JP3627647B2 - 半導体メモリ装置内のワード線の活性化 - Google Patents

半導体メモリ装置内のワード線の活性化 Download PDF

Info

Publication number
JP3627647B2
JP3627647B2 JP2000328096A JP2000328096A JP3627647B2 JP 3627647 B2 JP3627647 B2 JP 3627647B2 JP 2000328096 A JP2000328096 A JP 2000328096A JP 2000328096 A JP2000328096 A JP 2000328096A JP 3627647 B2 JP3627647 B2 JP 3627647B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cycle
memory cell
refresh
word line
block
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000328096A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002133864A (ja
Inventor
浩一 水垣
栄太郎 大塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2000328096A priority Critical patent/JP3627647B2/ja
Priority to US09/976,108 priority patent/US6525989B2/en
Publication of JP2002133864A publication Critical patent/JP2002133864A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3627647B2 publication Critical patent/JP3627647B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/408Address circuits
    • G11C11/4085Word line control circuits, e.g. word line drivers, - boosters, - pull-up, - pull-down, - precharge
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/406Management or control of the refreshing or charge-regeneration cycles
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/08Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体メモリ装置内のワード線の活性化制御に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体メモリ装置としては、DRAMやSRAMが用いられている。良く知られているように、DRAMはSRAMに比べて安価で大容量であるが、リフレッシュ動作が必要である。一方、SRAMはリフレッシュ動作は不要で使い易いが、DRAMに比べて高価であり、また容量が小さい。
【0003】
DRAMとSRAMの利点を両方備えた半導体メモリ装置として、擬似SRAM(VSRAMあるいはPSRAMと呼ばれる)が知られている。擬似SRAMは、DRAMと同じダイナミック型メモリセルを含むメモリセルアレイを備えているとともに、リフレッシュ制御部を内蔵しており、リフレッシュ動作を内部で実行している。このため、擬似SRAMに接続される外部装置(例えばCPU)は、リフレッシュ動作を意識せずに擬似SRAMにアクセス(データの読み出しや書き込み)することが可能である。このような擬似SRAMの特徴は、「リフレッシュの透過性」と呼ばれる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、擬似SRAMにおいてアクセスが実行されるサイクルでは、サイクル毎に、アドレスによって選択されるワード線が活性化および非活性化されている。しかしながら、連続するサイクルで同一のワード線が活性化される場合などに、サイクル毎にワード線の活性化および非活性化を繰り返すと、電流が無駄に消費されるという問題があった。なお、これは、擬似SRAMに限らず、サイクル毎にワード線の活性化および非活性化を繰り返す半導体メモリ装置に共通する問題である。
【0005】
この発明は、上述した従来の課題を解決するためになされたものであり、半導体メモリ装置内のワード線の活性化に伴う消費電流を低減することのできる技術を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】
上記目的を達成するために、本発明の装置は、半導体メモリ装置であって、
ダイナミック型のメモリセルがマトリクス状に配列された複数のメモリセルブロックと、
前記複数のメモリセルブロックのうちの1つを選択するためのブロックアドレスと、メモリセルブロック内の複数本のワード線のうちの1本を選択するための行アドレスと、を含むアドレスが入力されるアドレス入力部と、
前記アドレスに従って選択されるメモリセルに対応するデータを入出力するためのデータ入出力部と、
ワード線の活性化を制御するためのワード線活性化制御部と、
を備え、
前記ワード線活性化制御部は、
前記行アドレスに変化があるか否かを検出するための行アドレス遷移検出部を備えており、
前記ワード線活性化制御部は
記メモリセルに対し、データの読み出しと書き込みとの少なくとも一方が可能なサイクルであって、同じ行アドレスを含むアドレスを用いる前記サイクルが連続し、前記連続するサイクルにおいて前記行アドレスの変化が前記行アドレス遷移検出部によって検出されない場合であって、
(a)前記連続するサイクルにおいて、前記連続するサイクルのうちの最初のサイクルにおいてワード線が活性化された第1のメモリセルブロックに対してリフレッシュの実行が要求されない第1の場合には、
前記第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記連続するサイクルのうちの最終のサイクルまで活性化した状態で保持し、
(b)前記連続するサイクルにおいて、前記第1のメモリセルブロック内のワード線が活性化状態となっているときに、前記第1のメモリセルブロックに対してデータの読み出しと書き込みとの少なくとも一方の実行とリフレッシュの実行とが共に要求される第2の場合には、
前記第1のメモリセルブロックに対するデータの読み出しと書き込みとの少なくとも一方を実行した後に、前記第1のメモリセルブロック内の前記活性化状態のワード線を非活性化させて前記第1のメモリセルブロックに対するリフレッシュを実行することを特徴とする。
【0007】
この半導体メモリ装置では、ワード線活性化制御部が備えられており、ワード線活性化制御部は、同じ行アドレスを含むアドレスを用いるサイクルが連続する場合には、最初のサイクルで活性化されたワード線を、同じ行アドレスが用いられる最終のサイクルまで活性化した状態で保持する。このようなワード線活性化制御部を用いれば、サイクル毎にワード線の活性化および非活性化を繰り返す必要がないため、ワード線の活性化に伴う消費電流を低減することが可能となる。
【0008】
なお、この装置を用いる効果は、最初のサイクルから最終のサイクルまでの複数のサイクルのうち、2以上のサイクルにおいて、活性化されたワード線上のメモリセルに対してデータの読み出しや書き込みが行われる場合に、顕著となる。
【0009】
上記の装置において、
前記アドレス入力部には、前記行アドレスとともに列アドレスも同時に入力され、
前記行アドレスは、複数ビットで構成される前記アドレスのうちの最も上位にある複数のビットに割り当てられていることが好ましい。
【0010】
このように、行アドレスを最も上位にある複数のビットに割り当てれば、行アドレスが比較的変化しにくくなるので、ワード線が活性化した状態で保持される頻度を高めることができ、この結果、ワード線の活性化に伴う消費電流を低減することが可能となる。
【0012】
上記の装置において
記ワード線活性化制御部は
前記第1の場合には、
i)前記最初のサイクルにおいて活性化された前記第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記最終のサイクルまで活性化した状態で保持するとともに、
(ii)前記最初のサイクルより後で前記最終のサイクル以前のサイクルにおいて、前記第1のメモリセルブロックとは異なる第2のメモリセルブロック内のメモリセルに対し、データの読み出しと書き込みとの少なくとも一方を実行した場合に、
前記最初のサイクルより後で前記最終のサイクル以前の前記サイクルにおいて活性化された前記第2のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記最終のサイクルまで活性化した状態で保持するようにしてもよい。
【0013】
なお、最初のサイクルより後で最終のサイクル以前のサイクルは、最終のサイクルと異なるサイクルであってもよいし、最終のサイクルであってもよい。
【0014】
このように、複数のメモリセルブロックが設けられている場合には、ワード線活性化制御部は、2以上のメモリセルブロックの中のワード線を同時に活性化した状態で保持することができる。したがって、活性化されたワード線上のメモリセルに対して、データの読み出しや書き込みが行われる頻度を高めることができ、この結果、ワード線の活性化に伴う消費電流をかなり低減することが可能となる。
【0015】
また、本発明の方法は、ダイナミック型のメモリセルがマトリクス状に配列された複数のメモリセルブロックと、前記複数のメモリセルブロックのうちの1つを選択するためのブロックアドレスと、メモリセルブロック内の複数本のワード線のうちの1本を選択するための行アドレスと、を含むアドレスが入力されるアドレス入力部と、前記アドレスに従って選択されるメモリセルに対応するデータを入出力するためのデータ入出力部と、を備える半導体メモリ装置において、ワード線の活性化を制御するための方法であって
記メモリセルに対し、データの読み出しと書き込みとの少なくとも一方が可能なサイクルであって、同じ行アドレスを含むアドレスを用いる前記サイクルが連続し、前記連続するサイクルにおいて前記行アドレスの変化が検出されない場合であって、
(a)前記連続するサイクルにおいて、前記連続するサイクルのうちの最初のサイクルにおいてワード線が活性化された第1のメモリセルブロックに対してリフレッシュが要求されない第1の場合には、
前記第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記連続するサイクルのうちの最終のサイクルまで活性化した状態で保持し、
(b)前記連続するサイクルにおいて、前記第1のメモリセルブロック内のワード線が活性化状態となっているときに、前記第1のメモリセルブロックに対してデータの読み出しと書き込みとの少なくとも一方の実行とリフレッシュの実行とが共に要求される第2の場合には、
前記第1のメモリセルブロックに対するデータの読み出しと書き込みとの少なくとも一方を実行した後に、前記第1のメモリセルブロック内の前記活性化状態のワード線を非活性化させて前記第1のメモリセルブロックに対するリフレッシュを実行することを特徴とする。
【0016】
この方法を用いる場合にも、本発明の装置を用いる場合と同様の作用・効果を奏し、ワード線の活性化に伴う消費電流を低減することが可能となる。
【0017】
なお、本発明は、種々の形態で実現することが可能であり、例えば、半導体メモリ装置、そのワード線の活性化制御方法、半導体メモリ装置と制御装置とを備えた半導体メモリシステム、半導体メモリ装置の制御方法、および、半導体メモリ装置を備えた電子機器等の形態で実現することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施の形態を実施例に基づいて以下の順序で説明する。
A.メモリチップの端子構成と動作状態の概要:
B.メモリチップ内部の全体構成:
C.ワード線活性化制御部の内部構成:
D.ワード線活性化制御部の動作:
D1.オペレーションサイクルにおける動作(リフレッシュ要求が無い場合):
D2.オペレーションサイクルにおける動作(リフレッシュ要求がある場合):
D3.スタンバイサイクルおよびスヌーズ状態における動作:
E.電子機器への適用例:
【0019】
A.メモリチップの端子構成と動作状態の概要:
図1は、本発明の実施例としてのメモリチップ300の端子の構成を示す説明図である。メモリチップ300は、以下のような端子を有している。
【0020】
A0〜A19:アドレス入力端子(20本),
#CS:チップセレクト入力端子,
ZZ:スヌーズ入力端子,
#WE:ライトイネーブル入力端子,
#OE:アウトプットイネーブル入力端子,
#LB:下位バイトイネーブル入力端子,
#UB:上位バイトイネーブル入力端子,
IO0〜IO15:入出力データ端子(16本)。
【0021】
なお、以下の説明では、端子名と信号名とに同じ符号を用いている。端子名(信号名)の先頭に「#」が付されているものは、負論理であることを意味している。アドレス入力端子A0〜A19と入出力データ端子IO0〜IO15はそれぞれ複数本設けられているが、図1では簡略化されて描かれている。
【0022】
このメモリチップ300は、通常の非同期型SRAMと同じ手順でアクセスすることが可能な擬似SRAM(VSRAM)として構成されている。ただし、SRAMと異なり、ダイナミック型のメモリセルが用いられているので、所定期間内にリフレッシュが必要となる。このため、メモリチップ300には、リフレッシュタイマ70を含むリフレッシュ制御部が内蔵されている。本明細書では、外部装置(制御装置)からのデータの読み出しや書き込みの動作を「外部アクセス」と呼び、内蔵されたリフレッシュ制御部によるリフレッシュ動作を「内部リフレッシュ」または単に「リフレッシュ」と呼ぶ。
【0023】
メモリチップ300の内部には、入力されたアドレスA0〜A19の中のいずれか1ビット以上が変化したことを検出するためのアドレス遷移検出回路110が設けられている。そして、メモリチップ300内の回路は、アドレス遷移検出回路110から供給されるアドレス遷移信号に基づいて動作する。例えば、外部アクセスと内部リフレッシュとの調停は、アドレス遷移信号に基づいて行われる。なお、以下の説明では、アドレス遷移検出回路110を「ATD回路」と呼び、アドレス遷移信号を「ATD信号」と呼ぶ。
