE69223603T2 (ja) |
| DK (1) | DK0554455T3 (ja) |
| ES (1) | ES2110499T3 (ja) |
| GR (1) | GR3026204T3 (ja) |
| TW (1) | TW201730B (ja) |
| WO (1) | WO1992022560A1 (ja) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0618213B1 (en) * | 1993-03-30 | 2000-05-17 | Ube Industries, Ltd. | Process for preparation of oxyglutaric acid ester derivatives |
| US5717124A (en) * | 1993-03-30 | 1998-02-10 | Ube Industries, Ltd. | Process for preparation of oxyglutaric acid ester derivatives |
| US6376476B1 (en) * | 1996-12-13 | 2002-04-23 | Zymogenetics Corporation | Isoprenoid pathway inhibitors for stimulating bone growth |
| US6121475A (en) * | 1999-09-17 | 2000-09-19 | Ube Industries, Ltd. | Preparation of optically active β-hydroxyester derivatives and platinum-containing catalyst |
| KR100511533B1 (ko) * | 2002-04-09 | 2005-08-31 | 임광민 | 키랄 중간체, 그의 제조방법 및 그를 이용한 HMG-CoA환원저해제의 제조방법 |
| GB0211751D0 (en) * | 2002-05-22 | 2002-07-03 | Avecia Ltd | Compound and process |
| CA2657076A1 (en) * | 2003-08-28 | 2005-03-17 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Process for the preparation of rosuvastatin calcium |
| TW200526596A (en) * | 2003-11-24 | 2005-08-16 | Teva Pharma | Crystalline ammonium salts of rosuvastatin |
| KR100887264B1 (ko) * | 2003-12-02 | 2009-03-06 | 테바 파마슈티컬 인더스트리즈 리미티드 | 로수바스타틴의 특성화를 위한 기준 표준물 |
| US7851624B2 (en) * | 2003-12-24 | 2010-12-14 | Teva Pharamaceutical Industries Ltd. | Triol form of rosuvastatin and synthesis of rosuvastatin |
| US7179916B2 (en) * | 2004-07-13 | 2007-02-20 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Process for the preparation of rosuvastatin |
| JP2008526781A (ja) | 2005-02-22 | 2008-07-24 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | ロスバスタチンの製造 |
| US20070037979A1 (en) * | 2005-02-22 | 2007-02-15 | Valerie Niddam-Hildesheim | Preparation of rosuvastatin |
| US20070167625A1 (en) * | 2005-02-22 | 2007-07-19 | Anna Balanov | Preparation of rosuvastatin |
| CA2619576C (en) | 2005-08-16 | 2011-12-06 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Crystalline rosuvastatin intermediate |
| CN1958593B (zh) * | 2005-11-03 | 2010-05-05 | 上海医药工业研究院 | 一种用于合成瑞舒伐他汀钙的中间体的制备方法 |
| EP2172471B1 (en) * | 2007-04-18 | 2013-03-27 | Teva Pharmaceutical Industries, Ltd. | A process for preparing intermediates of HMG-CoA reductase inhibitors |
| US20090069563A1 (en) * | 2007-07-12 | 2009-03-12 | Valerie Niddam-Hildesheim | Rosuvastatin intermediates and their preparation |
| EP2181089A2 (en) | 2007-08-28 | 2010-05-05 | Ratiopharm GmbH | Process for preparing pentanoic diacid derivatives |
| CN101735272B (zh) * | 2009-12-11 | 2012-10-31 | 重庆博腾制药科技股份有限公司 | 瑞舒伐他汀钙中间体的制备方法 |
| JP6181063B2 (ja) * | 2011-11-28 | 2017-08-16 | マイラン ラボラトリーズ リミテッドＭｙｌａｎ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ Ｌｉｍｉｔｅｄ | ＨＭＧ−ＣｏＡレダクターゼ阻害剤の中間体の新規な製造方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1421553A (en) * | 1972-03-17 | 1976-01-21 | Searle & Co | Process for the production of prostaglandins |
| US3907852A (en) * | 1972-06-23 | 1975-09-23 | Exxon Research Engineering Co | Silylhydrocarbyl phosphines and related compounds |
| DE3722807A1 (de) * | 1987-07-10 | 1989-01-19 | Hoechst Ag | Neue 3,5-dihydroxycarbonsaeuren und deren derivate, verfahren zu ihrer herstellung, ihre verwendung als arzneimittel, pharmazeutische praeparate und zwischenprodukte |
| US5151545A (en) * | 1987-10-13 | 1992-09-29 | Pfizer Inc. | 3,5-dihydroxy-6,8-nonadienoic acids and derivatives as hypocholesterolemic agents |
| US4804770A (en) * | 1988-04-29 | 1989-02-14 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Process for preparing a keto-phosphonate intermediate useful in preparing HMG-CoA reductase inhibitors |
| DE3832570A1 (de) * | 1988-09-24 | 1990-03-29 | Hoechst Ag | 7-substituierte derivate der 3,5-dihydroxyhept-6-insaeure, verfahren zur ihrer herstellung, ihre verwendung als arzneimittel, sowie zwischenprodukte |
| JP2719723B2 (ja) * | 1988-12-14 | 1998-02-25 | 塩野義製薬株式会社 | アリール酢酸モノエステル類およびその製造法 |
| US5117039A (en) * | 1988-12-14 | 1992-05-26 | Shionogi & Co., Ltd. | Monoesters of arylacetic acid and the process thereof |
| US5093363A (en) * | 1989-08-22 | 1992-03-03 | Shionogi & Co., Ltd. | 2,4,6-substituted phenol derivatives |
-
1992
- 1992-05-14 ES ES92910210T patent/ES2110499T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-05-14 DK DK92910210.1T patent/DK0554455T3/da active
- 1992-05-14 DE DE69223603T patent/DE69223603T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-05-14 JP JP50928592A patent/JP3233403B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-05-14 US US07/969,249 patent/US5354879A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-05-14 AT AT92910210T patent/ATE161262T1/de active
- 1992-05-14 EP EP92910210A patent/EP0554455B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-05-14 WO PCT/JP1992/000611 patent/WO1992022560A1/ja active IP Right Grant
- 1992-06-11 TW TW081104572A patent/TW201730B/zh active
-
1993
- 1993-02-18 KR KR1019930700459A patent/KR100216011B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-02-25 GR GR980400381T patent/GR3026204T3/el unknown
-
2001
- 2001-07-18 JP JP2001218860A patent/JP3635247B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0554455A4 (ja) | 1994-03-23 |
| EP0554455A1 (en) | 1993-08-11 |
| TW201730B (ja) | 1993-03-11 |
| DE69223603D1 (de) | 1998-01-29 |
| US5354879A (en) | 1994-10-11 |
| DE69223603T2 (de) | 1998-04-09 |
| DK0554455T3 (da) | 1998-01-19 |
| JP2002088054A (ja) | 2002-03-27 |
| GR3026204T3 (en) | 1998-05-29 |
| ES2110499T3 (es) | 1998-02-16 |
| KR100216011B1 (ko) | 1999-08-16 |
| EP0554455B1 (en) | 1997-12-17 |
| ATE161262T1 (de) | 1998-01-15 |
| JP3233403B2 (ja) | 2001-11-26 |
| WO1992022560A1 (en) | 1992-12-23 |
| KR930701460A (ko) | 1993-06-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041201 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041228 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090107 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090107 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100107 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100107 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110107 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120107 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120107 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130107 Year of fee payment: 8 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130107 Year of fee payment: 8 |