【0024】
図1に示すチップセレクト信号#CSとスヌーズ信号ZZは、メモリチップ300の動作状態を制御するための信号である。図2は、チップセレクト信号#CSとスヌーズ信号ZZの信号レベルに応じたメモリチップ300の動作状態の区分を示す説明図である。なお、本明細書において、「Hレベル」は2値信号の2つのレベルのうちの「1」レベルを意味し、「Lレベル」は「0」レベルを意味している。
【0025】
チップセレクト信号#CSがLレベル(アクティブ)でスヌーズ信号ZZがHレベルのときは、リード/ライト・オペレーションサイクル(以下、単に「オペレーションサイクル」または「リード/ライトサイクル」と呼ぶ)が行われる。オペレーションサイクルでは、外部アクセスの実行が可能であり、適時、内部リフレッシュが実行される。
【0026】
チップセレクト信号#CSとスヌーズ信号ZZが共にHレベルのときには、スタンバイサイクルが行われる。スタンバイサイクルでは、外部アクセスの実行が禁止されるため、すべてのワード線が非活性状態とされる。但し、内部リフレッシュが行われるときには、リフレッシュアドレスで指定されたワード線は活性化される。
【0027】
チップセレクト信号#CSがHレベル(非アクティブ)のときにスヌーズ信号ZZがLレベルになると、メモリチップ300はスヌーズ状態(「パワーダウン状態」とも呼ぶ)に移行する。スヌーズ状態では、リフレッシュ動作に必要な回路以外は停止している。スヌーズ状態での消費電力は極めて少ないので、メモリ内のデータのバックアップに適している。
【0028】
なお、リフレッシュ動作は、オペレーションサイクルとスタンバイサイクルでは第1のリフレッシュモードに従って実行され、スヌーズ状態では第2のリフレッシュモードに従って実行される。第1のリフレッシュモードでは、リフレッシュタイマ70がリフレッシュタイミング信号を発生した後に、ATD信号に同期してリフレッシュ動作が開始される。一方、第2のリフレッシュモードでは、リフレッシュタイマ70がリフレッシュタイミング信号を発生すると直ちにリフレッシュ動作が開始される。第2のリフレッシュモードでのリフレッシュ動作はATD信号と非同期に行われるので、アドレスA0〜A19の入力は不要である。このように、このメモリチップ300は、3つの動作状態にそれぞれ適したリフレッシュモードに従ってリフレッシュを実行する。これらの2つのモードにおけるリフレッシュ動作の詳細については後述する。
【0029】
図1に示すアドレスA0〜A19は、20ビットであり、1メガワードのアドレスを指定する。また、入出力データIO0〜IO15は、1ワード分の16ビットのデータである。すなわち、アドレスA0〜A19の1つの値は16ビット(1ワード)に対応しており、一度に16ビットの入出力データIO0〜IO15を入出力することができる。
【0030】
オペレーションサイクルにおいては、ライトイネーブル信号#WEがLレベルになるとライトサイクルが実行され、Hレベルになるとリードサイクルが実行される。また、アウトプットイネーブル信号#OEがLレベルになると、入出力データ端子IO0〜IO15からの出力が可能になる。下位バイトイネーブル信号#LBや上位バイトイネーブル入力信号#UBは、1ワード(16ビット)の下位バイトと上位バイトとのうちのいずれか1バイトのみに関して読み出しや書き込みを行うための制御信号である。例えば、下位バイトイネーブル信号#LBをLレベルに設定し、上位バイトイネーブル信号#UBをHレベルに設定すると、1ワードの下位8ビットのみに関して読み出しや書き込みが行われる。なお、図1では、電源端子は省略されている。
【0031】
図3は、メモリチップ300の動作の概要を示すタイミングチャートである。図2に示した3つの動作状態(オペレーション、スタンバイ、スヌーズ)のいずれであるかは、チップセレクト信号#CSとスヌーズ信号ZZの変化に応じて、随時判断される。図3の最初の3つのサイクルは、オペレーションサイクルである。オペレーションサイクルでは、ライトイネーブル信号#WEのレベルに応じて読み出し(リードサイクル)と書き込み(ライトサイクル)のいずれかが実行される。なお、ATD信号の最短周期Tc(すなわち、アドレスA0〜A19の変化の最短周期)は、このメモリチップ300のサイクルタイム(「サイクル周期」とも呼ばれる)に相当する。サイクルタイムTcは、例えば約50nsから約100nsの範囲の値に設定される。
【0032】
図3の4番目のサイクルでは、チップセレクト信号#CSがHレベルに立ち上がっているので、スタンバイサイクルが開始される。5番目のサイクルでは、さらに、スヌーズ信号ZZがLレベルに下がっているので、メモリチップ300はスヌーズ状態となる。なお、図3(a)に示すように、アドレスA0〜A19が変化しない場合には、ATD信号は生成されない。
【0033】
B.メモリチップ内部の全体構成:
図4は、メモリチップ300の内部構成を示すブロック図である。このメモリチップ300は、データ入出力バッファ10と、メモリセルアレイ20と、アドレスバッファ60とを備えている。
【0034】
メモリセルアレイ20は、4つのブロック20A〜20Dに区分されている。第1のブロック20Aは、メモリセルサブアレイ22Aと、行デコーダ24Aと、列デコーダ26Aと、ゲート28Aとを備えている。他のブロック20B〜20Dも同様である。各ブロック20A〜20Dの構成はほぼ同じなので、以下では主に第1のブロック20Aと、これに関連する他の回路について説明する。
【0035】
1つのブロック20Aの構成は、典型的なDRAMのメモリセルアレイと同じである。すなわち、サブアレイ22Aは、1トランジスタ1キャパシタ型の複数のメモリセルがマトリクス状に配列されたものである。各メモリセルには、ワード線とビット線対(データ線対とも呼ばれる)とが接続されている。行デコーダ24Aは、行ドライバを含んでおり、供給される行アドレスに従ってサブアレイ22A内の複数本のワード線のうちの1本を選択して活性化する。列デコーダ26Aは、列ドライバを含んでおり、供給される列アドレスに従ってサブアレイ22A内の複数組のビット線対の中の1ワード(16ビット)分のビット線対を同時に選択する。また、ゲート28Aは、読み出し回路や書き込み回路を含んでおり、データ入出力バッファ10とサブアレイ22Aと間のデータのやり取りを可能とする。なお、ブロック20A内には、図示しないプリチャージ回路やセンスアンプなども設けられている。
【0036】
アドレスバッファ60は、外部装置から与えられた20ビットのアドレスA0〜A19を他の内部回路に供給する回路である。最も下位の2ビットのアドレスA0〜A1は、4つのブロック20A〜20Dのうちのいずれか1つを選択するためのブロックアドレスとして用いられる。また、ブロックアドレスA0〜A1よりも上位の6ビットのアドレスA2〜A7は列アドレスとして用いられ、最も上位の12ビットのアドレスA8〜A19は行アドレスとして用いられる。従って、ブロックアドレスA0〜A1によって4つのブロック20A〜20Dのうちの1つが選択され、選択されたブロックの中から、列アドレスA2〜A7と行アドレスA8〜A19とによって1ワード(16ビット)分のメモリセルが選択される。選択されたメモリセルに対応する1ワード分のデータは、データ入出力バッファ10を介して読み出され、あるいは書き込まれる。すなわち、外部装置は、1つのアドレスA0〜A19を入力することにより、1つのブロック内の1ワード分のメモリセルに同時にアクセスすることが可能である。
【0037】
各ブロック20A〜20Dには、それぞれ、行プリデコーダ30A〜30Dと、ブロックコントローラ40A〜40Dと、リフレッシュ要求信号発生回路50A〜50Dとがこの順に接続されている。メモリチップ300内には、さらに、リフレッシュタイマ70と、リフレッシュカウンタコントローラ90と、リフレッシュカウンタ100と、ATD(アドレス遷移検出)回路110と、行アドレス遷移検出回路130とが設けられている。
【0038】
ATD回路110は、外部装置から供給された20ビットのアドレスA0〜A19の中のいずれか1ビット以上に変化があるか否か検出し、変化が検出されたときには、図3(a)に示すようなATD信号を生成する。
【0039】
図5は、ATD回路110の内部構成を示すブロック図である。ATD回路110は、20ビットのアドレスA0〜A19の各ビットに対応した20個の遷移検出回路111と、20入力ORゲート118とを備えている。各遷移検出回路111は、インバータ112と、2つのパルス発生回路113,114と、ORゲート115とを有している。パルス発生回路113,114としては、例えばワンショットマルチバイブレータが使用される。
【0040】
第1のパルス発生回路113は、アドレスビットA0の立ち上がりエッジに応じて、所定のパルス幅を有するパルスを1つ生成する。また、インバータ112と第2のパルス発生回路114は、アドレスビットA0の立ち下がりエッジに応じて、所定のパルス幅を有するパルスを1つ生成する。したがって、ORゲート115からは、アドレスビットA0の立ち上がりエッジと立ち下がりエッジの各エッジ毎に、パルスが1つずつ出力される。これは、他のアドレスビットA1〜A19についても同様である。
【0041】
20入力ORゲート118には、20個の遷移検出回路111の出力が入力されている。従って、20ビットの行アドレスA0〜A19の中の1つ以上のビットのレベルが変化すると、ORゲート118からパルス状のATD信号が出力される。
【0042】
図4のリフレッシュタイマ70は、一定のリフレッシュ周期毎にリフレッシュタイミング信号RFTMを発生する回路である。リフレッシュタイマ70は、例えばリングオシレータによって構成される。リフレッシュ周期は、例えば約32μsに設定されている。
【0043】
リフレッシュ要求信号発生回路50A〜50Dは、リフレッシュタイマ70から供給されるリフレッシュタイミング信号RFTMに応じて、各ブロック20A〜20Dのためのリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3を発生する。このリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3は、対応するブロックコントローラ40A〜40Dにそれぞれ供給される。
【0044】
ブロックコントローラ40A〜40Dには、リフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3とともに、外部装置から与えられたブロックアドレスA0〜A1が供給されている。リフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3は、4つのブロック20A〜20Dにおいてリフレッシュ動作を開始すべきことを意味している。また、オペレーションサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1は、4つのブロック20A〜20Dのいずれに外部アクセスが要求されているかを示している。そこで、ブロックコントローラ40A〜40Dは、これらの信号RFREQ0〜RFREQ3,A0〜A1に応じて、4つのブロックに対する外部アクセスと内部リフレッシュとを調停する。この調停は、具体的には、外部アクセス実施信号#EX0〜#EX3とリフレッシュ実施信号#RF0〜#RF3との出力レベルをそれぞれ設定することによって行われる。
【0045】
行プリデコーダ30A〜30Dは、外部アクセス実施信号#EX0〜#EX3とリフレッシュ実施信号#RF0〜#RF3のレベルに応じて、外部装置から与えられた行アドレスA8〜A19と、リフレッシュカウンタ100から与えられたリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19とのうちの一方を選択して、行デコーダ24A〜24Dに供給する。この2種類のアドレスA8〜A19,RFA8〜RFA19の選択は、行プリデコーダ毎に独立に行われる。例えば、第1のブロック20Aに対して外部アクセスの要求がある場合にリフレッシュの要求があったときには、第1の行プリデコーダ30Aは行アドレスA8〜A19を選択して第1のブロック20Aに供給し、他の行プリデコーダ30B〜30DはリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19を選択して対応するブロック20B〜20Dにそれぞれ供給する。なお、第1の行プリデコーダ30Aは、第1のブロック20Aに対する外部アクセスの終了後に、リフレッシュアドレスRFA8〜RFA19を第1のブロック20Aに供給する。
【0046】
なお、リフレッシュ要求信号発生回路50A〜50Dと、ブロックコントローラ40A〜40Dと、行プリデコーダ30A〜30Dの構成および動作については、さらに後述する。
【0047】
リフレッシュカウンタコントローラ90は、4つのブロック20A〜20Dのすべてにおいて、同一のリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19に従ってリフレッシュ動作が完了したか否かを検出する。この検出は、後述するように、4つのリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3のレベル変化を調べることによって行われる。4つのブロック20A〜20Dにおけるリフレッシュ動作が完了すると、リフレッシュカウンタコントローラ90は、リフレッシュカウンタ100にカウントアップ信号#CNTUPを供給する。リフレッシュカウンタ100は、このカウントアップ信号#CNTUPに応じてリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19の値を1つカウントアップする。
【0048】
メモリチップ300は、図4に示す回路の他に、チップセレクト信号#CSやスヌーズ信号ZZに従ってチップ内の回路の動作状態を制御するコントローラや、各種のイネーブル信号#WE,#OE,#LB,#UBに応じて入出力状態を制御するコントローラなどを有しているが、図4では、図示の便宜上省略されている。
【0049】
なお、図4のデータ入出力バッファ10とアドレスバッファ60とは、それぞれ本発明におけるデータ入出力部とアドレス入力部とに相当する。また、図4において、データ入出力バッファ10とアドレスバッファ60とメモリセルアレイ20とを除く回路部分(30A〜30D,40A〜40D,50A〜50D,70,90,100,110,130)は、メモリセルアレイ20内のワード線の活性化を制御しており、本発明のワード線活性化制御部に相当する。
【0050】
なお、ワード線活性化制御部は、メモリセルアレイ20のリフレッシュ動作を制御するリフレッシュ制御部としての機能も有している。特に、行プリデコーダ30A〜30Dと、ブロックコントローラ40A〜40Dと、リフレッシュ要求信号発生回路50A〜50Dとで構成される回路部分は、内部リフレッシュと外部アクセスとの調停を行う調停回路としての機能を有している。
【0051】
C.ワード線活性化制御部の内部構成:
図6は、図4の第1のブロックコントローラ40Aの内部構成を示すブロック図である。なお、他のブロックコントローラ40B〜40Dも図6と同じ構成を有している。
【0052】
ブロックコントローラ40Aは、外部アクセス実施信号#EX0を発生させる外部アクセス実施信号発生回路42と、リフレッシュ実施信号#RF0を発生させるリフレッシュ実施信号発生回路44と、リフレッシュ実施信号#RF0に応じてリセット信号RST0を発生させるリセット信号発生回路46とを備えている。外部アクセス実施信号発生回路42およびリフレッシュ実施信号発生回路44には、それぞれ、チップセレクト信号#CSと、ブロックアドレスA0〜A1と、ATD信号と、リフレッシュ要求信号発生回路50Aからのリフレッシュ要求信号RFREQ0とが供給されている。また、外部アクセス実施信号発生回路42には、行アドレス遷移検出回路(以下、「RATD回路」とも呼ぶ)130から行アドレス遷移信号RAT(以下、「RAT信号」と呼ぶ)が供給されている。
【0053】
リフレッシュ要求信号発生回路50Aには、スヌーズ信号ZZとリフレッシュタイミング信号RFTMとATD信号とが入力されている。リフレッシュ要求信号発生回路50Aは、スヌーズ信号ZZがLレベルのとき(すなわち、スヌーズ状態)には、リフレッシュタイミング信号RFTMの立ち上がりエッジに応じて直ちにリフレッシュ要求信号RFREQ0をHレベルに立ち上げる。一方、スヌーズ信号ZZがHレベル(すなわち、オペレーションサイクルおよびスタンバイサイクル)のときには、リフレッシュタイミング信号RFTMが立ち上がった後に発生するATD信号の立ち上がりエッジに応じてリフレッシュ要求信号RFREQ0をHレベルに立ち上げる。
【0054】
行アドレス遷移検出回路(RATD回路)130は、外部装置から供給された12ビットの行アドレスA8〜A19の中のいずれか1ビット以上に変化があるか否か検出し、変化が検出されたときには、RAT信号を出力する回路である。なお、RATD回路130は、図5に示すATD回路110と同様に構成されており、RATD回路130には、アドレスA0〜A19のうちの行アドレスA8〜A19のみが入力されている。図4に示すように、このRAT信号は、4つのブロックコントローラ40A〜40Dにそれぞれ供給されている。
【0055】
図7は、図6の外部アクセス実施信号発生回路42の内部構成を示すブロック図である。外部アクセス実施信号発生回路42は、RSラッチ410およびインバータ411と、セット信号生成回路420と、リセット信号生成回路430とを備えている。セット信号生成回路420からの出力信号Q420はRSラッチ410のセット端子Sに入力され、リセット信号生成回路430からの出力信号Q430はRSラッチ410のリセット端子Rに入力される。
【0056】
セット信号生成回路420は、インバータ421とデコーダ422と3入力ANDゲート423とパルス発生回路424とを備えている。デコーダ422は、供給されるブロックアドレスA0〜A1の値が第1のブロック20Aを示す”0”となる場合には、その出力をHレベルとし、他の場合にはLレベルとする。3入力ANDゲート426には、ATD信号と、インバータ421によって反転されたチップセレクト信号#CSと、デコーダ422の出力信号とが入力されている。そして、ANDゲート423の出力は、パルス発生回路424に与えられる。
【0057】
セット信号生成回路420は、ATD信号に同期して、第1のブロックコントローラ40Aに関連する第1のブロック20Aに対して外部アクセスが要求されているか否かを判断する。すなわち、セット信号生成回路420は、チップセレクト信号#CSがLレベル(アクティブ)であり、かつ、ブロックアドレスA0〜A1の値が”0”のときには、ブロック20Aに対して外部アクセスが要求されているものと判断し、RSラッチ410のセット端子Sにパルス信号Q420を供給する。RSラッチ410およびインバータ411は、パルス信号Q420に従って外部アクセス実施信号#EX0をアクティブ(Lレベル)に設定する。なお、外部アクセス実施信号#EX0がアクティブ(Lレベル)になると、ブロック20A(図4)内の行アドレスA8〜A19によって選択されたワード線が活性化され、外部アクセスが実施される。
【0058】
リセット信号生成回路430は、インバータ431とANDゲート432と3入力ORゲート436と2つのパルス発生回路434,438とを備えている。ANDゲート432には、インバータ431によって反転されたデコーダ422からの出力信号とリフレッシュ要求信号RFREQ0とが供給されている。第1のパルス発生回路434は、チップセレクト信号#CSの立ち上がりエッジに伴いパルスを発生させる回路である。3入力ORゲート436には、ANDゲート432の出力信号と、RAT信号と、第1のパルス発生回路434の出力信号とが入力されている。そして、ORゲート436の出力は、第2のパルス発生回路438に与えられる。
【0059】
リセット信号生成回路430は、次の3つの場合に、RSラッチ410のリセット端子Rにパルス信号Q430を供給する。(1)第1のブロック20Aに対する外部アクセスの要求が無く、かつ、リフレッシュ要求があるとき。(2)行アドレスA8〜A19が変化したとき。(3)チップセレクト信号#CSがHレベル(非アクティブ)に立ち上がったとき。RSラッチ410およびインバータ411は、パルス信号Q430に従って外部アクセス実施信号#EX0を非アクティブ(Hレベル)に設定する。
【0060】
図6のリフレッシュ実施信号発生回路44も、第1のブロック20Aへの外部アクセスが要求されているか否かを判断して、リフレッシュ実施信号#RF0の状態(レベル)を設定する。すなわち、ブロック20Aに対する外部アクセス要求が無く、かつ、リフレッシュ要求があるときには、リフレッシュ実施信号#RF0はアクティブ(Lレベル)に設定される。なお、リフレッシュ実施信号#RF0がアクティブ(Lレベル)になると、ブロック20A(図4)内のリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19によって選択されたワード線が活性化され、そのワード線上のすべてのメモリセルについてリフレッシュが実施される。ブロック20Aに対する外部アクセス要求もリフレッシュ要求も無いときには、リフレッシュ実施信号#RF0は非アクティブ(Hレベル)に設定される。
【0061】
また、ブロック20Aに対する外部アクセスの要求がある場合には、リフレッシュ要求があっても、リフレッシュ実施信号#RF0は非アクティブ(Hレベル)に設定される。その後、リフレッシュ実施信号#RF0は、ブロック20Aに対する外部アクセスが終了するまで非アクティブ(Hレベル)のまま保持され、外部アクセスが終了した後にアクティブ(Lレベル)に設定される。こうしてリフレッシュ実施信号#RF0がアクティブ(Lレベル)になると、ブロック20Aにおけるリフレッシュ動作が開始される。
【0062】
図6のリセット信号発生回路46は、リフレッシュ実施信号#RF0の立ち上がりエッジに応じて、短パルス状のリセット信号RST0を発生する。このリセット信号発生回路46は、例えばワンショットマルチバイブレータで構成される。リフレッシュ要求信号発生回路50Aは、リセット信号発生回路46から供給されたリセット信号RST0に従ってリフレッシュ要求信号RFREQ0をLレベルに戻す。これにより、ブロック20Aに対するリフレッシュ要求が解除される。
【0063】
なお、ブロックコントローラ40Aの動作については、さらに、後述する。
【0064】
ブロックコントローラ40A(図6)から出力された外部アクセス実施信号#EX0やリフレッシュ実施信号#RF0は、ブロック20A内の行プリデコーダ30A(図4)に供給される。
【0065】
図8は、図4の第1の行プリデコーダ30Aの内部構成を示すブロック図である。行プリデコーダ30Aは、2つのスイッチ&ラッチ回路34,36と、判定回路38とを備えている。なお、他の行プリデコーダ30B〜30Dも図8と同じ構成を有している。
【0066】
判定回路38には、ブロックコントローラ40Aから外部アクセス実施信号#EX0とリフレッシュ実施信号#RF0とが供給されている。判定回路38は、第1のスイッチ&ラッチ回路34に外部アクセス実施信号#EX0に応じた制御信号LEXを供給し、第2のスイッチ&ラッチ回路36にリフレッシュ実施信号#RF0に応じた制御信号LRFを供給する。
【0067】
外部アクセス実施信号#EX0がアクティブ(Lレベル)の場合には、第1のスイッチ&ラッチ回路34は、制御信号LEXに従って、外部装置から供給された行アドレスA8〜A19をラッチして第1のブロック20A内の行デコーダ24Aに供給する。また、この場合には、第2のスイッチ&ラッチ回路36は、制御信号LRFに従って、その出力を禁止している。
【0068】
一方、リフレッシュ実施信号#RF0がアクティブ(Lレベル)の場合には、第2のスイッチ&ラッチ回路36は、制御信号LRFに従って、リフレッシュカウンタ100(図4)から供給されたリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19をラッチして行デコーダ24Aに供給する。また、この場合には、第1のスイッチ&ラッチ回路34は、制御信号LEXに従って、その出力を禁止している。
【0069】
なお、ブロックコントローラ40A(図6)は、2つの実施信号#EX0,#RF0を同時にアクティブ(Lレベル)にすることが無いように構成されている。2つの実施信号#EX0,#RF0がいずれも非アクティブ(Hレベル)のときには、行プリデコーダ30Aは、行デコーダ24AにアドレスA8〜A19,RFA8〜RFA19を供給しない。
【0070】
このように、行プリデコーダ30Aは、2つの実施信号#EX0,#RF0のレベルに応じて、行アドレスA8〜A19とリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19とのうちの一方を選択して、ブロック20A(図4)内の行デコーダ24Aに供給する。そして、行デコーダ24Aは、行プリデコーダ30Aから行アドレスA8〜A19またはリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19が供給されているときに、各アドレスA8〜A19またはRFA8〜RFA19に従って選択されるブロック20A内の1本のワード線を活性化状態とする。
【0071】
D.ワード線活性化制御部の動作:
D1.オペレーションサイクルにおける動作(リフレッシュ要求が無い場合):
図9は、オペレーションサイクルにおける第1のブロックコントローラ40A(図6)の動作を示すタイミングチャートである。オペレーションサイクルでは、チップセレクト信号#CS(図9(b))がLレベル(アクティブ)となり、かつ、スヌーズ信号ZZ(図9(c))がHレベルとなる。時刻t1〜t7では、ATD信号(図9(a))の立ち上がりエッジが形成されており、各時刻から始まるオペレーションサイクルは7つ連続している。
【0072】
図9は、オペレーションサイクルにおいて、リフレッシュ要求が無い場合、すなわち、図6のリフレッシュ要求信号発生回路50Aに与えられるリフレッシュタイミング信号RFTM(図9(k))に立ち上がりエッジがない発生しない場合を示している。この場合には、第1のブロックコントローラ40A内のリフレッシュ実施信号発生回路44に与えられるリフレッシュ要求信号RFREQ0(図9(l))はLレベルとなる。したがって、リフレッシュ実施信号発生回路44から出力されるリフレッシュ実施信号#RF0(図9(m))はHレベル(非アクティブ)のままであり、リセット信号発生回路46から出力されるリセット信号RST0(図9(n))はLレベルのままである。
【0073】
時刻t1から始まる第1のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1(図9(d))の値が”0”となっており、第1のブロック20Aに対する外部アクセスが要求されている。したがって、図7のセット信号生成回路420は、時刻t1においてパルス信号Q420を出力する(図9(f))。そして、RSラッチ410およびインバータ411は、パルス信号Q420に応じて外部アクセス実施信号#EX0(図9(j))をLレベル(アクティブ)に設定する。
【0074】
時刻t2から始まる第2のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が”0”から第2のブロック20Bを示す”1”に変化しており、第1のブロック20Aに対する外部アクセスは要求されていない。また、行アドレスA8〜A19(図9(e))の値が”p”から”q”に変化している。したがって、図6のRATD回路130は、時刻t2において行アドレスの変化を検出し、RAT信号(図9(g))を出力する。そして、図7のリセット信号生成回路430は、RAT信号に応じてパルス信号Q430(図9(i))を出力する。RSラッチ410およびインバータ411は、パルス信号Q430に応じて外部アクセス実施信号#EX0をHレベル(非アクティブ)に設定する。
【0075】
時刻t3から始まる第3のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が”0”に変化しており、第1のブロック20Aに対する外部アクセスが要求されている。なお、行アドレスA8〜A19の値は”q”のままである。このとき、第1のサイクルと同様に、パルス信号Q420が出力されるので、外部アクセス実施信号#EX0はLレベル(アクティブ)に設定される。
【0076】
時刻t4から始まる第4のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が”1”に変化しており、第1のブロック20Aに対する外部アクセスは要求されていない。しかしながら、行アドレスA8〜A19の値は”q”のままで変化していないので、RAT信号はパルスを含んでいない。このため、図7のRSラッチ410およびインバータ411は、外部アクセス実施信号#EX0をLレベル(アクティブ)のまま保持する。
【0077】
時刻t5から始まる第5のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が”0”に変化しており、第1のブロック20Aに対する外部アクセスが要求されている。このとき、第1および第3のサイクルと同様に、パルス信号Q420が出力されるが、外部アクセス実施信号#EX0は、既にLレベル(アクティブ)となっているので、Lレベル(アクティブ)のまま保持される。
【0078】
時刻t6から始まる第6のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が”0”のままであり、第1のブロック20Aに対する外部アクセスが要求されている。そして、行アドレスA8〜A19の値は”q”から”r”に変化している。このとき、第2のサイクルと同様に、RAT信号が出力されるので、外部アクセス実施信号#EX0がHレベル(非アクティブ)に設定される。そして、この後、第1および第3のサイクルと同様に、パルス信号Q420が出力されるので、外部アクセス実施信号#EX0は再度Lレベル(アクティブ)に設定される。
【0079】
時刻t7から始まる第7のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が第3のブロック20Cを示す”2”に変化しており、第1のブロック20Aに対する外部アクセスは要求されていない。しかしながら、行アドレスA8〜A19の値は”r”のまま変化していない。したがって、第4のサイクルと同様に、外部アクセス実施信号#EX0はLレベル(アクティブ)のまま保持される。
【0080】
時刻t8の前に、チップセレクト信号#CSはHレベル(非アクティブ)に立ち上がっている。このとき、図7のリセット信号生成回路430内の第1のパルス発生回路434はパルス信号Q434(図9(h))を出力するので、リセット信号生成回路430からはパルス信号Q430が出力される。これに応じて、外部アクセス実施信号#EX0はHレベル(非アクティブ)に設定される。
【0081】
図9の第3のサイクルに示すように、第1のブロックコントローラ40Aは、第1のブロック20Aに対する外部アクセスの要求があったときには、外部アクセス実施信号#EX0をLレベル(アクティブ)に設定する。そして、第3〜第5のサイクルに示すように、第1のブロックコントローラ40Aは、外部アクセス実施信号#EX0を一旦Lレベル(アクティブ)に設定した後には、後続のサイクルで用いられるアドレスA0〜A19のうち、行アドレスA8〜A19が変化するまでLレベル(アクティブ)のまま保持する。
【0082】
図10は、図9に示すオペレーションサイクルにおける各ブロックコントローラ40A〜40Dの動作を示すタイミングチャートである。図10(a)〜(e)は、図9(a)〜(e)と同じである。また、リフレッシュ要求が無い場合を仮定しているので、リフレッシュタイミング信号RFTM(図10(j))は、図9(k)と同じである。したがって、各ブロックコントローラ40A〜40Dに入力されるリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3(図10(k)〜(n))と、各ブロックコントローラ40A〜40Dから出力されるリフレッシュ実施信号#RF0〜#RF3(図10(o)〜(r))とは、それぞれ図9(l),(m)と同じ信号レベルとなっている。
【0083】
図10(f)〜(i)は、各ブロックコントローラ40A〜40Dから出力される外部アクセス実施信号#EX0〜#EX3を示しており、図10(f)は図9(j)と同じである。
【0084】
図示するように、第2のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が第2のブロック20Bを示す”1”に変化しており、第2のブロック20Bに対する外部アクセスが要求されている。したがって、第2のブロックコントローラ40Bは、外部アクセス実施信号#EX1(図10(g))をLレベル(アクティブ)に設定する。また、第2のサイクルで用いられる行アドレスA8〜A19の値”p”は、第5のサイクルまで”p”のまま変化していないので、第2のブロックコントローラ40Bは、時刻t2から始まる4つのサイクルで外部アクセス実施信号#EX1をLレベル(アクティブ)のまま保持している。なお、第3,第5のサイクルでは、外部アクセス実施信号#EX1はLレベル(アクティブ)で保持されているが、第2のブロック20Bに対して外部アクセスは要求されていない。
【0085】
また、第7のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が第3のブロック20Cを示す”2”に変化しているので、第3のブロックコントローラ40Cは、外部アクセス実施信号#EX2(図10(h))をLレベル(アクティブ)に設定している。
【0086】
図10の第2〜第6のサイクルに示すように、ブロックコントローラ40A〜40Dは、すでに1つの外部アクセス信号がLレベル(アクティブ)に設定されている場合(図10(g))にも、他の外部アクセス実施信号をLレベル(アクティブ)に設定することができる(図10(f))。そして、各外部アクセス実施信号は一旦Lレベル(アクティブ)に設定されると、後続のサイクルで用いられるアドレスA0〜A19のうち、行アドレスA8〜A19が変化するまでLレベル(アクティブ)のまま保持される。
【0087】
なお、仮に、図10の第4のサイクルで、第3のブロック20Cに対する外部アクセス要求がある場合には、第3の外部アクセス実施信号#EX3もLレベル(アクティブ)に設定され、行アドレスA8〜A19が変化するまでLレベル(アクティブ)のまま保持される。
【0088】
図11は、図10に示すオペレーションサイクルにおけるワード線の状態を示すタイミングチャートである。図11(a)〜(e)は図10(a)〜(e)と同じであり、図11(f)〜(i)は図10(f)〜(i)と同じであり、図11(j)〜(m)は図10(o)〜(r)と同じである。
【0089】
図11(n)〜(q)は、各ブロック20A〜20D(図4)のサブアレイ22A〜22D内のワード線WLの状態を示している。なお、各サブアレイ内には、複数本のワード線が含まれているが、1つのサブアレイ内では2本以上のワード線は同時に活性化されない。例えば、図11(n)では、サブアレイ22A内で順次活性化される異なるワード線が同じタイミングチャート上に描かれている。Hレベルに立ち上がっているワード線WLp,WLq,WLrは、活性化された異なるワード線をそれぞれ示している。
【0090】
図12は、図11の各オペレーションサイクルにおける各サブアレイ22A〜22D内の活性化されたワード線を模式的に示す説明図である。図12(A)〜(G)は、それぞれ図11の時刻t1〜t7から始まる第1〜第7のオペレーションサイクルにおける各サブアレイ22A〜22D内の様子を示している。なお、サブアレイ22A〜22D内の活性化されたワード線は横線で描かれている。また、サブアレイ22A〜22D内に描かれた縦線はビット線対を示しており、ワード線とビット線対との双方が描かれたサブアレイでは、ワード線とビット線対で選択された1ワード分のメモリセル(○印の部分)に対して外部アクセスが実施される。
【0091】
第1のサイクルでは、図11(f)〜(i)に示すように、第1の外部アクセス実施信号#EX0のみがLレベル(アクティブ)に設定されている。したがって、第1のサイクルでは、図11(n)〜(p),図12(A)に示すように、第1のサブアレイ22A内の行アドレスA8〜A19(図11(e))によって選択された”p”番目のワード線WLpのみが活性化され、他のサブアレイ22B〜22D内のワード線はいずれも活性化されない。なお、第1のサイクルでは、第1のブロック20Aに対して外部アクセスが要求されているので(図11(d))、第1のサブアレイ22A内のメモリセルに対して外部アクセスが実施される(図12(A))。
【0092】
第2のサイクルでは、第2の外部アクセス実施信号#EX1のみがLレベル(アクティブ)に設定されている。したがって、第2のサイクルでは、図11(n)〜(p),図12(B)に示すように、第1のサブアレイ22A内の”p”番目のワード線WLpが非活性化され、第2のサブアレイ22Bの”q”番目のワード線WLqのみが活性化される。なお、第2のサイクルでは、第2のブロック20Bに対して外部アクセスが要求されているので、第2のサブアレイ22B内のメモリセルに対して外部アクセスが実施される(図12(B))。
【0093】
第3のサイクルでは、第2の外部アクセス実施信号#EX1がLレベル(アクティブ)に設定されたまま、第1の外部アクセス実施信号#EX0もLレベル(アクティブ)に設定される。したがって、第3のサイクルでは、図11(n)〜(p),図12(C)に示すように、第2のサブアレイ22B内の”q”番目のワード線WLqが活性化されたまま、第1のサブアレイ22A内の”q”番目のワード線WLqが活性化される。なお、第3のサイクルでは、第1のブロック20Aに対して外部アクセスが要求されているので、第1のサブアレイ22A内のメモリセルに対しては外部アクセスが実施されるが、第2のサブアレイ22B内のメモリセルに対しては外部アクセスは実施されない(図12(C))。
【0094】
第4,第5のサイクルでは、2つの外部アクセス実施信号#EX0,#EX1が共にLレベル(アクティブ)に設定されたままである。したがって、第4,第5のサイクルでは、図11(n)〜(p),図12(D),(E)に示すように、2つのサブアレイ22A,22B内の”q”番目のワード線WLqが双方活性化されたままとなっている。ただし、第4のサイクルでは、第2のサブアレイ22B内のメモリセルに対してのみ外部アクセスが実施され(図12(D))、第5のサイクルでは、第1のサブアレイ22A内のメモリセルに対してのみ外部アクセスが実行される(図12(E))。
【0095】
第6のサイクルでは、第1の外部アクセス実施信号#EX0のみがLレベル(アクティブ)に設定されている。したがって、第6のサイクルでは、図11(n)〜(p),図12(F)に示すように、2つのサブアレイ22A,22B内の”q”番目のワード線WLqが非活性化され、第1のサブアレイ22A内の”r”番目のワード線WLrのみが活性化される。なお、第6のサイクルでは、第1のサブアレイ22A内のメモリセルに対して外部アクセスが実施される(図12(F))。
【0096】
第7のサイクルでは、第4のサイクルと同様に、第1の外部アクセス実施信号#EX0に加えて、第3の外部アクセス実施信号#EX2もLレベル(アクティブ)に設定されている。したがって、第7のサイクルでは、図11(n)〜(p),図12(G)に示すように、第1のサブアレイ22A内の”r”番目のワード線WLrが活性化されたまま、第3のサブアレイ22C内の”r”番目のワード線WLrが活性化される。なお、第7のサイクルでは、第3のサブアレイ22C内のメモリセルに対してのみ外部アクセスが実行される(図12(G))。
【0097】
図9〜図12で説明したように、各ブロックコントローラ40A〜40Dは、あるブロックに対する外部アクセスが要求されると、そのブロックに対応する外部アクセス実施信号をアクティブに設定する。このとき、そのブロック内の行アドレスで選択されたワード線が活性化されて、活性化されたワード線上のメモリセルに対して外部アクセスが実施される。そして、各ブロックコントローラ40A〜40Dは、一旦、アクティブ(Lレベル)に設定した外部アクセス実施信号を、後続のサイクルで用いられるアドレスA0〜A19のうちの行アドレスA8〜A19が変化するまで保持する。このとき、ワード線は活性化した状態で保持され、そのブロックに対する外部アクセスが再度要求されたサイクルでは、すでに活性化されたワード線上のメモリセルに対して外部アクセスが実施される。このようにすれば、ワード線の活性化および非活性化をサイクル毎に繰り返さなくて済むので、電流の消費をかなり低減させることが可能となる。
【0098】
このように、本実施例におけるワード線活性化制御部は、同じ行アドレスを含むアドレスを用いるオペレーションサイクルが連続する場合に、最初のサイクルにおいて活性化された第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく最終のサイクルまで活性化した状態で保持することができる。
【0099】
また、これと同時に、ワード線活性化制御部は、最初のサイクルより後で最終のサイクル以前のサイクルにおいて活性化された第2のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく最終のサイクルまで活性化した状態で保持することも可能である。このようにして、2以上のブロックにおいて、ワード線を同時に活性化した状態で保持する場合には、活性化されたワード線上のメモリセルに対して外部アクセスが実施される頻度を高めることができ、この結果、ワード線の活性化に伴う消費電流をかなり低減することが可能となる。
【0100】
なお、本実施例においては、行アドレスは、20ビットで構成されるアドレスのうちの最も上位にある複数のビットに割り当てられているので、行アドレスが比較的変化しにくくなる。このようにすれば、ワード線が活性化した状態で保持される頻度を高めることができるので、ワード線の活性化に伴う消費電流をさらに低減することが可能となる。
【0101】
D2.オペレーションサイクルにおける動作(リフレッシュ要求がある場合):
図13は、オペレーションサイクルにおいてリフレッシュ要求があった場合の第1のブロックコントローラ40A(図6)の動作を示すタイミングチャートであり、図9に対応する図である。図13は、図9の7つの連続するオペレーションサイクル期間中に、リフレッシュ要求があった場合の動作を示している。なお、図13(a)〜(h)は、図9(a)〜(h)と同じである。
【0102】
図13(k)に示すように、第2のサイクル期間中に、リフレッシュタイミング信号RFTMがHレベルに立ち上がっている。リフレッシュ要求信号発生回路50A(図6)は、ATD信号(図13(a))の次の立ち上がりエッジ(時刻t3)に同期して、リフレッシュ要求信号RFREQ0(図13(l))をHレベルに設定し、第1のブロック20Aに対してリフレッシュを要求する。なお、前述のように、リフレッシュ要求信号RFREQ0は、第1のブロック20Aにおいてリフレッシュが終了するまでHレベルに保たれる。
【0103】
第3のサイクルでは、リフレッシュ要求信号RFREQ0がHレベルに設定されており、第1のブロック20Aに対してリフレッシュが要求されているが、ブロックアドレスA0〜A1の値が”0”となっており、第1のブロック20Aに対する外部アクセスが要求されている。このとき、外部アクセス実施信号#EX0(図13(j))はLレベル(アクティブ)に設定され、第1のブロック20Aでは外部アクセスが優先して実施される。
【0104】
第4のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が”1”に変化しており、第1のブロック20Aに対して外部アクセスは要求されていない。また、第4のサイクルにおいて、リフレッシュ要求信号RFREQ0はHレベルに保持されており、第1のブロック20Aに対するリフレッシュが要求されている。このとき、図7のリセット信号生成回路430内のANDゲート432の出力はHレベルとなるので、リセット信号生成回路430からは、パルス信号Q430(図13(i))が出力される。そして、RSラッチ410およびインバータ411は、パルス信号Q430に応じて外部アクセス実施信号#EX0をHレベル(非アクティブ)に設定する。
【0105】
また、第4のサイクルでは、第1のブロック20Aに対する外部アクセスの要求が無く、かつ、リフレッシュの要求があるので、図6のリフレッシュ実施信号発生回路44は、リフレッシュ実施信号#RF0(図13(m))をLレベル(アクティブ)に設定する。
【0106】
なお、このとき、図8の第1の行プリデコーダ30Aは、リフレッシュアドレスRFA8〜RFA19を選択して第1の行デコーダ24Aに供給する。したがって、第1のブロック20Aでは、リフレッシュアドレスRFA8〜RFA19(図13(o))によって選択された”n”番目のワード線が活性化され、そのワード線上のすべてのメモリセルについてリフレッシュが実施される。
【0107】
第4のサイクルにおいて、リフレッシュ動作を行うために十分な時間が経過すると、リフレッシュ実施信号発生回路44は、リフレッシュ実施信号#RF0をHレベル(非アクティブ)に立ち上げる。リセット信号発生回路46は、リフレッシュ実施信号#RF0の立ち上がりエッジに応じて短パルス状のリセット信号RST0(図13(n))を発生する。そして、リフレッシュ要求信号発生回路50A(図6)は、リセット信号RST0に応じて、リフレッシュ要求信号RFREQをLレベルに戻す。これにより、第1のブロック20Aに関するリフレッシュ動作が完了する。
【0108】
なお、第5のサイクルでは、ブロックアドレスA0〜A1の値が”0”に変化しているので、外部アクセス実施信号#EX0は再度Lレベル(アクティブ)に設定される。
【0109】
図13と図9とを比較して分かるように、第1のブロックコントローラ40Aは、外部アクセスの要求がなく、かつ、リフレッシュ要求がある場合には、行アドレスA8〜A19が変化しなくても、外部アクセス実施信号#EX0をHレベル(非アクティブ)に設定する。
【0110】
図14は、図13に示すオペレーションサイクルにおける各ブロックコントローラ40A〜40Dの動作を示すタイミングチャートであり、図10に対応する図である。図14(a)〜(e)は、図13(a)〜(e)と同じである。図14(j)のリフレッシュタイミング信号RFTMは図13(k)と同じであり、第1のブロックコントローラ40Aに関する各信号#EX0(図14(f)),RFREQ0(図14(k)),#RF0(図14(o))は、図13(j),(l),(m)と同じである。
【0111】
リフレッシュタイミング信号RFTM(図14(j))が第2のサイクル期間中にHレベルに立ち上がると、第3のサイクルにおいて、すべてのリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3(図14(k)〜(n))がHレベルに設定され、各ブロック20A〜20Dに対するリフレッシュが要求される。
【0112】
第3のサイクルでは、第1のブロック20Aに対して外部アクセスが要求されているので、図13で説明したように、第1のブロック20Aでは外部アクセスが優先して実施される。一方、他の3つのブロック20B〜20Dに対して外部アクセスは要求されていないので、3つのブロック20B〜20Dではリフレッシュが実施される。すなわち、第3のサイクルでは、3つの外部アクセス実施信号#EX1〜#EX3(図14(g)〜(i))がHレベル(非アクティブ)に設定されるとともに、3つのリフレッシュ実施信号#RF1〜#RF3(図14(p)〜(r))がLレベル(アクティブ)に設定される。なお、第3のサイクルでは、3つのブロック20B〜20D内のリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19(図14(t))によって選択された”n”番目のワード線が活性化され、そのワード線上のすべてのメモリセルについてリフレッシュが実施される。この後、リフレッシュ実施信号#RF1〜#RF3がHレベルに立ち上がると、リフレッシュ要求信号RFREQ1〜RFREQ3がLレベルに戻り、3つのブロック20B〜20Dに関するリフレッシュ動作が完了する。
【0113】
なお、第4のサイクルでは、第2のブロック20Bに対する外部アクセスが要求されているので、第2の外部アクセス実施信号#EX1(図14(g))が再度Lレベル(アクティブ)に設定される。
【0114】
ところで、図13,図14で説明したように、各ブロック20A〜20Dにおけるリフレッシュは、同じリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19(図14(t))に従って実施されている。すなわち、リフレッシュアドレスRFA8〜RFA19の値”n”によって各ブロック20A〜20D内のn番目のワード線が活性化され、n番目のワード線上のすべてのメモリセルがリフレッシュされる。なお、第1のブロック20Aにおけるリフレッシュは第4のサイクルで実施され、他のブロック20B〜20Dにおけるリフレッシュは第3のサイクルで実施されており、各ブロックにおけるリフレッシュは、それぞれ1つのサイクル期間中に実施される。
【0115】
各ブロック20A〜20Dにおけるリフレッシュ動作が完了すると、リフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3(図14(k)〜(n))がそれぞれLレベルに戻る。図4のリフレッシュカウンタコントローラ90は、すべてのリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3がLレベルに戻ると、カウントアップ信号#CNTUP(図14(s))を発生する。
【0116】
図15は、図4のリフレッシュカウンタコントローラ90の内部構成を示すブロック図である。このコントローラ90は、4入力NORゲート92と、NANDゲート94と、遅延回路96と、インバータ98とを備えている。4入力NORゲート92には、4つのリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3が入力されている。4入力NORゲート92の出力Q92は、NANDゲート94の一方の入力端子に入力されている。出力Q92は、さらに、遅延回路96で遅延され、インバータ98で反転された後に、NANDゲート94の他方の入力端子に入力されている。この構成から理解できるように、NANDゲート94から出力されるカウントアップ信号#CNTUPは、4つのリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3が共にLレベルに立ち下がった後に、遅延回路96における遅延時間だけLレベルとなるようなパルス信号となる(図14(s))。
【0117】
リフレッシュカウンタ100(図4)は、このカウントアップ信号#CNTUPに応じて、リフレッシュアドレスRFA8〜RFA19(図14(t))の値を1つカウントアップする。従って、次のリフレッシュ動作は、”n+1”番目のワード線に関して行われる。
【0118】
図16は、図14に示すオペレーションサイクルにおけるワード線の状態を示すタイミングチャートであり、図11に対応する図である。図16(a)〜(e)は図14(a)〜(e)と同じであり、図16(f)〜(i)は図14(f)〜(i)と同じであり、図16(j)〜(m)は図14(o)〜(r)と同じである。また、図16(r)は図14(t)と同じである。
【0119】
図16(n)〜(q)は、各ブロック20A〜20D(図4)のサブアレイ22A〜22D内のワード線WLの状態を示している。
【0120】
図17は、図16の各オペレーションサイクルにおける各サブアレイ22A〜22D内の活性化されたワード線を模式的に示す説明図であり、図12に対応する図である。なお、図17は、図12とほぼ同じであり、サブアレイ22A〜22Dの右上に「*」が付されたもののみが異なっている。また、サブアレイ22A〜22D内に破線で描かれた横線は、リフレッシュを実施する際に活性化されたワード線を示している。
【0121】
第3のサイクルでは、図16(f)〜(i)に示すように、第1の外部アクセス実施信号#EX0のみがLレベル(アクティブ)に設定されている。また、図16(j)〜(m)に示すように、第2ないし第4のリフレッシュ実施信号#RF1〜#RF3がLレベル(アクティブ)に設定されている。したがって、第3のサイクルでは、図16(n)〜(q),図17(C)に示すように、第1のサブアレイ22A内の行アドレスA8〜A19(図16(e))によって選択される”q”番目のワード線WLqが活性化されるとともに、他のサブアレイ22B〜22D内のリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19(図16(r))によって選択される”n”番目のワード線WLnが活性化される。このとき、図16(o)と図11(o)とを比較して分かるように、第2のサブアレイ22B内では、”q”番目のワード線WLqが一旦非活性化された後に、”n”番目のワード線WLnが活性化される。
【0122】
なお、第3のサイクルでは、第1のサブアレイ22A内のメモリセルに対してのみ外部アクセスが実施され、第2ないし第4のサブアレイ22B〜22D内の”n”番目のワード線WLn上のすべてのメモリセルについてリフレッシュが実施される(図17(C))。
【0123】
第4のサイクルでは、第2の外部アクセス実施信号#EX1のみがLレベル(アクティブ)に設定されている。また、第1のリフレッシュ実施信号#RF0(図16(o))のみがLレベル(アクティブ)に設定されている。したがって、第4のサイクルでは、図16(n)〜(q),図17(D)に示すように、第2のサブアレイ22B内の”q”番目のワード線WLqが再度活性化されるとともに、第1のサブアレイ22A内のリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19によって選択される”n”番目のワード線WLnが活性化される。
【0124】
なお、第4のサイクルでは、第2のサブアレイ22B内のメモリセルに対してのみ外部アクセスが実施され、第1のサブアレイ22A内の”n”番目のワード線WLn上のすべてのメモリセルについてリフレッシュが実施される(図17(D))。
【0125】
このようにして、4つのブロック20A〜20Dのサブアレイ22A〜22D内において、同じリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19で指定される”n”番目のワード線上のすべてのメモリセルがリフレッシュされる。
【0126】
図13〜図17で説明したように、各ブロックコントローラ40A〜40Dは、リフレッシュが要求されると、外部アクセスが要求されている1つのブロック以外の他のブロックに対応するリフレッシュ実施信号をアクティブに設定する。このとき、他のブロック内では、活性化状態で保持されているワード線が非活性化される。その後、リフレッシュアドレスで選択されたワード線が活性化されて、そのワード線上のすべてのメモリセルに対してリフレッシュが実施される。
【0127】
そして、外部アクセスが実施される1つのブロックに関しては、そのブロックに対する外部アクセス要求が無くなった後に、リフレッシュ実施信号がアクティブに設定される。このとき、その1つのブロック内の活性化状態のワード線が非活性化される。この後、リフレッシュアドレスで選択されたワード線が活性化されて、その活性化されたワード線上のすべてのメモリセルに対してリフレッシュが実施される。
【0128】
このように、本実施例におけるワード線活性化制御部は、同じ行アドレスを含むアドレスを用いるオペレーションサイクルが連続する場合に、最初のサイクルにおいて活性化された第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく最終のサイクルまで活性化した状態で保持することができる。そして、ワード線活性化制御部は、最初のサイクルより後で最終のサイクル以前のサイクルにおいてリフレッシュが実行される場合には、活性化状態のワード線を、リフレッシュが実行される前に非活性化させることができる。このようにすれば、半導体メモリ装置においてリフレッシュを実行することができるとともに、また、リフレッシュが実行されない期間では、サイクル毎にワード線の活性化および非活性化を繰り返す必要がないため、ワード線の活性化に伴う消費電流を低減することが可能となる。
【0129】
また、これと同時に、ワード線活性化制御部は、最初のサイクルより後で最終のサイクル以前のサイクルにおいて活性化された第2のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく最終のサイクルまで活性化した状態で保持することも可能である。そして、ワード線活性化制御部は、最初のサイクルより後で最終のサイクル以前のサイクルにおいてリフレッシュが実行される場合には、第1のメモリセルブロック内の活性化状態のワード線を、第1のメモリセルブロックにおけるリフレッシュが実行される前に非活性化させる。また、第2のメモリセルブロック内に活性化状態のワード線が含まれる場合には、第2のメモリセルブロック内の活性化状態のワード線を、第2のメモリセルブロックにおけるリフレッシュが実行される前に非活性化させることができる。
【0130】
このように、ワード線活性化制御部は、2以上のメモリセルブロックの中のワード線を同時に活性化した状態で保持することができ、リフレッシュが必要となったときには、各メモリセルブロックにおいてリフレッシュが実行される前に、各メモリセルブロック内の活性化状態のワード線を活性化することができる。
【0131】
D3.スタンバイサイクルおよびスヌーズ状態における動作:
オペレーションサイクルでは、図9〜図17で説明したように、外部アクセスとともにリフレッシュが実施されるが、スタンバイサイクルとスヌーズ状態では、外部アクセスは実施されず、リフレッシュのみが実施される。
【0132】
図18は、スタンバイサイクルにおける各ブロックコントローラ40A〜40Dのリフレッシュ動作を示すタイミングチャートである。スタンバイサイクルでは、チップセレクト信号#CS(図18(b))がHレベル(非アクティブ)となり、かつ、スヌーズ信号ZZ(図18(c))がHレベルとなる。
【0133】
時刻t11においてリフレッシュタイミング信号RFTM(図18(j))が立ち上がる。その後、アドレスA0〜A19(図18(d))が変化して、ATD信号のパルスが発生する(図18(a))。なお、スタンバイサイクルにおいては、原則としてアドレスA0〜A19が変化する必要は無い。しかし、図2で説明したように、本実施例のスタンバイサイクルでは、ATD信号に同期してリフレッシュを実行する第1のリフレッシュモードが採用されている。そこで、外部装置は、スタンバイサイクルの期間中において、少なくとも1つのアドレスビット(例えばA0)を定期的に変化させて内部リフレッシュを実行させる。このようなアドレスビットの変化の周期は、リフレッシュタイミング信号RFTMで規定されるリフレッシュ周期の1/2以下であることが好ましい。この理由は、リフレッシュ周期の1/2以下の期間毎にアドレスビットが変化すれば、リフレッシュタイミング信号RFTMがHレベルの期間において必ずATD信号が発生するからである。
【0134】
リフレッシュタイミング信号RFTMが立ち上がると、ATD信号(図18(a))の次の立ち上がりエッジ(時刻t12)に同期して、各ブロック20A〜20Dに対するリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3(図18(k)〜(n))がHレベルに立ち上がる。スタンバイサイクルでは、外部アクセスは行われないので、4つのブロック20A〜20Dに対する外部アクセス要求信号#EX0〜#EX3(図18(f)〜(i))はHレベル(非アクティブ)に保持され、リフレッシュ実施信号#RF0〜3(図18(o)〜(r))はLレベル(アクティブ)に設定される。この結果、4つのブロック20A〜20Dにおいて、同じリフレッシュアドレスRFA8〜RFA19(図18(t))で指定される”n”番目のワード線上のすべてのメモリセルがリフレッシュされる。
【0135】
4つのブロック20A〜20Dにおけるリフレッシュ動作がすべて完了すると、4つのリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3(図18(k)〜(n))がLレベルに戻る。リフレッシュカウンタコントローラ90(図4)は、これらのリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3のレベル変化に応じて、カウントアップ信号#CNTUP(図18(s))を発生する。
【0136】
このように、スタンバイサイクルでは、いずれのブロック20A〜20Dに対しても外部アクセスが無いので、4つのブロック20A〜20Dにおいて同時にリフレッシュ動作が実行される。
【0137】
図19は、スヌーズ状態における各ブロックコントローラ40A〜40Dのリフレッシュ動作を示すタイミングチャートである。スヌーズ状態では、チップセレクト信号#CS(図19(b))がHレベル(非アクティブ)となり、かつ、スヌーズ信号ZZ(図19(c))がLレベルとなる。なお、スヌーズ状態では、ATD信号(図19(a))は発生しない。
【0138】
時刻t21においてリフレッシュタイミング信号RFTM(図19(j))が立ち上がると、直ちに4つのブロック20A〜20Dに対するリフレッシュ要求信号RFREQ0〜RFREQ3(図19(k)〜(n))がHレベルに立ち上がる。スヌーズ状態では外部アクセスは行われないので、4つのブロック20A〜20Dに対する外部アクセス実施信号#EX0〜#EX3(図19(f)〜(i))はHレベル(非アクティブ)に保持され、リフレッシュ実施信号#RF0〜#RF3(図19(o)〜(r))はLレベル(アクティブ)に立ち下がる。この結果、4つのブロック20A〜20Dにおいて、同じn番目のワード線上のすべてのメモリセルがリフレッシュされる。その後の動作は、図18に示したスタンバイサイクルのものと同じである。
【0139】
以上のように、オペレーションサイクルやスタンバイサイクルにおいては、リフレッシュタイミング信号RFTMによってリフレッシュ動作をすべきことが通知されると、ATD信号に同期してリフレッシュ要求信号RFREQ0が発生し、これに応じてリフレッシュ動作が開始される(図2の第1のリフレッシュモード)。一方、スヌーズ状態では、リフレッシュ動作の開始タイミングはATD信号に同期しておらず、リフレッシュタイミング信号RFTMによってリフレッシュ動作の開始時期が示されると、直ちに4つのブロック20A〜20Dにおいて同時にリフレッシュ動作が実行される(図2の第2のリフレッシュモード)。
【0140】
なお、図18に示すように、本実施例のスタンバイサイクルでは、第1のリフレッシュモードに従ってリフレッシュ動作を行っているが、これに代えて、第2のリフレッシュモードに従ってリフレッシュ動作を行うようにしてもよい。こうすれば、スタンバイサイクルの期間中において、アドレスを定期的に変化させてATD信号を発生させる必要がなくなるという利点がある。
【0141】
E.電子機器への適用例:
図20は、本発明による半導体メモリ装置を利用した電子機器の一実施例としての携帯電話機の斜視図である。この携帯電話機600は、本体部610と、蓋部620とを備えている。本体部610には、キーボード612と、液晶表示部614と、受話部616と、本体アンテナ部618とが設けられている。また、蓋部620には、送話部622が設けられている。
【0142】
図21は、図20の携帯電話機600の電気的構成を示すブロック図である。CPU630には、バスラインを介して、キーボード612と、液晶表示部614を駆動するためのLCDドライバ632と、SRAM640と、VSRAM642と、EEPROM644とが接続されている。
【0143】
SRAM640は、例えば高速なキャッシュメモリとして利用される。また、VSRAM642は、例えば画像処理用の作業メモリとして利用される。このVSRAM642(擬似SRAMあるいは仮想SRAMと呼ばれる)としては、上述したメモリチップ300を採用することができる。EEPROM644は、携帯電話機600の各種の設定値を格納するために利用される。
【0144】
携帯電話機600の動作を一時的に停止させるときには、VSRAM642をスヌーズ状態に維持しておくことができる。こうすれば、VSRAM642が内部リフレッシュを自動的に行うので、VSRAM642内のデータを消失させずに保持しておくことが可能である。特に、本実施例のメモリチップ300は比較的大容量なので、画像データなどの大量のデータを長時間保持し続けることができるという利点がある。
【0145】
なお、この発明は上記の実施例や実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば次のような変形も可能である。
【0146】
(1)上記実施例では、ATD回路(図4)が設けられており、ATD信号をブロックコントローラ40A〜40Dなどのクロック信号として用いているが、これに代えて、外部装置からクロック信号を供給するようにしてもよい。
【0147】
(2)上記実施例では、メモリセルアレイ20は4つのブロック20A〜20Dに区分されているが、メモリセルアレイ20は1つのブロックとして扱われてもよい。この場合には、ワード線活性化制御部は、図4においてブロック毎に設けられている行プリデコーダ30A〜30Dと、ブロックコントローラ40A〜40Dと、リフレッシュ要求信号発生回路50A〜50Dとを、1つずつ備えていればよい。なお、この場合には、アドレスは、ブロックアドレスを含まず、行アドレスおよび列アドレスを含むこととなる。
【0148】
このように、メモリセルアレイ20が1つのブロックとして扱われる場合には、ワード線活性化制御部は、外部アクセスが要求されたときに、そのブロック内の行アドレスで選択されたワード線を活性化し、活性化したワード線を後続のサイクルで用いられるアドレスのうちの行アドレスが変化するまで保持すればよい。なお、同じ行アドレスを含むアドレスが用いられる後続のサイクルにおいて、異なる列アドレスが用いられる場合には、すでに活性化されたワード線上の異なるメモリセルに対して外部アクセスが実施される。
【0149】
一般に、ワード線活性化制御部は、同じ行アドレスを含むアドレスを用いるオペレーションサイクルが連続する場合に、その連続するサイクルのうちの最初のサイクルにおいて活性化されたワード線を、非活性化することなく最終のサイクルまで活性化した状態で保持するように構成されていればよい。
【0150】
なお、上記のように、メモリセルアレイ20が1つのブロックとして扱われる場合には、リフレッシュは、外部アクセスが実施されない期間中に実施される必要がある。しかしながら、上記実施例のように、メモリセルアレイを複数のブロックに区分すれば、1つのブロックにおいて外部アクセスが実施される期間中に、他のブロックにおいてリフレッシュを実施することが可能となり(リフレッシュの透過性)、この結果、データの読み出しまたは書き込みを比較的高速に行うことが可能となる。
【0151】
(3)上記実施例のメモリチップ300は、所定期間内にリフレッシュが必要なダイナミック型のメモリセルを用いているが、これに代えて、リフレッシュの不要なメモリセルを用いるようにしてもよい。このようなメモリセルとしては、例えば、強誘電体メモリを用いることが可能である。なお、強誘電体メモリでは、キャパシタの材料として、SBT(タンタル酸ビスマスストロンチウム)やPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)などの強誘電体が用いられている。
【0152】
なお、上記のように、リフレッシュの不要なメモリセルを用いる場合には、ワード線活性化制御部内のリフレッシュに関する回路を省略することができる。具体的には、図4のリフレッシュタイマ70と、リフレッシュカウンタコントローラ90と、リフレッシュカウンタ100と、リフレッシュ要求信号発生回路50A〜50Dとを省略できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例としてのメモリチップ300の端子の構成を示す説明図である。
【図2】チップセレクト信号#CSとスヌーズ信号ZZの信号レベルに応じたメモリチップ300の動作状態の区分を示す説明図である。
【図3】メモリチップ300の動作の概要を示すタイミングチャートである。
【図4】メモリチップ300の内部構成を示すブロック図である。
【図5】ATD回路110の内部構成を示すブロック図である。
【図6】図4の第1のブロックコントローラ40Aの内部構成を示すブロック図である。
【図7】図6の外部アクセス実施信号発生回路42の内部構成を示すブロック図である。
【図8】図4の第1の行プリデコーダ30Aの内部構成を示すブロック図である。
【図9】オペレーションサイクルにおける第1のブロックコントローラ40A(図6)の動作を示すタイミングチャートである。
【図10】図9に示すオペレーションサイクルにおける各ブロックコントローラ40A〜40Dの動作を示すタイミングチャートである。
【図11】図10に示すオペレーションサイクルにおけるワード線の状態を示すタイミングチャートである。
【図12】図11の各オペレーションサイクルにおける各サブアレイ22A〜22D内の活性化されたワード線を模式的に示す説明図である。
【図13】オペレーションサイクルにおいてリフレッシュ要求があった場合の第1のブロックコントローラ40A(図6)の動作を示すタイミングチャートであり、図9に対応する図である。
【図14】図13に示すオペレーションサイクルにおける各ブロックコントローラ40A〜40Dの動作を示すタイミングチャートであり、図10に対応する図である。
【図15】図4のリフレッシュカウンタコントローラ90の内部構成を示すブロック図である。
【図16】図14に示すオペレーションサイクルにおけるワード線の状態を示すタイミングチャートであり、図11に対応する図である。
【図17】図16の各オペレーションサイクルにおける各サブアレイ22A〜22D内の活性化されたワード線を模式的に示す説明図であり、図12に対応する図である。
【図18】スタンバイサイクルにおける各ブロックコントローラ40A〜40Dのリフレッシュ動作を示すタイミングチャートである。
【図19】スヌーズ状態における各ブロックコントローラ40A〜40Dのリフレッシュ動作を示すタイミングチャートである。
【図20】本発明による半導体メモリ装置を利用した電子機器の一実施例としての携帯電話機の斜視図である。
【図21】図20の携帯電話機600の電気的構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
10…データ入出力バッファ
20…メモリセルアレイ
20A〜20D…ブロック
22A〜22D…メモリサブアレイ
24A〜24D…行デコーダ
26A〜26D…列デコーダ
28A〜28D…ゲート
30A〜30D…行プリデコーダ
34,36…スイッチ&ラッチ回路
38…判定回路
40A〜40D…ブロックコントローラ
42…外部アクセス実施信号発生回路
44…リフレッシュ実施信号発生回路
46…リセット信号発生回路
50A〜50D…リフレッシュ要求信号発生回路
60…アドレスバッファ
110…ATD回路
70…リフレッシュタイマ
90…リフレッシュカウンタコントローラ
92…4入力NORゲート
94…NANDゲート
96…遅延回路
98…インバータ
100…リフレッシュカウンタ
110…アドレス遷移検出回路(ATD回路)
111…遷移検出回路
112…インバータ
113,114…パルス発生回路
115…ORゲート
118…12入力ORゲート
130…行アドレス遷移検出回路(RATD回路)
300…メモリチップ
410…RSラッチ
411…インバータ
420…セット信号生成回路
421…インバータ
422…デコーダ
423…3入力ANDゲート
424…パルス発生回路
430…リセット信号生成回路
431…インバータ
432…ANDゲート
434,438…パルス発生回路
436…3入力ORゲート
600…携帯電話機
610…本体部
612…キーボード
614…液晶表示部
616…受話部
618…本体アンテナ部
620…蓋部
622…送話部
630…CPU
632…LCDドライバ
640…SRAM
642…VSRAM
644…EEPROM

Claims (5)

  1. 半導体メモリ装置であって、
    ダイナミック型のメモリセルがマトリクス状に配列された複数のメモリセルブロックと、
    前記複数のメモリセルブロックのうちの1つを選択するためのブロックアドレスと、メモリセルブロック内の複数本のワード線のうちの1本を選択するための行アドレスと、を含むアドレスが入力されるアドレス入力部と、
    前記アドレスに従って選択されるメモリセルに対応するデータを入出力するためのデータ入出力部と、
    ワード線の活性化を制御するためのワード線活性化制御部と、
    を備え、
    前記ワード線活性化制御部は、
    前記行アドレスに変化があるか否かを検出するための行アドレス遷移検出部を備えており、
    前記ワード線活性化制御部は
    記メモリセルに対し、データの読み出しと書き込みとの少なくとも一方が可能なサイクルであって、同じ行アドレスを含むアドレスを用いる前記サイクルが連続し、前記連続するサイクルにおいて前記行アドレスの変化が前記行アドレス遷移検出部によって検出されない場合であって、
    (a)前記連続するサイクルにおいて、前記連続するサイクルのうちの最初のサイクルにおいてワード線が活性化された第1のメモリセルブロックに対してリフレッシュの実行が要求されない第1の場合には、
    前記第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記連続するサイクルのうちの最終のサイクルまで活性化した状態で保持し、
    (b)前記連続するサイクルにおいて、前記第1のメモリセルブロック内のワード線が活性化状態となっているときに、前記第1のメモリセルブロックに対してデータの読み出しと書き込みとの少なくとも一方の実行とリフレッシュの実行とが共に要求される第2の場合には、
    前記第1のメモリセルブロックに対するデータの読み出しと書き込みとの少なくとも一方を実行した後に、前記第1のメモリセルブロック内の前記活性化状態のワード線を非活性化させて前記第1のメモリセルブロックに対するリフレッシュを実行することを特徴とする半導体メモリ装置。
  2. 請求項1記載の半導体メモリ装置であって、
    前記アドレス入力部には、前記行アドレスとともに列アドレスも同時に入力され、
    前記行アドレスは、複数ビットで構成される前記アドレスのうちの最も上位にある複数のビットに割り当てられている、半導体メモリ装置。
  3. 請求項1または2記載の半導体メモリ装置であって、
    前記ワード線活性化制御部は、
    前記第1の場合には、
    (i)前記最初のサイクルにおいて活性化された前記第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記最終のサイクルまで活性化した状態で保持するとともに、
    (ii)前記最初のサイクルより後で前記最終のサイクル以前のサイクルにおいて、前記第1のメモリセルブロックとは異なる第2のメモリセルブロック内のメモリセルに対し、データの読み出しと書き込みとの少なくとも一方を実行した場合に、
    前記最初のサイクルより後で前記最終のサイクル以前の前記サイクルにおいて活性化された前記第2のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記最終のサイクルまで活性化した状態で保持する、半導体メモリ装置。
  4. ダイナミック型のメモリセルがマトリクス状に配列された複数のメモリセルブロックと、前記複数のメモリセルブロックのうちの1つを選択するためのブロックアドレスと、メモリセルブロック内の複数本のワード線のうちの1本を選択するための行アドレスと、を含むアドレスが入力されるアドレス入力部と、前記アドレスに従って選択されるメモリセルに対応するデータを入出力するためのデータ入出力部と、を備える半導体メモリ装置において、ワード線の活性化を制御するための方法であって
    記メモリセルに対し、データの読み出しと書き込みとの少なくとも一方が可能なサイクルであって、同じ行アドレスを含むアドレスを用いる前記サイクルが連続し、前記連続するサイクルにおいて前記行アドレスの変化が検出されない場合であって、
    (a)前記連続するサイクルにおいて、前記連続するサイクルのうちの最初のサイクルにおいてワード線が活性化された第1のメモリセルブロックに対してリフレッシュが要求されない第1の場合には、
    前記第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記連続するサイクルのうちの最終のサイクルまで活性化した状態で保持し、
    (b)前記連続するサイクルにおいて、前記第1のメモリセルブロック内のワード線が活性化状態となっているときに、前記第1のメモリセルブロックに対してデータの読み出しと書き込みとの少なくとも一方の実行とリフレッシュの実行とが共に要求される第2の場合には、
    前記第1のメモリセルブロックに対するデータの読み出しと書き込みとの少なくとも一方を実行した後に、前記第1のメモリセルブロック内の前記活性化状態のワード線を非活性化させて前記第1のメモリセルブロックに対するリフレッシュを実行することを特徴とするワード線の活性化制御方法。
  5. 請求項4記載のワード線の活性化制御方法であって、
    前記第1の場合には、
    (i)前記最初のサイクルにおいて活性化された前記第1のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記最終のサイクルまで活性化した状態で保持するとともに、
    (ii)前記最初のサイクルより後で前記最終のサイクル以前のサイクルにおいて、前記第1のメモリセルブロックとは異なる第2のメモリセルブロック内のメモリセルに対し、データの読み出しと書き込みとの少なくとも一方を実行した場合に、
    前記最初のサイクルより後で前記最終のサイクル以前の前記サイクルにおいて活性化された前記第2のメモリセルブロック内のワード線を、非活性化することなく前記最終のサイクルまで活性化した状態で保持する、ワード線の活性化制御方法。
JP2000328096A 2000-10-27 2000-10-27 半導体メモリ装置内のワード線の活性化 Expired - Fee Related JP3627647B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000328096A JP3627647B2 (ja) 2000-10-27 2000-10-27 半導体メモリ装置内のワード線の活性化
US09/976,108 US6525989B2 (en) 2000-10-27 2001-10-15 Activation of word lines in semiconductor memory device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000328096A JP3627647B2 (ja) 2000-10-27 2000-10-27 半導体メモリ装置内のワード線の活性化

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002133864A JP2002133864A (ja) 2002-05-10
JP3627647B2 true JP3627647B2 (ja) 2005-03-09

Family

ID=18805003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000328096A Expired - Fee Related JP3627647B2 (ja) 2000-10-27 2000-10-27 半導体メモリ装置内のワード線の活性化

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6525989B2 (ja)
JP (1) JP3627647B2 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3705113B2 (ja) * 2000-10-27 2005-10-12 セイコーエプソン株式会社 半導体メモリ装置内のワード線の活性化
US6678205B2 (en) * 2001-12-26 2004-01-13 Micron Technology, Inc. Multi-mode synchronous memory device and method of operating and testing same
KR100463606B1 (ko) * 2002-01-29 2004-12-29 주식회사 하이닉스반도체 강유전체 메모리의 구동 장치 및 방법
KR100506059B1 (ko) * 2002-12-09 2005-08-05 주식회사 하이닉스반도체 불휘발성 강유전체 메모리 장치
US6735140B1 (en) * 2002-12-19 2004-05-11 Cypress Semiconductor Corporation Method and system for performing memory operations of a memory device
KR100527569B1 (ko) * 2003-05-09 2005-11-09 주식회사 하이닉스반도체 불휘발성 강유전체 메모리 및 그 제어 장치
GB2433627B (en) * 2003-06-03 2007-11-07 Samsung Electronics Co Ltd High burst rate write data paths for integrated circuit memory devices and methods of operating same
JP4524735B2 (ja) * 2003-06-20 2010-08-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
JP4421446B2 (ja) * 2004-11-01 2010-02-24 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
KR100746626B1 (ko) * 2006-06-30 2007-08-08 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
US10720205B2 (en) * 2014-06-05 2020-07-21 Gsi Technology, Inc. Systems and methods involving multi-bank, dual-pipe memory circuitry
US10482648B2 (en) 2016-12-13 2019-11-19 Qualcomm Incorporated Scene-based foveated rendering of graphics content
US10229727B1 (en) * 2018-03-13 2019-03-12 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for controlling erasing data in ferroelectric memory cells

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5173878A (en) * 1987-11-25 1992-12-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory including address multiplexing circuitry for changing the order of supplying row and column addresses between read and write cycles
JP4008072B2 (ja) * 1997-08-21 2007-11-14 富士通株式会社 半導体記憶装置
US6028804A (en) 1998-03-09 2000-02-22 Monolithic System Technology, Inc. Method and apparatus for 1-T SRAM compatible memory

Also Published As

Publication number Publication date
US20020054523A1 (en) 2002-05-09
US6525989B2 (en) 2003-02-25
JP2002133864A (ja) 2002-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3627647B2 (ja) 半導体メモリ装置内のワード線の活性化
JPH1166843A (ja) 半導体記憶装置
JP4139734B2 (ja) 擬似スタティックメモリ装置および電子機器
JP3726660B2 (ja) 半導体メモリ装置のリフレッシュ制御
JP3705113B2 (ja) 半導体メモリ装置内のワード線の活性化
JP3531602B2 (ja) 半導体メモリ装置内のワード線の活性化
JP3726661B2 (ja) 半導体メモリ装置のリフレッシュ制御
JP2003132675A (ja) 半導体メモリ装置
JP3832218B2 (ja) 半導体メモリ装置のリフレッシュを考慮した制御
JP4559318B2 (ja) 同期式メモリ装置及びその動作方法並びにメモリシステム
JP2002042463A (ja) 半導体装置、そのリフレッシュ方法および電子機器
JP2004185686A (ja) 半導体記憶装置
JP3915711B2 (ja) 半導体メモリ装置
JP2004342223A (ja) 半導体メモリ装置および電子機器
JP2004342219A (ja) 半導体メモリ装置および電子機器
JP2004220697A (ja) 半導体メモリ装置のリフレッシュ制御
US7061818B2 (en) Memory and refresh method for memory
JP2004342222A (ja) 半導体メモリ装置および電子機器
JP2004227624A (ja) 半導体メモリ装置のパーシャルリフレッシュ
JP3531592B2 (ja) 半導体装置及び電子機器
KR100394587B1 (ko) 디램 셀을 이용한 에스램 호환 메모리 장치의 리프레쉬 회로
JP2002313079A (ja) 半導体メモリ装置の電源ノイズの抑制化
JP2001167574A (ja) 半導体記憶装置
JPWO2005041201A1 (ja) 半導体記憶装置及びそのリフレッシュ方法
JP2006351140A (ja) 半導体メモリ装置および電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040210

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040406

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20041116

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041129

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081217

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091217

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees