JP3616628B2 - Hivインテグラーゼ阻害活性を有する含窒素芳香族複素環化合物 - Google Patents

Hivインテグラーゼ阻害活性を有する含窒素芳香族複素環化合物 Download PDF

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Description

技術分野
本発明は、抗ウイルス作用を有する新規化合物、更に詳しくは、HIVインテグラーゼ阻害活性を有する含窒素芳香族複素環化合物及びそれを含有する医薬、特に抗HIV薬に関する。
背景技術
ウイルスのなかでも、レトロウイルスの一種であるヒト免疫不全ウイルス(Human Immunodeficiency virus,以下HIVと略す)は、後天性免疫不全症候群(Acquired immnodeficiency syndrome,以下エイズと略す)の原因となることが知られている。そのエイズの治療薬としては、これまでのところ逆転写酵素阻害剤(AZT、3TC等)とプロテアーゼ阻害剤(インディナビル等)が主流であるが、腎臓障害等の副作用や耐性ウイルスの出現等の問題が判明しており、それらとは異なる作用メカニズムを有する抗HIV薬の開発が期待されている。
また、エイズの治療においては、耐性ウイルスが容易に出現するという理由から、現在、多剤併用療法が効果的であると報告されている(Balzarini,J.et al.,Proc.Natl.Acad.Sci.USA 1996,93,p13152-13157.)。現在、抗HIV薬としては、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤の2種が臨床で使用されているが、同じ作用メカニズムを有する薬剤はしばしば交叉耐性を示し、又は付加的な効果を示すに過ぎず、異なった作用メカニズムの抗HIV薬の開発が要望されている。
最近報告されたインテグラーゼ阻害剤としては、例えば、WO99/50245、WO99/62520、WO99/62897、WO99/62513、WO00/39086、WO01/00578に記載の1,3−ジオキソブタン酸類、1,3−プロパンジオン類等がある。
なお、本発明化合物に近い構造の化合物としては、Chem.Pharm.Bull.42(3)560-569(1994)に、抗血小板剤であるベンズイミダゾール誘導体が開示されている。
また、WO98/45269、J.Med.Chem.2000,43,1533-1540には、HIVインテグラーゼ阻害作用を有する化合物として、
式:
Figure 0003616628
(式中、RB'はヒドロキシ又はアルコキシであり、Z2'はアルキレン又はアルケニレンであり、R1'は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである)で示される化合物が開示されている。
また、US 3113135には、5-ベンジル-7-アセチル-8-ヒドロキシキノリン及び5-フェニル-7-アセチル-8-ヒドロキシキノリンが開示されている。
上記の状況下、新規なインテグラーゼ阻害剤の開発が要望されていた。
発明の開示
本発明者らは鋭意、研究した結果、新規な含窒素芳香族複素環化合物、すなわち式(I):
Figure 0003616628
(式中、
Figure 0003616628
は縮合した含窒素複素環(A環は含窒素複素環;B環は炭素環又は複素環;Z4、Z5及びZ9はそれぞれ独立して炭素原子又は窒素原子);
Yはヒドロキシ、メルカプト又はアミノ;
Aは式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環)で示される基又は式:
Figure 0003616628
(式中、Xは酸素原子、硫黄原子又はNH;RBは水素又は置換基群Aから選択される基)で示される基であり;かつ、
A環、B環又はRAの少なくとも一つが、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3はそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン又は置換されていてもよいアルケニレン;Z2は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−CH(OH)−、−S−、−SO−、−SO2−、−SO2NR2−、−NR2SO2−、−O−、−NR2−、−NR2CO−、−CONR2−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−又は−CO−;R2は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール;R1は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル又は置換されていてもよいヘテロサイクル)で示される基で置換され;さらに、
A環、B環又はRAが、上記式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は前記と同意義)で示される基で置換されている位置以外の位置で1〜6個の置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい。なお、破線は結合の存在又は不存在を表わし、隣接する破線が共に結合の存在を表わす場合はない。但し、
式:
Figure 0003616628
(式中、RB'はヒドロキシ又はアルコキシであり、Z2'はアルキレン又はアルケニレンであり、R1'は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである)で示される化合物、5-ベンジル-7-アセチル-8-ヒドロキシキノリン及び5-フェニル-7-アセチル-8-ヒドロキシキノリンを除く。)で示される化合物(以下、「本発明化合物」という)、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物が、インテグラーゼの阻害活性を有することを見出した。
さらに、本発明化合物及びそれらを含有する医薬が、抗ウイルス薬、抗レトロウイルス薬、抗HIV薬、抗HTLV−1(Human T cell leukemia virus type 1:ヒトT細胞白血球ウイルス1型)薬、抗FIV(Feline immunodeficiency virus:ネコエイズウイルス)薬、抗SIV(Simian immunodeficiency virus:サルエイズウイルス)薬、特に抗HIV薬、インテグラーゼ阻害剤として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、本発明化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、それらを有効成分として含有する医薬組成物、抗ウイルス薬、抗HIV薬、インテグラーゼ阻害剤、抗HIV用合剤を提供するものであるが、これらは、抗HIV薬としてのみならず、抗AIDS薬、すなわち、エイズおよびその関連臨床的症状、例えばエイズ関連合併症(ARC)、進行性全身化リンパ節症(PGL)、カポジ肉種、カリニ肺炎、突発性血小板減少性紫斑病、エイズ関連神経学的症状、例えば、エイズ痴呆症合併症、エイズ脳症、多発性硬化症又は熱帯性不全対麻痺、並びにまた無症候患者におけるものを含めた抗HIV抗体陽性およびHIV陽性症状の治療に特に有用である。
即ち、本発明は、
(1) 式(I):
Figure 0003616628
(式中、
Figure 0003616628
は縮合した含窒素複素環(A環は含窒素複素環;B環は炭素環又は複素環;Z4、Z5及びZ9はそれぞれ独立して炭素原子又は窒素原子);
Yはヒドロキシ、メルカプト又はアミノ;
Aは式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環)で示される基又は式:
Figure 0003616628
(式中、Xは酸素原子、硫黄原子又はNH;RBは水素又は置換基群Aから選択される基)で示される基であり;かつ、
A環、B環又はRAの少なくとも一つが、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3はそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン又は置換されていてもよいアルケニレン;Z2は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−CH(OH)−、−S−、−SO−、−SO2−、−SO2NR2−、−NR2SO2−、−O−、−NR2−、−NR2CO−、−CONR2−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−又は−CO−;R2は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール;R1は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル又は置換されていてもよいヘテロサイクル)で示される基で置換され;さらに、
A環、B環又はRAが、上記式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は前記と同意義)で示される基で置換されている位置以外の位置で1〜6個の置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい。なお、破線は結合の存在又は不存在を表わし、隣接する破線が共に結合の存在を表わす場合はない。但し、
式:
Figure 0003616628
(式中、RB'はヒドロキシ又はアルコキシであり、Z2'はアルキレン又はアルケニレンであり、R1'は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである)で示される化合物、5-ベンジル-7-アセチル-8-ヒドロキシキノリン及び5-フェニル-7-アセチル-8-ヒドロキシキノリンを除く。
置換基群Aは、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、オキソ、チオキソ、アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル及び置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルからなる群。)で示される化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(2) Z9に隣接するA環上の窒素原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、他方の原子と単結合で結ばれている上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(3)
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5及びZ9は上記(1)と同意義)が縮合した含窒素芳香族複素環である上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(4)
Figure 0003616628
(式中、Z4、Z5、Z9、Y及びRAは上記(1)と同意義)のA環部分が式:
Figure 0003616628
で示されるものであり、かつB環部分が式:
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは上記(1)と同意義)で示されるものであるか、A環部分が式:
Figure 0003616628
で示されるものであり、かつB環部分が式:
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは上記(1)と同意義)で示されるものであるか、又はA環部分が式:
Figure 0003616628
であり、かつB環部分が式:
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは請求項1と同意義)で示されるものである上記(1)記載の化合物(A環、B環又はRAのいずれかは、上記(1)同様、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい)、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(5)
Figure 0003616628
(式中、Z4、Z5、Z9、Y及びRAは上記(1)と同意義)が式:
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは上記(1)と同意義;Z7は酸素原子、硫黄原子、−CH=CH−又はNH)で示されるものである上記(4)記載の化合物(A環、B環又はRAのいずれかは、上記(1)同様、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい)、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(6) 置換基群Aから選択される基が、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、オキソ、アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン、アジド、シアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル又は置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルである上記(1)〜(5)のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(7) 置換基群Aから選択される基が、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアミノ、シアノ、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル又は置換されていてもよいアリールオキシアルキルである上記(6)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(8) 式:−Z1−Z2−Z3−R1で示される基が式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1は単結合又はアルキレン;Z3は単結合;Z2は置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−S−又は−O−;R1は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいシクロアルキル)で示される基である上記(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(9) RAが式:
Figure 0003616628
(式中、C環は上記(1)と同意義)で示される基である上記(1)〜(8)のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(10) C環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子である上記(9)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(11) C環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子である上記(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(12) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は上記(1)と同意義)で示される基が式:
Figure 0003616628
で示される基である上記(9)記載の化合物(A環、B環又はC環のいずれかは、上記(1)同様、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい)、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(13) C環が式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換された上記(9)〜(12)のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(14) RAが式:
Figure 0003616628
(式中、X及びRBは上記(1)と同意義)で示される基である上記(1)〜(8)のいずれかに記載の化合物(A環、B環又はRBのいずれかは、上記(1)同様、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されており、残りの部分が置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい)、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(15) Xが酸素原子であり、RBがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいアリールである上記(14)記載の化合物(A環、B環又はRBのいずれかは、上記(1)同様、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示されるで置換されており、残りの部分が置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい)、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(16) RBが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換された上記(14)又は(15)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(17) A環又はB環が式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換された上記(1)〜(16)のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(18) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは水素又は置換基群Aから選択される基であり、Z6は=C(−R5)−又は=N−であり、R3〜R6の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(19) RBがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、ヘテロサイクル、ヘテロアリール又はアリールであり、Z6が=C(−R5)−であり、R3〜R6の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2は単結合、アルキレン又はアルケニレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りがハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、水素、ハロゲン又はアルキルである上記(18)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(20) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Z6は=C(−R5)−又は=N−であり、R3〜R10の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(21) RBがヘテロアリールであり、Z6が=C(−R5)−であり、R3〜R10の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、アルキル又はハロゲンである上記(20)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(22) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環であり、Yはヒドロキシ又はメルカプトであり、Z6は=C(−R5)−又は=N−であり、Z7は−N(−R3)−、−S−又は−O−であり、R3〜R6及びR11〜R13の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は請求項1と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(23) C環が1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、オキサゾール-2-イル、チアゾール-2-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、1,2,4-トリアゾール-3-イル、イミダゾール-2-イル又はピリミジン-2-イルであり、Z6が=C(−R5)−又は=N−であり、Z7が−N(−R3)−、−S−又は−O−であり、R3〜R6及びR11〜R13の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1は単結合又はアルキレン、Z2は単結合、アリールで置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−O−又は−NH−、Z3は単結合、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド)、置換されていてもよいヘテロアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド)又は置換されていてもよいシクロアルキル(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド)である)で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいカルバモイル(置換基としてはアルキル)、アルケニルオキシ及び/又はフタルイミド)、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、ハロゲンで置換されていてもよいアリール、アルキルで置換されていてもよいカルバモイル、アシルで置換されていてもよいアミノ又はアルキルチオである上記(22)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(24) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは水素又は置換基群Aから選択される基であり、Z10は−C(−R16)=又は−N=であり、R14〜R18の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(25) R15が式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基である上記(24)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(26) R14が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノである上記(24)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(27) RBがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、アルキル、シクロアルキル又はアリールであり、R14〜R18の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル及び/又はカルボキシ)、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル及び/又はカルボキシ)、アリール、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルである上記(24)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(28) RBがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシ及び/又は置換されていてもよいアミノ)、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ(置換基としては、アルキル及び/又はアルコキシ)であり、R14が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、R15及びR16のいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、R17が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル(置換基としては、アルキル及び/又はアルキレン))、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル(置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び/又はヘテロアリール)、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルであり、R18が水素、アルキル又はハロゲンである上記(24)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(29) RBがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシ及び/又は置換されていてもよいアミノ)、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ(置換基としては、アルキル及び/又はアルコキシ)であり、R14が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、R15が式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、R16、R17及びR18がそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル(置換基としては、アルキル及び/又はアルキレン))、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル(置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び/又はヘテロアリール)、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルである上記(24)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(30) RBがヒドロキシ又はアルコキシであり、R14が水素、アルキル、ハロゲンであり、R15及びR16のいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、R17が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルであり、R18が水素、アルキル又はハロゲンである上記(24)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(31) R17が置換されていてもよいカルバモイルである上記(24)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(32) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Z10は−C(−R16)=又は−N=であり、R19は−O−、−C(−R17)=C(−R18)−又は−CH(−R17)−CH(−R18)−であり、R7〜R10及びR14〜R18の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(33) RBがヘテロアリールであり、R7〜R10及びR14〜R18の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン又は−S−、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである上記(32)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(34) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環であり、Z10は−C(−R16)=又は−N=であり、Z11〜R18の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は請求項1と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(35) C環がピリミジン-2-イル、ピリジン-2-イル、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、チアゾール-2-イル又はイミダゾール-2-イルであり、R11〜R18の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである上記(34)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(36) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環であり、Z8は−O−、−N(−R17)−又は−S−であり;R11〜R17の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(37) C環が1,3,4-オキサジアゾール-2-イル又は1,3,4-チアジアゾール-2-イルであり、Z8が−O−であり、R11〜R17の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである上記(36)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(38) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環であり、R3、R4、R6及びR11〜R13の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(39) C環が1,3,4-オキサジアゾール-2-イルであり、R3、R4、R6及びR11〜R13の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである上記(38)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(40) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、R3〜R10の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、
(41) 上記(1)〜(40)のいずれかに記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する医薬組成物、
(42) 酵素阻害剤である上記(41)記載の医薬組成物、
(43) 核酸関連酵素阻害剤である上記(42)記載の医薬組成物、
(44) HIVインテグラーゼ阻害剤である上記(43)記載の医薬組成物、
(45) 抗HIV剤である上記(41)記載の医薬組成物、
(46) エイズ又はエイズ関連合併症の発症予防剤又は治療剤である上記(41)記載の医薬組成物、
(47) 上記(44)記載の医薬組成物に、逆転写酵素阻害剤および/又はプロテアーゼ阻害剤を組み合わせてなる抗HIV用合剤、
(48) 逆転写酵素阻害剤および/又はプロテアーゼ阻害剤の抗HIV活性を上昇させる活性を有する上記(44)記載の医薬組成物、
(49) 上記(41)記載の医薬組成物を投与することを特徴とするエイズ又はエイズ関連合併症の発症予防又は治療方法、
(50) エイズ又はエイズ関連合併症の発症予防又は治療用の医薬組成物を製造するための上記(1)〜(40)のいずれかに記載の化合物の使用、
に関する。
以下に本発明を詳しく説明する。
式(I):
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5、Z9、Y及びRAは上記(1)と同意義)で示される化合物の特徴としては、以下の点が挙げられる。
1)
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5及びZ9は上記(1)と同意義)が縮合した含窒素複素環である点、
2) A環が、Z9の隣接部位に窒素原子の環の構成原子として有する点、
3) B環が、Z9の隣接部位にYを置換基として有する点、
4) Yがヒドロキシ、メルカプト又はアミノである点、
5) B環が、Yが置換している原子の隣接部位(Z4)にRAを置換基として有する点、
6) RAが、式:
Figure 0003616628
(式中、C環は上記(1)と同意義)で示される基又は式:
Figure 0003616628
(式中、X及びRBは上記(1)と同意義)で示される基である点、
7) A環、B環又はRAが置換可能な任意の位置(但し、Z9に隣接するA環上の窒素原子、及びC環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。)のうち少なくとも一つの位置で、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されている点、
8) A環、B環、C環、RBが置換可能な任意の位置(但し、Z9に隣接するA環上の窒素原子、及びC環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。)のうち、上記式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されている位置以外の位置で1〜6個の置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい点、
が挙げられる。
式(I)で示される化合物は、以下の化合物を意味する。すなわち、式(II):
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、C環、Z4、Z5、Z9及びYは上記(1)と同意義)で示される化合物又は式(III):
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5、Z9、Y、RBは上記(1)と同意義)で示される化合物である。
なお、上記式(II)及び式(III)において、A環、B環又はRA(C環又はRB)が置換可能な任意の位置(但し、Z9に隣接するA環上の窒素原子、及びC環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。)のうち少なくとも一つの位置で、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されており、さらにA環、B環又はRA(C環又はRB)が置換可能な任意の位置(但し、Z9に隣接するA環上の窒素原子、及びC環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。)のうち、上記式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されている位置以外の位置で1〜6個の置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい。
式(II)で示される化合物のうち、特に以下の態様が好ましい。すなわち、式(II−A):
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、C環、Z4、Z5、Z9、Y、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される化合物及び式(II−B):
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、C環、Z4、Z5、Z9、Y、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される化合物が好ましい。
式(III)で示される化合物のうち、特に以下の態様が好ましい。すなわち、式(III−A):
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5、Z9、Y、X、Z1、Z2、Z3、R1及びRBは上記(1)と同意義)で示される化合物及び式(III−B):
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5、Z9、Y、X、Z1、Z2、Z3、R1及びRBは上記(1)と同意義)で示される化合物が好ましい。
式(III−A)で示される化合物のうち、RBが式:−OH(Rは置換されていてもよいアルキル)で示される基である化合物(式(III−C)で示す)が好ましい。式(III−B)で示される化合物のうち、RBが置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである化合物(式(III−D)で示す)が好ましい。
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5、Z9、Y、X、Z1、Z2、Z3、R1及びRBは上記(1)と同意義)で示される化合物が好ましい。
なお、上記式(II−A)、式(II−B)、式(III−A)、式(III−B)、式(III−C)及び式(III−D)で示される化合物において、A環、B環又はRA(C環又はRB)が置換可能な任意の位置(但し、Z9に隣接するA環上の窒素原子、及びC環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。)のうち、上記式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されている位置以外の位置で1〜6個の置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい。
式:
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5及びZ9は上記(1)と同意義)で示される環は、縮合した含窒素複素環を意味する。なお、破線は結合の存在又は不存在を表わし、隣接する破線が共に結合の存在を表わす場合はない。また、曲線で示した部分は、それぞれA環及びB環を構成する原子及び結合を意味する。構成原子としては、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が挙げられ、結合としては、単結合、二重結合が挙げられる。特に、縮合した含窒素複素環が芳香環である場合が好ましく、上記の縮合した含窒素複素環が芳香性を示すように、A環及びB環を構成する原子及び結合を選択すればよい。
なお、上記の含窒素複素環を構成するヘテロ原子(酸素原子、窒素原子、硫黄原子)の数は、1〜6個、特に1〜4個が好ましい。また、上記の含窒素複素環を構成するA環及びB環は、それぞれ4〜8員環を意味するが、特に5員環又は6員環の環が好ましい。なお、B環を構成する原子には、ヘテロ原子が含まれていなくてもよい。
縮合した含窒素複素環の好ましい態様としては、
1)縮合した含窒素複素環が、
Figure 0003616628
である場合、
2)縮合した含窒素複素環が芳香環である場合、
3)Z4、Z5及びZ9が炭素原子であり、B環が6員の芳香環であり、A環が7〜8員の非芳香環である場合、
4)Z4及びZ9が炭素原子であり、Z5が窒素原子であり、Z9とA環上の隣接窒素原子の間の結合が二重結合であり、A環が7〜8員の非芳香環である場合、
5)Z9に隣接するA環上の窒素原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている場合(以下の(S1)、(S2)に示す)、
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5及びZ9は上記(1)と同意義;Qは窒素原子に隣接する原子)、
等が挙げられる。
特にA環及びB環としては、以下のものが好ましい。
すなわち、A環部分が式:
Figure 0003616628
で示されるもの又は式:
Figure 0003616628
で示されるものであり、かつB環部分が式:
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは上記(1)と同意義)で示されるものである場合が好ましい。
また、別の態様としては、A環部分が、式:
Figure 0003616628
で示されるもの又は式:
Figure 0003616628
で示されるものであり、かつB環部分が式:
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは上記(1)と同意義)で示されるものである場合が好ましい。
また、A環部分が式:
Figure 0003616628
であり、かつB環部分が式:
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは請求項1と同意義)で示されるものである場合も好ましい。
また、Z4が窒素原子である場合としては、以下の例が挙げられる。
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは上記(1)と同意義)
また、A環及びB環の特に好ましい組合わせは、1)共に6員環の場合、2)共に5員環の場合、3)一方が5員環、他方が6員環の場合であるが、特に1)及び3)の場合が好ましい。3)の場合、さらには、A環が5員環、B環が6員環の場合が好ましい。
特に、以下の式:
Figure 0003616628
(式中、Y及びRAは上記(1)と同意義、Z7は上記(5)と同意義)で示される環の場合が好ましく、さらにZ7がNHである場合が好ましい。
すなわち、本発明化合物としては、以下の態様が好ましい。
(A−1) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは水素又は置換基群Aから選択される基であり、Z6は=C(−R5)−又は=N−であり、R3〜R6の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される化合物、
(A−2) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Z6は=C(−R5)−又は=N−であり、R3〜R10の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される化合物、
(A−3) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環であり、Yはヒドロキシ又はメルカプトであり、Z6は=C(−R5)−又は=N−であり、Z7は−N(−R3)−、−S−又は−O−であり、R3〜R6及びR11〜R13の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は請求項1と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される化合物、
(A−4) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは水素又は置換基群Aから選択される基であり、Z10は=C(−R16)=又は−N=であり、R14〜R18の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。但し、式:
Figure 0003616628
(式中、RB,はヒドロキシ又はアルコキシであり、Z2'はアルキレン又はアルケニレンであり、R1'は置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである)で示される化合物、5-ベンジル-7-アセチル-8-ヒドロキシキノリン及び5-フェニル-7-アセチル-8-ヒドロキシキノリンを除く。)で示される化合物、
(A−5) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、Z10は=C(−R16)=又は−N=であり、R19は−O−、−C(−R17)=C(−R18)−又は−CH(−R17)−CH(−R18)−であり、R7〜R10及びR14〜R18の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される化合物、
(A−6) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環であり、Z10は=C(−R16)=又は−N=であり、11〜R13の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は請求項1と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される化合物、
(A−7) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環であり、Z8は−O−、−N(−R17)−又は−S−であり;R11〜R17の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される化合物、
(A−8) 式:
Figure 0003616628
(式中、C環は含窒素芳香族複素環であり、R3、R4、R6及びR11〜R13の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される化合物、
(A−9) 式:
Figure 0003616628
(式中、RBは、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル又はヘテロサイクルであり、R3〜R10の少なくともいずれか一つは、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基であり、残りは、水素又は置換基群Aから選択される基である。)で示される上記(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
特に、(A−1)については、RBがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていもてよいアミノ、ヘテロサイクル、ヘテロアリール又はアリールであり、Z6が=C(−R5)−であり、R3〜R6の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2は単結合、アルキレン又はアルケニレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りがハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましく、
(A−2)については、RBがヘテロアリールであり、Z6が=C(−R5)−であり、R3〜R10の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、アルキル又はハロゲンである化合物が好ましく、
(A−3)については、C環が1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、オキサゾール-2-イル、チアゾール-2-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、1,2,4-トリアゾール-3-イル、イミダゾール-2-イル又はピリミジン-2-イルであり、Z6が=C(−R5)−又は=N−であり、Z7が−N(−R3)−、−S−又は−O−であり、R3〜R6及びR11〜R13の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1は単結合又はアルキレン、Z2は単結合、アリールで置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−O−又は−NH−、Z3は単結合、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド)、置換されていてもよいヘテロアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド)又は置換されていてもよいシクロアルキル(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド)である)で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいカルバモイル(置換基としてはアルキル)、アルケニルオキシ及び/又はフタルイミド)、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、ハロゲンで置換されていてもよいアリール、アルキルで置換されていてもよいカルバモイル、アシルで置換されていてもよいアミノ又はアルキルチオである化合物が好ましく、
(A−4)については、R15が式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基である化合物、
14が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノである上記(24)記載の化合物、RBがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、アルキル、シクロアルキル又はアリールであり、R14〜R18の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル及び/又はカルボキシ)、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル及び/又はカルボキシ)、アリール、ハロゲンで置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルである化合物、
Bがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシ及び/又は置換されていてもよいアミノ)、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ(置換基としては、アルキル及び/又はアルコキシ)であり、R14が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、R15及びR16のいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、R17が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル(置換基としては、アルキル及び/又はアルキレン))、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル(置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び/又はヘテロアリール)、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルであり、R18が水素、アルキル又はハロゲンである化合物、
Bがヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシ及び/又は置換されていてもよいアミノ)、置換されていもてよいアリール、置換されていもてよいヘテロアリール、シクロアルキル又は置換されていてもよいアミノ(置換基としては、アルキル及び/又はアルコキシ)であり、R14が水素、アルキル、アルケニル、ハロゲン、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ又は置換されていてもよいアミノであり、R15が式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、R16、R17及びR18がそれぞれ独立して水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル(置換基としては、アルキル及び/又はアルキレン))、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル(置換基としては、アルキル、アルキレン、アルコキシアルキル、アラルキル、アリール及び/又はヘテロアリール)、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ又はホルミルである化合物、
Bがヒドロキシ又はアルコキシであり、R14が水素、アルキル、ハロゲンであり、R15及びR16のいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、他方が水素、アルキル又はハロゲンであり、R17が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル、シアノ又はホルミルであり、R18が水素、アルキル又はハロゲンである化合物が好ましく、
(A−5)については、RBがヘテロアリールであり、R7〜R10及びR14〜R18の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましく、
(A−6)については、C環がピリミジン-2-イル、ピリジン-2-イル、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、チアゾール-2-イル又はイミダゾール-2-イルであり、R11〜R18の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましく、
(A−7)については、C環が1,3,4-オキサジアゾール-2-イル又は1,3,4-チアジアゾール-2-イルであり、Z8が−O−であり、R11〜R17の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましく、
(A−8)については、C環が1,3,4-オキサジアゾール-2-イルであり、R3、R4、R6及びR11〜R13の少なくともいずれか一つが式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3は単結合、Z2はアルキレン、R1は置換されていてもよいアリール(置換基としては、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ハロアルキル及び/又はアジド))で示される基であり、残りが水素、ハロゲン又はアルキルである化合物が好ましい。
なお、(A−4)については、R14が置換されたアルキル(置換基としては、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール)及び置換されたアルケニル(置換基としては、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール)でない場合、特に、ヒドロキシで置換されたフェニルエテニルでない場合が好ましく、特にR14が水素、アルキル又はハロゲン(特にR14が水素)である化合物が好ましい。また、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基が、R15〜R18(特にR15又はR16)のいずれかに置換した化合物が好ましい。また、R17が水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又は置換されていてもよいカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル及びシアノである場合が好ましい。
本発明化合物のA環、B環、RA、RBに置換する、式::−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基以外の置換基は、インテグラーゼ阻害活性を妨害しない置換基であればよい。すなわち、本発明は、式(I)、式(II)及び式(III)で示される化合物が式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で置換されていることが特徴であり、上記化合物においては、さらにインテグラーゼ阻害活性を妨害しない置換基が存在してもよい。このような置換基は、インテグラーゼ阻害活性の測定結果、コンピュータを利用したドラッグデザイン等を使用して、また、置換基の分子量、ファンデルワールス半径、静電的性質等を参考にして選択することができる。
このような置換基は、特に限定して解釈すべきものではないが、例示としては、以下の置換基群Aから選択される基等が挙げられる。置換基群Aは、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、オキソ、チオキソ、アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル及び置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルからなる群である。なお、本発明化合物は、置換基群Aから選択される基で、1〜5箇所置換されていてもよい。
アルキレンジオキシ、アルキレン、アルケニレン等の2価の基は、同一又は異なる原子(例えば、隣接する原子)に置換していてもよい。
A環、B環又はRAが置換可能な任意の位置(但し、Z9に隣接するA環上の窒素原子、及びC環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。)のうち、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)同意義)で示される基で置換されている位置以外の位置に置換する置換基としては、上記例示した置換基の中でも、特に、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいアルキル、アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシ、置換されていてもよいアルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルケニル、シアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル又は置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルが好ましい。さらには、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアミノ、シアノ、置換されていてもよいカルバモイル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいアラルキルが好ましい。
B上の置換基としては、上記例示した置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアラルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル又は置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニルが好ましい。さらには、ヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいヘテロサイクルが好ましい。
本発明化合物の特徴であるB環上の置換基Yとしては、ヒドロキシ、メルカプト又はアミノが挙げられる。特にヒドロキシが好ましい。
4としては、炭素原子又は窒素原子が挙げられる。特に炭素原子が好ましい。
5としては、炭素原子又は窒素原子が挙げられる。
9としては、炭素原子又は窒素原子が挙げられる。特に炭素原子が好ましい。
6としては、Z6は−C(−R5)=又は−N=が挙げられる。
7としては、酸素原子、硫黄原子、−CH=CH−又はNHが挙げられる。特にNHが好ましい。
Xとしては、酸素原子、硫黄原子又はNHが挙げられる。特に酸素原子が好ましい。
本発明化合物の特徴である式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3、及びR1は上記(1)と同意義である。)で示される基としては、例えば、式:−R1、式:−CH2−R1、式:−CH=CH−R1、式:−CH(OH)−R1、式:−S−R1、式:−SO−R1、式:−SO2−R1、式:−SO2NH−R1、式:−NHSO2−R1、式:−O−R1、式:−NH−R1、式:−NHCO−R1、式:−CONH−R1、式:−C(=O)−O−R1、式:−O−C(=O)−R1、式:−CO−R1、式:−C24−R1、式:−CH=CH−CH2−R1、式:−CH(OH)−CH2−R1、式:−S−CH2−R1、式:−SO−CH2−R1、式:−SO2−CH2−R1、式:−SO2−NH−CH2−R1、式:−NHSO2−CH2−R1、式:−O−CH2−R1、式:−NH−CH2−R1、式:−NHCO−CH2−R1、式:−CONH−CH2−R1、式:−C(=O)−O−CH2−R1、式:−O−C(=O)−CH2−R1、式:−CO−CH2−R1、式:−CH=CH−CH=CH−R1、式:−CH=CH−CH(OH)−R1、式:−CH=CH−S−R1、式:−CH=CH−SO−R1、式:−CH=CH−SO2−R1、式:−CH=CH−SO2NH−R1、式:−CH=CH−NHSO2−R1、式:−CH=CH−O−R1、式:−CH=CH−NH−R1、式:−CH=CH−NHCO−R1、式:−CH=CH−COH−R1、式:−CH=CH−C(=O)−O−R1、式:−CH=CH−O−C(=O)−R1、式:−CH=CH−CO−R1、式:−CH2−CH=CH−R1、式:−CH2−CH(OH)−R1、式:−CH2−S−R1、式:−CH2−SO−R1、式:−CH2−SO2−R1、式:−CH2−SO2NH−R1、式:−CH2−NHSO2−R1、式:−CH2−O−R1、式:−CH2−NH−R1、式:−CH2−NHCO−R1、式:−CH2−CONH−R1、式:−CH2−C(=O)−O−R1、式:−CH2−O−C(=O)−R1、式:−CH2−CO−R1、式:−CH(OH)−CH=CH−R1、式:−S−CH=CH−R1、式:−SO−CH=CH−R1、式:−SO2−CH=CH−R1、式:−SO2NH−CH=CH−R1、式:−NHSO2−CH=CH−R1、式:−O−CH=CH−R1、式:−NH−CH=CH−R1、式:−NHCO−CH=CH−R1、式:−CONH−CH=CH−R1、式:−C(=O)−O−CH=CH−R1、式:−O−C(=O)−CH=CH−R1、式:−CO−CH=CH−R1、式:−C36−R1、式:−CH2−CH=CH−CH2−R1、式:−CH2−CH(OH)−CH2−R1、式:−CH2−S−CH2−R1、式:−CH2−SO−CH2−R1、式:−CH2−SO2−CH2−R1、式:−CH2−SO2NH−CH2−R1、式:−CH2−NHSO2−CH2−R1、式:−CH2−O−CH2−R1、式:−CH2−NH−CH2−R1、式:−CH2−NHCO−CH2−R1、式:−CH2−CONH−CH2−R1、式:−CH2−C(=O)−O−CH2−R1、式:−CH2−O−C(=O)−CH2−R1、式:−CH2−CO−CH2−R1、式:−C24−CH=CH−R1、−CH2−CH=CH−CH=CH−R1、式:−CH2−CH(OH)−CH=CH−R1、式:−CH2−S−CH=CH−R1、式:−CH2−SO−CH=CH−R1、式:−CH2−SO2−CH=CH−R1、式:−CH2−SO2NH−CH=CH−R1、式:−CH2−NHSO2−CH=CH−R1、式:−CH2−O−CH=CH−R1、式:−CH2−NH−CH=CH−R1、式:−CH2−NHCO−CH=CH−R1、式:−CH2−CONH−CH=CH−R1、式:−CH2−C(OH)−O−CH=CH−R1、式:−CH2−O−C(=O)−CH=CH−R1、式:−CH2−CO−CH=CH−R1、式:−CH=CH−C24−R1、式:−CH=CH−CH=CH−CH2−R1、式:−CH=CH−CH(OH)−CH2−R1、式:−CH=CH−S−CH2−R1、式:−CH=CH−SO−CH2−R1、式:−CH=CH−SO2−CH2−R1、式:−CH=CH−SO2NH−CH2−R1、式:−CH=CH−NHSO2−CH2−R1、式:−CH=CH−O−CH2−R1、式:−CH=CH−NH−CH2−R1、式:−CH=CH−NHCO−CH2−R1、式:−CH=CH−CONH−CH2−R1、式:−CH=CH−C(=O)−O−CH2−R1、式:−CH=CH−O−C(=O)−CH2−R1又は式:−CH=CH−CO−CH2−R1(式中、R1は、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、又は置換されていてもよいヘテロサイクルである。)で示される基等が挙げられる。
特に、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3、及びR1は上記(1)と同意義である。)で示される基として好ましいのは、
1)Z1及びZ3が単結合である場合、
2)Z1及びZ3が単結合であり、Z2が単結合、−CO−、−O−、−S−、−SO2−又は低級アルキレン(特に−CH2−、−(CH22−)である場合、
3)Z1及びZ3が単結合であり、Z2が単結合、−CO−、−O−、−S−、−SO2−又は低級アルキレン(特に−CH2−、−(CH22−)であり、R1が置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールの場合、
4)Z1及びZ3が単結合であり、Z2が−SO2−、−CH2−又は−C24−であり、R1が置換されていてもよいアリール(特にフェニルが好ましい。)の場合、
5)Z1が単結合又はアルキレンであり、Z3が単結合であり、Z2が置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン又は−O−であり、R1が置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいシクロアルキルの場合、
6)Z1が単結合又はアルキレンである場合、
7)Z1が単結合である場合、
8)Z2が単結合、アルキレン、−SO2−又は−O−である場合、
9)Z2が単結合、アルキレン又は−O−である場合、
10)Z2がアルキレン又は−O−である場合、
11)Z3が単結合又はアルキレンである場合、
12)R1が置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールである場合、
13)R1が置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル又は置換されていてもよいアリールである場合、
14)R1が置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいヘテロサイクルである場合、
15)R1が置換されていてもよいアリールである場合、
16)Z1及びZ3が単結合であり、Z2がアルキレンであり、R1が置換されていてもよいアリールである場合、
17)Z1が単結合又はアルキレンであり、Z3が単結合であり、Z2が置換されていてもよいアルキレン、アルケニレン、−S−又は−O−であり、R1は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール又は置換されていてもよいシクロアルキルである場合、
が好ましい。
式:−Z1−Z2−Z3−R1で示される基の好ましい具体例としては、フェニル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2,4−ジフルオロフェニル、2,6−ジフルオロフェニル、2,5−ジフルオロフェニル、3,4−ジフルオロフェニル、4−メチルフェニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、4−ヒドロキシフェニル、4−メトキシフェニル、4−ブロモフェニル、4−ビフェニリル、ベンジル、2−フルオロベンジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロベンジル、2−クロロベンジル、3−クロロベンジル、4−クロロベンジル、2,4−ジフルオロベンジル、2,6−ジフルオロベンジル、2,5−ジフルオロベンジル、3,4−ジフルオロベンジル、3,6−ジフルオロベンジル、4−メチルベンジル、3−トリフルオロメチルベンジル、4−トリフルオロメチルベンジル、4−ヒドロキシベンジル、4−メトキシベンジル、4−ブロモベンジル、4−フェニルベンジル、2−フェニルエチル、2−(2−フルオロフェニル)エチル、2−(3−フルオロフェニル)エチル、2−(4−フルオロフェニル)エチル、2−(2−クロロフェニル)エチル、2−(3−クロロフェニル)エチル、2−(4−クロロフェニル)エチル、2−(2,4−ジフルオロフェニル)エチル、2−(2,6−ジフルオロフェニル)エチル、2−(2,5−ジフルオロフェニル)エチル、2−(3,4−ジフルオロフェニル)エチル、2−(4−メチルフェニル)エチル、2−(3−トリフルオロメチルフェニル)エチル、2−(4−トリフルオロメチルフェニル)エチル、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチル、2−(4−メトキシフェニル)エチル、2−(4−ブロモフェニル)エチル、2−(4−ビフェニリル)エチル、ベンゼンスルホニル、2−フルオロベンゼンスルホニル、3−フルオロベンゼンスルホニル、4−フルオロベンゼンスルホニル、2−クロロベンゼンスルホニル、3−クロロベンゼンスルホニル、4−クロロベンゼンスルホニル、2,4−ジフルオロベンゼンスルホニル、2,6−ジフルオロベンゼンスルホニル、2,5−ジフルオロベンゼンスルホニル、3,4−ジフルオロベンゼンスルホニル、4−メチルベンゼンスルホニル、3−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル、4−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル、4−ヒドロキシベンゼンスルホニル、4−メトキシベンゼンスルホニル、4−ブロモベンゼンスルホニル、4−フェニルベンゼンスルホニル、フェニルチオ、2−フルオロフェニルチオ、3−フルオロフェニルチオ、4−フルオロフェニルチオ、2−クロロフェニルチオ、3−クロロフェニルチオ、4−クロロフェニルチオ、2,4−ジフルオロフェニルチオ、2,6−ジフルオロフェニルチオ、2,5−ジフルオロフェニルチオ、3,4−ジフルオロフェニルチオ、4−メチルフェニルチオ、3−トリフルオロメチルフェニルチオ、4−トリフルオロメチルフェニルチオ、4−ヒドロキシフェニルチオ、4−メトキシフェニルチオ、4−ブロモフェニルチオ、4−ビフェニリルチオ、フェノキシ、2−フルオロフェノキシ、3−フルオロフェノキシ、4−フルオロフェノキシ、2−クロロフェノキシ、3−クロロフェノキシ、4−クロロフェノキシ、2,4−ジフルオロフェノキシ、2,6−ジフルオロフェノキシ、2,5−ジフルオロフェノキシ、3,4−ジフルオロフェノキシ、4−メチルフェノキシ、3−トリフルオロメチルフェノキシ、4−トリフルオロメチルフェノキシ、4−ヒドロキシフェノキシ、4−メトキシフェノキシ、4−ブロモフェノキシ、4−フェニルフェノキシ、ベンゾイル、2−フルオロベンゾイル、3−フルオロベンゾイル、4−フルオロベンゾイル、2−クロロベンゾイル、3−クロロベンゾイル、4−クロロベンゾイル、2,4−ジフルオロベンゾイル、2,6−ジフルオロベンゾイル、2,5−ジフルオロベンゾイル、3,4−ジフルオロベンゾイル、4−メチルベンゾイル、3−トリフルオロメチルベンゾイル、4−トリフルオロメチルベンゾイル、4−ヒドロキシベンゾイル、4−メトキシベンゾイル、4−ブロモベンゾイル、4−フェニルベンゾイル、2−チエニル、3−チエニル、フルフリル、3−フリルメチル、(2−クロロチオフェン−3−イル)メチル、2−ピコリル、3−ピコリル、4−ピコリル(2−フルオロピリジン−3−イル)メチル、(2−フルオロピリジン−5−イル)メチル、(5−フルオロピリジン−2−イル)メチル等が挙げられる。
本発明化合物の特徴として、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基で、A環、B環又はRAが置換可能な任意の位置(但し、Z9に隣接するA環上の窒素原子、及びC環上の結合手を有する原子に隣接する窒素原子を除く。)のうち少なくとも一つの位置で置換されていることが挙げられる。特に、A環、C環又はRBに置換している場合が好ましい。
置換可能な任意の位置とは、A環、B環又はRAの水素原子が結合している原子を意味し、本発明化合物は、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基が上記水素原子に置換している化合物を意味する。
式:
Figure 0003616628
(C環は上記(1)と同意義)で示される基は、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が窒素原子であるヘテロアリールを意味する。
特に、C環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であるヘテロアリール(以下の(T1)、(T2))が好ましく、さらには、C環上の結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子であるヘテロアリール(以下の(T3)、(T4))が好ましい。
Figure 0003616628
(式中、T1〜T4で示される基は結合手を有する原子に隣接する一方の原子が窒素原子であるヘテロアリールを表わす。Nは窒素原子、Qは窒素原子に隣接する原子;Hetはヘテロ原子)
なお、破線は結合の存在又は不存在を表わす。また、曲線で示した部分は、C環を構成する原子及び結合を意味し、C環が芳香性を表わすように選択すればよい。C環は、上記式に示された窒素原子以外にもヘテロ原子を含んでいてもよく、C環の構成原子としては、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が挙げられる。C環を構成する結合としては、単結合、二重結合が挙げられる。なお、C環には単環のみならず縮合環(2〜5個の縮合環)も含まれるが、特に単環又は2環、さらには単環が好ましい。
C環が単環であるヘテロアリールとしては、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が窒素原子であり、更に酸素原子、硫黄原子、および/又は窒素原子を環内に1〜4個含んでいてもよい5〜8員のヘテロアリールを意味し、特に5は6員のヘテロアリールが好ましい。例えば、ピロール-2-イル、イミダゾール-2-イル、イミダゾール-4-イル、ピラゾール-3-イル、トリアゾール-3-イル、テトラゾール-5-イル、オキサゾール-2-イル、オキサゾール-4-イル、イソキサゾール-3-イル、チアゾール-2-イル、チアゾール-4-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、1,2,4-チアジアゾール-5-イル、1,2,4-チアジアゾール-3-イル、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、1,2,4-オキサジアゾール-5-イル、1,2,4-オキサジアゾール-3-イル、イソチアゾール-3-イル、ピリジン-2-イル、ピリダジン-3-イル、ピラジン-2-イル、ピリミジン-2-イル、ピリミジン-4-イル、フラザン-3-イル等が挙げられる。
特に、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であるヘテロアリールが好ましく、例えば、イミダゾール-2-イル、イミダゾール-4-イル、ピラゾール-3-イル、トリアゾール-3-イル、テトラゾール-5-イル、オキサゾール-2-イル、オキサゾール-4-イル、イソキサゾール-3-イル、チアゾール-2-イル、チアゾール-4-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、1,2,4-チアジアゾール-5-イル、1,2,4-チアジアゾール-3-イル、1,3,4-オキサゾール-2-イル、1,2,4-オキサジアゾール-5-イル、1,2,4-オキサジアゾール-3-イル、イソチアゾール-3-イル、ピリジン-2-イル、ピリダジン-3-イル、ピラジン-2-イル、ピリミジン-2-イル、ピリミジン-4-イル、フラザン-3-イル等が挙げられる。
さらには、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子であるヘテロアリールが好ましく、例えば、イミダゾール-2-イル、トリアゾール-3-イル、テトラゾール-5-イル、オキサゾール-2-イル、チアゾール-2-イル、1,3,4-チアジアゾール-2-イル、1,2,4-チアジアゾール-5-イル、1,2,4-チアジアゾール-3-イル、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル、1,2,4-オキサジアゾール-5-イル、1,2,4-オキサジアゾール-3-イル、ピリミジン-2-イル等が挙げられる。
C環が縮合環であるヘテロアリールとしては、上記の単環に1〜4個の5〜8員の芳香族炭素環(5〜8員の芳香族炭素環)及び/又は他の5〜8員の芳香族ヘテロ環(酸素原子、硫黄原子、および/又は窒素原子を環内に1〜4個含んでいてもよい5〜8員の芳香族複素環)が縮合したヘテロアリールを意味する。縮合する芳香環としては、5員又は6員の環が好ましい。例えば、ベンズイミダゾール-2-イル、ベンゾオキサゾール-2-イル、キノキサリン-2-イル、シンノリン-3-イル、キナゾリン-2-イル、キナゾリン-4-イル、キノリン-2-イル、フタラジン-1-イル、イソキノリン-1-イル、イソキノリン-3-イル、プリン-2-イル、プリン-6-イル、プリン-8-イル、プテリジン-2-イル、プテリジン-4-イル、プテリジン-6-イル、プテリジン-7-イル、カルバゾール-1-イル、フェナントリジン-6-イル、インドール-2-イル、イソインドール-1-イル等が挙げられる。
特に、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であるヘテロアリールが好ましく、例えば、ベンズイミダゾール-2-イル、ベンゾオキサゾール-2-イル、キノキサリン-2-イル、シンノリン-3-イル、キナゾリン-2-イル、キナゾリン-4-イル、キノリン-2-イル、フタラジン-1-イル、イソキノリン-1-イル、イソキノリン-3-イル、プリン-2-イル、プリン-6-イル、プリン-8-イル、プテリジン-2-イル、プテリジン-4-イル、プテリジン-6-イル、プテリジン-7-イル、フェナトリジン-6-イル等が挙げられる。
さらには、結合手を有する原子に隣接する一方の原子が、隣接する一方の原子と二重結合で結ばれ、隣接する他方の原子と単結合で結ばれている窒素原子であり、かつ結合手を有する原子に隣接する他方の原子がヘテロ原子であるヘテロアリールが好ましく、例えば、ベンズイミダゾール-2-イル、ベンゾオキサゾール-2-イル、キナゾリン-2-イル、プリン-2-イル、プリン-8-イル、プテリジン-2-イル等が挙げられる。
特に、式:
Figure 0003616628
で示される基が好ましい。
なお、上記式中、C環は、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1、Z2、Z3及びR1は上記(1)と同意義)で示される基又は置換基群Aから選択される基で置換されていてもよい。
本明細書中で用いる用語を以下に説明する。各用語は単独で又は他の用語と一緒になって同一の意義を有する。
「アルキレン」は、炭素数1〜6個の直鎖状又は分枝状のアルキレンを意味し、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、エチルエチレン、ペンタメチレン又はヘキサメチレン等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレンであり、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン又はテトラメチレンが挙げられる。
「アルケニレン」は、上記「アルキレン」に1個又はそれ以上の二重結合を有する炭素原子2〜6個の直鎖状又は分枝状のアルケニレン基を意味し、例えば、ピニレン、プロペニレン又はブテニレンが挙げられる。好ましくは、炭素数2〜3個の直鎖状のアルケニレンであり、例えば、ビニレン又はプロペニレンが挙げられる。
「アルキル」は、炭素数1〜10個の直鎖状又は分枝状のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、n-ヘキシル、イソヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシル等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6個のアルキルであり、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、n-ヘキシル、イソヘキシルが挙げられる。
「アルケニル」は、上記「アルキル」に1個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数2〜8個の直鎖状又は分枝状のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、1,3-ブタジエニル、3-メチル-2-ブテニル等が挙げられる。
「アリール」は、単環芳香族炭化水素基(フェニル)及び多環芳香族炭化水素基(例えば、1-ナフチル、2-ナフチル、1-アントリル、2-アントリル、9-アントリル、1-フェナントリル、2-フェナントリル、3-フェナントリル、4-フェナントリル、9-フェナントリル等)を意味する。好ましくは、フェニル又はナフチル(1-ナフチル、2-ナフチル)が挙げられる。
「ヘテロアリール」は、単環芳香族複素環式基及び縮合芳香族複素環式基を意味する。
単環芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、および/又は窒素原子を環内に1〜4個含んでいてもよい5〜8員の芳香環から誘導される、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。
縮合芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、および/又は窒素原子を環内に1〜4個含んでいてもよい5〜8員の芳香環が、1〜4個の5〜8員の芳香族炭素環もしくは他の5〜8員の芳香族ヘテロ環と縮合している、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。
「ヘテロアリール」としては、例えば、フリル(例えば、2-フリル、3-フリル)、チエニル(例えば、2-チエニル、3-チエニル)、ピロリル(例えば、1-ピロリル、2-ピロリル、3-ピロリル)、イミダゾリル(例えば、1-イミダゾリル、2-イミダゾリル、4-イミダゾリル)、ピラゾリル(例えば、1-ピラゾリル、3-ピラゾリル、4-ピラゾリル)、トリアゾリル(例えば、1,2,4-トリアゾール-1-イル、1,2,4-トリアゾール-3-イル、1,2,4-トリアゾール-4-イル)、テトラゾリル(例えば、1-テトラゾリル、2-テトラゾリル、5-テトラゾリル)、オキサゾリル(例えば、2-オキサゾリル、4-オキサゾリル、5-オキサゾリル)、イソキサゾリル(例えば、3-イソキサゾリル、4-イソキサゾリル、5-イソキサゾリル)、チアゾリル(例えば、2-チアゾリル、4-チアゾリル、5-チアゾリル)、チアジアゾリル、イソチアゾリル(例えば、3-イソチアゾリル、4-イソチアゾリル、5-イソチアゾリル)、ピリジル(例えば、2-ピリジル、3-ピリジル、4-ピリジル)、ピリダジニル(例えば、3-ピリダジニル、4-ピリダジニル)、ピリミジニル(例えば、2-ピリミジニル、4-ピリミジニル、5-ピリミジニル)、フラザニル(例えば、3-フラザニル)、ピラジニル(例えば、2-ピラジニル)、オキサジアゾリル(例えば、1,3,4-オキサジアゾール-2-イル)、ベンゾフリル(例えば、2-ベンゾ[b]フリル、3-ベンゾ[b]フリル、4-ベンゾ[b]フリル、5-ベンゾ[b]フリル、6-ベンゾ[b]フリル、7-ベンゾ[b]フリル)、ベンゾチエニル(例えば、2-ベンゾ[b]チエニル、3-ベンゾ[b]チエニル、4-ベンゾ[b]チエニル、5-ベンゾ[b]チエニル、6-ベンゾ[b]チエニル、7-ベンゾ[b]チエニル)、ベンズイミダゾリル(例えば、1-ベンゾイミダゾリル、2-ベンゾイミダゾリル、4-ベンゾイミダゾリル、5-ベンゾイミダゾリル)、ジベンゾフリル、ベンゾオキサゾリル、キノキサリル(例えば、2-キノキサニル、5-キノキサリニル、6-キノキサリニル)、シンノリニル(例えば、3-シンノリニル、4-シンノリニル、5-シンノリニル、6-シンノリニル、7-シンノリニル、8-シンノリニル)、キナゾリル(例えば、2-キナゾリニル、4-キナゾリニル、5-キナゾリニル、6-キナゾリニル、7-キナゾリニル、8-キナゾリニル)、キノリル(例えば、2-キノリル、3-キノリル、4-キノリル、5-キノリル、6-キノリル、7-キノリル、8-キノリル)、フタラジニル(例えば、1-フタラジニル、5-フタラジニル、6-フタラジニル)、イソキノリル(例えば、1-イソキノリル、3-イソキノリル4-イソキノリル、5-イソキノリル、6-イソキノリル、7-イソキノリル、8-イソキノリル)、プリル、プテリジニル(例えば、2-プテリジニル、4-プテリジニル、6-プテリジニル、7-プテリジニル)、カルバゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル(例えば、1-アクリジニル、2-アクリジニル、3-アクリジニル、4-アクリジニル、9-アクリジニル)、インドリル(例えば、1-インドリル、2-インドリル、3-インドリル、4-インドリル、5-インドリル、6-インドリル、7-インドリル)、イソインドリル、ファナジニル(例えば、1-フェナジニル、2-フェナジニル)又はフェノチアジニル(例えば、1-フェノチアジニル、2-フェノチアジニル、3-フェノチアジニル、4-フェノチアジニル)等が挙げられる。
「シクロアルキル」は、炭素数3〜10の環状飽和炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数3〜6のシクロアルキルであり、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。
「シクロアルケニル」は、炭素数3〜10の環状の非芳香族炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロペニル(例えば、1-シクロプロペニル)、シクロブテニル(例えば、1-シクロブテニル)、シクロペンテニル(例えば、1-シクロペンテン-1-イル、2-シクロペンテン-1-イル、3-シクロペンテン-1-イル)、シクロヘキセニル(例えば、1-シクロヘキセン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シクロヘキセン-1-イル)、シクロヘプテニル(例えば、1-シクロヘプテニル)、シクロオクテニル(例えば、1-シクロオクテニル)等が挙げられる。特に、1-シクロヘキセン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シクロヘキセン-1-イルが好ましい。
「ヘテロサイクル」は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を少なくとも1以上環内に有する、置換可能な任意の位置に結合手を有する非芳香族複素環式基を意味し、例えば、1-ピロリニル、2-ピロリニル、3-ピロリニル、1-ピロリジニル、2-ピロリジニル、3-ピロリジニル、1-イミダゾリニル、2-イミダゾリニル、4-イミダゾリニル、1-イミダゾリジニル、2-イミダゾリジニル、4-イミダゾリジニル、1-ピラゾリニル、3-ピラゾリニル、4-ピラゾリニル、1-ピラゾリジニル、3-ピラゾリジニル、4-ピラゾリジニル、ピペリジノ、2-ピペリジル、3-ピペリジル、4-ピペリジル、1-ピペラジニル、2-ピペラジニル、2-モルホリニル、3-モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル等が挙げられる。なお、「非芳香族複素環式基」は、非芳香族であれば、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。
「アルコキシ」のアルキル部分は、上記「アルキル」と同意義であり、「アルコキシ」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、tert-ブトキシなどが挙げられる。特に、メトキシ、エトキシが好ましい。
「アルコキシカルボニル」は、上記「アルコキシ」が置換したカルボニルを意味し、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n-ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル等が挙げられる。
「アルコキシアルキル」は、上記「アルコキシ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、n-プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、n-ブトキシメチル、イソブトキシメチル、tert-ブトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、n-プロポキシエチル、イソプロポキシエチル、n-ブトキシエチル、イソブトキシエチル、tert-ブトキシエチルなどが挙げられる。
「アルキニル」は、上記「アルキル」に1個又はそれ以上の三重結合を有する炭素数2〜8個のアルキニルを意味し、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル等が挙げられる。
「アルキルスルホニル」は、上記「アルキル」が置換したスルホニルを意味し、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n-プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、n-ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、sec-ブチルスルホニル、tert-ブチルスルホニル、n-ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、tert-ペンチルスルホニル、n-ヘキシルスルホニル、イソヘキシルスルホニル、n-ヘプチルスルホニル、n-オクチルスルホニル、n−ノニルスルホニル、n−デシルスルホニルなどが挙げられる。
「置換されていてもよいアミノ」は、置換又は非置換のアミノを意味する。
「置換されていてもよいカルバモイル」は、置換又は非置換のカルバモイルを意味する。
「置換されていてもよいアミノ」および「置換されていてもよいカルバモイル」の置換基としては、アルキル(例えば、メチル、エチル、ジメチル等)、アルコキシアルキル(例えば、エトキシメチル、エトキシエチル等)、アシル(例えば、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、トルオイル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、ヒドロキシ、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等)、アルキルで置換されていてもよいアリールスルホニル(例えば、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル等)、アルキレン(例えば、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン)、アルキルで置換されていてもよいアリール(例えば、フェニル、トリチル等)等が挙げられる。
「アルキルチオ」は、上記「アルキル」が硫黄原子に置換した基を意味し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、n-プロピルチオ、イソプロピルチオ、n-ブチルチオ、イソブチルチオ、sec-ブチルチオ、tert-ブチルチオ、n-ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、tert-ペンチルチオ、n-ヘキシルチオ、イソヘキシルチオ、n-ヘプチルチオ、n-オクチルチオ、n-ノニルチオ、n-デシルチオ等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6のアルキルが硫黄原子に置換した基である。
「アルキルチオアルキル」は、上記「アルキルチオ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、メチルチオメチル、エチルチオメチル、n-プロピルチオメチル、イソプロピルチオメチル、n-ブチルチオメチル、イソブチルチオメチル、sec-ブチルチオメチル、tert-ブチルチオメチル、n-ペンチルチオメチル、イソペンチルチオメチル、ネオペンチルチオメチル、tert-ペンチルチオメチル、n-ヘキシルチオメチル、イソヘキシルチオメチル、n-ヘプチルチオメチル、n-オクチルチオメチル、n-ノニルチオメチル、n-デシルチオメチル、メチルチオエチル、エチルチオエチル、n-プロピルチオエチル、イソプロピルチオエチル、n-ブチルチオエチル、イソブチルチオエチル、sec-ブチルチオエチル、tert-ブチルチオエチル、n-ペンチルチオエチル、イソペンチルチオエチル、ネオペンチルチオエチル、tert-ペンチルチオエチル、n-ヘキシルチオエチル、イソヘキシルチオエチル、n-ヘプチルチオエチル、n-オクチルチオエチル、n-ノニルチオエチル、n-デシルチオエチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6のアルキルチオが置換した炭素数1〜2のアルキルである。
「ハロアルキル」は、1以上のハロゲンで置換された上記「アルキル」を意味する。特に、炭素数1〜3のハロゲン化アルキルが好ましく、例えば、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、1,1-ジクロロエチル、2,2,2-トリクロロエチルなどが挙げられる。
「ハロアルコキシ」は、上記「ハロアルキル」が酸素原子に置換した基を意味し、例えば、トリフルオロメトキシ、クロロメトキシ、ジクロロメトキシ、1,1-ジクロロエトキシ、2,2,2-トリクロロエトキシなどが挙げられる。
「ハロアルコキシアルキル」は、上記「ハロアルコキシ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、トリフルオロメトキシメチル、クロロメトキシメチル、ジクロロメトキシメチル、1,1-ジクロロエトキシメチル、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、トリフルオロメトキシエチル、クロロメトキシエチル、ジクロロメトキシエチル、1,1-ジクロロエトキシエチル、2,2,2-トリクロロエトキシエチル等が挙げられる。
「アルキルカルボニル」は、上記「アルキル」が置換したカルボニルを意味し、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル等が挙げられる。
「アルキルカルボニルオキシ」は、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に置換した基を意味し、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオキシ、イソバレリルオキシ、ピバロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、オクタノイルオキシ、ラウロイルオキシ等が挙げられる。
「アラルキル」は、1〜3個の上記「アリール」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェネチル、1-ナフチルメチル、2-ナフチルメチル等)が挙げられる。
「ヘテロアラルキル」は、1〜3個の上記「ヘテロアリール」が置換した上記「アルキル」を意味し、特にアルキル部分の炭素数が1〜4のヘテロアラルキルが好ましい。特に、アルキル部分の炭素数が1又は2のヘテロアラルキルが好ましく、例えば、フリルメチル、チエニルメチル、ピロリルメチル、イミダゾリルメチル、ピラゾリルメチル、トリアゾリルメチル、テトラゾリルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアジアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピリジルメチル、ピリダジニルメチル、ピリミジニルメチル、フラザニルメチル、ピラジニルメチル、オキサジアゾリルメチル、ベンゾフリルメチル、ベンゾチエニルメチル、ベンズイミダゾリルメチル、ジベンゾフリルメチル、ベンゾオキサゾリルメチル、キノキサリルメチル、シンノリニルメチル、キナゾリルメチル、キノリルメチル、フタラジニルメチル、イソキノリルメチル、プリルメチル、プテリジニルメチル、カルバゾリルメチル、フェナントリジニルメチル、アクリジニルメチル、インドリルメチル、イソインドリルメチル、ファナジニルメチル、フェノチアジニルメチル、フリルエチル、チエニルエチル、ピロリルエチル、イミダゾリルエチル、ピラゾリルエチル、トリアゾリルエチル、テトラゾリルエチル、オキサゾリルエチル、イソキサゾリルエチル、チアゾリルエチル、チアジアゾリルエチル、イソチアゾリルエチル、ピリジルエチル、ピリダジニルエチル、ピリミジニルエチル、フラザニルエチル、ピラジニルエチル、オキサジアゾリルエチル、ベンゾフリルエチル、ベンゾチエニルエチル、ベンズイミダゾリルエチル、ジベンゾフリルエチル、ベンゾオキサゾリルエチル、キノキサリルエチル、シンノリニルエチル、キナゾリルエチル、キノリルエチル、フタラジニルエチル、イソキノリルエチル、プリルエチル、プテリジニルエチル、カルバゾリルエチル、フェナントリジニルエチル、アクリジニルエチル、インドリルエチル、イソインドリルエチル、ファナジニルエチル又はフェノチアジニルエチル等が挙げられる。
等が挙げられる。
なお、「アリールオキシ」、「ヘテロアリールオキシ」、「アリールチオ」、「ヘテロアリールチオ」、「アラルキルオキシ」、「ヘテロアラルキルオキシ」、「アラルキルチオ」、「ヘテロアラルキルチオ」、「アリールオキシアルキル」、「ヘテロアリールオキシアルキル」、「アリールチオアルキル」、「ヘテロアリールチオアルキル」、「アリールスルホニル」、「ヘテロアリールスルホニル」、「アラルキルスルホニル」及び「ヘテロアラルキルスルホニル」中の「アリール」、「アラルキル」、「ヘテロアリール」、「ヘテロアラルキル」及び「アルキル」は上記と同意義である。
「置換されていてもよいアルキレン」、「置換されていてもよいアルケニレン」、「置換されていてもよいアルキル」、「置換されていてもよいアルケニル」、「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」、「置換されていてもよいアラルキル」、「置換されていてもよいヘテロアラルキル」、「置換されていてもよいアリールオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシ」、「置換されていてもよいアリールチオ」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオ」、「置換されていてもよいアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいアラルキルチオ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ」、「置換されていてもよいアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいアリールスルホニル」、「置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル」、「置換されていてもよいアラルキルスルホニル」及び「置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニル」が置換基を有する場合、それぞれ同一又は異なる1〜4個の置換基で任意の位置が置換されていてもよい。なお、これらの置換基は、上述の置換基群Aから選択される基と同様に、インテグラーゼ阻害活性を妨害しないような置換基であれば、任意に選択することができる。
置換基の例としては、例えば、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、ハロアルキル(例えば、CF3、CH2CF3、CH2CCl3等)、アルキル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert-ブチル等)、アルケニル(例えば、ビニル)、アルキニル(例えば、エチニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル)、シクロアルケニル(例えば、シクロプロペニル)、アルコキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アルケニルオキシ(例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ等)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル等)、ニトロ、ニトロソ、置換されていてもよいアミノ(例えば、アルキルアミノ(例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等)、アシルアミノ(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アラルキルアミノ(例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ)、ヒドロキシアミノ等)、アジド、アリール(例えば、フェニル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、置換されていてもよいカルバモイル(例えば、アルキルカルバモイル(例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル等)等)、スルファモイル、アシル(例えば、ホルミル、アセチル等)、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキザロ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、フタルイミド等が挙げられる。
1における「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」の置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、ハロアルキル(例えば、CF3、CH2CF3、CH2CCl3等)、アルキル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert-ブチル等)、アルケニル(例えば、ビニル)、アルキニル(例えば、エチニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル)、シクロアルケニル(例えば、シクロプロペニル)、アルコキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル等)、ニトロ、置換されていてもよいアミノ(例えば、アルキルアミノ(例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等)、アシルアミノ(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アラルキルアミノ(例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ)、ヒドロキシアミノ等)、アジド、アリール(例えば、フェニル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、シアノ、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル(例えば、ホルミル、アセチル等)、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ等が好ましい。特に、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン(特にF、Cl、Br)、アルコキシ(特にメトキシ)等が好ましく、モノ置換、ジ置換の場合が好ましい。
1、Z2及びZ3の「置換されていてもよいアルキレン」及び「置換されていてもよいアルケニレン」の置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、ハロアルキル(例えば、CF3、CH2CF3、CH2CCl3等)、アルキル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert-ブチル等)、アルケニル(例えば、ビニル)、アルキニル(例えば、エチニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル)、シクロアルケニル(例えば、シクロプロペニル)、アルコキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル等)、置換されていてもよいアミノ(例えば、アルキルアミノ(例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等)、アシルアミノ(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アラルキルアミノ(例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ)、ヒドロキシアミノ等)、アリール(例えば、フェニル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、シアノ、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル(例えば、ホルミル、アセチル等)、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ等が好ましい。
置換基群Aから選択される基が「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」、「置換されていてもよいアラルキル」、「置換されていてもよいヘテロアラルキル」、「置換されていてもよいアリールオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシ」、「置換されていてもよいアリールチオ」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオ」、「置換されていてもよいアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいアラルキルチオ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ」、「置換されていてもよいアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいアリールスルホニル」、「置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル」、「置換されていてもよいアラルキルスルホニル」及び「置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニル」である場合、その置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、ハロアルキル(例えば、CF3、CH2CF3、CH2CCl3等)、アルキル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert-ブチル等)、アルケニル(例えば、ビニル)、アルキニル(例えば、エチニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル)、シクロアルケニル(例えば、シクロプロペニル)、アルコキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル等)、ニトロ、置換されていてもよいアミノ(例えば、アルキルアミノ(例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等)、アシルアミノ(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アラルキルアミノ(例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ)、ヒドロキシアミノ等)、アジド、アリール(例えば、フェニル等)、アラルキル(例えば、ペンジル等)、シアノ、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル(例えば、ホルミル、アセチル等)、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ等が好ましい。特に、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン(特に、F、Cl、Br)、アルコキシ(特にメトキシ)等が好ましく、モノ置換、ジ置換の場合が好ましい。
本発明は、化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩及びそれらの溶媒和物を包含する。本発明化合物の理論上可能なすべての互変異性体、幾何異性体等も、本発明の範囲内である。例えば、式(I)で示される化合物において、Yがオキソ、チオキソ又はイミノである化合物(ケト型)であっても、Yがヒドロキシ、メルカプト又はアミノである化合物(エノール型)の互変異性体である場合は、本発明化合物である。
プロドラッグは、化学的又は代謝物に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生物学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明化合物となる化合物である。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えばDesign of Prodrugs,Elsevier,Amsterdam 1985に記載されている。
HIVは無症候期においても、リンパ節で盛んに増殖していることが知られており、本発明化合物をプロドラッグ化するにおいては、リンパ指向性プロドラッグが好ましい。また、HIVにより引き起こされる疾患としてエイズ脳症があり、本発明化合物をプロドラッグ化するにおいては、脳指向性プロドラッグが好ましい。これらリンパ指向性プロドラッグおよび脳指向性プロドラッグとしては、下記のように脂溶性を高めたプロドラッグが好ましい。
本発明化合物がカルボキシを有する場合は、もとになる酸性化合物と適当なアルコールを反応させることによって製造されるエステル誘導体、又はもとになる酸性化合物と適当なアミンを反応させることによって製造されるアミド誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいエステルとしては、メチルエステル、エチルエステル、n-プロピルエステル、イソプロピルエステル、n-ブチルエステル、イソブチルエステル、tert-ブチルエステル、モルホリノエチルエステル、N,N-ジエチルグリコールアミドエステル等が挙げられる。
本発明化合物がヒドロキシを有する場合は、例えばヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド又は適当な酸無水物とを反応させることに製造されるアシルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいアシルオキシとしては、−O(=O)−CH3、−OC(=O)−C25、−OC(=O)−(tert-Bu)、−OC(=O)−C1531、−OC(=O)−(m−COONa−Ph)、−OC(=O)−CH2CH2COONa、−O(C=O)−CH(NH2)CH3、−OC(=O)−CH2−N(CH32等が挙げられる。
本発明化合物がアミノを有する場合は、アミノを有する化合物と適当な酸ハロゲン化物又は適当な混合酸無水物とを反応させることにより製造されるアミド誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいアミドとしては、−NHC(=O)−(CH220CH3、−NHC(=O)−CH(NH2)CH3等が挙げられる。
特に本発明化合物においては、B環上の置換基であるYを化学修飾することによってもプロドラッグ化を達成することができる。例えば、Yにアシル化等を行い、加溶媒分解により又は生理学的条件下において本発明化合物に変換されるか否かを試験すればよい。従って、Yがヒドロキシ、メルカプト又はアミノ以外の置換基であっても、加溶媒分解により又は生理学的条件下において、ヒドロキシ、メルカプト又はアミノに変換される化合物は、本発明のプロドラッグであり、本発明に包含される。例えば、リン酸バッファー(pH7.4)−エタノール中やプラズマ中で本発明化合物に変換される化合物等は、本発明化合物のプロドラッグである。
本発明化合物の製薬上許容される塩としては、塩基性塩として、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩;カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩;アンモニウム塩;トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、プロカイン塩等の脂肪族アミン塩;N,N-ジベンジルエチレンジアミン等のアラルキルアミン塩;ピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩、イソキノリン塩等のヘテロ環芳香族アミン塩;テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩;アルギニン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。酸性塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩;酢酸塩、プロピオン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩;メタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩;アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸等が挙げられる。
また本発明化合物の溶媒和物、各種溶媒和物も本発明の範囲内であり、例えば、一溶媒和物、二溶媒和物、一水和物、二水和物等が挙げられる。
「阻害」なる用語は、本発明化合物が、インテグラーゼの働きを抑制することを意味する。
「製薬上許容される」なる用語は、予防上又は治療上有害でないことを意味する。
発明を実施するための最良の形態
本発明化合物の代表的な一般的製造法を以下に説明する。
本発明化合物は新規な含窒素芳香族複素環化合物であり、式:
Figure 0003616628
(式中、A環、B環、Z4、Z5及びZ9は上記(1)と同意義)で示される環を母核とする化合物であり、本発明においては、各種の含窒素芳香族複素環化合物を使用することができる。
例えば、一方の環(例えば、B環)を有する化合物の置換基を利用し、他方の環(例えば、A環)を構築し、これらの含窒素芳香族複素環化合物を製造することができる。各種含窒素芳香族複素環化合物に関する一般的な有機合成について(1)Alan R.Katriszly et al.,Comprehensive Heterocyclic Chemistry (2)Alan R.Katriszly et al.,Comprehensive Heterocyclic Chemistry II (3)RODD'S CHEMISTRY OF CARBON COMPOUNDS VOLUME IV HETEROCYCLIC COMPOUNDS等を参考にすることができる。また、芳香族性を示す化合物一般について知られている反応や、各芳香族複素環に特有の反応を用いて、各種の官能基を導入することができる。
以下に代表的な製造法を記載するが、特にこれらの製法に限定する意味ではなく、他の製造法によっても本発明化合物を製造することができる。
Figure 0003616628
工程1
本工程は、式(A)で示される化合物から式(B)で示される化合物を製造する工程である。即ち、カルボキシル基の保護基及びフェノール性水酸基の保護基の脱保護工程である。
本工程は、トリアルキルシリルハライド及び沃化アルカリ金属の存在下、反応溶媒中で加熱することにより行うことができる。
トリアルキルシリルハライドとしては、トリメチルシリルクロライドを使用することができる。
沃化アルカリ金属としては、例えば、NaI、KIを使用することができる。
反応温度としては、室温〜100℃、好ましくは70〜90℃である。
反応溶媒としては、極性溶媒が好ましく、例えば、アセトニトリル等を使用することができる。
なお、本工程は、臭化水素/酢酸を使用し、加熱下で行うことができる。臭化水素/酢酸としては、47%臭化水素/酢酸が好ましい。
また、0℃〜室温でBBr3を使用するか、あるいは150〜220℃でピリジニウムクロリドを使用しても、本工程を行うことができる。
Figure 0003616628
工程2
本工程は、式(C)で示される化合物から式(D)で示される化合物を製造する工程である。即ち、カルボン酸からジアシルヒドラジンへの変換反応である。
本工程は、カルボン酸とモノアシルヒドラジンを縮合剤の存在下、適当な溶媒中で反応させることにより行うことができる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を使用することができる。必要ならば、1-ヒドロキシベンゾトリアゾールやN-ヒドロキシスクシンイミド等の試薬を添加することもできる。
反応温度としては、0〜100℃、好ましくは20〜30℃である。
反応溶媒としては、広く非プロトン性溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、N,N-ジメチルホルムアミド等が好ましい。
工程3
本工程は、式(D)で示される化合物から式(E)で示される化合物を製造する工程である。即ち、ジアシルヒドラジンからオキサジアゾール環の形成反応である。
本工程は、ジアシルヒドラジンをオキシ塩化リンあるいはチオニルクロリドと加熱することにより行うことができる。
反応温度としては、50〜100℃、好ましくは80〜100℃である。
なお、本工程は、トリエチルアミン等の塩基存在下、ジブロモトリフェニルホスホランを使用しても行うことができる。反応温度としては、0〜100℃、好ましくは0〜30℃である。反応溶媒としては、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等が好ましい。
工程4
本工程は、式(E)で示される化合物から式(F)で示される化合物を製造する工程である。工程1と同様に行うことができる。
工程5
本工程は、式(C)で示される化合物から式(G)で示される化合物を製造する工程である。即ち、カルボン酸とα-アミノケトンとの縮合によりアミドを合成する工程である。
工程は、カルボン酸とα-アミノケトンを縮合剤の存在下、適当な溶媒中で反応させることにより行うことができる。
合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を使用することができる。必要ならば、1-ヒドロキシベンゾトリアゾールやN-ヒドロキシスクシンイミド等の試薬を添加することもできる。
応温度としては、0〜100℃、好ましくは20〜30℃である。
反応溶媒としては、広く非プロトン性溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、N,N-ジメチルホルムアミド等が好ましい。
工程6
本工程は、式(G)で示される化合物から式(H)で示される化合物を製造する工程である。工程3と同様に行うことができる。
工程7
本工程は、式(H)で示される化合物から式(J)で示される化合物を製造する工程である。工程1と同様に行うことができる。
Figure 0003616628
工程8
本工程は、式(D)で示される化合物から式(K)で示される化合物を製造する工程である。即ち、ジアシルヒドラジンからチアジアゾール環の形成反応である。
本工程は、ジアシルヒドラジンを五硫化リンあるいはローソン試薬と加熱することにより行うことができる。
反応温度としては、50〜150℃、好ましくは80〜100℃である。
反応溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン等が好ましい。
工程9
本工程は、式(K)で示される化合物から式(L)で示される化合物を製造する工程である。工程1と同様に行うことができる。
工程10
本工程は、式(G)で示される化合物から式(M)で示される化合物を製造する工程である。工程8と同様に行うことができる。
工程11
本工程は、式(M)で示される化合物から式(N)で示される化合物を製造する工程である。工程1と同様に行うことができる。
Figure 0003616628
工程12
本工程は、式(O)で示される化合物から式(P)で示される化合物を製造する工程である。即ち、エステルからケトンを合成する工程である。
本工程は、エステルと有機金属試薬を適当な溶媒中で反応させることにより行うことができる。
有機金属試薬としては、アルキルリチウム、アリールリチウム、ヘテロアリールリチウムまたはグリニャール試薬等を使用することができる。
反応温度としては、−70℃〜室温、好ましくは−70℃〜0℃である。
反応溶媒としては、エーテル系溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等が好ましい。
工程13
本工程は、式(P)で示される化合物から式(Q)で示される化合物を製造する工程である。工程1と同様に行うことができる。
Figure 0003616628
工程14
本工程は、式(R)で示される化合物から式(S)で示される化合物を製造する工程である。工程2と同様に行うことができる。
工程15
本工程は、式(S)で示される化合物から式(T)で示される化合物を製造する工程である。工程3と同様に行うことができる。
工程16
本工程は、式(T)で示される化合物から式(U)で示される化合物を製造する工程である。工程1と同様に行うことができる。
Figure 0003616628
工程17
本工程は、式(V)で示される化合物から式(W)で示される化合物を製造する工程である。即ち、ハロゲン化合物(X=Cl,Br,I)からケトン体への変換反応である。
本工程は、ハロゲン化合物(X=Cl,Br,I)を有機金属試薬で有機金属化合物(X=Metal)に変換後、カルボン酸クロリドあるいは活性エステル体と適当な溶媒中で反応させることにより行うことができる。
有機金属試薬としては、アルキルリチウム、またはアリールリチウム等を使用することができる。
反応温度としては、−70℃〜室温、好ましくは−70〜0℃である。
反応溶媒としては、エーテル系溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等が好ましい。
工程18
本工程は、式(W)で示される化合物から式(X)で示される化合物を製造する工程である。工程1と同様に行うことができる。
次に本発明化合物の使用方法について説明する。
本発明化合物は、例えば抗ウイルス薬等の医薬として有用である。本発明化合物は、ウイルスのインテグラーゼに対して顕著な阻害作用を有する。よって本発明化合物は、動物細胞内で感染時に少なくともインテグラーゼを算出して増殖するウイルスに起因する各種疾患に対して、予防又は治療効果が期待でき、例えば、レトロウイルス(例、HIV-1、HIV-2、HTLV-1、SIV、FIV等)に対するインテグラーゼ阻害剤として有用であり、抗HIV薬等として有用である。
また、本発明化合物は、逆転写酵素阻害剤および/又はプロテアーゼ阻害剤等の異なる作用メカニズムを有する抗HIV薬と組み合わせて併用療法に用いることもできる。特に現在、抗インテグラーゼ阻害剤は上市されておらず、本発明化合物と逆転写酵素阻害剤および/又はプロテアーゼ阻害剤とを組み合わせて併用療法に用いることは有用である。
さらに、上記の使用としては、抗HIV用合剤としてのみならず、カクテル療法等のように、他の抗HIV薬の抗HIV活性を上昇させるような併用剤としての使用も含まれる。
また、本発明化合物は、遺伝子治療の分野において、HIVやMLVをもとにしたレトロウイルスベクターを用いる際に、目的の組織以外にレトロウイルスベクターの感染が広がるのを防止するために使用することができる。特に、試験管内で細胞等にベクターを感染しておいてから体内にもどすような場合に、本発明化合物を事前に投与しておくと、体内での余計な感染を防ぐことができる。
本発明化合物は、経口的又は非経口的に投与することができる。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤;水剤;油性懸濁剤;又はシロップ剤もしくはエリキシル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることができる。非経口投与による場合、本発明化合物は、水性又は油性懸濁注射剤、点鼻液として用いることができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、安定剤等を任意に用いることができる。なお、抗HIV薬としては、特に経口剤が好ましい。
本発明の製剤は、治療有効量の本発明化合物を製薬上許容される担体又は希釈剤とともに組み合わせる(例えば混合する)ことによって製造される。本発明化合物の製剤は、周知の、容易に入手できる成分を用いて既知の方法により製造される。
本発明化合物の医薬組成物を製造する際、活性成分は担体と混合されるか又は担体で希釈されるか、カプセル、サッシェー、紙、あるいは他の容器の形態をしている担体中に入れられる。担体が希釈剤として働く時、担体は媒体として働く固体、半固体、又は液体の材料であり、それらは錠剤、丸剤、粉末剤、口中剤、エリキシル剤、懸濁剤、エマルジョン剤、溶液剤、シロップ剤、エアロゾル剤(液体媒質中の固体)、軟膏にすることができ、例えば、10%までの活性化合物を含む。本発明化合物は投与に先立ち、製剤化するのが好ましい。
当業者には公知の適当な担体はいずれもこの製剤のために使用できる。このような製剤では担体は、固体、液体、又は固体と液体の混合物である。例えば、静脈注射のために本発明化合物を2mg/mlの濃度になるよう、4%デキストロース/0.5%クエン酸ナトリウム水溶液中に溶解する。固形の製剤は粉末、錠剤およびカプセルを包含する。固形担体は、香料、滑沢剤、溶解剤、懸濁剤、結合剤、錠剤崩壊剤、カプセル剤にする材料としても役立つ1又はそれ以上の物質である。経口投与のための錠剤は、トウモロコシデンプン、アルギン酸などの崩壊剤、および/又はゼラチン、アカシアなどの結合剤、およびステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸、滑石などの滑沢剤とともに炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ラクトース、リン酸カルシウムなどの適当な賦形剤を含む。
粉末剤では担体は細かく粉砕された活性成分と混合された、細かく粉砕された固体である。錠剤では活性成分は、適当な比率で、必要な結合性を持った担体と混合されており、所望の形と大きさに固められている。粉末剤および錠剤は約1〜約99重量%の本発明の新規化合物である活性成分を含んでいる。適当な固形担体は、炭酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、滑石、砂糖、ラクトース、ペクチン、デキストリン、デンプン、ゼラチン、トラガカントゴム、メチルセルロース、ナトリウムカルボキシメチルセルロース、低融点ワックス、ココアバターである。
液体製剤は懸濁剤、エマルジョン剤、シロップ剤、およびエリキシル剤を含む。活性成分は、滅菌水、滅菌有機溶媒、又は両者の混合物などの製薬上許容し得る担体中に溶解又は懸濁することができる。活性成分はしばしば適当な有機溶媒、例えばプロピレングリコール水溶液中に溶解することができる。水性デンプン、ナトリウムカルボキシメチルセルロース溶液、又は適切な油中に細かく砕いた活性成分を散布することによってその他の組成物を製造することもできる。
本発明化合物の投与量は、投与方法、患者の年齢、体重、状態および疾患の種類によっても異なるが、通常、経口投与の場合、成人1日あたり約0.05mg〜3000mg、好ましくは、約0.1mg〜1000mgを、要すれば分割して投与すればよい。また、非経口投与の場合、成人1日あたり約0.01mg〜1000mg、好ましくは、約0.05mg〜500mgを投与する。
実施例
以下に本発明の実施例を示す。反応は通常、窒素気流中で行い、また反応溶媒には、モレキュラーシーブス等で乾燥したものを用いた。抽出液の乾燥は、硫酸ナトリウム又は硫酸マグネシウム等で行なった。
(試薬)
n-ブチルリチウム=1.5mol/lヘキサン溶液
水素化ナトリウム=60%オイルサスペンジョン
(略号)
Et=エチル;MeOH=メタノール;EtOH=エタノール;DMF=N,N-ジメチルホルムアミド;THF=テトラヒドロフラン;DMSO=ジメチルスルホキシド;HOBt=1−ヒドロキシベンゾトリアゾール;WSCD=1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩
実施例1
化合物I-1
Figure 0003616628
第1工程
文献既知(Chem.Pharm.Bull.42,560-599,(1994))の4−アセチルアミノ−5−クロロ−2−メトキシ−3−ニトロ安息香酸(化合物1)(20.6g,67.9mmol)のメタノール(200ml)溶液に室温で5規定塩酸(60ml)を加え、14時間加熱還流した。反応液に氷冷下、2規定水酸化ナトリウム水溶液を加え中和した後、水(100ml)を加え、30分間攪拌した。析出として結晶をろ取し、水(100ml)で洗浄し、化合物2(11.9g)を未乾黄色結晶として得た。
第2工程
第1工程で得た化合物2(11.9g)、塩化アンモニウム(1.22g,22.8mmol)および鉄(10.2g,183mmol)のエタノール(450ml)−水(90ml)懸濁液を3時間加熱還流した。反応液をセライトでろ過し、残さをクロロホルム−メタノール(1:1 v/v,500ml)で洗浄した後、ろ液を減圧下濃縮して得られた残さに水(100ml)を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水(100ml)で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物3の粗生成物(11.6g)を褐色油状物として得た。
第3工程
第2工程で得た化合物3(11.6g)とトリエチルアミン(9.20ml,66.0mmol)のTHF(400ml)溶液に氷冷下、4-フルオロフェニルアセチルクロリド(10.9g,63.4mmol)のTHF(100ml)溶液を20分間かけて滴下し、1.5時間攪拌した後、さらに室温で1.5時間攪拌した。反応液に氷冷下、水(500ml)を滴下し、析出した結晶をろ取し、水で洗浄し、化合物4(18.9g)を未乾無色結晶として得た。
第4工程
第3工程で得た化合物4(18.9g)の酢酸(180ml)溶液を1.5時間加熱還流した後、反応液を減圧濃縮して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物5(12.4g,35.6mmol)を薄褐色結晶として通算収率52%で得た。
融点:151−153℃.
NMR(CDCl3)δ:3.92(3H, s), 4.23(3H, brs), .4.29(2H, s), 7.05(2H, m), 7.74(2H, m).
第5工程
化合物5(174mg,0.500mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液を氷冷下、三塩化ほう素の2Mトルエン溶液(0.625ml,1.25mmol)を滴下し、1.5時間攪拌した。反応液に氷冷下、水(5ml)に続いて28%アンモニア水を加え、中和した後、クロロホルムで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さをエタノール−ヘキサンで再結晶を行い、化合物I-1(36.0mg)を無色結晶として22%の収率で得た。
融点:257−260℃ 再結晶溶媒:エタノール−ヘキサン
元素分析:C16H12ClFN2O3として
計算値(%):C, 57.41; H, 3.61; N, 8.37; Cl, 10.59; F, 5.57.
分析値(%):C, 57.20; H, 3.50; N, 8.31; Cl, 10.50; F, 5.57.
NMR(DMSO-d6)δ:3.91(3H, s), 4.20(2H, s), 7.15(2H, m), 7.39(2H, m), 7.56(1H, s).
IR(KBr):3431, 1672cm-1
実施例1の合成法に準じ、化合物I-2〜I-5を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-2
融点:250−251℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C15H10ClFN2O3(H2O)0.5(EtOH)0.6として
計算値(%):C, 54.45; H, 4.12; N, 7.84; Cl, 9.92; F, 5.32.
分析値(%):C, 54.45; H, 3.94; N, 7.92; Cl, 9.83; F, 5.21.
NMR(DMSO-d6)δ:3.94(3H, s), 7.42(2H, m), 7.61(1H, s), 8.36(2H, m), 11.18(1H, brs), 13.86(1H, brs).
IR(KBr):3408, 1672cm-1
化合物I-3
融点:203−206℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C17H12ClFN2O3(H2O)0.3(EtOH)0.4として
計算値(%):C, 57.69; H, 4.08; N, 7.56; Cl, 9.57; F, 5.13.
分析値(%):C, 57.72; H, 3.80; N, 7.66; Cl, 9.40; F, 4.98.
NMR(DMSO-d6)δ:3.93(3H, s), 7.18(1H, d, J=16.5Hz), 7.29(2H, m), 7.59(1H, s), 7.75(2H, m), 7.88(1H, d, J=16.5Hz).
IR(KBr):3323, 1672cm-1
化合物I-4
融点:192−194℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C17H14ClFN2O3(HCl)1.0として
計算値(%):C, 53.00; H, 3.92; N, 7.27; Cl, 18.41; F, 4.93.
分析値(%):C, 52.96; H, 3.83; N, 7.33; Cl, 17.76; F, 4.68.
NMR(DMSO-d6)δ:3.10-3.28(4H, m), 3.93(3H, s), 7.12(2H, m), 7.30(2H, m), 11.14(1H, brs).
IR(KBr):3421, 1685cm-1
化合物I-5
融点:259−261℃(dec.)再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C10H9ClFN2O3(H2O)0.1として
計算値(%):C, 49.54; H, 3.82; N, 11.55; Cl, 14.62.
分析値(%):C, 49.67; H, 3.74; N, 11.56; Cl, 14.32.
NMR(DMSO-d6)δ:2.52(3H, s), 3.91(3H, s), 7.53(1H, s), 11.02(1H, brs), 13.24(1H, brs).
IR(KBr):3419, 1672cm-1
実施例2
化合物I-6
Figure 0003616628
第1工程
化合物1(3.03g,10.0mmol)のDMF(40ml)溶液に氷冷下、水素化ナトリウム(60%,0.42g,10.5mmol)を5分間かけて加え、室温で1時間攪拌した後、氷冷下、よう化メチル(0.685ml,11.0mmol)を加え、室温で3時間攪拌した。反応液に氷冷下、10%塩酸を加え、pH3とした後、水(50ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水(50ml)、飽和食塩水(50ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物6の粗生成物を褐色油状物として得た。
第2工程
第1工程で得た粗生成物のメタノール(3ml)溶液にナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液,3ml)を加え、2時間加熱還流した。反応液を氷冷した1規定塩酸(20ml)にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮した。得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物7(1.02g,3.71mmol)を黄色結晶として収率37%で得た。
第3〜6工程
実施例1の第2〜5工程と同様の反応を行い、化合物I-6を得た。
融点:198−201℃ 再結晶溶媒:エタノール−ジイソプロピルエーテル
元素分析:C17H14ClFN2O3として
計算値(%):C, 58.55; H, 4.05; N, 8.03; Cl, 10.17; F, 4.45.
分析値(%):C, 58.29; H, 4.03; N, 7.98; Cl, 10.02; F, 5.21.
NMR(DMSO-d6)δ:3.91(3H, s), 3.96(3H, s), 4.33(2H, s), 7.16(2H, m), 7.32(2H, m), 11.10(1H, brs).
IR(KBr):3419, 1670cm-1
実施例2の合成法に準じ、化合物I-7〜I-9を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-7
融点:192−195℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ヘキサン
元素分析:C23H17ClF2N2O3として
計算値(%):C, 62.38; H, 3.87; N, 6.33; Cl, 8.01; F, 8.58.
分析値(%):C, 62.32; H, 4.05; N, 6.23; Cl, 7.80; F, 8.35.
NMR(DMSO-d6)δ:3.91(3H, s), 4.26(2H, s), 5.77(2H, s), 6.88(2H, m), 7.03(2H, m), 7.07(2H, m), 7.23(2H, m), 7.55(1H, s), 11.10(1H, brs).
IR(KBr):3431, 1691cm-1
化合物I-8
融点:156−159℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C16H12ClFN2O3(H2O)0.3として
計算値(%):C, 56.50; H, 3.73; N, 8.24; Cl, 10.42; F, 5.59.
分析値(%):C, 56.75; H, 3.83; N, 8.27; Cl, 10.11; F, 5.35.
NMR(DMSO-d6)δ:3.90(3H, s), 5.75(2H, s), 7.17(4H, d, J=7.2Hz), 7.57(1H, s), 8.49(1H, s), 11.20(1H, brs).
IR(KBr):3410, 1674cm-1
化合物I-9
融点:205−207℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C17H14ClFN2O3として
計算値(%):C, 58.55; H, 4.05; N, 8.03; Cl, 10.17; F, 5.45.
分析値(%):C, 58.42; H, 4.15; N, 8.05; Cl, 9.76; F, 5.21.
NMR(DMSO-d6)δ:3.12(2H, t, J=7.4Hz), 3.92(3H, s), 4.70(2H, t, J=7.4Hz), 7.10(2H, m), 7.15(2H, m), 7.62(1H, s), 8.08(1H, s), 11.18(1H, brs).
IR(KBr):3423, 1674cm-1
実施例3
化合物I-10
Figure 0003616628
第1〜4工程
実施例2の第1工程、および実施例1の第2、4、5工程と同様の反応を行い、化合物I-10を得た。
融点:168−170℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロパノール
元素分析:C17H14ClFN2O3として
計算値(%):C, 58.55; H, 4.05; N, 8.03; Cl, 10.17; F, 5.45.
分析値(%):C, 58.47; H, 3.97; N, 8.08; Cl, 9.90; F, 5.19.
NMR(DMSO-d6)δ:2.49(3H, s), 3.90(3H, s), 5.74(2H, s), 7.05(2H, s), 7.18(2H, m), 7.54(1H, s), 11.10(1H, brs).
IR(KBr):3417, 1699cm-1
実施例3の合成法に準じ、化合物I-11を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-11
融点:185−187℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ヘキサン
元素分析:C18H16ClFN2O3として
計算値(%):C, 59.59; H, 4.45; N, 7.72; Cl, 9.77; F, 5.24.
分析値(%):C, 59.59; H, 4.40; N, 7.70; Cl, 9.43; F, 5.06.
NMR(DMSO-d6)δ:2.25(3H, s), 3.10(2H, t, J=7.3Hz), 3.98(3H, s), 4.59(2H, t, J=7.3Hz), 6.98(4H, d, J=6.9Hz), 7.69(1H, s), 11.26(1H, brs).
IR(KBr):3419, 1674cm-1
実施例4
化合物I-12
Figure 0003616628
第1工程
化合物5(101mg,0.289mmol)とよう化ナトリウム(351mg,2.34mmol)のアセトニトリル(1.5ml)懸濁液に室温でクロロトリメチルシラン(0.295ml,2.32mmol)を加え、48時間加熱還流した。反応液に室温で水(5ml)を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水(5ml)、10%チオ硫酸ナトリウム水溶液(10ml)、飽和食塩水(10ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物を1規定水酸化ナトリウム水溶液に溶解した後、1規定塩酸を加え中和し、水(100ml)を加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物I-12(74.9mg,0.234mmol)を薄褐色粉末として収率81%で得た。
元素分析:C15H10ClFN2O3(H2O)0.4として
計算値(%):C, 54.94; H, 3.32; N, 8.54; Cl, 10.81; F, 5.79.
分析値(%):C, 54.69; H, 3.32; N, 8.94; Cl, 11.15; F, 5.57.
NMR(DMSO-d6)δ:4.20(2H, s), 7.16(2H, m), 7.38(2H, m), 7.55(1H, s).
IR(KBr):3427, 1630cm-1
実施例4の合成法に準じ、化合物I-13〜I-16を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-13
元素分析:C16H12ClFN2O3(H2O)0.3として
計算値(%):C, 56.50; H, 3.73; N, 8.24; Cl, 10.42; F, 5.59.
分析値(%):C, 56.42; H, 3.68; N, 8.33; Cl, 10.63; F, 5.41.
NMR(DMSO-d6)δ:3.13(4H, s), 7.11(2H, m), 7.29(2H, m), 7.55(1H, s).
IR(KBr):3423, 1631cm-1
化合物I-14
融点:237−239℃.
元素分析:C16H12ClFN2O3(H2O)0.2として
計算値(%):C, 56.80; H, 3.69; N, 8.28; Cl, 10.48; F, 5.62.
分析値(%):C, 56.74; H, 3.62; N, 8.33; Cl, 10.11; F, 5.40.
NMR(DMSO-d6)δ:3.12(2H, t, J=7.5Hz), 4.70(2H, t, J=7.5Hz), 7.10(2H, m), 7.17(2H, m), 7.62(1H, s), 8.08(1H, s).
IR(KBr):3421, 1697cm-1
化合物I-15
融点:244−245℃.
元素分析:C17H14ClFN2O3(H2O)1.4として
計算値(%):C, 54.60; H, 4.53; N, 7.49; Cl, 9.48; F, 5.08.
分析値(%):C, 54.66; H, 4.14; N, 7.54; Cl, 9.23; F, 4.96.
NMR(DMSO-d6)δ:2.26(3H, s), 3.06(2H, t, J=7.2Hz), 4.55(2H, t, J=7.2Hz), 7.07-7.20(4H, m), 7.53(1H, s).
IR(KBr):3421, 1660cm-1
化合物I-16
融点:267−270℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C9H7ClN2O3(NH3)(H2O)0.15として
計算値(%):C, 43.88; H, 4.21; N, 17.06; Cl, 14.39.
分析値(%):C, 44.15; H, 4.05; N, 16.70; Cl, 14.12.
NMR(DMSO-d6)δ:2.44(3H, s), 7.40(1H, s).
IR(KBr):1645cm-1
実施例5
化合物I-17
Figure 0003616628
第1工程
化合物I-12(67.2mg,0.210mmol)、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(35.4mg,0.262mmol)、N-メチルモルホリン(0.070ml,0.64mmol)およびジメチルアミン塩酸塩(53.6mg,0.657mmol)のDMF(2ml)懸濁液に室温で1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(49.4mg,0.258mmol)を加え、4時間攪拌した。反応液に氷冷下、水(5ml)を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さをエタノール−ジイソプロピルエーテルで再結晶を行い、化合物I-17(19.4mg,0.0558mmol)を無色結晶として収率27%で得た。
融点:253−257℃ 再結晶溶媒:エタノール−ジイソプロピルエーテル
元素分析:C17H15ClFN3O2(H2O)0.1として
計算値(%):C, 58.41; H, 4.38; N, 12.02; Cl, 10.14; F, 5.43.
分析値(%):C, 58.25; H, 4.28; N, 11.98; Cl, 10.08; F, 5.18.
NMR(DMSO-d6)δ:2.90(3H, s), 2.93(3H, s), 4.19(2H, s), 6.95(1H, s), 7.16(2H, m), 7.37(2H, m).
IR(KBr):3425, 1603cm-1
実施例5の合成法に準じ、化合物I-18〜I-20を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-18
融点:237−239℃(dec.)再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C16H13ClFN3O2(H2O)0.1として
計算値(%):C, 57.27; H, 3.97; N, 12.52; Cl, 10.57; F, 5.66.
分析値(%):C, 57.19; H, 3.89; N, 12.35; Cl, 10.28; F, 5.38.
NMR(DMSO-d6)δ:2.82(3H, d, J=4.8Hz), 4.17(2H, s), 7.15(2H, m), 7.38(2H, m), 7.72(1H, s).
IR(KBr):3386, 1604cm-1
化合物I-19
融点:184−186℃ 再結晶溶媒:メタノール−ジイソプロピルエーテル
元素分析:C21H15ClFN3O2(HCl)1.0(H2O)0.3として
計算値(%):C, 57.63; H, 3.82; N, 9.60; Cl, 16.20; F, 4.34.
分析値(%):C, 57.60; H, 3.81; N, 9.89; Cl, 15.95; F, 4.29.
NMR(DMSO-d6)δ:4.32(2H, s), 7.14-7.24(3H, m), 7.39(2H, d, J=7.8Hz), 7.46(2H, m), 7.3972(2H, d, J=7.8Hz), 8.17(1H, s), 10.53(1H, brs).
IR(KBr):3423, 1601cm-1
化合物I-20
融点:268−272℃(dec.)再結晶溶媒:メタノール−テトラヒドロフラン−ジイソプロピルエーテル
元素分析:C19H17ClFN3O2として
計算値(%):C, 61.05; H, 4.58; N, 11.24; Cl, 9.48; F, 5.08.
分析値(%):C, 60.82; H, 4.49; N, 11.23; Cl, 9.36; F, 4.84.
NMR(DMSO-d6)δ:1.80-1.87(4H, m), 3.25-3.56(4H, m), 4.19(2H, s), 6.95(1H, s), 7.07-7.22(3H, m), 7.38(2H, m), 12.90(1H, brs).
IR(KBr):3425, 1591cm-1
実施例6
化合物I-21
Figure 0003616628
第1工程
化合物5(2.50g,7.17mmol)、10%パラジウム炭素(499mg)、トリエチルアミン(10ml)のメタノール懸濁液を4気圧の水素雰囲気下、室温で15時間攪拌した。反応液をろ過した後、ろ液から溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサン−ジイソプロピルエーテルで再結晶を行い、化合物9(2.18g,6.93mmol)を無色結晶として収率97%で得た。
第2工程
実施例1の第5工程と同様の反応を行い、化合物I-21を得た。
融点:199−201℃ 再結晶溶媒:エタノール−ジイソプロピルエーテル
元素分析:C16H13FN2O3(HCl)1.0として
計算値(%):C, 57.07; H, 4.19; N, 8.32; Cl, 10.53; F, 5.64.
分析値(%):C, 57.90; H, 4.21; N, 8.45; Cl, 10.29; F, 5.68.
NMR(DMSO-d6)δ:3.94(3H, s), 4.45(2H, s), 7.22(2H, m), 7.24(1H, d, J=8.7Hz), 7.51(2H, m), 7.81(1H, d, J=8.7Hz), 11.29(1H, brs).
IR(KBr):3417, 1678cm-1
実施例6の合成法に準じ、化合物I-22〜I-23を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-22
融点:202−204℃.
元素分析:C17H15FN2O3(HCl)0.1として
計算値(%):C, 64.22; H, 4.79; N, 8.81; Cl, 1.11; F, 5.98.
分析値(%):C, 64.53; H, 4.72; N, 8.80; Cl, 1.09; F, 5.75.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 3.90(3H, s), 5.46(2H, s), 7.08(1H, d, J=8.7Hz), 7.17(4H, d, J=7.2Hz), 7.60(1H, d, J=8.7Hz), 11.27(1H, brs).
IR(KBr):3417, 1666cm-1
化合物I-23
融点:222−255℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C17H15FN2O3(HCl)1.0として
計算値(%):C, 58.21; H, 4.60; N, 7.99; Cl, 10.11; F, 5.42.
分析値(%):C, 58.03; H, 4.49; N, 8.02; Cl, 9.83; F, 5.20.
NMR(DMSO-d6)δ:3.21(2H, t, J=7.4Hz), 3.37(2H, t, J=7.4Hz), 3.95(3H, s), 7.13(2H, m), 7.27(1H, d, J=8.6Hz), 7.29(2H, m), 7.83(1H, d, J=8.6Hz), 11.28(1H, brs).
IR(KBr):3423, 1684cm-1
実施例7
化合物I-24
Figure 0003616628
第1工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-24を得た。
元素分析:C15H11FN2O3(H2O)0.5として
計算値(%):C, 61.02; H, 4.10; N, 9.49; F, 6.43.
分析値(%):C, 61.26; H, 3.83; N, 9.56; F, 6.05.
NMR(DMSO-d6)δ:4.21(3H, s), 6.96(1H, d, J=8.6Hz), 7.17(2H, m), 7.39(2H, m), 7.59(1H, d, J=8.6Hz).
IR(KBr):3431, 1631cm-1
実施例7の合成法に準じ、化合物I-25を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-25
融点:152−155℃.
元素分析:C16H13FN2O3(HCl)0.2(H2O)0.2として
計算値(%):C, 61.76; H, 4.41; N, 9.00; Cl, 2.28; F, 6.11.
分析値(%):C, 61.64; H, 4.38; N, 9.04; Cl, 1.89; F, 5.85.
NMR(DMSO-d6)δ:3.07-3.23(4H, m), 6.95(1H, d, J=8.4Hz), 7.11(2H, m), 7.27(2H, m), 7.63(1H, d, J=8.4Hz).
IR(KBr):3421, 1631cm-1
実施例8
化合物I-26
Figure 0003616628
第1工程
水素化ナトリウム(60%,130mg,3.36mmol)のTHF懸濁液に氷冷下、化合物5(900mg,2.58mmol)のDMF−THF(1:2 v/v,3ml)溶液を滴下した後、45分間攪拌した。反応液に氷冷下、水(10ml)を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水(20ml)、飽和食塩水(20ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さをジイソプロピルエーテル−ヘキサンに懸濁させた後、ろ取し、化合物10の位置異性体の混合物(894mg,2.28mmol)を無色結晶として収率88%で得た。
第2工程
n-ブチルリチウム(1.50Mヘキサン溶液,0.305ml,0.458mmol)のジエチルエーテル溶液に-78℃で2-ブロモチアゾール(0.0413ml,0.458mmol)を滴下し、20分間攪拌した後、上記化合物10(151mg,0.383mmol)のTHF−ジエチルエーテル(4:1 v/v,2.5ml)溶液を加え、30分間攪拌した。反応液に氷冷下、飽和塩化アンモニウム水溶液(2ml)、水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水(5ml)、飽和食塩水(5ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物11の粗生成物を褐色油状物として得た。
第3工程
上記粗生成物11の酢酸(1.5ml)溶液に47%臭化水素酸水溶液(4ml)を加え、1.5時間加熱還流した。反応液に氷冷下、5規定水酸化ナトリウム水溶液を加え中和した後、水を加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、メタノールで再結晶を行い、化合物I-26(46.3mg,1.19mmol)を黄色結晶として通算収率31%で得た。
融点:137−139℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C18H11ClFN3O2S(H2O)1.3として
計算値(%):C, 52.57; H, 3.33; N, 10.22; Cl, 8.62; F, 4.62; S, 7.80.
分析値(%):C, 52.47; H, 3.01; N, 9.96; Cl, 8.72; F, 4.60; S, 7.84.
NMR(DMSO-d6)δ:4.23(2H, s), 7.17(2H, m), 7.40(2H, m), 8.33(2H, d, J=2.7Hz), 8.35(1H, d, J=2.7Hz), 8.92(1H, s), 13.33(1H, brs).
IR(KBr):3429, 1631cm-1
実施例8の合成法に準じ、化合物I-27〜I-31を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-27
融点:239−240℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H12FN3O2S(H2O)0.1として
計算値(%):C, 60.87; H, 3.46; N, 11.83; F, 5.35; S, 9.03.
分析値(%):C, 60.76; H, 3.36; N, 11.77; F, 5.10; S, 9.00.
NMR(DMSO-d6)δ:4.20(2H, s), 7.13(2H, m), 7.18(1H, d, J=9.0Hz), 7.39(2H, m), 8.27(1H, d, J=2.9Hz), 8.31(1H, d, J=2.9Hz), 8.87(1H, d, J=2.9Hz), 13.06(1H, brs).
IR(KBr):3440, 1637cm-1
化合物I-28
融点:258−261℃ 再結晶溶媒:メタノール−テトラヒドロフラン−アセトニトリル
元素分析:C19H13ClFN3O2Sとして
計算値(%):C, 56.79; H, 3.26; N, 10.46; Cl, 8.82; F, 4.73; S, 7.98.
分析値(%):C, 56.62; H, 3.18; N, 10.37; Cl, 8.77; F, 4.60; S, 7.83.
NMR(DMSO-d6)δ:3.98(3H, s), 4.35(2H, s), 7.13(2H, m), 7.34(2H, m), 8.29-8.36(2H, m), 8.86(1H, s), 12.90(1H, brs).
IR(KBr):3433, 1639cm-1
化合物I-29
融点:208−211℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ヘキサン
元素分析:C20H15ClFN3O2Sとして
計算値(%):C, 57.76; H, 3.64; N, 10.10; Cl, 8.52; F, 4.57; S, 7.71.
分析値(%):C, 57.61; H, 3.48; N, 10.01; Cl, 8.22; F, 4.39; S, 7.51.
NMR(DMSO-d6)δ:2.32(3H, s), 3.10(2H, d, J=7.4Hz), 4.62(2H, d, J=7.4Hz), 7.08-7.23(4H, m), 8.31(1H, d, J=3.0Hz), 8.34(1H, d, J=3.0Hz), 8.83(1H, s), 12.78(1H, brs).
IR(KBr):3433, 1643cm-1
化合物I-30
融点:189−192℃ 再結晶溶媒:メタノール−酢酸エチル
元素分析:C21H15FN2O2(HBr)1.0として
計算値(%):C, 59.03; H, 3.77; N, 6.56; Br, 18.70; F, 4.45.
分析値(%):C, 58.85; H, 3.65; N, 6.68; Br, 19.09; F, 4.38.
NMR(DMSO-d6)δ:4.44(2H, s), 7.20-7.29(3H, m), 7.43-7.51(3H, m), 7.54-7.62(2H, m), 7.65-7.75(3H, m), 12.19(1H, brs).
IR(KBr):3431, 1658cm-1
化合物I-31
融点:287−289℃(dec.)再結晶溶媒:メタノール−テトラヒドロフラン
元素分析:C17H11ClFN5O2(HBr)0.15(H2)0.5として
計算値(%):C, 51.97; H, 3.12; N, 17.82; Br, 3.05; Cl, 9.02; F, 4.84.
分析値(%):C, 52.07; H, 3.24; N, 17.56; Br, 2.94; Cl, 8.78; F, 4.69.
NMR(DMSO-d6)δ:4.24(2H, s), 7.17(2H, m), 7.40(2H, m), 8.69(1H, s), 8.76(1H, brs), 12.19(1H, brs).
IR(KBr):3440, 1649cm-1
実施例9
化合物I-32
Figure 0003616628
第1工程
化合物5(1.36g,3.90mmol)のエタノール溶液に室温で1規定水酸化ナトリウム水溶液を加え、3.5時間加熱還流した。反応液に氷冷下、2規定塩酸を加えpH5とした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−メタノール−ヘキサンで再結晶を行い、化合物12(1.06g,3.17mmol)を無色結晶として81%の収率で得た。
融点:201−205℃.
NMR(CDCl3)δ:3.93(3H, brs), 4.22(2H, s), 7.16(2H, m), 7.39(2H, m), 7.53(1H, s).
第2工程
上記化合物12(337mg,1.01mmol)、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(207mg,1.53mmol)、およびフェニル酢酸ヒドラジド(234mg,1.53mmol)のTHF(3ml)懸濁液に室温で1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(291mg,1.52mmol)を加え、5.5時間攪拌した。反応液に氷冷下、水(15ml)を加え、析出した結果をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物13の粗生成物(470mg)を無色結晶として得た。
第3工程
上記粗生成物13(401mg)とオキシ塩化リン(4ml)の混合物を2時間加熱還流した。過剰のオキシ塩化リンを減圧下留去して得られた残さに、氷水に続いて28%アンモニア水を加え、中和した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物14の粗生成物(251mg)を無色結晶として得た。
第4工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-32を得た。
融点:169−172℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル
元素分析:C23H16ClFN4O2(H2O)0.3として
計算値(%):C, 62.75; H, 3.80; N, 12.73; Cl, 8.05; F, 4.32.
分析値(%):C, 62.72; H, 3.69; N, 12.79; Cl, 7.62; F, 4.16.
NMR(DMSO-d6)δ:4.22(2H, s), 4.38(2H, s), 7.16(2H, m), 7.26-7.55(8H, m).
IR(KBr):3411cm-1
実施例9の合成法に準じ、化合物I-33〜I-50を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-33
融点:206−208℃ 再結晶溶媒:イソプロパノール
元素分析:C17H12ClFN4O2(i-PrOH)0.1(H2O)0.2として
計算値(%):C, 56.41; H, 3.61; N, 15.21; Cl, 9.62; F, 5.16.
分析値(%):C, 56.48; H, 3.46; N, 15.13; Cl, 9.28; F, 4.92.
NMR(DMSO-d6)δ:2.66(3H, s), 4.35(2H, s), 7.05(2H, m), 7.31(2H, m), 7.60(1H, s).
IR(KBr):3429cm-1
化合物I-34
融点:180−182℃ 再結晶溶媒:イソプロパノール
元素分析:C23H16ClFN4O3(HCl)0.1(H2O)0.3として
計算値(%):C, 60.07; H, 3.66; N, 12.18; Cl, 8.48; F, 4.13.
分析値(%):C, 60.10; H, 3.36; N, 12.35; Cl, 8.54; F, 3.98.
NMR(DMSO-d6)δ:4.35(2H, s), 5.36(2H, s), 6.99-7.11(3H, m), 7.23-7.39(6H, m), 7.65(1H, s).
IR(KBr):3421cm-1
化合物I-35
融点:255−257℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C17H13ClN4O2(EtOH)0.2として
計算値(%):C, 59.71; H, 4.09; N, 16.01; Cl, 10.13.
分析値(%):C, 59.44; H, 3.96; N, 16.18; Cl, 9.98.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 4.38(2H, s), 7.27-7.50(6H, m), 10.55(1H, brs), 12.96(1H, brs).
IR(KBr):3410cm-1
化合物I-36
融点:262−265℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C11H9ClN4O2として
計算値(%):C, 49.92; H, 3.43; N, 21.17; Cl, 13.40.
分析値(%):C, 49.68; H, 3.38; N, 21.00; Cl, 13.32.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 2.60(3H, s), 7.50(1H, s), 10.50(1H, brs), 12.94(1H, brs).
IR(KBr):3421cm-1
化合物I-37
融点:266−268℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C17H13ClN4O3(H2O)0.6として
計算値(%):C, 55.55; H, 3.89; N, 15.24; Cl, 9.64.
分析値(%):C, 55.63; H, 3.77; N, 15.08; Cl, 9.60.
NMR(DMSO-d6)δ:2.55(3H, s), 5.49(2H, s), 7.03(1H, m), 7.14(2H, m), 7.35(2H, m), 7.54(1H, brs), 10.48(1H, brs), 12.99(1H, brs).
IR(KBr):3384cm-1
化合物I-38
融点:>300℃ 再結晶溶媒:クロロホルム−メタノール
元素分析:C16H11ClN4O2(H2O)0.4として
計算値(%):C, 57.55; H, 3.56; N, 16.78; Cl, 10.62.
分析値(%):C, 57.30; H, 3.76; N, 16.67; Cl, 10.86.
NMR(DMSO-d6)δ:2.56(3H, s), 7.60-7.71(3H, m), 7.78(1H, s), 8.13-8.24(2H, m), 10.59(1H, brs), 12.98(1H, brs).
IR(KBr):3415cm-1
化合物I-39
融点:247−249℃ 再結晶溶媒:イソプロパノール
元素分析:C17H12ClFN4O2として
計算値(%):C, 56.91; H, 3.37; N, 15.62; Cl, 9.88; F, 5.30.
分析値(%):C, 56.76; H, 3.42; N, 15.58; Cl, 10.16; F, 5.08.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 4.38(2H, s), 7.21(2H, m), 7.42-7.53(3H, m), 10.61(1H, brs), 12.95(1H, brs).
IR(KBr):3338cm-1
化合物I-40
融点:>300℃ 再結晶溶媒:クロロホルム−メタノール
元素分析:C18H12ClFN4O2(CHCl3)0.3(H2O)0.5として
計算値(%):C, 52.89; H, 3.23; N, 13.48; Cl, 16.21; F, 4.57.
分析値(%):C, 52.56; H, 3.13; N, 13.41; Cl, 16.54; F, 4.37.
NMR(DMSO-d6)δ:2.55(3H, s), 7.31(2H, m), 7.40(1H, d, J=16.5Hz), 7.73(1H, s), 7.70-7.98(3H,m), 10.60(1H, brs), 13.01(1H, brs).
IR(KBr):3367cm-1
化合物I-41
融点:175−177℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C18H14ClFN4O2として
計算値(%):C, 57.99; H, 3.79; N, 15.03; Cl, 9.51; F, 5.10.
分析値(%):C, 57.88; H, 3.76; N, 14.99; Cl, 9.12; F, 5.07.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 3.12(2H, t, J=7.4Hz), 3.27(2H, t, J=7.4Hz), 7.12(2H, m), 7.36(2H, m), 7.50(1H, s), 10.55(1H, brs), 12.99(1H, brs).
IR(KBr):3423cm-1
化合物I-42
融点:250−253℃ 再結晶溶媒:クロロホルム−メタノール
元素分析:C16H10ClFN4O2(S)0.75(H2O)0.5として
計算値(%):C, 50.87; H, 2.93; N, 14.83; Cl, 9.38; F, 5.03; S, 6.37.
分析値(%):C, 50.90; H, 2.63; N, 14.83; Cl, 9.47; F, 4.82; S, 6.32.
NMR(DMSO-d6)δ:4.39(2H, s), 7.21(2H, m), 7.47(2H, m), 7.57(1H, s), 8.39(1H, s), 10.52(1H, brs), 13.29(1H, brs).
IR(KBr):3431cm-1
化合物I-43
融点:103−105℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C16H10ClFN4O2(MeOH)0.5(H2O)0.5として
計算値(%):C, 59.07; H, 3.80; N, 11.72; Cl, 7.42; F, 7.95.
分析値(%):C, 59.09; H, 3.72; N, 11.90; Cl, 7.29; F, 7.82.
NMR(DMSO-d6)δ:4.22(2H, s), 4.38(2H, s), 7.16(2H, m), 7.21(2H, m), 7.39(2H, m), 7.46(2H, m), 7.51(1H, s), 10.56(1H, brs), 13.18(1H, brs).
IR(KBr):3423cm-1
化合物I-44
融点:246−250℃ 再結晶溶媒:イソプロパノール
元素分析:C17H12ClFN4O2(H2O)0.2として
計算値(%):C, 56.35; H, 3.45; N, 15.46; Cl, 9.78; F, 5.24.
分析値(%):C, 56.43; H, 3.19; N, 15.51; Cl, 9.98; F, 5.05.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 4.42(2H, s), 7.15(1H, m), 7.22-7.33(2H, m), 7.38-7.53(2H, m), 10.52(1H, brs), 12.96(1H, brs).
IR(KBr):3429cm-1
化合物I-45
融点:272−276℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロパノール
元素分析:C17H12ClFN4O2(i-PrOH)0.1(H2O)0.2として
計算値(%):C, 56.41; H, 3.61; N, 15.21; Cl, 9.62; F, 5.16.
分析値(%):C, 56.28; H, 3.31; N, 15.32; Cl, 9.47; F, 5.03.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 4.42(2H, s), 7.20-7.32(2H, m), 7.35-7.56(3H, m), 10.51(1H, brs), 12.96(1H, brs).
IR(KBr):3408cm-1
化合物I-46
融点:163−166℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C18H12ClF3N4O2(H2O)0.4として
計算値(%):C, 51.97; H, 3.10; N, 13.47; Cl, 8.52; F, 13.70.
分析値(%):C, 51.79; H, 2.81; N, 13.57; Cl, 8.74; F, 13.67.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 4.52(2H, t, J=7.8Hz), 7.41-7.80(5H, m), 10.39(1H, brs), 12.97(1H, brs).
IR(KBr):3411cm-1
化合物I-47
融点:268−270℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル
元素分析:C23H17ClN4O2(H2O)0.1として
計算値(%):C, 65.98; H, 4.14; N, 13.58; Cl, 8.47.
分析値(%):C, 65.86; H, 4.06; N, 13.40; Cl, 8.48.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 6.08(2H, d, J=9.6Hz), 7.26-7.53(11H, m), 10.47(1H, brs), 12.97(1H, brs).
IR(KBr):3421cm-1
化合物I-48
融点:249−252℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C16H11ClN4O2S(S)0.1として
計算値(%):C, 51.48; H, 3.17; N, 16.01; Cl, 10.13; S, 10.08.
分析値(%):C, 51.36; H, 3.08; N, 15.95; Cl, 9.88; S, 10.07.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 4.39(2H, s), 7.17(1H, m), 7.51(2H, m), 7.57(1H, m), 10.57(1H, brs), 12.96(1H, brs).
IR(KBr):3429cm-1
化合物I-49
融点:263−266℃ 再結晶溶媒:イソプロパノール
元素分析:C17H19ClN4O2(H2O)0.2として
計算値(%):C, 58.27; H, 5.58; N, 15.99; Cl, 10.12.
分析値(%):C, 58.38; H, 5.50; N, 16.03; Cl, 10.10.
NMR(DMSO-d6)δ:0.99-1.34(5H, m), 1.58-1.91(6H, m), 2.54(3H, s), 2.84(1H, d, J=6.6Hz), 7.51(1H, s), 10.51(1H, brs), 12.96(1H, brs).
IR(KBr):3419cm-1
化合物I-50
融点:169−173℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロパノール
元素分析:C17H12ClN7O2(HBr)0.7(H2O)0.8として
計算値(%):C, 45.09; H, 3.18; N, 21.65; Br, 12.35; Cl, 7.83.
分析値(%):C, 45.19; H, 3.20; N, 21.30; Br, 12.38; Cl, 7.64.
NMR(DMSO-d6)δ:2.64(3H, s), 4.43(2H, s), 7.08(1H, m), 7.18-7.28(2H,m), 7.43(1H, m), 7.65(1H, s).
IR(KBr):3408, 2114cm-1
実施例10
化合物I-51
Figure 0003616628
第1工程−第3工程
実施例6の第1工程、実施例9の第3工程、および実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-51を得た。
融点:228−231℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C17H13FN4O2(H2O)0.1として
計算値(%):C, 62.61; H, 4.08; N, 17.18; F, 5.83.
分析値(%):C, 62.44; H, 4.07; N, 17.03; F, 5.67.
NMR(DMSO-d6)δ:2.50(3H, s), 4.37(2H, s), 7.05(1H, d, J=8.4Hz), 7.21(2H, m), 7.40-7.51(3H, m), 10.42(1H, brs), 12.51(1H, brs).
IR(KBr):3408cm-1
実施例10の合成法に準じ、化合物I-52を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-52
融点:172−173℃ 再結晶溶媒:イソプロパノール
元素分析:C19H17FN4O2として
計算値(%):C, 64.76; H, 4.86; N, 15.90; F, 5.39.
分析値(%):C, 64.65; H, 4.71; N, 15.78; F, 5.32.
NMR(CDCl3)δ:1.41(3H, t, J=7.4Hz), 2.64(3H, s), 4.15(2H, q, J=7.4Hz), 4.27(2H, s), 6.89(1H, d, J=8.6Hz), 7.06(2H, m), 7.35(2H, m), 7.52(1H, d, J=8.6Hz), 10.54(1H, brs).
IR(KBr):3431cm-1
実施例11
化合物I-53
Figure 0003616628
第1工程
化合物16(502mg,2.09mmol)、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(297mg,2.20mmol)、および1-アミノ-3-(4-フルオロフェニル)プロパン-2-オン塩酸塩(445mg,2.19mol)のTHF-DMF(5:1 v/v,12ml)懸濁液に室温で1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(424mg,2.21mmol)を加え、50分間攪拌した後、N−メチルモルホリン(0.455ml,4.14mmol)を滴下し、2時間攪拌した。反応液に室温で水(50ml)を加え、析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物17の粗生成物(549mg)を薄褐色結晶として得た。
第2、3工程
実施例10の第2工程および実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-53を得た。
融点:242−245℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C18H13ClFN3O2(HCl)0.1(H2O)0.1として
計算値(%):C, 59.52; H, 3.69; N, 11.57; Cl, 10.74; F, 5.23.
分析値(%):C, 59.40; H, 3.55; N, 11.47; Cl, 10.85; F, 5.31.
NMR(DMSO-d6)δ:2.52(3H, s), 4.16(2H, s), 7.19(2H, m), 7.41(2H, m), 7.49(1H, m), 11.64(1H, brs), 13.13(1H, brs).
IR(KBr):3421cm-1
実施例12
化合物I-54
Figure 0003616628
第1〜5工程
実施例6の第1工程、実施例9の第1工程、実施例11の第1工程、実施例10の第2工程および実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-54を得た。
融点:208−210℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル
元素分析:C18H14FN3O2(HCl)0.4(H2O)0.5として
計算値(%):C, 62.32; H, 4.47; N, 12.11; Cl, 4.09; F, 5.48.
分析値(%):C, 62.25; H, 4.14; N, 12.12; Cl, 4.12; F, 5.54.
NMR(DMSO-d6)δ:2.55(3H, s), 4.17(2H, s), 7.13(1H, d, J=8.6Hz), 7.18(2H, m), 7.40(2H, m), 7.56(1H, d, J=8.6Hz), 11.71(1H, brs).
IR(KBr):3425cm-1
実施例12の合成法に準じ、化合物I-55を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-55
融点:150−151℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ヘキサン
元素分析:C20H18FN3O2として
計算値(%):C, 68.36; H, 5.16; N, 11.96; F, 5.41.
分析値(%):C, 68.31; H, 5.15; N, 11.90; F, 5.36.
NMR(CDCl3)δ:1.41(3H, t, J=7.2Hz), 2.62(3H, s), 4.06(2H, s), 4.14(2H, q, J=7.2Hz), 6.84(1H, m), 6.84(1H, d, J=8.4Hz), 7.04(2H, m), 7.26(2H, m), 7.62(1H, d, J=8.4Hz), 11.76(1H, brs).
IR(KBr):3433cm-1
実施例13
化合物I-56
Figure 0003616628
第1工程
化合物19(302mg,0.850mmol)とローソン試薬(691mg,1.71mmol)のピリジン(4.5ml)溶液を110℃で2時間攪拌した。反応液を冷却した後、酢酸エチルで希釈し、0.1規定塩酸(15ml x 2)、水(15ml)、飽和食塩水(15ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物20(126mg,0.357mmol)を黄色結晶として収率42%で得た。
第2工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-56を得た。
融点:234−238℃ 再結晶溶媒:メタノール−ジエチルエーテル
元素分析:C18H15ClFN3OS(HCl)1.0(H2O)0.4として
計算値(%):C, 56.44; H, 4.16; N, 10.97; Cl, 9.26; F, 4.96; S, 8.37.
分析値(%):C, 56.52; H, 4.21; N, 10.82; Cl, 9.46; F, 4.85; S, 8.16.
NMR(DMSO-d6)δ:2.75(3H, s), 4.29(2H, s), 7.18(2H, m), 7.27(1H, d, J=8.7Hz), 7.39(2H, m), 7.81(1H, d, J=8.7Hz), 7.83(1H, s), 13.03(1H, brs), 14.99(1H, brs).
IR(KBr):3423cm-1
実施例14
化合物I-57
Figure 0003616628
第1工程
実施例13の第1工程と同業の反応を行って、化合物22を得た。
第2工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行って、化合物I-57を得た。
融点:249−253℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C17H13FN4OS(H2O)0.2として
計算値(%):C, 59.36; H, 3.93; N, 16.29; F, 5.52; S, 9.32.
分析値(%):C, 59.32; H, 3.76; N, 16.20; F, 5.46; S, 9.37.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 4.46(2H, s), 7.02(1H, brd, J=8.7Hz), 7.19(2H, m), 7.43(2H, m), 7.94(1H, brs), 12.48(1H, brs).
IR(KBr):3423cm-1
実施例15
化合物I-58
Figure 0003616628
第1工程
3−ニトロサリチル酸23(18.3g,0.100mol)のアセトン(400ml)溶液に室温で炭酸カリウム(31.8g,0.230mol)と硫酸ジメチル(21.8ml,0.230mol)を加え、50℃で15時間攪拌した。冷却後、反応液をろ過し無機塩をアセトンで洗浄した。ろ液を濃縮後、水と10%塩酸(40ml)を加え、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物24の粗生成物(23.3g,quant.)を無色油状物として得た。
NMR(CDCl3)δ:3.97(3H, s), 4.01(3H, s), 7.28(1H, dd, J=8.1, 8.1Hz), 7.92(1H, dd, J=8.1, 1.8Hz), 8.03(1H, dd, J=8.1, 1.8Hz).
第2工程
化合物24(14.6g,0.0693mol)の99.5%エタノール(300ml)溶液に室温で水(30ml)、鉄粉(15.5g,0.277mol)、塩化アンモニウム(1.85g,0.0347mol)を加え、4時間加熱還流した。冷却後、反応液をろ過し無機物をエタノールで洗浄した。ろ液を濃縮後、水と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物25の粗生成物(11.4g,91%)を無色油状物として得た。
NMR(CDCl3)δ:3.85(3H, s), 3.91(3H, s), 6.91(1H, dd, J=8.1, 2.1Hz), 6.95(1H, dd, J=8.1, 8.1Hz), 7.19(1H, dd, J=8.1, 2.1Hz).
第3工程
化合物25(11.4g,0.0628mol)のテトラヒドロフラン(30ml)溶液に室温でピリジン(10.2ml,0.126mol)、無水酢酸(8.90ml,0.0941mol)を加え、氷冷下で1時間30分、さらに室温で30分間攪拌した。反応液を10%塩酸(35ml)−氷水−酢酸エチルの混合物中に注ぎ、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を5%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた結晶をろ取し、ヘキサン−酢酸エチル(4:1)で洗浄して、化合物26の粗生成物(12.7g,90%)を無色結晶として得た。
NMR(CDCl3)δ:2.24(3H, s), 3.89(3H, s), 3.93(3H,s), 7.16(1H, dd, J=8.1, 8.1Hz), 7.56(1H, dd, J=8.1, 1.8Hz), 7.86(1H, brs), (1H, dd, J=8.1, 1.8Hz).
第4工程
化合物26(11.9g,0.0535mol)のトルエン(150ml)懸濁液に室温でLawesson試薬(10.8g,0.0267mol)を加え、70℃で2時間攪拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して結晶性の残さを得、これをヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒で洗浄して、化合物27(12.2g,95%)を黄色結晶として得た。
NMR(CDCl3)δ:2.79(3H, s), 3.90(3H, s), 3.94(3H, s), 7.22(1H, dd, J=8.1, 8.1Hz), 7.72(1H, dd, J=8.1, 1.8Hz), 9.01(1H, dd, J=8.1, 1.8Hz), 9.14(1H, brs).
第5工程
化合物27(3.35g,14.0mmol)とフェリシアン化カリウム(9.22g,28.0mmol)の水溶液(55ml)に60℃で6N-KOH(9.30ml,56.0mmol)を加え、同温度で1時間攪拌した。反応液を10%塩酸(20ml)−氷水−酢酸エチルの混合物中に注ぎ、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(15:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して結晶性の残さを得、これをジイソプロピルエーテル−酢酸エチルの混合溶媒で洗浄して、化合物28(1.52g,49%)を無色結晶として得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.83(3H, s), 4.12(3H, s), 7.64(1H, d, J=8.4Hz), 7.79(1H, d, J=8.4Hz), 12.91(1H, brs).
第6工程
実施例9の第2工程と同様の反応を行い、化合物29(収率94%)を無色結晶として得た。
NMR(CDCl3)δ:2.85(3H, s), 3.70(2H, s), 4.49(3H, s), 7.04(2H, m), 7.33(2H, m), 7.59(1H, d, J=8.4Hz), 8.09(1H, d, J=8.4Hz), 9.30(1H, d, J=6.9Hz), 10.93(1H, d, J=6.9Hz).
第7工程
実施例9の第3工程と同様の反応を行い、化合物30(収率91%)を無色結晶として得た。
NMR(CDCl3)δ:2.87(3H, s), 4.24(3H, s), 4.29(2H, s), 7.05(2H,m), 7.37(2H, m), 7.60(1H, d, J=8.4Hz), 7.86(1H, d, J=8.4Hz).
第8工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-58(収率47%)を無色結晶として得た。
融点:183−184℃ 再結晶溶媒:クロロホルム−酢酸エチル
元素分析:C17H12FN3O2Sとして
計算値(%):C, 59.81; H, 3.54; N, 12.31; F, 5.57; S, 9.39.
分析値(%):C, 59.68; H, 3.43; N, 12.23; F, 5.54; S, 9.46.
NMR(CDCl3)δ:2.88(3H, s), 4.30(2H, m), 7.07(2H, m), 7.36(2H, m), 7.41(1H, d, J=8.4Hz), 7.63(1H, d, J=8.4Hz), 10.83(1H, brs).
IR(KBr):3422, 1626, 1583, 1514, 1460, 1365, 1227, 1165cm-1
実施例15の合成法に準じ、化合物I-59〜61を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-59
融点:168−169℃ 再結晶溶媒:ヘキサン−酢酸エチル
元素分析:C18H13FN2O2Sとして
計算値(%):C, 63.52; H, 3.85; N, 8.23; F, 5.58; S, 9.42.
分析値(%):C, 63.45; H, 3.75; N, 8.15; F, 5.46; S, 9.40.
NMR(CDCl3)δ:2.87(3H, s), 4.07(2H, s), 6.89(1H, t, J=0.9Hz), 7.04(2H, m), 7.22-7.30(2H, m), 7.35(1H, d, J=8.4Hz), 7.73(1H, d, J=8.4Hz), 11.96(1H, brs).
IR(KBr):1572, 1508, 1466cm-1
化合物I-60
融点:197−198℃ 再結晶溶媒:クロロホルム−酢酸エチル
元素分析:C18H13FN2OS2として
計算値(%):C, 60.65; H, 3.68; N, 7.86; F, 5.33; S, 17.99.
分析値(%):C, 60.49; H, 3.50; N, 7.75; F, 5.43; S, 17.98.
NMR(CDCl3)δ:2.86(3H, s), 4.17(2H, s), 7.03(2H, m), 7.20-7.28(2H, m), 7.28(1H, d, J=8.4Hz), 7.45(1H, d, J=8.4Hz), 7.52(1H, t, J=0.9Hz), 13.04(1H, brs).
IR(KBr):1510, 1452cm-1
化合物I-61
融点:195−196℃ 再結晶溶媒:クロロホルム−酢酸エチル
元素分析:C17H12FN3OS2として
計算値(%):C, 57.13; H, 3.38; N, 11.76; F, 5.32; S, 17.94.
分析値(%):C, 57.01; H, 3.24; N, 11.68; F, 5.21; S, 17.98.
NMR(CDCl3)δ:2.87(3H, s), 4.44(2H, m), 7.07(2H, m), 7.30-7.37(2H, m), 7.33(1H, d, J=8.4Hz), 7.37(1H, d, J=8.4Hz), 12.10(1H, brs).
IR(KBr):1510, 1458cm-1
実施例16
化合物I-62
Figure 0003616628
第1工程
文献既知(J.Chem.Soc.Perkin Trans.1,2789-2811,(1992))の化合物31(2.06g,8.12mmol)に室温で1規定水酸化ナトリウム水溶液(40ml)を加え、1時間攪拌した。反応液に氷冷下、2規定塩酸を加え中和した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物32(1.49g,6.60mmol)を無色結晶として収率81%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.62(3H, s), 3.78(3H, s), 8.75(1H, s), 13.43(1H, brs).
第2工程
実施例9の第2工程と同様の反応を行い、化合物33を得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.62(3H, s), 3.55(2H, s), 3.78(3H, s), 7.16(2H, m), 7.38(2H, m), 8.33(1H, s), 10.42(1H, brs), 10.48(1H, brs).
第3工程
実施例9の第3工程と同様の反応を行い、化合物34を得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.65(3H, s), 3.81(3H, s), 4.42(2H, s), 7.22(2H, m), 7.47(2H, m), 8.7(1H, s).
第4工程
化合物34(599mg,1.67mmol)のメタノール(6ml)懸濁液にナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液,1.5ml)を加え、1.5時間加熱還流した。反応液に氷冷下、水(30ml)を加えた後、1規定塩酸を加え中和した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、減圧下加熱乾燥し、化合物35(495mg,1.40mmol)を無色結晶として収率84%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.58(3H, s), 3.75(3H, s), 4.36(2H, s), 4.55(3H, s), 7.22(2H, m), 7.44(2H, m), 8.54(1H, s).
第5工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-62を得た。
融点:229−232℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C17H14FN5O2として
計算値(%):C, 60.17; H, 4.16; N, 20.64; F, 5.60.
分析値(%):C, 59.94; H, 4.03; N, 20.41; F, 5.38.
NMR(CDCl3)δ:2.58(3H, s), 3.74(3H, s), 4.17(1H, brs), 4.37(2H, s), 7.20(2H, m), 7.44(2H, m), 8.53(1H, s).
IR(KBr):3433, 1604cm-1
実施例17
化合物I-63
Figure 0003616628
第1工程
市販化合物36(7.74g,30.0mmol)のジメチルホルムアミド(50ml)溶液に無水炭酸カリウム(8.3g,60.0mmol)及び、よう化メチル(4.7g,33.0mmol)を加え、室温下3.0時間撹拌した。反応液をろ過後、ろ液に水(100ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水(50ml)、飽和食塩水(50ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物37の粗生成物を淡黄色結晶として得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することにより、化合物37(7.32g,26.9mmol)を白色結晶として収率89.7%で得た。
NMR(CDCl3)δ:4.17(3H, s), 7.55(1H, dd, J=4.2, 1.8Hz), 7.80(1H, s), 8.53(1H, dd, J=1.8, 8.4Hz), 9.01(1H, dd, J=4.2, 1.8Hz).
第2工程
フェニルリチウム(17.0%シクロヘキサン−ジエチルエーテル溶液1.0ml)を無水ジエチルエーテル(10ml)に加え、-75℃にて5分間撹拌後、化合物37(272mg,1.0mmol)のジエチルエーテル(5ml)溶液を注意深く滴下し、1.5時間撹拌した。5−(4−フルオロ−フェニルスルファニル)−フラン−2−カルボニル−クロライドのジエチルエーテル(6.0ml)溶液を加え、1.0時間撹拌した。濃塩酸−テトラヒドロフラン(2.5:7.5 v/v)溶液を滴下後、室温まで昇温した。反応液に水(40ml)を加え、酢酸エチルで抽出後、有機層を水(50ml)、飽和食塩水(50ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物38の粗生成物を褐色油成物として得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することにより、化合物38(65.0mg,0.16mmol)を黄色油成物として収率16.0%で得た。
NMR(CDCl3)δ:4.12(3H, s), 6.50(1H, d, J=3.3Hz), 7.01-7.06(2H, m), 7.13(1H, d, J=3.3Hz), 7.44-7.49(2H, m), 7.60(1H, s), 7.60-7.64(1H, m), 8.60(1H, dd, J=8.6, 1.8Hz), 9.05(1H, dd, J=4.2, 1.8Hz).
第3工程
化合物38(50mg,0.12mol)にピリジン塩酸塩(140mg,1.20mol)を加え、190℃にて15分間加熱撹拌した。室温まで放冷後、氷水(15ml)を加え、酢酸エチルで抽出後、有機層を水(50ml)、飽和食塩水(50ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物I-63の粗生成物を黄色粗結晶として得た。ジイソプロピルエーテルにより黄色粗結晶を洗浄することにより、化合物I-63(36mg,0.09mmol)を収率75.0%で得た。
融点:120−122℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
元素分析:C20H11ClFNO3S(HCl)0.02(H2O)0.1として
計算値(%):C, 59.70; H, 2.81; N, 3.48; Cl, 8.99; F, 4.72; S, 7.97.
分析値(%):C, 59.61; H, 2.65; N, 3.44; Cl, 9.26; F, 4.60; S, 7.68.
NMR(CDCl3)δ:6.66(1H, d, J=3.6Hz), 7.06-7.11(2H, m), 7.48(1H, d, J=3.6Hz), 7.53-7.61(2H, m), 7.69(1H, dd, J=8.6, 3.9Hz), 8.23(1H, s), 8.50-8.56(1H, m), 9.00-9.20(1H, m), 13.14(1H, brs).
実施例17の合成法に準じ、化合物I-64を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-64
融点:126−128℃ 再結晶溶媒:ジエチルエーテル
元素分析:C21H13ClFNO3(HCl)0.1(C2H5O)0.01(H2O)0.15として
計算値(%):C, 64.98; H, 3.50; N, 3.60; Cl, 10.0; F, 4.89.
分析値(%):C, 65.19; H, 3.21; N, 3.71; Cl, 9.91; F, 4.57.
NMR(CDCl3)δ:4.23(2H, s), 6.30(1H, d, J=3.6Hz), 7.04-7.12(2H, m), 7.26-7.36(2H, m), 7.43(1H, d, J=3.6Hz), 8.32(1H, s), 8.54(1H, dd, J=8.6, 1.8Hz), 9.00-9.30(1H, m), 13.18(1H, brs).
実施例18
化合物I-65
Figure 0003616628
第1工程
7-ブロモ-5-クロロ-8-ヒドロキシキノリン(化合物39)(9.8g,38.0mmol)のDMF(70ml)溶液に炭酸カリウム(10.5g,76.0mmol)及び、ヨウ化メチル(6.2g,43.7mmol)を加え、室温で3時間撹拌した。反応液に水を加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶を酢酸エチルで再溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下留去し、化合物40の粗生成物(9.0g,33.0mol)を白色結晶として収率87%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物40(5.17g,20mmol)の四塩化炭素(40ml)溶液に室温下、臭素(6.4g,40mmol)及びピリジン(1.6g,40mmol)を滴下した。15時間加熱灌流した後、冷却し、2規定NaOH溶液(22ml,44mmol)を滴下した。10分間撹拌後、塩化メチレンで抽出、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によて得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(4:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物41(4.78g,13.6mmol)を白色結晶として収率68%で得た。
第3工程
化合物42(8.68g,60mmol)のトルエン溶液(40ml)に酢酸カリウム(8.84g,90mmol)、ビス(ピナコラート)ジボロン(16.8g,66mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)(1.7g,1.5mmol)を加え、3時間加熱還流した後、放冷した。
反応混合物を氷水に加え、5分間撹拌し、酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた紫色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(50:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物43(9.5g,40mmol)を無色結晶として収率67%で得た。
第4工程
第2工程で得た化合物41(1.05g,3mmol)のDMF(40ml)溶液に室温下、第3工程で得た化合物43(944mg,4mmol)、2M炭酸カリウム水溶液(4.5ml,9mmol)及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)(350mg,0.3mmol)を加え、70℃で5時間撹拌した。反応液を濾過し、濾液に水を加え、酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物44(340mg,0.89mmol)を淡黄色結晶として収率30%で得た。また混合物として得られた分画は濃縮後さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、トルエン−酢酸エチル(9:1 v/v)で溶出し、目的物の分画を減圧下濃縮する事によって化合物44(259mg,0.68mmol)を得た。上記分画と混合する事によって総収率53%で化合物44を淡黄色結晶として得た。
第5工程
エーテル10mlに2Mフェニルリチウム(0.5ml,1mmol)のシクロヘキサン溶液を滴下し、-78℃に冷却後、化合物44(200mg,0.53mmol)のエーテル溶液(5ml)を滴下した。-78℃にて30分間撹拌後、CO2ガスを60分間通じた。0℃まで昇温後、塩化アンモニウム水溶液にて中和し、酢酸エチルで抽出した。水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた結晶をエーテルにて洗浄し、化合物45(110mg,0.32mmol)を白色結晶として収率64%で得た。
第6工程
化合物45(70mg,0.2mmol)に室温下HBr−AcOH(4ml−1ml)を滴下後、110℃で60分間加熱撹拌した。冷却後水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた結晶を酢酸エチルにて洗浄し、表題化合物I-65(59mg,0.18mmol)を白色結晶として収率88%で得た。
融点:222−224℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C17H11ClFNO3(H2O)0.2として
計算値(%):C, 60.89; H, 3.43; N, 4.18; Cl, 10.57; F, 5.67.
分析値(%):C, 60.55; H, 3.30; N, 4.28; Cl, 10.96; F, 5.50.
NMR(DMSO-d6)δ:4.30(2H, s), 7.12-7.22(2H, m), 7.38-7.44(2H, m), 7.98(1H, s), 8.38(1H, brs), 8.95(1H, brs).
実施例19
化合物I-66、I-67
Figure 0003616628
第1工程
実施例18の合成法に合成した化合物45(100mg,0.29mmol)のDMF(10ml)溶液に1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(67mg,0.35mmol)及び、1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(46mg,0.35mmol)を加え、室温で30分間撹拌した。氷冷下、エタノール(10ml)、トリエチルアミン(0.1ml,1mmol)を滴下し、30分間加熱還流した後反応液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって、化合物46の淡黄色結晶(70mg,0.19mmol)を収率65%で得た。
第2工程
化合物46(45mg,0.12mmol)の塩化メチレン溶液(6ml)に氷冷下塩化アルミニウム(48mg,0.36mmol)を加え10分間撹拌した。1Mエタンチオール(120ul,0.12mmol)の塩化メチレン溶液を滴下し、更に60分間撹拌した。反応混合物を氷水に加え酢酸エチルで抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、1規定塩酸、水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって、淡い黄色結晶を得た。エーテルにより再結晶し、化合物I-66の淡黄色結晶(22mg,0.061mmol)を収率51%で得た。
融点:99−101℃ 再結晶溶媒:エーテル
元素分析:C19H15ClFNO3(H2O)0.5(ether)0.02として
計算値(%):C, 61.89; H, 4.41; N, 3.78; Cl, 9.57; F, 5.13.
分析値(%):C, 61.84; H, 3.97; N, 3.80; Cl, 9.79; F, 4.73.
NMR(CDCl3)δ:1.45(3H, t, J=7.2Hz), 4.22(2H, 2), 4.45(2H, dd, J=7.2, 7.2Hz), 7.00-7.08(2H, m), 7.16-7.24(2H, m), 7.96(1H, s), 8.28-8.32(1H, m), 8.88-8.92(1H, m).
第3工程
化合物46(230mg,0.62mmol)のMeOH−DMF溶液(10ml−2ml)に氷冷下トリエチルアミン(122mg,1.2mmol)、10%パラジウム炭素(460ug,0.2%/w)を加え、4気圧の水素雰囲気下、96時間攪拌した。反応液を濾過後、濾液を減圧濃縮し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物47(56mg,0.172mmol)を淡黄色結晶として収率28%で得た。さらに第2工程の合成法に準じて化合物47(55mg,0.16mmol)を反応させ、化合物I-67(34mg,0.105mmol)を収率65%で得た。
融点:103−105℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
元素分析:C19H16FNO3. (H2O)0.2. (HCl)0.08.として
計算値(%):C, 58.77; H, 5.01; N, 4.22; F, 5.72.
分析値(%):C, 58.39; H, 4.79; N, 4.25; F, 5.43.
NMR(CDCl3)δ:1.46(3H, t, J=7.2Hz), 4.16(2H, s), 4.48(2H, dd, J=7.2, 7.2Hz), 6.96-7.08(2H, m), 7.16-7.24(3H, m), 7.76-7.82(1H, m), 7.86-7.90(1H, m), 8.86-8.90(1H, m).
実施例19の合成法に準じ、化合物I-68〜I-69を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-68
融点:226−228℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
元素分析:C17H12ClFN2O2(H2O)0.45として
計算値(%):C, 60.08; H, 3.83; Cl, 10.74; N, 8.24; F, 5.59.
分析値(%):C, 59.89; H, 3.42; Cl, 10.84; N, 8.10; F, 5.36.
NMR(CDCl3)δ:4.23(2H, s), 5.60-6.0(1H, brs), 7.00-7.20(2H, m), 7.15-7.25(2H, m), 7.50-7.80(1H, brs), 8.20-8.35(2H, m), 8.70-8.80(1H, m).
化合物I-69
融点:169−171℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:3.09(3H, s), 4.22(2H, s), 7.00-7.08(2H, m), 7.12-7.25(2H, m), 7.70-7.80(1H, brs), 8.20-8.38(2H, m), 8.68-8.80(1H, m).
実施例20
化合物I-70
Figure 0003616628
第1工程
エーテル25mlに2Mフェニルリチウム(1.8ml,3.6mmol)のシクロヘキサン溶液を滴下し、-78℃に冷却後、実施例18の合成法に準じ合成した化合物44(700mg,1.84mmol)のエーテル(10ml)溶液を滴下した。-78℃にて30分間撹拌後、トリイソプロポキシポレート(383mg,3.7mmol)のエーテル(2ml)溶液を滴下した。30分間撹拌後、0℃まで昇温し、1規定塩酸で中和した。酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた淡黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(1:2 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物48(70mg,0.2mmol)を白色結晶として収率11%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物48(70mg,0.2mmol)のDME−EtOH(3ml−2ml)溶液に室温下、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(O)(24mg,0.021mmol)、2−ブロモピリミジン(47.7mg,0.3mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液(110ul,0.22mmol)を加え、2時間加熱還流した。反応液を冷却し、氷水中に加えた。酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物49(40mg,0.11mmol)を淡黄色結晶として収率52%で得た。
第3工程
第2工程で得られた化合物49(40mg,0.11mmol)にピリジン塩酸塩(100mg,0.87mmol)を加え、10分間170℃にて加熱撹拌した。反応液を冷却後、氷水を加え酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた淡黄色結晶をジイソプロピルエーテルにより再結晶し、化合物I-70の淡黄色結晶(28mg,0.08mmol)を収率70%で得た。
融点:204−207℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
元素分析:C20H13ClFN3O(H2O)0.1として
計算値(%):C, 65.35; H, 3.62; Cl, 9.64; N, 11.43; F, 5.17.
分析値(%):C, 65.15; H, 3.48; Cl, 9.59; N, 11.19; F, 4.89.
NMR(CDCl3)δ:4.22(2H, s), 6.98-7.06(2H, m), 7.16-7.24(2H, m), 7.31(1H, t、J=4.8Hz), 7.24-7.28(1H, m), 8.69(1H, s), 8.70-8.80(1H, m), 8.88(2H, d, J=4.8Hz).
実施例20の合成法に準じ、化合物I-71を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-71
融点:150−152℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
元素分析:C21H14ClFN2O(H2O)0.25として
計算値(%):C, 68.30; H, 3.96; Cl, 9.60; N, 7.59; F, 5.14.
分析値(%):C, 68.27; H, 3.86; Cl, 9.41; N, 7.34; F, 4.85.
NMR(CDCl3)δ:4.22(2H, s), 6.98-7.06(2H, m), 7.16 7.26(2H, m), 7.30-7.36(1H, m), 7.88-8.00(2H, m), 8.23(1H, s), 8.60-8.64(1H, m), 8.75-9.00(1H, brs).
実施例22
化合物I-73
Figure 0003616628
第1工程
エーテル15mlに2Mフェニルリチウム(0.5ml,1mmol)のシクロヘキサン溶液を滴下し、
-78℃に冷却後、実施例18の合成法に準じ合成した化合物44(190mg,0.5mmol)のエーテル(4ml)溶液を滴下した。−78℃にて30分間撹拌後、プロピオン酸塩化物(92.5mg,1.0mmol)のエーテル(2ml)溶液を滴下した。30分間撹拌後、塩化アンモニウム水溶液で中和した。反応液を酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた淡黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物13を黄色油状物として得た。さらに実施例20の第3工程の合成法に準じて化合物51を反応させ、化合物I-73(6mg,0.0174mmol)を収率4%で得た。
融点:125−127℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C16H11ClFNO2(H2O)0.25として
計算値(%):C, 62.35; H, 3.76; N, 4.54; F, 6.16; Cl, 11.50.
分析値(%):C, 62.26; H, 3.67; N, 4.58; F, 5.88; Cl, 11.52.
NMR(CDCl3)δ:1.30(3H, t, J=7.2Hz), 3.13(2H, dd, J=7.2, 7.2Hz), 4.22(2H, s), 6.90-7.08(2H, m), 7.16-7.24(2H, m), 7.90(1H, s), 8.20-8.24(1H, m), 8.84-8.92(1H, m).
実施例23
化合物I-74、I-75
Figure 0003616628
第1工程
ナトリウムヒドリド(960mg,24mmol)のTHF(160ml)懸濁溶液に室温下、5,7-ジブロモ-8-ヒドロキシキノリン(化合物52)(6.04g,20.0mmol)を加え、2時間撹拌した。反応溶液を−78℃に冷却し、n-BuLi(1.6Mヘキサン溶液)を13.8ml滴下した。15分間撹拌後、ヨウ化メチル(3.4g,24mmol)のTHF(15ml)溶液を滴下した。さらに2時間撹拌後、2規定塩酸のTHF溶液(30ml)を滴下し室温まで昇温させた。1M炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)を滴下し、有機層を分離した。水層は塩化メチレン(50ml X 3回)で抽出し、有機層と合わせて硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗結晶をクロロホルム−ジイソプロピルエーテルで洗浄する事によって、化合物53(3.8g,16mmol)を淡茶色結晶として収率80%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物53(3.60g,15.2mmol)のDMF(30ml)溶液に炭酸カリウム(4.2g,30.4mmol)及び、ヨウ化メチル(2.58g,18.2mmol)を加え、室温で3時間撹拌した。反応液に水を加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶を酢酸エチルで再溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶と、濾液を酢酸エチルで抽出後、洗浄、乾燥し溶媒を減圧下留去して得られた濃紫色の油状物を合わせて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画と減圧下濃縮する事によって、化合物54(2.57g,10.2mmol)を淡黄色結晶として収率67%で得た。
第3工程
第2工程で得た化合物54(1.4g,5.6mmol)の四塩化炭素(8ml)溶液に室温下、臭素(1.9g,11.2mmol)を加え、1時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、ピリジン(886mg,11.2mmol)を滴下した。さらに4時間加熱還流した後冷却し、四塩化炭素層をデカンテーションによって分離した。油状の残渣に2規定水酸化ナトリウム水溶液(10ml,40mmol)を滴下し、塩化メチレンで抽出洗浄後、四塩化炭素層と合わせて乾燥し、溶媒を減圧下留去して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物55(470mg,1.4mmol)を淡黄色結晶として収率25%で得た。
第4工程
第3工程で得た化合物55(331mg,1mmol)のDMF(4ml)溶液に室温下、実施例18の第3工程で得た化合物43(283mg,1.2mmol)、2M炭酸カリウム水溶液(1ml,2mmol)、酢酸パラジウム(11mg,0.05mmol)及びトリフェニルホスフィン(26.2mg,0.1mmol)を加え、60℃で30分間加熱撹拌した。化合物45(28.3mg、0.12mmol)、酢酸パラジウム(11mg,0.05mmol)及びトリフェニルホスフィン(26.2mg,0.1mmol)を追加し2時間加熱撹拌した。冷却後反応液を氷水中に加え、酢酸エチルで抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(4:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物56(250mg,0.68mmol)を淡黄色結晶として収率68%で得た。
第5工程
実施例18の第5工程の合成法に準じて化合物56(290mg,0.81mmol)を反応させ、化合物57(175mg,0.54mmol)を淡黄色結晶として収率66%で得た。
第6工程
実施例18の第6工程の合成法に準じて化合物57(50mg,0.15mmol)を反応させ、化合物I-74(36mg,0.12mmol)を淡黄色結晶として収率80%で得た。
融点:235−238℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル−酢酸エチル
元素分析:C18H14FNO3(H2O)0.2(AcOEt)0.15として
計算値(%):C, 68.08; H, 4.79; N, 4.23; F, 5.79.
分析値(%):C, 68.23; H, 4.43; N, 4.23; F, 5.53.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 4.24(2H, s), 7.10-7.22(2H, m), 7.30-7.50(2H, m), 7.69(1H, s), 8.34-8.44(1H, m), 8.80-8.90(1H, m).
第7工程
実施例19の第1工程の合成法に準じて化合物57(115mg,0.35mmol)を反応させ、化合物58(80mg,0.23mmol)を淡黄色結晶として収率65%で得た。
第8工程
実施例19の第2工程の合成法に準じて化合物58(80mg,0.23mmol)を反応させ、化合物I-75(19mg,0.06mmol)を淡黄色結晶として収率24%で得た。
融点:74−75℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:1.47(3H, t, J=7.2Hz), 2.51(3H, s), 4.19(2H, s), 4.48(2H, dd, J=7.2, 7.2Hz), 6.96-7.06(2H, m), 7.14-7.22(2H, m), 7.69(1H, s), 7.76-8.00(1H, m), 8.84-8.90(1H, m).
実施例24
化合物I-76、I-77
Figure 0003616628
第1工程
5,7-ジブロモ-8-ヒドロキシキノリン(化合物52)(30.3g,100.0mmol)のDMF(160ml)溶液に炭酸カリウム(27.6g,200.0mmol)及びヨウ化メチル(15.6g,110mmol)を加え、室温で5時間撹拌した。反応液に水を加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶を酢酸エチルで再溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下留去し、化合物59の粗生成物(28.3.0g,89.3mmol)を白色結晶として収率89%で得た。
第2工程
化合物59(3.17g,10mmol)のトルエン-MeOH溶液(100ml-10ml)に、2M炭酸カリウム水溶液(10ml,20mmol)及びテトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(O)(350mg,0.3mmol)、フェニルボロン酸(1.46g,12mmol)を加え、110℃で40時間加熱撹拌した。反応混合物を氷水に加え、5分間撹拌し、トルエンで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(4:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物60(2.0g,6.4mmol)を無色結晶として収率64%で得た。
第3工程
実施例18の第5工程の合成法に準じて化合物60(1.8g,5.7mmol)を反応させ、化合物61(1.18g,4.2mmol)を淡黄色結晶として収率74%で得た。
第4工程
実施例19の第1工程の合成法に準じて化合物61(860mg,3.1mmol)を反応させ、化合物62(820mg,0.27mmol)を淡黄色結晶として収率86%で得た。
第5工程
実施例23の第3工程の合成法に準じて化合物62(830mg,2.7mmol)を反応させ、化合物64(650mg,1.68mmol)を淡黄色結晶として収率62%で得た。
第6工程
亜鉛(210mg,3.23mmol)のTHF(3ml)懸濁溶液に1,2−ジブロモエタン(12ul,0.15mmol)、化合物42(578mg,3mmol)、トリメチルシリルクロライド(12.5ul,0.1mmol)を加え、20分間撹拌後放置した。沈殿した亜鉛の上澄み溶液を化合物63として第7工程に使用した。
第7工程
第5工程によって得られた化合物64(300mg,0.78mmol)のTHF溶液(10ml)に酢酸パラジウム(11mg,0.05mmol)、トリフェニルホスフィン(26mg,0.1mmol)及び第6工程によって得られた化合物63のTHF(2ml)溶液を加え、60℃で90分間加熱撹拌した。反応液を冷却後、炭酸水素ナトリウム水溶液に加え、酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物65(280mg,0.67mmol)を淡黄色油状物として収率86%で得た。
第8工程
実施例19の第2工程の合成法に準じて化合物65(280mg,0.67mmol)を反応させ、化合物I-76(91mg,0.23mmol)を淡黄色結晶として収率34%で得た。
融点:101−103℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
元素分析:C25H20FNO3(H2O)0.2として
計算値(%):C, 74.13; H, 4.85; N, 3.25; F, 4.35.
分析値(%):C, 73.92; H, 4.85; N, 3.25; F, 4.35.
NMR(CDCl3)δ:1.44(3H, t, J=7.2Hz), 4.08(2H, s), 4.48(2H, dd, J=7.2, 7.2Hz), 6.90-7.04(2H, m), 7.05-7.14(2H, m), 7.38-7.50(5H, m), 7.85(1H, s), 7.90-7.94(1H, m), 8.80-8.84(1H, m).
第9工程
第8工程によって得られた化合物I-76(28mg,0.067mmol)のエタノール(2ml)溶液に4規定水酸化リチウム(0.5ml、2mmol)を加え、70℃で3時間加熱撹拌した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた黄色油状物を酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた淡緑色結晶を酢酸エチルで洗浄する事によって、化合物I-77(20mg,0.054mmol)を淡緑色結晶として収率77%で得た。
融点:221−224℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(DMSO-d6)δ:4.20(2H, s), 7.06-7.20(2H, m), 7.22-7.36(2H, m), 7.38-7.56(5H, m), 7.78(1H, s), 7.78(1H, s), 8.10-8.18(1H, m), 8.80-8.12(1H, m).
実施例25
化合物I-78
Figure 0003616628
第1工程
化合物66(284mg,1.5mmol)のDMF(10ml)懸濁溶液に、室温下1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(346mg,1.8mmol)及び1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(237mg,1.8mmol)を加え30分間撹拌した。氷冷下、ベンジルアミン(171mg,1.6mmol)を滴下し、室温で60分間撹拌した。氷水を加え酢酸エチルで抽出、水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗結晶をイソプロピルアルコールで再結晶する事によって、化合物I-78(160mg,0.57mmol)を淡黄色結晶として収率38%で得た。
融点:125−127℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルアルコール
元素分析:C18H15FN2O2として
計算値(%):C, 69.67; H, 4.87; N, 9.03; F, 6.12.
分析値(%):C, 69.35; H, 4.77; N, 9.16; F, 5.99.
NMR(CDCl3)δ:4.75(2H, s), 7.25-7.45(6H, m), 7.50-7.58(1H, m), 8.25-8.35(3H, m), 8.80-8.88(1H, m).
実施例25の合成法に準じ、化合物I-79〜I-82を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-79
融点:1155−157℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C16H12N2O2として
計算値(%):C, 72.72; H, 4.58; N, 10.60.
分析値(%):C, 72.57; H, 4.43; N, 10.67.
NMR(CDCl3)δ:7.12-7.20(1H, m), 7.36-7.48(3H, m), 7.56-7.60(1H, m), 7.76-7.80(2H, m), 8.20-8.38(2H, m), 8.85-8.90(1H, m), 9.86-9.96(1H, brs).
化合物I-80
融点:169−171℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C18H16N2O3(DMF)0.12として
計算値(%):C, 69.34; H, 5.37; N, 9.34.
分析値(%):C, 69.28; H, 5.18; N, 9.63.
NMR(DMSO-d6)δ:3.87(3H, s), 4.56-4.6(2H, m), 6.90-7.06(2H, m), 7.24-7.31(2H, m), 7.42-7.48(1H, m), 7.64-7.70(1H, m), 8.05-8.10(1H, m), 8.36-8.40(1H, m), 8.82-8.86(1H, m), 9.20-9.30(1H, m).
化合物I-81
融点:218−220℃ 再結晶溶媒:クロロホルム
NMR(DMSO-d6)δ:4.50-4.6(2H, m), 6.75-6.85(2H, m), 7.26-7.30(2H, m), 7.40-7.48(1H, m), 7.62-7.70(1H, m), 8.05-8.10(1H, m), 8.36-8.40(1H, m), 8.88-8.96(1H, m), 9.48-9.28(1H, m), 9.60-9.74(1H, brs).
化合物I-82
融点:156−158℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C18H15FN2O2として
計算値(%):C, 69.67; H, 4.87; N, 9.03; F, 6.12.
分析値(%):C, 69.35; H, 4.77; N, 9.16; F, 5.99.
NMR(CDCl3)δ:2.94-3.00(2H, m), 374-3.83(2H, m), 6.98-7.06(2H, m), 7.20-7.28(2H, m), 7.38-7.40(1H, m), 7.50-7.56(1H, m), 7.84-7.94(1H, brs), 8.12-8.20(2H, m), 8.80-8.86(1H, m).
実施例10の合成法に準じ、化合物I-83〜I-104を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-83
融点:220−224℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C23H16F2N4O2. 2H2Oとして
計算値(%):C, 60.79; H, 4.44; N, 12.33; F, 8.36.
分析値(%):C, 60.33; H, 3.66; N, 12.02; F, 8.04.
NMR(DMSO-d6)δ:4.35(2H, s), 4.40(2H, s), 7.17-7.24(4H, m), 7.26(1H, d, J=8.7Hz), 7.42-7.48(4H, m), 7.64(1H, d, J=8.4Hz).
化合物I-84
融点:253−258℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H15FN4O2. として
計算値(%):C, 63.90; H, 4.47; F, 5.62; N, 16.56.
分析値(%):C, 47.67; H, 4.18; F, 5.21; N, 12.31.
NMR(DMSO-d6)δ:1.08(3H, t, J=7.5Hz), 2.24(2H, q, J=7.5Hz), 4.43(2H, s), 7.21(1H, d, J=8.7Hz), 7.24(2H, d, J=8.7Hz), 7.48(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.93(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-85
融点:242−246℃ 再結晶溶媒:イソプロピルアルコール
元素分析:C19H17FN4O2. 0.5H2Oとして
計算値(%):C, 63.15; H, 5.02; F, 5.26; N, 15.50.
分析値(%):C, 63.27; H, 4.85; F, 5.14; N, 15.36.
NMR(DMSO-d6)δ:1.38(6H, d, J=6.9Hz), 3.30(1H, quint, J=6.9Hz), 4.27(2H, s), 7.17(1H, d, J=8.7Hz), 7.20(2H, dd, J=8.7, 1.2Hz), 7.42(2H, dd, J=9.0, 5.7Hz), 7.61(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-86
融点:239−241℃ 再結晶溶媒:ジイソプロピルエーテル
元素分析:C17H13FN4O2. (H2O)0.3として
計算値(%):C, 61.93; H, 4.16; N, 16.99; F, 5.76.
分析値(%):C, 61.94; H, 3.91; N, 16.85; F, 5.67
NMR(DMSO-d6)δ:2.50(3H, s), 4.40(2H, s), 7.05(1H, d, J=7.2Hz), 7.18-7.29(2H, m), 7.36-7.51(3H, m), 12.51(1H, br).
化合物I-87
融点:283−284℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C17H13FN4O2. (H2O)0.2として
計算値(%):C, 62.27; H, 4.12; N, 17.09; F, 5.79.
分析値(%):C, 62.14; H, 3.85; N, 17.02; F, 5.67
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 4.43(2H, s), 7.09-7.19(2H, m), 7.24-7.31(2H, m), 7.40-7.49(2H, m), 12.61(1H, br).
化合物I-88
融点:275−276℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C18H13F3N4O2として
計算値(%):C, 57.76; H, 3.50; N, 14.97; F, 15.23.
分析値(%):C, 57.71; H, 3.27; N, 15.00; F, 15.31.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 4.52(2H, s), 7.05(1H, d, J=8.4Hz), 7.48(1H, d, J=8.4Hz), 7.65(2H, d, J=8.1Hz), 7.76(2H, d, J=8.1Hz), 12.53(1H, s).
化合物I-89
融点:294−298℃ 再結晶溶媒:イソプロピルアルコール
元素分析:C22H14F2N4O2.として
計算値(%):C, 65.35; H, 3.49; F, 9.40; N, 13.86.
分析値(%):C, 54.37; H, 3.46; F, 8.40; N, 10.91.
NMR(DMSO-d6)δ:4.42(2H, s), 7.19-7.25(2H, m), 7.31(1H, d, J=8.7Hz), 7.45-7.52(4H, m), 7.63(1H, d, J=8.4Hz), 8.29(2H, dd, J=9.0, 5.4Hz).
化合物I-90
融点:252−254℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C17H20N4O2. (H2O)0.3として
計算値(%):C, 64.25; H, 6.53; N, 17.63.
分析値(%):C, 64.02; H, 6.14; N, 17.53.
NMR(CD3OD)δ:1.06-1.36(5H, m), 1.67-1.96(6H, m), 2.86(2H, d, J=6.9Hz), 4.91(3H, s), 7.14(1H, d, J=8.4Hz), 7.57(1H, d, J=8.4Hz).
化合物I-91
融点:212−214℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C17H14N4O3. (H2O)0.4として
計算値(%):C, 61.93; H, 4.35; N, 17.00.
分析値(%):C, 61.66; H, 4.10; N, 16.89.
NMR(CD3OD)δ:2.53(3H, s), 5.41(2H, s), 6.99-7.04(1H, m), 7.08-7.15(3H, m), 7.30-7.35(2H, m), 7.58(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-92
融点:249−252℃ 再結晶溶媒:メタノール−アセトニトリル−水
元素分析:C16H11FN4O2として
計算値(%):C, 61.93; H, 3.57; N, 18.06; F, 6.12.
分析値(%):C, 61.58; H, 3.61; N, 18.04; F, 6.01.
NMR(DMSO-d6)δ:4.40(2H, s), 7.22(2H, m), 7.30(1H, d, J=8.4Hz), 7.47(2H, m), 7.63(1H, d, J=8.4Hz), 8.68(1H, s), 10.85(1H, brs).
IR(KBr):3427, 1639cm-1.
化合物I-93
融点:279−281℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C17H10F4N4O2として
計算値(%):C, 53.98; H, 2.66; N, 14.81; F, 20.09.
分析値(%):C, 53.93; H, 2.57; N, 14.83; F, 19.80.
NMR(DMSO-d6)δ:4.40(2H, s), 7.21(2H, m), 7.29(1H, d, J=8.4Hz), 7.46(2H, m), 7.73(1H, d, J=8.4Hz), 11.09(1H, brs), 14.36(1H, brs).
IR(KBr):3400, 1644cm-1.
化合物I-94
融点:119−121℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H16N4O2として
計算値(%):C, 67.49; H, 5.03; N, 17.49.
分析値(%):C, 63.81; H, 5.49; N, 15.71.
NMR(DMSO-d6)δ:2.36(3H, s), 2.50(3H, s), 4.35(2H, s), 7.06(2H, m), 7.21(2H, m), 7.29(1H, m), 7.43(1H, m), 12.58(1H, brs).
化合物I-95
融点:222−224℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H16N4O2として
計算値(%):C, 67.49; H, 5.03; N, 17.49.
分析値(%):C, 66.77; H, 4.95; N, 17.28.
NMR(DMSO-d6)δ:2.30(3H, s), 2.51(3H, s), 4.32(2H, s), 7.16(5H, m), 7.45(1H, d, J=7.8Hz), 12.50(1H, brs).
化合物I-96
融点:257−259℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H16N4O2として
計算値(%):C, 67.49; H, 5.03; N, 17.49.
分析値(%):C, 66.27; H, 4.86; N, 17.17.
NMR(DMSO-d6)δ:2.29(3H, s), 2.51(3H, s), 4.32(2H, s), 7.05(1H, d, J=7.7Hz), 7.18(2H, d, J=7.8Hz), 7.44(1H, d, J=8.1Hz), 7.18(2H, d, J=7.8Hz), 12.52(1H, brs).
化合物I-97
融点:250−252℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C15H12N4O2Sとして
計算値(%):C, 57.68; H, 3.87; N, 17.94; S, 10.27.
分析値(%):C, 57.54; H, 3.76; N, 17.79; S, 10.19.
NMR(CD3OD)δ:2.57(3H, s), 4.37(2H, s), 7.10(1H, brs), 7.13-7.15(1H, m), 7.37-7.38(1H, m), 7.42-7.35(1H, m), 7.53(1H, d, J=8.4Hz).
化合物I-98
融点:202−205℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H15FN4O2として
計算値(%):C, 63.90; H, 4.47; N, 16.56; F, 5.62.
分析値(%):C, 63.08; H, 4.08; N, 16.55; F, 5.59.
NMR(CDCl3)δ:1.47(3H, t, J=7.6Hz), 3.00(2H, q, J=7.6Hz), 4.28(2H, m), 7.06(2H, m), 7.23(1H, d, J=8.5Hz), 7.35(2H, m), 7.51(1H, d, J=8.5Hz).
化合物I-99
融点:214−216℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H15FN4O2として
計算値(%):C, 64.76; H, 4.86; N, 15.90; F, 5.39.
分析値(%):C, 62.76; H, 4.55; N, 15.34; F, 5.17.
NMR(CDCl3)δ:1.04(3H, t, J=7.4Hz), 1.91(2H, m, J=7.5Hz), 2.93(2H, t, J=7.6Hz), 4.27(2H, s), 7.06(2H, m), 7.22(1H, d, J=8.4Hz), 7.35(2H, m), 7.50(1H, d, J=8.6Hz).
化合物I-100
融点:224−226℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C20H19FN4O2として
計算値(%):C, 65.56; H, 5.23; N, 15.29; F, 5.19.
分析値(%):C, 65.49; H, 5.08; N, 15.20; F, 5.18.
NMR(CDCl3)δ:1.02(6H, d, J=6.7Hz), 2.26(1H, m, J=6.7Hz), 2.82(2H, d, J=7.3Hz), 4.28(2H, s), 7.07(2H, m), 7.23(1H, d, J=8.5Hz), 7.36(2H, m), 7.51(1H, d, J=8.5Hz).
化合物I-101
融点:221−223℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C20H18FN4O2として
計算値(%):C, 64.76; H, 4.86; N, 15.90; F, 5.39.
分析値(%):C, 64.68; H, 4.70; N, 15.87; F, 5.26.
NMR(CDCl3)δ:1.48(6H, d, J=7.0Hz), 3.28(1H, m, J=7.0Hz), 4.28(2H, s), 7.07(2H, m), 7.24(1H, d, J=8.9Hz), 7.36(2H, m), 7.51(1H, dd, J=8.5, 0.6Hz).
化合物I-102
融点:98−100℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C20H17FN4O4として
計算値(%):C, 60.60; H, 4.32; N, 14.13; F, 4.79.
分析値(%):C, 59.53; H, 4.19; N, 13.63; F, 4.68.
NMR(CDCl3)δ:1.34(3H, t, J=7.1Hz), 4.12(2H, s), 4.28(2H, s), 4.29(2H, q, J=7.2Hz), 7.07(2H, m), 7.20(1H, d, J=9.5Hz), 7.36(2H, m), 7.54(1H, d, J=9.5Hz).
化合物I-103
融点:179−181℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C21H19FN4O4として
計算値(%):C, 61.46; H, 4.67; N, 13.65; F, 4.63.
分析値(%):C, 60.98; H, 4.44; N, 13.49; F, 4.51.
NMR(CDCl3)δ:1.27(3H, t, J=7.2Hz), 2.91(2H, m), 3.26(2H, m), 4.20(2H, q, J=7.2Hz), 4.27(2H, s), 7.07(2H, m), 7.18(1H, d, J=8.5Hz), 7.36(2H, m), 7.51(1H, d, J=8.5Hz).
化合物I-104
元素分析:C19H15FN4O4として
計算値(%):C, 59.69; H, 3.95; N, 14.65; F, 4.97.
分析値(%):C, 58.72; H, 3.73; N, 14.33; F, 4.78.
NMR(CDCl3)δ:2.92(2H, t, J=7.4Hz), 3.21(2H, t, J=7.4Hz), 4.31(2H, s), 7.08(2H, m), 7.17(1H, d, J=8.8Hz), 7.40(2H, m), 7.52(1H, dd, J=8.4, 0.7Hz).
実施例26
化合物I-105
Figure 0003616628
第1工程
化合物67(440mg,1.30mmol)のTHF(4ml)−DMF(1ml)の混合溶液に、氷冷下、60%水素化ナトリウム(68mg,1.70mmol)と4−フルオロベンジルブロミド(319mg,1.70mmol)を加え、氷冷下1時間攪拌後、室温で3時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、残さを酢酸エチルで再結晶して、化合物68(191mg,0.430mmol)を無色結晶として収率33%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.57(3H, s), 4.26(2H, s), 4.41(3H, s), 5.28(2H, s), 6.94(1H, d, J=8.4Hz), 7.01-7.06(6H, m), 7.36(2H, dd, J=9.0, 5.7Hz), 7.71(1H, d, J=8.4Hz).
第2工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-105を得た。
融点:244−246℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C24H18F2N4O2.として
計算値(%):C, 66.66; H, 4.20; F, 8.79; N, 12.96.
分析値(%):C, 66.57; H, 4.13; F, 8.57; N, 12.92.
NMR(DMSO-d6)δ:2.53(3H, s), 4.37(2H, s), 5.48(2H, s), 7.13-7.20(6H, m), 7.21(1H, d, J=9.0Hz), 7.44(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.52(1H, d, J=8.7Hz).
実施例26の合成法に準じ、化合物I-106〜I-121を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-106
融点:165−166℃ 再結晶溶媒:エタノール−エチルエーテル
元素分析:C20H19FN4O2.として
計算値(%):C, 65.56; H, 5.23; F, 5.19; N, 15.29.
分析値(%):C, 65.70; H, 5.19; F, 5.05; N, 15.27.
NMR(DMSO-d6)δ:0.87(3H, t, J=7.4Hz), 1.73(2H, sextet, J=7.2Hz), 2.58(3H, s), 4.14(2H, t, J=7.2Hz), 4.37(2H, s), 7.16(1H, d, J=8.4Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.52(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-107
融点:177−178℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ヘキサン
元素分析:C20H19FN4O2.として
計算値(%):C, 65.56; H, 5.23; F, 5.19; N, 15.29.
分析値(%):C, 65.59; H, 5.19; F, 4.96; N, 15.22.
NMR(DMSO-d6)δ:1.55(6H, d, J=6.9Hz), 2.58(3H, s), 4.37(2H, s), 4.74(1H, quint, J=6.9Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.29(1H, d, J=8.7Hz), 7.48(2H, dd, J=8.4, 5.4Hz), 7.48(1H, d, J=8.4Hz).
化合物I-108
融点:240−243℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H15FN4O2.として
計算値(%):C, 63.90; H, 4.47; F, 5.62; N, 16.56.
分析値(%):C, 63.63; H, 4.50; F, 5.46; N, 16.33.
NMR(DMSO-d6)δ:2.54(3H, s), 3.73(3H, s), 4.37(2H, s), 7.14(1H, d, J=8.4Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.45(2H, dd, J=9.0, 5.4Hz), 7.53(1H, d, J=8.4Hz).
化合物I-109
融点:195−197℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C20H19FN4O3.として
計算値(%):C, 62.82; H, 5.01; F, 4.97; N, 14.65.
分析値(%):C, 62.64; H, 5.00; F, 4.83; N, 14.52.
NMR(CDCl3)δ:1.17(3H, t, J=7.0Hz), 2.68(3H, s), 3.46(2H, q, J=7.0Hz), 4.37(2H, s), 5.47(2H, s), 7.01(1H, d, J=8.7Hz), 7.03-7.09(2H, m), 7.35(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.53(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-110
融点:203−205℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C21H21FN4O2.0.5H2Oとして
計算値(%):C, 65.07; H, 5.67; F, 4.90; N, 14.45.
分析値(%):C, 65.06; H, 5.52; F, 4.69; N, 14.42.
NMR(CDCl3)δ:0.96(6H, d, J=6.6Hz), 2.20(1H, m), 2.62(3H, s), 3.88(2H, d, J=7.5Hz), 4.37(2H, s), 6.87(1H, d, J=8.4Hz), 7.03-7.09(2H, m), 7.35(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.49(1H, d, J=8.4Hz).
化合物I-111
融点:154−156℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C23H23FN4O4.1.1H2Oとして
計算値(%):C, 60.28; H, 5.54; F, 4.15; N, 12.23.
分析値(%):C, 59.97; H, 5.08; F, 4.37; N, 12.10.
NMR(CDCl3)δ:1.26(3H, t, J=7.0Hz), 2.10(2H, quint, J=7.1Hz), 2.36(2H, t, J=6.7Hz), 2.62(3H, s), 4.15(2H, q, J=7.2Hz), 4.17(2H, t, J=7.4Hz), 4.27(2H, s), 6.94(1H, d, J=8.7Hz), 7.03-7.09(2H, m), 7.34(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.51(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-112
融点:219−221℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C21H19FN4O4.として
計算値(%):C, 61.46; H, 4.67; F, 4.63; N, 13.65.
分析値(%):C, 61.38; H, 4.57; F, 4.43; N, 13.59.
NMR(DMSO-d6)δ:1.92(2H, quint, J=7.3Hz), 2.30(2H, t, J=7.2Hz), 2.55(3H, s), 4.19(2H, t, J=7.3Hz), 4.37(2H, s), 7.17(1H, d, J=8.4Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.53(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-113
融点:246−248℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C21H19FN4O4.として
計算値(%):C, 61.46; H, 4.67; F, 4.63; N, 13.65.
分析値(%):C, 61.26; H, 4.58; F, 4.45; N, 13.52.
NMR(DMSO-d6)δ:1.22(3H, t, J=7.2Hz), 2.51(3H, s), 4.18(2H, q, J=7.1Hz), 4.37(2H, s), 5.21(2H, s), 7.14(1H, d, J=8.7Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.53(1H, d, J=8.4Hz).
化合物I-114
融点:291−292℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C19H15FN4O4.1.4H2Oとして
計算値(%):C, 55.99; H, 4.40; F, 4.66; N, 13.75.
分析値(%):C, 55.69; H, 4.10; F, 4.45; N, 13.49.
NMR(DMSO-d6)δ:2.48(3H, s), 4.37(2H, s), 5.09(2H, s), 7.14(1H, d, J=8.7Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.52(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-115
融点:292−297℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C19H18FN5O3.1.0H2Oとして
計算値(%):C, 57.14; H, 4.54; F, 4.76; N, 17.54.
分析値(%):C, 56.99; H, 4.22; F, 5.04; N, 17.49.
NMR(DMSO-d6)δ:2.48(3H, s), 4.37(2H, s), 4.84(2H, s), 7.06(1H, d, J=8.7Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.40(1H, brs), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.52(1H, d, J=8.7Hz), 7.78(1H, brs).
化合物I-116
融点:292−295℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C21H20FN5O3.0.8H2Oとして
計算値(%):C, 59.51; H, 5.14; F, 4.48; N, 16.52.
分析値(%):C, 59.56; H, 4.73; F, 4.31; N, 16.69.
NMR(DMSO-d6)δ:1.04(3H, t, J=7.2Hz), 2.48(3H, s), 3.07-3.16(2H, m), 4.37(2H, s), 4.83(2H, s), 7.05(1H, d, J=8.4Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.52(1H, d, J=8.7Hz), 8.35(1H, t, J=5.3Hz).
化合物I-117
融点:270−272℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C21H20FN5O3.0.22として
計算値(%):C, 61.07; H, 4.98; F, 4.60; N, 16.96.
分析値(%):C, 61.15; H, 4.87; F, 4.44; N, 16.74.
NMR(DMSO-d6)δ:1.91(2H, quint, J=6.9Hz), 2.11(2H, t, J=7.2Hz), 2.56(3H, s), 4.17(2H, t, J=7.2Hz), 4.37(2H, s), 6.81(1H, brs), 7.17(1H, d, J=8.4Hz), 7.17-7.23(2H, m), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.7Hz), 7.52(1H, d, J=8.4Hz).
化合物I-118
融点:128−130℃ 再結晶溶媒:エタノール−エチルエーテル
元素分析:C23H23FN4O3.として
計算値(%):C, 65.39; H, 5.49; F, 4.50; N, 13.26.
分析値(%):C, 65.36; H, 5.34; F, 4.38; N, 13.19.
NMR(CDCl3)δ:2.06(2H, quint, J=6.1Hz), 2.64(3H, s), 3.33(2H, t, J=5.6Hz), 3.92-3.95(2H, m), 4.25(2H, t, J=6.6Hz), 4.27(2H, s), 5.19-5.32(2H, m), 5.87-5.97(1H, m), 6.93(1H, d, J=8.4Hz), 7.03-7.08(2H, m), 7.35(2H, dd. J=8.7, 5.7Hz), 7.50(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-119
融点:146−148℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C20H19FN4O3.1.2H2Oとして
計算値(%):C, 59.46; H, 5.34; F, 4.70; N, 13.87.
分析値(%):C, 59.69; H, 5.45; F, 4.66; N, 12.92.
NMR(CDCl3)δ:2.04(2H, quint, J=6.2Hz), 2.66(3H, s), 3.64(2H, t, J=5.7Hz), 4.27(2H, s), 4.28(2H, t, J=6.6Hz), 6.97(1H, d, J=8.4Hz), 7.03-7.08(2H, m), 7.35(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.51(1H, d, J=8.7Hz).
化合物I-120
融点:246−247℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C28H22FN5O4.として
計算値(%):C, 65.75; H, 4.34; F, 3.71; N, 13.69.
分析値(%):C, 65.66; H, 4.34; F, 3.69; N, 13.69.
NMR(DMSO-d6)δ:2.08(2H, quint, J=6.9Hz), 2.55(3H, s), 3.66(2H, t, J=7.1Hz), 4.29(2H, t, J=7.2Hz), 4.27(2H, s), 7.17-7.23(2H, m), 7.19(1H, d, J=8.7Hz), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.50(1H, d, J=8.7Hz), 7.78-7.85(4H, m).
化合物I-121
融点:245−249℃ 再結晶溶媒:エタノール−酢酸エチル
NMR(CDCl3-CD3OD)δ:2.67(3H, s), 2.82-3.35(6H, brs), 4.29(2H, s), 6.88(1H, d, J=8.7Hz), 7.03-7.09(2H, m), 7.45(2H, dd, J=8.7, 5.4Hz), 7.59(1H, d, J=8.7Hz).
実施例27
化合物I-122
Figure 0003616628
第1工程
化合物69(5.97g,27.1mmol)のエタノール(81ml)溶液に、ヒドラジン一水和物(16.3ml)を加え加熱還流した。2時間後、ヒドラジン一水物(16.3ml)を追加し、さらに3時間加熱還流した。溶媒を減圧下留去後、得られた褐色結晶をイソプロピルアルコールで洗浄し、化合物70(5.28g,24.0mmol)を淡褐色結晶として収率88%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.49(3H, s), 4.36(3H, s), 4.49(2H, brs), 7.11(1H, d, J=8.4Hz), 7.59(1H, d, J=8.4Hz), 9.14(1H, brs), 12.45(1H, brs).
第2工程
化合物70(150mg,0.681mmol)のトルエン(3ml)−THF(3ml)−DMF(3ml)溶液に、フェニルチオイソシアナート(92mg,0.681mmol)を加え、80℃で30分間攪拌した。反応液にジシクロヘキシルカルボジイミド(155mg,0.749mmol)を加え、さらに80℃で16時間攪拌した。水を加えた後、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒留去後、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(9:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮した。得られた結晶をイソプロパノールから再結晶し、化合物71(143mg,0.445mmol)を無色結晶として収率65%で得た。
融点:231.5−233 ℃再結晶溶媒:イソプロパノール
元素分析:C17H15N5O2として
計算値(%):C, 63.54; H, 4.71; N, 21.79.
分析値(%):C, 63.18; H, 4.67; N, 21.35.
NMR(DMSO-d6)δ:2.53(3H, s), 4.32(3H, brs), 6.98-7.03(1H, m), 7.24(1H, brs), 7.34-7.39(2H, m), 7.51(1H, d, J=8.7Hz), 7.63(2H, d, J=8.7Hz), 10.57(1H, brs), 12.65(1H, brs).
第3工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物71(358mg,1.11mmol)から化合物I-122(75mg,0.244mmol)を無色結晶として収率22%で得た。
融点:>300℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C16H13N5O2.(H2O)0.5として
計算値(%):C, 60.75; H, 4.46; N, 22.14.
分析値(%):C, 60.55; H, 4.49; N, 21.77.
NMR(CD3OD)δ:2.61(3H, s), 7.05-7.16(2H, m), 7.36-7.41(2H, m), 7.50-7.58(3H, m).
実施例27の合成法に準じ、化合物I-123を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-123
融点:>300℃再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C16H12NF5O2.(H2O)1.0.(H2O)0.5として
計算値(%):C, 55.98; H, 4.11; N, 20.40; F, 5.53.
分析値(%):C, 56.01; H, 4.23; N, 20.16; F, 5.31.
NMR(DMSO-d3)δ:2.57(3H, s), 7.18-7.26(3H, m), 7.47(1H, d, J=8.4Hz), 7.62-7.67(2H, m), 10.81(1H, brs).
実施例28
化合物I-124
Figure 0003616628
第1工程
化合物72(3.03g,10.0mmol)、フッ化セシウム(3.45g,22.7mmol)およびトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(O)(137mg,0.150mmol)のジオキサン(6ml)懸濁液に室温でトリ-tert-ブチルホスフィン(133mg,0.605mmol)のジオキサン(6ml)溶液、トリブチルビニルスタナン(3.15ml,10.5mmol)を順次加え、100℃で24時間攪拌した。反応液をシリカゲルでろ過し、残さを酢酸エチルで洗浄した。ろ液から溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物73(419mg)を黄色結晶として収率14%で得た。
NMR(CDCl3)δ:3.13(1H, s), 3.98(3H, s), 4.01(3H, s), 5.57(1H, d, J=10.8Hz), 5.92(1H, d, J=17.4Hz), 6.57(1H, d, J=10.8, 17.4Hz), 8.25(1H, s).
第2工程〜第6工程
実施例3および実施例9と同様の反応を行い、化合物74を得た。
第7工程
化合物74(153mg,0.420mmol)および10%パラジウム炭素(16.4mg)のメタノール(5ml)懸濁液を1気圧の水素雰囲気下、室温で3時間攪拌した。反応液をろ過した後、ろ液から溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−メタノール(30:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物75(111mg)を無色結晶として収率72%で得た。
NMR(CDCl3)δ:1.34(3H, t, J=7.4Hz), 2.66(3H, s), 3.03(2H, q, J=7.4Hz), 3.96(3H, s), 4.19(3H, s), 4.28(2H, s), 7.04(2H, m), 7.38(2H, m), 7.54(1H, s).
第8工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物75(111mg,0.303mmol)から化合物I-124(71mg)を無色結晶として収率64%で得た。
融点:181−182℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル
元素分析:C19H17FN4O2として
計算値(%):C, 64.76; H, 4.86; N, 15.90; F, 5.39.
分析値(%):C, 65.15; H, 5.01; N, 15.32; F, 5.13.
NMR(DMSO-d6)δ:1.26(3H, t, J=7.4Hz), 2.54(3H, s), 3.02(2H, q, J=7.4Hz), 3.91(3H, s), 4.37(2H, s), 7.21(2H, m), 7.27(1H, s), 7.44(2H, m), 10.29(1H, brs).
IR(KBr):3421, 1621cm-1
実施例29
化合物I-125
Figure 0003616628
第1工程
文献(J.Heterocycl.Chem.,23,665-668,(1986))既知の化合物76(3.85g,18.6mmol)および炭酸カリウム(5.14g,37.2mmol)のアセトン−ジメチルホルムアミド(4:1 v/v,75ml)懸濁液に室温で、よう化メチル(3.50ml,56.2mmol)を加え、2時間加熱還流した。反応液に氷冷下、2規定塩酸を加え中和した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して得られた結晶性の残さをジイソプロピルエーテル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物77(2.45g)を無色結晶として収率60%で得た。
NMR(CDCl3)δ:1.44(3H, t, J=7.2Hz), 4.47(2H, q, J=7.2Hz), 4.57(3H, s), 7.38(1H, dd, J=4.5, 8.7Hz), 7.80(1H, dd, J=1.2, 8.7Hz), 8.61(1H, dd, J=1.2, 4.5Hz).
第2工程
化合物77(2.37g,10.7mmol)のエタノール(25ml)溶液に室温でヒドラジンー水和物(5ml)を加え、1時間加熱還流した。反応液を0℃に冷却して析出した結晶をろ取した後、エタノールで洗浄し、化合物78(1.59g)を無色結晶として収率72%で得た。
第3工程
化合物78(1.59g,7.67mmol)、p-フルオロフェニル酢酸(1.33g,8.46mmol)および1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(203mg,1.50mmol)のテトラヒドロフラン−ジメチルホルムアミド(4:1 v/v,37.5ml)懸濁液に室温で1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(1.66g,8.66mmol)を加え、2時間攪拌した。反応液に室温で水(75ml)を滴下した後、さらに氷冷下、水(75ml)を滴下した。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄し、化合物79(2.36g)を無色結晶として収率90%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:3.55(2H, s), 4.42(3H, s), 7.16(2H, m), 7.37(2H, m), 7.55(1H, dd, J=4.7, 8.6Hz), 8.11(1H, dd, J=1.2, 8.7Hz), 8.65(1H, dd, J=1.2, 4.7Hz), 9.96(1H, brs), 10.30(1H, brs).
第4工程
化合物79(314mg,0.915mmol)とオキシ塩化リン(3ml)の混合物を3時間加熱還流した。過剰のオキシ塩化リンを減圧下留去して得られた残さに、氷水、1規定水酸化ナトリウム水溶液を順次加え中和した。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、酢酸エチルで再結晶を行い、化合物80(205mg)を薄褐色結晶として収率69%で得た。
NMR(CDCl3)δ:4.30(2H, s), 4.57(3H, s), 7.06(2H, m), 7.36(3H, m), 7.80(1H, m), 8.62(1H, m).
第5工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-125を無色結晶として収率82%で得た。
融点:220−223℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル
元素分析:C16H10FN3O3として
計算値(%):C, 61.74; H, 3.24; N, 13.50; F, 6.10.
分析値(%):C, 61.73; H, 2.92; N, 13.51; F, 5.92.
NMR(DMSO-d6)δ:4.40(2H, s), 7.22(2H, m), 7.44(2H, m)7.54(1H, dd, J=4.5, 8.4Hz), 7.80(1H, dd, J=1,2, 8.4Hz), 8.65(1H, dd, J=1.2, 4.5Hz), 11.71(1H, brs).
IR(KBr):3431, 1651cm-1
実施例30
化合物I-126
Figure 0003616628
第1工程
化合物79(482mg,1.40mmol)のトルエン(10ml)懸濁液に室温でLawesson試薬(1.20g,2.82mmol)を加え、1時間加熱還流した。溶媒を減圧留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(50:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物81(383mg)を無色結晶として収率88%で得た。
NMR(CDCl3)δ:4.49(2H, s), 4.55(3H, s), 7.06(2H, m), 7.33(2H, m), 7.34(1H, dd, J=4.7, 8.4Hz), 7.83(1H, dd, J=1.2, 8.4Hz), 8.58(1H, dd, J=1.2, 4.7Hz).
第2工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-126を薄褐色結晶として収率86%で得た。
融点:261−265℃ 再結晶溶媒:ジメチルホルムアミド−酢酸エチル
元素分析:C16H10FN3O2Sとして
計算値(%):C, 58.71; H, 3.08; N, 12.84; F, 5.80; S, 9.80.
分析値(%):C, 58.47; H, 2.88; N, 12.75; F, 5.59; S, 9.54.
NMR(DMSO-d6)δ:4.54(2H, s), 7.21(2H, m), 7.46(2H, m), 7.52(1H, dd, J=4.7, 8.4Hz), 8.12(1H, dd, J=1.2, 8.4Hz), 8.62(1H, dd, J=1.2, 4.7Hz), 12.05(1H, brs).
IR(KBr):3448, 1637cm-1
実施例31
化合物I-127
Figure 0003616628
第1工程
化合物I-62(393mg,1.16mmol)のピリジン(4ml)懸濁液に室温で五硫化二リン(282mg,1.27mmol)を加え、6時間加熱還流した。反応液に氷冷下、水(12ml)、2規定塩酸(4ml)を順次加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、ジメチルホルムアミドで再結晶を行い、化合物I-127(111mg)を無色結晶として収率27%で得た。
融点:>300℃ 再結晶溶媒:ジメチルホルムアミド
NMR(DMSO-d6)δ:2.72(3H, s), 3.80(3H, s), 4.44(2H, s), 7.19(2H, m), 7.42(2H, m), 9.21(1H, s), 14.37(1H, brs).
実施例32
化合物I-128
Figure 0003616628
第1工程
4-ヒドロキシ-2-メチルベンゾオキサゾール82(3.83g,25.7mmol)の塩化メチレン(85ml)溶液に室温でジイソプロピルアミン(0.36ml,2.57mmol)とN-ブロモスクシンイミド(4.57g,25.7mmol)の塩化メチレン(150ml)溶液を加え、室温で1時間攪拌した。反応液に水と10%塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を10%塩酸、5%亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをヘキサン−ジイソプロピルエーテル(1:1)の混合溶媒で洗浄し、化合物83の粗生成物(4.83g)を無色結晶として得た。
NMR(CDCl3)δ:2.71(3H, s), 6.97(1H, d, J=8.4Hz), 7.44(1H, d, J=8.4Hz), 9.39(1H, brs).
第2工程
化合物83(4.67g,20.5mmol)のDMF(40ml)溶液に室温で炭酸カリウム(3.68g,26.7mmol)とよう化メチル(1.91ml,30.8mmol)を加え、室温で1時間攪拌した。反応液に水と10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸、5%亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(5:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物84(3.46g)を無色油状物として収率70%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.62(3H, s), 4.38(3H, s), 7.01(1H, d, J=8.7Hz), 7.43(1H, d, J=8.7Hz).
第3工程
フッ化セシウム(1.02g,6.73mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(O)(42ml,0.0459mmol)の混合物に、化合物84(740mg,3.06mmol)のジオキサン(8ml)溶液、トリ-tert-ブチルホスフィン(37mg,0.183mmol)のジオキサン(4ml)溶液、トリブチルビニルスタナン(0.98ml,3.36mmol)を加え、アルゴン雰囲気下、80℃で15時間攪拌した。反応液にジイソプロピルエーテルを加え、不溶物をろ過した後、ろ液を濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(8:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物85(260mg)を無色油状物として収率45%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.60(3H, s), 4.31(3H, s), 5.24(1H, dd, J=11.4, 1.5Hz), 5.68(1H, dd, J=17.7, 1.5Hz), 7.08(1H, d, J=8.4Hz), 7.11(1H, dd, J=17.7,11.4Hz), 7.42(1H, d, J=8.4Hz).
第4工程
化合物85(296mg,1.56mmol)のTHF(8ml)溶液に、氷冷下、トリメチルアミン-N-オキシド・二水和物(191mg,1.72mmol)、水(0.4ml)、5%四酸化オスミウム水溶液(0.40ml,0.0782mmol)を加え、室温で2時間攪拌した。反応液に5%チオ硫酸ナトリウムを加え、室温で15分攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、ジオール中間体(320mg)を褐色油状物として得た。
次に、このジオール中間体(315mg,1.41mmol)のTHF(12ml)溶液に、氷冷下、過よう素酸ナトリウム(362mg,1.69mmol)水溶液(3ml)を加え、同温度で2時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物86(245mg)を無色結晶として収率82%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.64(3H, s), 4.49(3H, s), 7.12(1H, dd, J=8.4, 0.9Hz), 7.82(1H, d, J=8.4Hz), 10.47(1H, d, J=0.9Hz).
第5工程
化合物86(240mg,1.26mmol)のメタノール溶液(5ml)−ジオキサン(5ml)溶液に室温で、2-メチル-2-ブテン(4ml)と、亜塩素酸ナトリウム(590mg,6.53mmol)とりん酸二水素ナトリウム二水和物(783mg,5.02mmol)、水溶液(6ml)を加え、同温度で6時間攪拌した。反応液に5%チオ硫酸ナトリウムを加え、室温で10分攪拌した後、5%クエン酸で酸性にして酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、カルボン酸中間体(264mg)を得た。
次に、このカルボン酸中間体(264mg,1.26mmol)から、実施例9の第2工程に従い、化合物87(330mg)を無色結晶として収率74%で得た。
第6工程
実施例9の第3工程に従い、化合物87(176mg,0.493mmol)から化合物88(128mg)を無色結晶として収率77%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.64(3H, s), 4.26(2H, s), 4.41(3H, s), 7.04(2H, m), 7.18(1H, d, J=8.4Hz), 7.35(2H, m), 7.79(1H, d, J=Hz).
第7工程
実施例4の第1工程に従い、化合物88(123mg,0.362mmol)から化合物I-128(79mg)を無色結晶として収率67%で得た。
融点:178−179℃ 再結晶溶媒:クロロホルム−エタノール
元素分析:C17H12FN3O3として
計算値(%):C, 62.77; H, 3.72; N, 12.92; F, 5.84.
分析値(%):C, 62.71; H, 3.62; N, 12.88; F, 5.72.
NMR(CDCl3)δ: 2.66(3H, s), 4.28(2H, s), 7.07(2H, m), 7.11(1H, d, J=8.7Hz), 7.35(2H, m), 7.62(1H, d, J=8.7Hz), 10.73(1H, brs).
IR(KBr):3431, 1649, 1612, 1549, 1518, 1489, 1381, 1332cm-1
実施例33
化合物I-129
Figure 0003616628
第1工程
化合物89(22.4g,231mmol)の酢酸(200ml)溶液に室温でエトキシメチレンマロン酸ジエチル(47.0ml,230mmol)を加え、2時間加熱還流した。反応液を0℃に冷却して析出した結晶をろ取した後、エタノール、エーテルで順次洗浄し、化合物90(34.4g)を無色結晶として収率67%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:1.27(3H, t, J=7.2Hz), 2.29(3H, s), 4.22(2H, q, J=7.2Hz), 6.12(1H, s), 8.51(1H, s), 12.94(1H, brs).
第2工程
化合物90(2.00g,10.7mmol)とヒドラジン一水和物(2ml)の混合物を15時間加熱還流した。氷冷下、水(8ml)を加え、析出した結晶をろ取した後、水、エーテルで順次洗浄し、化合物91(1.27g)を無色結晶として収率68%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.30(3H, s), 6.09(1H, s), 8.53(1H, s), 9.83(1H, brs).
第3工程
実施例29の第3工程と同様の反応を行い、化合物92の粗生成物を得た。
第4工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-129を薄褐色結晶として化合物91から通算収率9%で得た。
融点:>300℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル−メタノール
NMR(DMSO-d6)δ:2.32(3H, s), 4.34(2H, s), 6.18(1H, s), 7.21(2H, m), 7.42(2H, m), 8.57(1H, s), 13.14(1H, brs).
IR(KBr):3427, 1674cm-1
実施例34
化合物I-130
Figure 0003616628
第1工程
化合物2(2.00g,7.67mmol)のエタノール(10ml)溶液に室温で1規定水酸化ナトリウム水溶液(10ml)を加え、50℃で50分間攪拌した。反応液に氷冷下、2規定塩酸を加え中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水(40ml)で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物93の粗生成物(1.95g)を得た。
NMR(CDCl3)δ:4.03(3H, s), 5.87(2H, brs), 8.17(1H, s).
第2工程
化合物93(1.95g)、p-フルオロフェニル酢酸ヒドラジド(1.48g,8.80mmol)および1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(213mg,1.58mmol)のDMF(20ml)溶液に室温で1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(1.68g,8.76mmol)を加え、1時間攪拌した。反応液に室温で水(180ml)を滴下し、氷冷後、析出した結晶をろ取した後、水、エーテルで順次洗浄し、化合物94(3.04g)を黄色結晶として化合物2から通算収率100%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:3.52(2H, s), 3.84(3H, s), 6.59(2H, brs), 7.15(2H, m), 7.35(2H, m), 7.56(1H, s), 10.09(1H, brs), 10.27(1H, brs).
第3工程
実施例9の第3工程と同様の反応を行い、化合物95を黄色結晶として収率72%で得た。
第4工程
化合物95(2.12g,5.60mmol)、10%パラジウム炭素(402mg)、トリエチルアミン(8ml)のメタノール(80ml)溶液を4気圧の水素雰囲気下、室温で15時間攪拌した。反応液をろ過した後、ろ液から溶媒を減圧下留去して得られた残さを酢酸エチルで希釈し、水(20ml)、飽和食塩水(20ml)で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ヘキサンで再結晶を行い、化合物96(1.54g)を無色結晶として収率88%で得た。
NMR(CDCl3)δ:3.55(4H, br), 3.75(3H, s), 4.24(2H, s), 6.55(1H, d, J=8.7Hz), 7.04(2H, m), 7.27(1H, d, J=8.7Hz), 7.34(2H, m).
第5工程
臭化シアン(181mg,1.62mmol)の水(2.5ml)溶液に室温で化合物96(493mg,1.57mmol)のメタノール(5ml)溶液を滴下し、20時間攪拌した。反応液に氷冷下、飽和重曹水、水を順次加え、中和した。析出した結晶をろ取した後、水で順次洗浄し、化合物97(504mg)を無色結晶として収率95%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:4.04(3H, s), 4.33(2H, s), 6.42(2H, brs), 6.96(1H, d, J=8.1Hz), 7.21(2H, m), 7.28(1H, d, J=8.1Hz), 7.44(2H, m), 11.18(1H, brs).
第6工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-130を無色結晶として収率63%で得た。
融点:261−266℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル
元素分析:C16H13ClFN5O2(H2O)0.4として
計算値(%):C, 51.83; H, 3.81; N, 18.89; Cl, 9.56; F, 5.12.
分析値(%):C, 51.91; H, 3.35; N, 18.75; Cl, 9.60; F, 5.02.
NMR(DMSO-d6)δ:4.39(2H, s), 7.05(1H, d, J=8.4Hz), 7.21(2H, m), 7.45(2H, m), 7.58(1H, d, J=8.4Hz), 8.56(2H, brs), 10.70(1H, brs), 12.93(1H, brs).
IR(KBr):1697cm-1
実施例35
Figure 0003616628
第1工程
化合物96(222mg,0.706mmol)のエタノール(2ml)溶液に60℃でジアセチル(89.9mg,1.04mmol)を加え、7時間加熱還流した。反応液を0℃に冷却して析出した結晶をろ取した後、エタノール順次洗浄し、化合物98(97.2mg)を黄色結晶として収率38%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.76(3H, s), 2.79(3H, s), 4.19(3H, s), 4.32(2H, s), 7.06(2H, m), 7.39(2H, m), 7.80(1H, d, J=8.9Hz), 8.18(1H, d, J=8.9Hz).
第2工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-131を薄褐色結晶として収率75%で得た。
融点:226−228℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル
元素分析:C19H15FN4O2として
計算値(%):C, 65.14; H, 4.32; N, 15.99; F, 5.42.
分析値(%):C, 65.10; H, 4.08; N, 16.02; F, 5.37.
NMR(DMSO-d6)δ:2.70(3H, s), 2.74(3H, s), 4.41(2H, s), 7.21(2H, m), 7.46(2H, m), 7.52(1H, d, J=8.7Hz), 8.01(1H, d, J=8.7Hz), 10.92(1H, brs).
IR(KBr):3423, 1631cm-1
実施例35の合成法に準じ、化合物I-132を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-132
融点:163−164℃ 再結晶溶媒:メタノール
NMR(DMSO-d6)δ:4.43(2H, s), 7.21(2H, m), 7.47(2H, m), 7.68(1H, d, J=9.0Hz), 8.19(1H, d, J=9.0Hz), 8.99(1H, d, J=1.5Hz), 9.07(1H, d, J=1.5Hz), 11.52(1H, brs).
実施例36
化合物I-133
Figure 0003616628
第1工程
化合物96(943mg,3.00mmol)の酢酸(6.0ml)溶液に氷冷下でメチル2,2,2−トリクロロアセトイミデート(408μl,3.30mmol)、ジイソプロピルエチルアミン(473μl,2.72mmol)、塩化アンモニウム(73mg,1.36mmol)を加え、室温で45分間攪拌した。反応液に水(15ml)を加えて、析出した結晶をろ過した。次に、この結晶をTHF(27ml)に溶解し、これに5規定水酸化ナトリウム水溶液(3ml)を加え、室温で1時間30分攪拌した。反応液を濃縮し、2規定塩酸で反応液のpHを3〜4とした。析出した結晶をろ過し、水洗して、化合物99(770mg)を赤褐色結晶として収率70%で得た。
NMR(CDCl3)δ:4.28(3H, s), 4.45(2H, s), 7.06(2H, m), 7.33(1H, d, J=8.5Hz), 7.39(2H, m), 7.80(1H, d, J=8.6Hz).
第2工程
化合物99(250mg,0.68mmol)のジメチルホルムアミド(3.4ml)溶液に、室温で1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(138mg,1.02mmol)、ジイソプロピルエチルアミン(473μl,2.72mmol)、塩化アンモニウム(73mg,1.36mmol)、(ベンゾトリアゾ-1-イルオキシ)トリスピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(531mg,1.02mmol)を加え、同温度で1時間攪拌した。反応液を1規定塩酸(4ml)−氷水−酢酸エチルの混合物中に注ぎ、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸、水でそれぞれ2回洗浄した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(10:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物100の粗生成物(409mg)を黄色結晶として得た。
NMR(DMSO-d6)δ:4.36(3H, s), 4.40(2H, s), 7.22(2H, m), 7.28(1H, d, J=8.6Hz), 7.46(2H, m), 7.69(1H, d, J=8.6Hz), 7.95(1H, s), 8.26(1H, s), 13.60(1H, s).
第3工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-133を薄褐色結晶として収率54%で得た。
元素分析:C17H12FN5O3として
計算値(%):C, 57.79; H, 3.42; N, 19.82; F, 5.38.
分析値(%):C, 54.64; H, 3.33; N, 18.17; F, 4.97.
NMR(CDCl3)δ:4.39(2H, s), 7.15(1H, d, J=8.6Hz), 7.21(2H, m), 7.46(2H, m), 7.61(1H, d, J=8.6Hz), 7.90(1H, s), 8.27(1H, s).
実施例37
化合物I-134
Figure 0003616628
第1工程
化合物I-130(556mg,1.65mmol)のTHF(15ml)溶液に氷冷下、トリエチルアミン(253μl,1.82mmol)と塩化アセチル(129μl,1.82mmol)のTHF(5ml
)溶液を加え、0℃で1時間攪拌した後、室温で15分間攪拌した。反応液に水(30ml)を加えて希釈した後に、10%塩酸を加えて反応液のpHを3〜4とした。析出した結晶をろ過し、水洗して、N-アセチル中間体(327mg)を得た。次に、これをキシレン(15ml)に溶解し、170℃で22時間加熱還流した。冷却後、結晶をろ過し、これを少量のジエチルエーテルで洗浄して、化合物101(264mg)を赤色結晶として収率41%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.17(3H, s), 4.20(3H, s), 4.34(2H, s), 7.21(2H, m), 7.30(1H, d, J=8.3Hz), 7.44(2H, m), 7.47(1H, d, J=8.2Hz),
第2工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-134を無色結晶として収率22%で得た。
融点:>300℃再結晶溶媒:ニトラヒドロフラン−クロロホルム
元素分析:C18H14FN5O3として
計算値(%):C, 58.85; H, 3.84; N, 19.07; F, 5.17.
分析値(%):C, 54.64; H, 3.33; N, 18.17; F, 5.02.
NMR(DMSO-d6)δ:2.18(3H, s), 4.37(2H, s), 7.21(3H, m), 7.46(3H, m), 11.64(1H, brs).
実施例17の合成法に準じ、化合物I-135,I-136を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-135
融点:238−241℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル
元素分析:C20H15FN2O3(H2O)0.1として
計算値(%):C, 68.21; H, 4.35; N, 7.96; F, 5.40.
分析値(%):C, 68.08; H, 4.19; N, 7.91; F, 5.34.
NMR(DMSO-d6)δ:2.50(3H, s), 4.18(2H, s), 6.48(1H, d, J=3.6Hz), 7.02(1H, d, J=8.9Hz), 7.20(2H, m), 7.38(2H, m), 7.41(1H, d, J=3.6Hz), 7.84(1H, d, J=8.9Hz), 12.88(1H, brs).
IR(KBr):3431, 1635cm-1
化合物I-136
融点:205−207℃再結晶溶媒:メタノール−酢酸エチル
元素分析:C21H18ClFN2O3(H2O)0.6として
計算値(%):C, 6.27; H, 4.70; N, 6.81; Cl, 8.61; F, 4.62.
分析値(%):C, 61.24; H, 4.65; N, 6.79; Cl, 8.14; F, 4.48.
NMR(DMSO-d6)δ:2.76(3H, s), 3.89(3H, s), 4.17(2H, s), 6.52(1H, d, J=3.6Hz), 7.20(2H, m), 7.34−7.42(4H, m), 7.93(1H, d, J=8.7Hz), 12.19(1H, brs).
IR(KBr):3280, 1651cm-1
実施例38
化合物I-137
Figure 0003616628
第1工程
化合物102(3.50g,18.5mmol)とシリカゲル(1g)のメタノール(8ml)懸濁液に、氷冷下ジアゾメタンのエーテル溶液を加え、室温でで1時間30分間攪拌した。不溶物をろ過により除去し、ろ液を濃縮した。残さに水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物103(1.01g)を無色油状物として収率25%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:3.91(3H, s), 4.13(3H, s), 7.67(1H, dd, J=8.4, 3.9Hz), 7.78(1H, d, J=8.7Hz), 7.80(1H, d, J=8.7Hz), 8.45(1H, dd, J=8.4, 1.8Hz), 9.01(1H, dd, J=4.2, 1.8Hz).
第2工程
化合物103(1.04g,6.45mmol)のエタノール(30ml)溶液に、室温で1規定水酸化リチウム水溶液(8ml)を加え、75℃で2時間攪拌した。反応液に氷冷下、1規定塩酸を加え酸性とした後、反応液を減圧下濃縮した。残さに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、結晶性残さをエーテルを用いてろ取し、化合物104の粗生成物(0.900g)を収率69%で得た。
融点:184−185℃
NMR(DMSO-d6)δ:4.11(3H, s), 7.64(1H, dd, J=8.4, 3.9Hz), 7.76(2H, m), 8.43(1H, dd, J=8.4, 1.8Hz), 8.99(1H, dd, J=4.2, 1.8Hz), 13.15(1H, brs).
第3工程
実施例9の第2工程と同様の反応を行い、化合物105を無色結晶として収率49%で得た。
融点:167−168℃
NMR(DMSO-d6)δ:3.57(2H, s), 4.18(3H, s), 7.16(2H, m), 7.38(2H, m), 7.56(1H, d, J=8.4Hz), 7.64(1H, dd, J=8.4, 4.2Hz), 7.80(1H, d, J=8.4Hz), 8.43(1H, dd, J=8.4, 1.5Hz), 8.99(1H, dd, J=4.2, 1.5Hz), 10.33(1H, s), 10.55(1H, s).
第4工程
臭素の塩化メチレン溶液(0.1M,9.76ml,0.976mmol)に氷冷下、トリフェニルホスフィン(256mg,0.976mmol)を加え、氷冷下30分間、さらに室温で30分間攪拌した。次に、これに氷冷下トリエチルアミン(257mg,2.55mmol)を加え10分間攪拌した後、化合物105(300mg,0.850mmol)を加えた。室温で2時間攪拌した後、水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物106(94mg)を無色結晶として収率33%で得た。
融点:119−120℃
NMR(DMSO-d6)δ:4.12(3H, s), 4.43(2H, s), 7.23(2H, m), 7.49(2H, m), 7.50(1H, d, J=8.7Hz), 7.68(1H, dd, J=8.4, 4.2Hz), 7.88(1H, d, J=8.7Hz), 8.48(1H, dd, J=8.7, 1.8Hz), 9.02(1H, dd, J=4.2, 1.8Hz).
第5工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-137を無色結晶として収率66%で得た。
融点:172−173℃
NMR(DMSO-d6)δ:4.41(2H, s), 7.21(2H, m), 7.45(2H, m), 7.54(1H, d, J=8.7Hz), 7.70(1H, dd, J=8.4, 4.2Hz), 7.94(1H, d, J=8.7Hz), 8.43(1H, dd, J=8.4, 1.5Hz), 8.96(1H, dd, J=4.2, 1.5Hz), 10.97(1H, brs).
実施例39
化合物I-138
Figure 0003616628
第1工程
実施例30の第1工程と同様の反応を行い、化合物107を無色結晶として収率24%で得た。
融点:119−120℃
NMR(CDCl3)δ:4.28(3H, s), 4.50(2H, s), 7.05(2H, m), 7.36(2H, m), 7.49(1H, dd, J=8.1, 4.2Hz), 7.67(1H, d, J=9.0Hz), 8.20(1H, dd, J=8.4, 1.8Hz), 8.61(1H, d, J=9.0Hz), 8.97(1H, dd, J=4.2, 1.8Hz).
第5工程
実施例4の第1工程と同様の反応を行い、化合物I-138を無色結晶として収率87%で得た。
融点:164−165℃
NMR(DMSO-d6)δ:4.53(2H, s), 7.21(2H, m), 7.46(2H, m), 7.54(1H, d, J=8.7Hz), 7.67(1H, dd, J=8.4, 4.2Hz), 8.40(1H, d, J=8.7Hz), 8.42(1H, dd, J=8.4, 1.5Hz), 8.94(1H, dd, J=4.2, 1.5Hz).
実施例40
化合物I-139
Figure 0003616628
第1工程
4-フルオロシンナミン酸(50g,300mmol)のDMF(500ml)溶液に氷冷下10%パラジウム炭酸(10wt%)を加え、室温で6.5時間水素を添加した。反応液をセライトで濾過後DMFを減圧下留去した。残渣に酢酸エチル(300ml)を加えもう一度セライト濾過し、濾液を減圧下留去する事によって化合物109の粗生成物(61.8g)を白色結晶として得た。
第2工程
化合物109の粗生成物(61.8g)の塩化メチレン(350ml)溶液に、室温下1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(69.2g,360mmol)及び1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(4.07g,31mmol)を加え60分間撹拌した。2-メトキシアニリン(40.6g,330mmol)の塩化メチレン(30ml)溶液を滴下し、室温で2時間撹拌した。氷水を加え攪拌後、塩化メチレン層を分離し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を合わせ、1N HCl水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた白色結晶をジイソプロピルエーテルで洗浄する事によって化合物110(69.4g,254mmol)を84.6%の収率で得た。
第3工程
オキシ塩化リン(310g,2.0mol)に氷冷下DMF(27.4g,375mmol)を滴下し、30分間撹拌した。化合物110(684g,250mmol)を結晶のまま加え、室温まで昇温後30分間撹拌した。反応液を75℃で18時間反応させた後、オキシ塩化リンを減圧留去し、氷水(500ml)を加えた。生成したアメ状物を酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた結晶を冷酢酸エチルで洗浄する事によって化合物111(45.1g,149mmol)の白色結晶を得た。さらに再結晶母液を減圧濃縮する事によって得られた2番晶(4.4g,14.6mmol)を合わせて、化合物111を総収率65.6%で得た。
第4工程
化合物111(49.0g,162.4mmol)の酢酸エチル(400ml)−エタノール(800ml)溶液に氷冷下5%パラジウム炭素(10wt%)次いでトリエチルアミン(24.6g,244mmol)を加えた。室温まで昇進し、2時間水素を添加した。反応液をセライト濾過し、濾液を減圧濃縮した後、酢酸エチル(500ml)と水(300ml)を加え、分液した。水層を酢酸エチルにて抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって淡いオレンジ色の結晶として化合物112(43.7g)の粗生成物を得た。
第5工程
化合物112の粗生成物(43.7g)にピリジン塩酸塩(100g,865mmol)を加え、180℃で1.5時間加熱反応した。反応液を室温まで冷却し、氷冷した塩化メチレン(300ml)−水(300ml)に流し込んだ。30分間撹拌後、塩化メチレン層を分離し、水層を塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン層を合わせて硫酸ナトリウムにて乾燥し、溶媒を留去して得られた淡黄色の結晶をエタノール−ジイソプロピルエーテルにて再結晶した。4番晶まで合わせて化合物113(36.9g,145.7mmol)の淡黄色結晶を90.5%の収率で得た。
第6工程
化合物113(19.0g,75mmol)の塩化メチレン溶液(500ml)に室温でジイソプロピルアミン(1.52g,15mmol)を加えた。更にN-ブロモサクシンイミド(32.0g,180mmol)の塩化メチレン(1000ml)溶液を滴下した。2時間撹拌後、反応液を氷冷した2N HCl(500ml)に滴下し、塩化メチレン層を分離した。水層を塩化メチレンで抽出し、塩化メチレン層を合わせて飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をエタノール−塩化メチレンで再結晶する事によって化合物114(14.0g,34.1mmol)の淡いオレンジ色の結晶を42.5%の収率で得た。
第7工程
化合物114(4.9g,11.9mmol)のDMF(30ml)溶液に炭酸カリウム(1.97g,14.3mmol)を加え30分間室温で撹拌した。エチルブロミド(2.6g,23.8mmol)を加え、60℃で60分間加熱反応した。反応液を冷却後氷水に流し込み、酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する事により化合物115の粗生成物(4.07g)を褐色油状物として得た。
第8工程
エーテル120mlに2Mフェニルリチウム(8ml,16mmol)のシクロヘキサン溶液を滴下し、−78℃に冷却後、化合物115(3.45g,7.9mmol)のエーテル溶液(60ml)を滴下した。−78℃にて30分間撹拌後、CO2ガスを60分間通じた。0℃まで昇温後、2N HCl水溶液にて中和、次いで2N NaOH水溶液にてアルカリ性にし、エーテルで水層を洗浄した。水層に2N HCl水溶液を加え、酸性にする事によって析出した白色結晶を濾別した。白色結晶を水、次いでジイソプロピルエーテルによって洗浄し、化合物116(880mg,2.2mmol)の白色結晶を28%の収率で得た。
第9工程
化合物116(1.06g,2.6mmol)の塩化メチレン溶液に、室温下1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(600mg,3.12mmol)及び1-ヒドロキシペンゾトリアゾール(410mg,3.12mmol)を加え30分間撹拌した。エタノール(10ml)とトリエチルアミン(316mg,3.12mmol)を加え、60分間加熱灌流した。反応液を冷却後溶媒を留去し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって化合物117(960mg,2.22mmol)の淡黄色結晶を85.4%の収率で得た。
第10工程
化合物117(432mg,1mmol)、シアン化銅(358mg,4mmol)、テトラエチルアンモニウムシアニド(156mg,1mmol)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(37mg,0.04mmol)、1,1'-ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン(89mg,0.16mg)のジオキサン(5ml)溶液を4時間加熱灌流した。トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(37mg,0.04mmol)、1,1'-ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン(89mg,0.16mg)を追加し、さらに60分加熱灌流した。反応液を室温まで冷却し、酢酸エチル(30ml)を加え、10分間撹拌した。反応液をセライトで濾過し、濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去する事によって得たれた淡黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物118(347mg,0.917mmol)を淡黄色結晶として収率91.7%で得た。
第11工程
化合物118(200mg,0.57mmol)のクロロホルム(10ml)溶液に、氷冷下MeOH(3ml)を加え、HCl gasを60分間通じた。反応液を密封し4℃にて5日間静置した。反応液にMeOH(5ml)と水(5ml)を加え50℃で30分間加熱反応した。冷却後氷水を加え、クロロホルムで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去する事によって得られた白色結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物119(121mg,0.31mmol)を淡黄色結晶として収率53.6%で得た。
第12工程
化合物119(99.1mg,0.23mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液に−20℃にて、1M三臭化ホウ素(0.69ml,0.69mmol)の塩化メチレン溶液を滴下した。30分間撹拌後、1M三臭化ホウ素(0.69ml,0.69mmol)の塩化メチレン溶液を追加滴下した。さらに30分間撹拌後、反応液に1N HCl水溶液及び氷水を加えた。塩化メチレンにて抽出後、飽和食塩水にて洗浄、硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を留去する事によって得た結晶を酢酸エチルにて再結晶する事により、表題化合物I-139(35mg,0.095mmol)を淡黄色結晶として41.3%の収率で得た。
融点:212−214℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C20H17FN2O4(H2O)1.2として
計算値(%):C, 61.60; H, 5.01; N, 7.18; F, 4.87.
分析値(%):C, 61.59; H, 4.25; N, 7.07; F, 4.66.
NMR(DMSO-d6)δ:1.37(3H, t, J=6.9Hz), 4.23(2H, s), 4.41(2H, q, J=6.9Hz), 7.10-7.20(2H, m), 7.30-7.40(2H, m), 7.49(1H, brs), 8.04-8.12(2H, m), 8.68-8.72(1H, m), 8.88-8.90(1H, m), 11.3-11.5(1H, brs).
実施例41
化合物I-140
Figure 0003616628
第1工程
8-ニトロキノリン(化合物120)(14.72g,84.52mmol)の酢酸(120ml)溶液を約110℃に加温し、N-ブロモこはく酸イミド(16.55g,92.98mmol)を30分かけて少しずつ加え、そのまま2.5時間撹拌した。この反応液を水(700ml)に加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗(350ml)した。結晶を塩化メチレン(300ml)で再溶解し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン-酢酸エチル-塩化メチレン(20:2:5 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物121(17.40g,68.76mmol)を淡黄色結晶として収率81.4%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物121(22.00g,86.94mmol)のエタノール(1100ml)溶液に、室温下、水(66ml)、濃塩酸(66ml)および鉄粉末(24.28g,434.8mmol)を加えた。1時間加熱還流した後、室温まで冷却し、不溶物をセライト濾過により除去した。ろ液の溶媒を減圧下留去して得られた残渣に、10%炭酸水素ナトリウム水溶液(700ml)および酢酸エチル(500ml)を加えて、30分間はげしく撹拌した。不溶物をセライト濾過により除去し、分液して得られた有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下濃縮する事によって、化合物122(18.11g,81.19mmol)を淡黄色結晶として収率93.4%で得た。
第3工程
第2工程で得た化合物122(2.67g,10.6mmol)に54wt%硫酸水(16ml)を加えて封管し、約220℃で16時間加熱した後、放冷した。この反応液を氷水(270ml)に加え、28wt%アンモニア水(20ml)で中和(pH=7.9)した。水(110ml)を加え、室温で30分間晶析し、濾過、水洗(30ml)した後、70℃、減圧下1時間乾燥することにより、化合物123を粗結晶(2.51g)として得た。
第4工程
第3工程で得た化合物123の粗結晶(2.51g)のDMF(15ml)溶液に炭酸カリウム(1.61g,11.6mmol)を加え、室温で15分間撹拌した。ついで、よう化メチル(2.4ml,15.8mmol)を滴下し、室温で15時間撹拌した。反応液に水(60ml)、5N塩酸(5ml)を加え、塩化メチレン(200ml×2)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた黒色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物124(1.43g,5.99mmol)を白色結晶として化合物122から収率56.8%で得た。
第5工程
亜鉛粉末(420mg,6.4mmol)にTHF(6ml)、1,2-ジブロモエタン(0.026ml,0.30mmol)、臭化ベンジル(0.76ml,6.1mmol)およびクロロトリメチルシラン(0.026ml,0.20mmol)を加え、30分間加熱還流した。この溶液を、第4工程で得た化合物124(580mg,2.44mmol)のTHF(19ml)溶液に加え、さらに、トリフェニルホスフィン(64mg,0.24mmol)および酢酸パラジウム(27mg,0.12mmol)を加えて、約60℃で15分間撹拌した。室温まで冷却し、1%炭酸水素ナトリウム水溶液(80ml)を加え、酢酸エチル(50ml)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(1:2 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物112(529mg,1.98mmol)を黄色油状物として収率81%で得た。
第6工程
第5工程で得た化合物112(3.995g,14.95mmol)にピリジン塩酸塩(17.28g,149.5mmol)を加え、徐々に約180℃まで昇温し、そのまま30分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、そのまま14時間静置した。水(120ml)を加え、塩化メチレン(120ml×2)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって、化合物113(3.778g,14.92mmol)を黄色油状物として収率99.8%で得た。
第7工程
第6工程で得た化合物113(22.96g,90.65mmol)の塩化メチレン(500ml)溶液に、室温下ジイソプロピルアミン(12.7ml,90.62mmol)を滴下後、N-ブロモこはく酸イミド(16.13g,90.62mmol)の塩化メチレン(1000ml)溶液を滴下し、室温で1時間撹拌した。この反応液を2N塩酸(1000ml)に加える事によって析出した結晶を濾過した。結晶を酢酸エチル(1500ml)で再溶解し、水洗(500ml×2)後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗生成物を、ジイソプロピルエーテル(180ml)で再結晶する事によって、化合物125(12.80g,38.53mmol)を淡黄色結晶として収率42.5%で得た。
第8工程
第7工程で得た化合物125の粗結晶(579mg,約1.8mmol)のDMF(3.5ml)溶液に炭酸カリウム(276mg,2.0mmol)を加え、室温で15分間撹拌した。ついで、よう化メチル(0.82ml,5.4mmol)を滴下し、室温で1.5時間撹拌した。さらに、よう化メチル(0.41ml,2.7mmol)を滴下し、室温で1時間撹拌した。反応液に水(15ml)、2N塩酸(3ml)を加え、酢酸エチル(40+20ml)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(5:2 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物126(108mg,0.31mmol)を白色結晶として収率約17%で得た。
第9工程
エーテル24mlに1.59M n-ブチルリチウムのn-ヘキサン溶液(13.0ml,20.7mmol)を滴下し、−78℃に冷却後、2-ブロモチアゾール(化合物128)(1.70ml,18.9mmol)のエーテル(6ml)溶液を滴下した。−78℃にて20分間撹拌後、塩化トリn-ブチルすず(5.20ml,19.2mmol)のエーテル(6ml)溶液を滴下した。1時間撹拌後、0℃まで昇温し、10%炭酸水素ナトリウム水溶液(24ml)を加えた。分液後、水層からエーテル(24ml)で逆抽出し、エーテル層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を加温減圧下(50℃,4mmHg)留去する事により、黄色油状物(7.15g)を得た。この粗黄色油状物(1.65g)を減圧蒸留(170℃,0.4mmHg)する事により、化合物129を無色油状物(1.28g)として得た。
第10工程
第8工程で得た化合物126(100mg,0.29mmol)および第9工程で得た化合物129(162mg,0.43mmol)のTHF(5ml)溶液に、室温下テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)(17mg,0.015mmol)を加えて封管し、約110℃で39時間加熱した。反応液を冷却し、10%炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物127(84mg,0.24mmol)を淡黄色油状物として収率83%で得た。
第11工程
第10工程で得た化合物127(84mg,0.24mmol)にピリジン塩酸塩(1.14g,9.87mmol)を加え、徐々に約180℃まで上昇し、そのまま10分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を10%炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって、黄色結晶(73mg)を得た。この粗黄色結晶(63mg)を酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物I-140を淡黄色結晶(39mg)として得た。
融点:247−248℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C19H13FN2OSとして
計算値(%):C, 67.84; H, 3.90; F, 5.65; N, 8.33; S, 9.53.
分析値(%):C, 67.77; H, 3.88; F, 5.78; N, 8.15; S, 9.45.
NMR(DMSO-d6)δ:4.21(2H, s), 7.13-7.19(2H, m), 7.36-7.41(2H, m), 7.43(1H, d, J=9.0Hz), 7.83(1H, d, J=3.0Hz), 7.99(1H, d, J=9.0Hz), 8.16(1H, d, J=1.8Hz), 8.36(1H, d, J=9.0Hz), 8.85(1H, d, J=1.8Hz).
実施例42
化合物I-141
Figure 0003616628
第1工程
実施例40の第5工程で得られた化合物113を用い、実施例41の第7工程に準じて行った。
第2工程
第1工程で得た化合物125(4.81g,14.5mmol)のDMF(30ml)溶液に炭酸カリウム(2.20g,15.9mmol)を加え、室温で30分間撹拌した。ついで、臭化エチル(2.2ml,29.5mmol)を加え、徐々に約60℃まで昇温し、そのまま20分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、反応液に水(150ml)を加え、酢酸エチル(200ml)で抽出した。水(150ml×4)で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた紫色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン-酢酸エチル-塩化メチレン(5:1:3 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、黄色油状物(5.06g)を得た。これを再度、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン-酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物130(4.97g,13.8mmol)を白色結晶として収率95.3%で得た。
第3工程
エーテル160mlに1.8Mフェニルリチウムのエーテル-シクロヘキサン(7:3 v/v)溶液(12.4ml,22.3mmol)を滴下し、−78℃に冷却後、化合物130(4.00g,11.1mmol)のエーテル(60ml)溶液を3時間かけて滴下した。−78℃にて30分間撹拌後、ほう酸トリイソプロピル(6.4ml,27.7mmol)を滴下し、徐々に0℃まで上昇した。この反応液を2N塩酸(100ml)に加え、室温で1時間晶析した。濾過後、酢酸エチル(30ml)および水(15ml)で洗浄し、室温減圧下で乾燥することにより、化合物131(1.97g,5.45mmol)を黄色結晶として収率49.1%で得た。
第4工程
第3工程で得た化合物131(200mg,0.55mmol)および2-ブロモピリミジン(147mg,0.92mmol)のジメトキシエタン-エタノール(3:2 v/v)溶液(15ml)に、室温下、2M炭酸ナトリウム水溶液(0.34ml,0.68mmol)およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)(71mg,0.06mmol)を加え、18時間加熱還流した。室温まで冷却し、2-ブロモピリミジン(147mg,0.92mmol)を追加して、さらに10時間加熱還流した。。反応液を冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(1:3 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物132(106mg,0.29mmol)を無色油状物として収率53%で得た。
第5工程
第4工程で得た化合物132(106mg,0.29mmol)にピリジン塩酸塩(680mg,5.9mmol)を加え、徐々に約180℃まで昇温し、そのまま5分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって、化合物I-002(90mg,0.27mmol)を黄色結晶として収率92%で得た。これを酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物I-141を黄色結晶(49mg)として得た。
融点:192−193℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C20H14FN3Oとして
計算値(%):C, 72.50; H, 4.26; F, 5.73; N, 12.68.
分析値(%):C, 72.08; H, 4.21; F, 5.40; N, 12.40.
NMR(DMSO-d6)δ:4.19(2H, s), 7.13-7.19(2H, m), 7.36-7.40(2H, m), 7.41(1H, d, J=9.0Hz), 7.56(1H, t, J=5.1Hz), 8.10(1H, d, J=2.1Hz), 8.50(1H, d, J=9.0Hz), 8.84(1H, d, J=2.1Hz), 9.05(2H, d, J=5.1Hz), 14.41(1H, s).
実施例43
化合物I-142
Figure 0003616628
第1工程
イミダゾール(化合物134)(6.80g,99.9mmol)のTHF(100ml)溶液に室温下、N,N-ジイソプロピルエチルアミン(15.5g,120mmol)を加え、さらに塩化2-(トリメチルシリル)-エトキシメチル(18.3g,110mmol)を滴下し、1.5時間撹拌後、18時間静置した。水(200ml)を加え、エーテル(100ml×3)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた粗生成物を、減圧蒸留(124-126℃,5mmHg)する事により、化合物135(12.4g,62.5mmol)を無色油状物として収率62.6%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物135(2.00g,10.1mmol)のTMF(50ml)溶液を0℃に冷却後、1.59M n-ブチルリチウムのn-ヘキサン溶液(7.0ml,11.1mmol)を滴下し、室温で1.5時間攪拌した。再び0℃に冷却後、よう素(3.07g,12.1mmol)のTHF(25ml)溶液を滴下し、そのまま30分間撹拌した。この反応液を氷冷した0.1Nチオ硫酸ナトリウム水溶液(150ml)に加え、酢酸エチル(100ml×2)で抽出した。有機層をNチオ硫酸ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン-酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物136(1.21g,3.73mmol)を薄茶色油状物として収率37.0%で得た。
第3工程
実施例42の第3工程で得た化合物131(250mg,0.69mmol)および第2工程で得た化合物136(247mg,0.76mmol)のジメトキシエタン-エタノール(3:1 v/v)溶液(20ml)に、室温下、2M炭酸ナトリウム水溶液(1.04ml,2.08mmol)およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)(80mg,0.07mmol)を加え、12時間加熱還流した。室温まで冷却し、12時間静置した。化合物136(247mg,0.76mmol)、2M炭酸ナトリウム水溶液(1.04mL,2.08mmol)およびテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(O)(80mg,0.07mmol)を追加して、さらに12時間加熱還流した。室温まで冷却し、12時間静置した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(1:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物133(104mg,0.22mmol)を無色油状物として収率31%で得た。
第4工程
第3工程で得た化合物133(103mg,0.21mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液を、-20℃に冷却後、1.0M三臭化ほう素の塩化メチレン溶液(0.64ml,0.64mmol)を滴下し、0℃まで昇温し、そのまま15分間撹拌した。さらに1.0M三臭化ほう素の塩化メチレン溶液(0.64,0.64mmol)を追加し、室温まで昇温し、そのまま30分間撹拌した。この反応液を氷冷した0.2N塩酸(20ml)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和(pH=7)した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた粗生成物を酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物I-142(34mg,0.076mmol)を橙色結晶として収率35%で得た。
融点:213−215℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C19H14FN3Oとして
計算値(%):C, 71.46; H, 4.42; F, 5.95; N, 13.16.
分析値(%):C, 69.85; H, 4.27; F, 5.49; N, 12.63.
NMR(DMSO-d6)δ:4.16(2H, s), 6.99-7.05(2H, m), 7.17-7.22(2H, m), 7.25(2H, s), 7.35(1H, d, J=8.7Hz), 7.87(1H, d, J=2.4Hz), 8.33(1H, d, J=8.7Hz), 8.69(1H, d, J=2.4Hz).
実施例44
化合物I-143
Figure 0003616628
第1工程
実施例42の第3工程で得た化合物131(150mg,0.41mmol)のエタノール(4ml)溶液に、室温下、30%過酸化水素水(0.24ml,2.1mmol)を加え、そのまま30分間攪拌した後、12時間静置した。反応液にNチオ硫酸ナトリウム水溶液(5ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を5%炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた粗生成物をジイソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、化合物137(75mg,0.25mmol)を白色結晶として収率61%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物137(63mg,0.21mmol)の塩化メチレン(6ml)溶液を、0℃に冷却後、塩化アルミニウム(283mg,2.1mmol)および1.0Mエタンチオールの塩化メチレン溶液(0.32ml,0.32mmol)を滴下し、室温まで昇温し、そのまま1時間撹拌した。反応液に氷冷した0.2N塩酸(10ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事により、化合物I-143(36mg,0.13mmol)を白色結晶として収率63%で得た。これを酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物I-143を白色結晶(7mg)として得た。
融点:184−185℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:4.12(2H, s), 6.98-7.04(2H, m), 7.15-7.20(2H, m), 7.26(1H, d, J=8.7Hz), 7.31(1H, d, J= J=8.7Hz), 7.88(1H, d, J=1.8Hz), 8.61(1H, d, J=1.8Hz).
実施例45
化合物I-144
Figure 0003616628
第1工程
エーテル20mlに1.8Mフェニルリチウムのエーテル-シクロヘキサン(7:3 v/v)溶液(0.93ml,1.7mmol)を滴下し、−78℃に冷却後、実施例42の第2工程で得た化合物130(300mg,0.83mmol)のエーテル(10ml)溶液を30分間かけて滴下した。−78℃にて1時間撹拌後、アセトアルデヒド(0.3ml,4.2mmol)を加え、徐々に室温まで昇温した。この反応液を氷冷した1%塩化アンモニウム水溶液(100ml)に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた黄色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン-酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物138(114mg,0.33mmol)を淡黄色油状物として収率40%で得た。
第2工程
塩化メチレン4mlにオキサルクロリド(0.10ml,1.1mmol)を加え、−78℃に冷却後、ジメチルスルホキシド(0.16ml,2.3mmol)の塩化メチレン(2ml)溶液を5分間かけて滴下し、15分間撹拌した。ついで−78℃にて、第1工程で得た化合物138(114mg,0.33mmol)の塩化メチレン(4ml)溶液を10分間かけて滴下し、30分間撹拌した。さらに−78℃にて、トリエチルアミン(0.63ml,4.5mmol)を2分間かけて滴下し、15分間撹拌した。徐々に0℃まで昇温し、飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン-酢酸エチル(4:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物139(65mg,0.19mmol)を無色油状物として収率57%で得た。
第3工程
第2工程で得た化合物139(65mg,0.19mmol)にピリジン塩酸塩(550mg,4.8mmol)を加え、徐々に約180℃まで昇温し、そのまま10分間撹拌した。室温まで徐々に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によつて、化合物I-144(54mg,0.18mmol)を黄褐色結晶として収率91%で得た。これを酢酸エチルから再結晶精製する事により、化合物I-144を黄褐色結晶(17mg)として得た。
融点:87−88℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.23(3H, d, J=7.5Hz), 3.15(2H, d, J=7.5Hz), 4.16(2H, s), 7.00-7.05(2H, m), 7.16-7.21(2H, m), 7.18(1H, d, J=9.0Hz), 7.77(1H, d, J=2.1Hz), 7.79(1H, d, J=9.0Hz), 8.85(1H, d, J=2.1Hz), 13.65(1H, s).
実施例46
化合物I-145
Figure 0003616628
第1工程
実施例40の合成法に準じて合成した化合物114(4.1g,10.0mmol)のDMF(30ml)溶液に炭酸カリウム(1.66g,12.0mmol)及び、ヨウ化メチル(2.2g,15.0mmol)を加え、50℃で45分間撹拌した。反応液に水を加える事によって析出した結晶を濾過し、水洗した。結晶を酢酸エチルで再溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、活性炭にて脱色した。溶媒を減圧下留去し、化合物140の粗生成物(2.1g,4.94mmol)を薄紫色結晶として49.4%の収率で得た。
第2工程
エーテル80mlに1.8Mフェニルリチウムのエーテル-シクロヘキサン(7:3 v/v)溶液(4.7ml,8.4mmol)を滴下し、−78℃に冷却後、第1工程で得た化合物140(1.8g,4.2mmol)のエーテル(100ml)溶液を30分間かけて滴下した。−78℃にて30分間撹拌後、CO2ガスを60分間通じた。0℃まで昇温し、塩酸水溶液にて中和した後、水酸化ナトリウム水溶液にてアルカリ性にした。エーテルにて水層を洗浄後、塩酸水溶液にて中和した。析出した淡黄色結晶を水洗後、減圧下乾燥した。結晶をイソプロピルエーテルにて洗浄する事により化合物141(760mg,1.95mmol)を白色結晶として46.4%の収率で得た。
第3工程
実施例40の第9工程の合成法に準じて化合物142(720mg,1.72mmol)の淡黄色結晶を90.6%の収率で得た。
第4工程
化合物142(100mg,0.24mmol)のアセトニトリル(5ml)溶液に室温でヨウ化ナトリウム(217mg,2.0mmol)及びトリメチルシリルクロリド(300mg,2.0mmol)を加え、5分間撹拌した。その後90分間加熱還流した。室温まで冷却後、氷水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を亜硫酸ナトリウム水溶液、次いで食塩水で洗浄し、溶媒を減圧留去する事によって得られた薄紫色の結晶をエタノールによって再結晶して、表題化合物I-145(70mg,0.173mmol)を淡黄色結晶として収率72.2%で得た。
融点:108−110℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C19H15BrFNO3として
計算値(%):C, 56.45; H, 3.74; Br, 19.77; F, 4.70; N, 3.47.
分析値(%):C, 56.31; H, 3.61; Br, 19.36; F, 4.50; N, 3.44.
NMR(CDCl3)δ:1.48(3H, t, J=7.2Hz), 4.22(2H, s), 4.50(2H, q, J=7.2Hz), 7.00-7.08(2H, m), 7.15-7.24(2H, m), 8.17(1H, s), 8.22(1H, brs), 8.86(1H, brs), 11.96(1H, brs).
実施例47
化合物I-146、I-147
Figure 0003616628
第1工程
実施例46の合成法に準じて合成した化合物142(500mg,1.2mm)のジオキサン(6ml)溶液にシアン化銅(430mg,4.8mmol)、及び、1,1'-ビスジフェニルホスフィノフェロセン(107mg,0.19mmol)、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム(O)(44.4mg,0.048mmol)、テトラエチルアンモミウムシアナイド(187mg,1.2mmol)を加え、2時間加熱還流した。さらに1,1'-ビスジフェニルホスフィノフェロセン(107mg,0.19mmol)、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム(O)(44.4mg,0.048mmol)を追加して45分間加熱還流した。室温まで放冷し、酢酸エチル(50ml)を加えた。不溶物をセライト濾過し、濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン-酢酸(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物143(410mg,1.1mmol)を淡黄色結晶として収率90.3%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物143(124mg,0.33mmol)のアセトニトリル(10ml)溶液を実施例46の第4工程に準じて反応し、表題化合物I-146(45mg,0.13mmol)の淡黄色結晶を39.4%の収率で得た。
融点:145−147℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
元素分析:C20H15FN2O3(H2O)0.2として
計算値(%):C, 68.57; H, 4.32; F, 5.42; N, 8.00.
分析値(%):C, 67.83; H, 4.18; F, 5.27; N, 7.85.
NMR(CDCl3)δ:1.50(3H, t, J=7.2Hz), 4.23(2H, s), 4.53(2H, q, J=7.2Hz), 7.00-7.10(2H, m), 7.15-7.24(2H, m), 8.21(1H, s), 8.38(1H, s), 8.94(1H, brs), 12.50(1H, m).
第3工程
第1工程で得た化合物143(125mg,0.33mmol)のエタノール(10ml)懸濁溶液に氷冷下1.0Mナトリウムエトキシド(400ul,0.4mmol)を加え撹拌した。反応液を50℃まで昇温し、30分間加熱反応した。溶媒を減圧留去する事によって得られた残渣に酢酸エチルと塩酸水溶液を加え分液した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせて食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去する事によって化合物144(75mg,0.22mmol)の粗結晶を67.6%の収率で得た。
第4工程
第3工程で得た化合物144(65mg,0.19mmol)のアセトニトリル(8ml)溶液を実施例46の第4工程に準じて反応し、表題化合物I-147(38mg,0.12mmol)の淡黄色結晶を62.0%の収率で得た。
融点:231-234℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H11FN2O3(H2O)0.5として
計算値(%):C, 65.26; H, 3.65; F, 5.73; N, 8.46.
分析値(%):C, 65.37; H, 3.36; F, 5.65; N, 8.38.
NMR(DMSO-d6)δ:4.22(2H, s), 7.10-7.20(2H, m), 7.32-7.40(2H, m), 7.98-8.02(1H, bm), 8.19(1H, s), 8.68-8.72(1H, m).
実施例48
化合物I-148、I-149、I-150
Figure 0003616628
第1工程
実施例46の合成法に準じて合成した化合物142(837.0mg g,2.0mmol)、酢酸パラジウム(22.5mg,0.1mmol)、トリトリルホスフィン(61.0mg,0.2mmol)、トリエチルアミン(808.0mg,8.0mmol)及びアクリル酸メチル(448.0mg,5.2mmol)を封管し、110℃で16時間加熱反応した。室温まで冷却し、酢酸エチル(30ml)を加え、30分間撹拌した。不溶物をセライトで濾過し、濾液を食塩水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン-酢酸(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物145(582mg,1.38mmol)を淡黄色結晶として収率68.8%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物145(100mg,0.24mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液に氷冷下、1.0M三臭化ほう素の塩化メチレン溶液(0.28ml,0.28mmol)を滴下し、0℃まで昇温し、そのまま15分間撹拌した。さらに1.0M三臭化ほう素の塩化メチレン溶液(0.10ml,0.10mmol)を追加し、室温まで昇温し、そのまま30分間撹拌した。この反応液を氷冷した0.2N塩酸(20ml)に加え、炭酸水素ナトリウムで中和(pH=7)した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧下留去する事によって得られた粗生成物をイソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、表題化合物I-148(30mg,0.073mmol)を淡黄色結晶として収率30.6%で得た。
融点:102−105℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
元素分析:C23H20FNO5(H2O)0.6として
計算値(%):C, 65.74; H, 5.09; F, 4.52; N, 3.33.
分析値(%):C, 65.46; H, 4.73; F, 4.32; N, 3.33.
NMR(CDCl3)δ:1.50(3H, t, J=7.5Hz), 3.86(3H, s), 4.21(2H, s), 4.52(2H, q, J=7.5Hz), 6.51(1H, d, J=15.6Hz), 6.98-7.16(2H, m), 7.14-7.22(2H, m), 8.20-8.30(3H, m), 8.89(1H, brs), 12.26(1H, m).
第3工程
第1工程で得た化合物145(111mg,0.26mmol)のジオキサン(5ml)溶液に1N塩酸水溶液を加え、2時間加熱還流した。反応溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する事によって得られた粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。メタノール-酢酸エチル(1:10 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物146(40mg,0.1mmol)を淡黄色結晶として収率38.5%で得た。
第4工程
第3工程で得た化合物146(35mg,0.085mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液を実施例48の第2工程に準じて反応し、得られた粗生成物をメタノール−塩化メチレンから再結晶精製する事により、表題化合物I-149(15mg,0.038mmol)を淡黄色結晶として収率44.6%で得た。
融点:248−250℃ 再結晶溶媒:メタノール−塩化メチレン
元素分析:C22H18FN2O5(H2O)0.5として
計算値(%):C, 65.34; H, 4.74; F, 4.70; N, 3.46.
分析値(%):C, 65.38; H, 4.48; F, 4.69; N, 3.53.
NMR(DMSO-d6)δ:1.38(3H, t, J=7.2Hz), 4.27(2H, s), 4.41(2H, q, J=7.2Hz), 6.52(1H, d, J=15.6Hz), 7.08-7.20(2H, m), 7.34-7.48(2H, m), 8.18-8.28(2H, m), 8.58-8.64(1H, m), 8.90(1H, brs), 12.51(1H, m).
第5工程
第1工程で得た化合物145(108mg,0.26mmol)のエタノール(5ml)溶液に氷冷下1N水酸化ナトリウム溶液(1.12mL,1.12mmol)を加え。15時間放置した。反応液を減圧濃縮し、水(30ml)及びエーテル(30ml)を加え、撹拌後分液した。水層を2N塩酸水溶液(3ml,3mmol)で酸性にした後酢酸エチルで抽出した。食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去する事によって化合物147(94.5mg,0.25mmol)の淡黄色結晶を99.1%の収率で得た。
第6工程
第5工程で得た化合物147(94.5mg,0.25mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液を実施例48の第2工程に準じて反応し、得られた粗生成物をメタノール−塩化メチレンから再結晶精製する事により、表題化合物I-150(15mg,0.04mmol)を淡黄色結晶として収率16.3%で得た。
融点:226−228℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(DMSO-d6)δ:4.33(2H, s), 6.45(1H, d, J=15.3Hz), 7.04-7.22(2H, m), 7.30-7.50(2H, m), 8.10-8.44(2H, m), 8.50-9.10(2H, m), 12.40(1H, brs).
実施例49
化合物I-151、I-152
Figure 0003616628
第1工程
実施例48の第1工程に準じて合成した化合物145(100mg,0.24mmol)の酢酸エチル(3.0ml)溶液に氷冷下5%パラジウム炭素(10mg,10%w)を加え、水素を添加した。室温で5時間撹拌後、5%パラジウム炭素(10mg,10%w)を追加し、さらに5時間撹拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧留去する事によって得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(2:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物148(62mg,0.15mmol)を淡黄色結晶として収率62.5%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物148(85mg,0.2mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液を実施例48の第2工程に準じて反応し、得られた粗生成物をイソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、表題化合物I-151(42mg,0.10mmol)を淡黄色結晶として収率51.0%で得た。
融点:72−75℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
元素分析:C23H22FN2O5(H2O)0.7として
計算値(%):C, 65.15; H, 5.56; F, 4.48; N, 3.30.
分析値(%):C, 65.11; H, 5.06; F, 4.23; N, 3.31.
NMR(CDCl3)δ:1.47(3H, t, J=7.2Hz), 2.66(2H, t, J=7.8Hz), 3.24(2H, t, J=7.8Hz), 3.68(3H, s), 4.21(2H, s), 4.49(2H, q, J=7.2Hz), 6.98-7.10(2H, m), 7.14-7.22(2H, m), 7.75(1H, s), 8.08(1H, s), 8.93(1H, brs), 11.86(1H, brs).
第3工程
第1工程で得た化合物148(68mg,0.16mmol)のジオキサン(5.0ml)溶液を実施例48の第3工程に準じて反応し、得られた粗生成物をイソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、化合物149(35mg,0.085mmol)を淡黄色結晶として収率53.2%で得た。
第4工程
第3工程で得た化合物149(35mg,0.085mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液を実施例48の第2工程に準じて反応し、得られた粗生成物をエタノール−イソプロピルエーテルから再結晶精製する事により、表題化合物I-152(24mg,0.06mmol)を淡黄色結晶として収率71.1%で得た。
融点:214−216℃ 再結晶溶媒:エタノール−イソプロピルエーテル
元素分析:C22H20FNO5(H2O)0.2として
計算値(%):C, 65.89; H, 5.13; F, 4.74; N, 3.49.
分析値(%):C, 65.72; H, 4.90; F, 4.63; N, 3.46.
NMR(DMSO-d6)δ:1.37(3H, t, J=6.9Hz), 2.58(2H, t, J=7.5Hz), 3.17(2H, t, J=7.5Hz), 4.24(2H, s), 4.39(2H, q, J=7.2Hz), 7.10-7.20(2H, m), 7.36-7.44(2H, m), 7.68(1H, s), 8.35-8.41(1H, m), 8.82-8.88(1H, s), 11.14(1H, s), 12.21(1H, s).
実施例50
化合物I-153、I-154
Figure 0003616628
第1工程
実施例24の第1工程に準じて合成した化合物59を実施例18の第5工程に準じて反応させ、化合物150(2.5g,8.9mmol)の白色結晶を収率44.5%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物150(2.5g,8.9mmol)を実施例40の第9工程に準じて反応させ、化合物151(667mg,2.1mmol)の淡黄色結晶を収率24.1%で得た。
第3工程
第2工程で得た化合物151を実施例18の第2工程に準じて反応させ、化合物152(345mg,0.89mmol)の淡黄色結晶を収率42.2%で得た。
第4工程
亜鉛粉末(210mg,3.2mmol)にTHF(3.0ml)、1,2-ジブロモエタン(0.012ml,0.15mmol)、臭化ベンジル(210mg,3.23mmol)およびクロロトリメチルシラン(0.0125ml,0.10mmol)を加え、30分間加熱還流した。この溶液を第3工程で得た化合物152(345mg,0.89mmol)のTHF(10.0ml)溶液に加え、さらに、トリフェニルホスフィン(26.0mg,0.1mmol)および酢酸パラジウム(11.0mg,0.05mmol)を加えて、約60℃で10分間撹拌した。室温まで冷却し、1%炭酸水素ナトリウム水溶液(40ml)を加え、酢酸エチル(50ml)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去する事によって得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物153(179mg,0.4mmol)を黄色油状物として収率45.0%で得た。
第5工程
第4工程で得た化合物153を実施例19の第2工程に準じて反応させ、表題化合物I-153(40.0mg,0.092mmol)を淡黄色結晶として収率23.1%で得た。
融点:137−139℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
元素分析:C26H21F2NO3(EtOAc)0.4として
計算値(%):C, 70.73; H, 5.20; F, 8.11; N, 2.99.
分析値(%):C, 70.71; H, 4.75; F, 7.87; N, 3.10.
NMR(CDCl3)δ:1.46(3H, t, J=7.2Hz), 4.06(2H, s), 4.19(2H, s), 4.48(2H, q, J=7.2Hz), 6.80-7.08(8H, m), 7.68-7.74(2H, m), 8.81-8.84(1H, m), 11.90(1H, s).
第6工程
第4工程によって得た化合物153(400.0mg,0.92mmol)のエタノール(15.0ml)溶液に4N水酸化リチウム(1ml,4mmol)を加え、40分間加熱還流した。溶媒を減圧留去する事によって得られた粗結晶に、水(10.0ml)及び2N塩酸水溶液(3ml,6mmol)を加え撹拌した。懸濁した白色結晶を濾取する事によって化合物154(380mg,0.91mmol)を白色結晶として収率98.5%で得た。
第7工程
第6工程によって得た化合物154(139mg,0.33mmol)を実施例18の第6工程に準じて反応し、得られた白色結晶を酢酸エチルによって再結晶することによって表題化合物I-154(85.0mg,0.21mmol)を63.5%の収率で得た。
融点:207−209℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
元素分析:C24H17F2NO3(H2O)0.2(EtOAc)0.15として
計算値(%):C, 69.98; H, 4.44; F, 9.00; N, 3.32.
分析値(%):C, 69.87; H, 4.08; F, 8.78; N, 3.43.
NMR(DMSO-d6)δ:4.16(2H, s), 4.26(2H, s), 7.00-7.22(6H, m), 7.22-7.32(2H, m), 7.74(1H, s), 8.26-8.32(1H, m), 8.80-8.84(1H, m).
実施例51
化合物I-155
Figure 0003616628
実施例23の合成法に準じ、化合物I-155を合成した。
化合物I-155
融点:78−80℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
元素分析:C21H20FNO3として
計算値(%):C, 71.37; H, 5.70; F, 5.38; N, 3.96.
分析値(%):C, 71.03; H, 5.71; F, 5.63; N, 3.84.
NMR(CDCl3)δ:1.29(3H, t, J=7.5Hz), 1.47(3H, t, J=6.9Hz), 2.91(2H, q, J=6.9Hz), 4.19(2H, s), 4.48(2H, q, J=7.5Hz), 6.98-7.06(2H, m), 7.14-7.20(2H, m), 7.70(1H, s), 7.98-8.02(1H, m), 8.84-8.88(1H, m), 11.80(1H, s).
実施例52
化合物I-156
Figure 0003616628
第1工程
フェニルプロピオン酸(7.4g,60mmol)を実施例40の第2工程に準じて反応し、化合物156(13.6g,53.3mmol)を薄桃色結晶として収率88.8%で得た。
第2工程
第1工程で得た化合物156(13.0g,51mmol)を実施例40の第3工程に準じて反応し、化合物157(9.0g,37.8mmol)を淡黄色結晶として収率74.1%で得た。
第3工程
第2工程で得た化合物157(8.8g,31mmol)を実施例40の第4工程に準じて反応し、化合物158(6.2g,24.9mmol)を淡黄色結晶として収率80.2%で得た。
第4工程
第3工程で得た化合物158(1.8g,7.2mmol)を実施例40の第5工程に準じて反応し、化合物159(1.5g,6.4mmol)を淡黄色結晶として収率89.0%で得た。
第5工程
第4工程で得た化合物159(1.55g,6.6mmol)を実施例40の第6工程に準じて反応し、化合物160(1.95g,5.0mmol)を淡黄色結晶として収率75.2%で得た。
第6工程
ナトリウムヒドリド(180mg,4.5mmol)のTHF(90ml)溶液に室温下第5工程で得た化合物160(1.2g,3.0mmol)を結晶のまま加えて2時間撹拌した。反応液を-78℃に冷却し、1.59M n-ブチルリチウムのn-ヘキサン溶液(2.9ml,4.5mmol)を滴下し、60分間撹拌した。反応液にN-ホルミルピペリジン(509mg,4.5mmol)のTHF(5.0ml)溶液を滴下し、30分間撹拌した。その後、2N塩酸のTHF溶液(10.0ml,20mmol)を滴下し、反応液を室温まで昇温した。飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え撹拌後、有機層を分離した。水層を塩化メチレンで抽出し、有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去する事によって得られた橙色の結晶をイソプロピルエーテルによって洗浄し、化合物161(720mg,2.1mmol)を収率70.2%で得た。
第7工程
第6工程で得た化合物161(680mg,2.0mmol)のベンゼン(20ml)溶液にエチレングリコール(620mg,10.0mmol)、パラトルエンスルフォン酸(1.9mg,0.1mmol)を加え、5.5時間加熱還流した。反応液に水を加え、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液次いで食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を留去する事によって化合物162(430mg,1.1mmol)の褐色油状物を収率55.7%で得た。
第8工程
ナトリウムヒドリド(51mg,1.3mmol)のTHF(10ml)溶液に室温下第7工程で得た化合物162(410mg,1.1mmol)のTHF(10ml)溶液を滴下した。30分間撹拌後、メトキシメチルクロリド(111.0mg,1.3mmol)を滴下し、40℃にて60分間加熱撹拌した。室温まで冷却後氷水を加え反応液を塩化メチレンで抽出した。有機層を食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去する事によって得られた褐色油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル(3:1 v/v)で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮する事によって、化合物163(260mg,0.6mmol)を黄色油状物として収率55.0%で得た。
第9工程
エーテル15mlに1.8Mフェニルリチウムのエーテル-シクロヘキサン(7:3 v/v)溶液(0.67ml,0.6mmol)を滴下し、−78℃に冷却後、化合物163(250mg,0.6mmol)のエーテル(5ml)溶液を30分間かけて滴下した。−78℃にて30分間撹拌後、CO2ガスを30分間通じた後徐々に0℃まで昇温した。この反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液(10.0ml)を加え、酢酸エチルで抽出し、食塩水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去する事により得られた黄色結晶を酢酸エチル−イソプロピルエーテルにて洗浄後エタノールで再結晶する事により、表題化合物I-156(35mg,0.11mmol)を黄色結晶として収率19.0%で得た。
融点:247−249℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(DMSO-d6)δ:4.36(2H, s), 7.20-7.40(5H, m), 8.59(1H, s), 8.95(1H, brs), 9.78-10.10(2H, m).
実施例53
化合物I-157
Figure 0003616628
第1工程
実施例52の第5工程に準じた方法で得た化合物160(2.1g,5.3mmol)を実施例46の第1工程に準じて反応させ、化合物164(550mg,1.35mmol)を油状物として25.5%の収率で得た。
第2工程
第1工程に準じて合成した化合物164(1.1g,2.7mmol)を実施例40の第8工程に準じて反応させ、化合物165(440mg,1.2mmol)を白色結晶として43.8%の収率で得た。
第3工程
第2工程により得られた化合物165(410mg,1.1mmol)を実施例40の第9工程に準じて反応させ、化合物166(240mg,0.6mmol)を淡黄色結晶として55.0%の収率で得た。
第4工程
第3工程により得られた化合物166(100mg,0.25mmol)を実施例46の第4工程に準じて反応させ、表題化合物I-157(48.0mg,0.124mmol)を淡黄色結晶として49.6%の収率で得た。
融点:104−106℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C19H16BrNO3(EtOAc)0.2として
計算値(%):C, 58.88; H, 4.39; Br, 19.78; N, 3.47.
分析値(%):C, 58.60; H, 3.95; Br, 19.93; N, 3.57.
NMR(CDCl3)δ:1.48(3H, t, J=7.2Hz), 4.25(2H, s), 4.50(2H, q, J=7.2Hz), 7.20-7.40(5H, m), 8.15(1H, s), 8.20-8.28(1H, m), 8.34-8.92(1H, m), 11.95(1H, brs).
実施例54
化合物I-158,I-159
Figure 0003616628
第1工程
化合物18(16.8g,66mmol)をエタノール(100ml)と水(100ml)の混合溶媒に溶解し、水酸化リチウム(3.2g,134mmol)を加えて4時間還流した。減圧下でエタノールを留去し、濃塩酸と食塩を加えて2-ブタノンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物16の粗生成物(15.8g)を収率99%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.53(3H, s), 3.94and4.22(3H, bs), 7.51(1H, s).
第2工程
化合物16(4.0g,16.6mmol)のTHF(50ml)溶液に、室温でトリエチルアミン(2.0g,19.8mmol)を加え、クロロぎ酸エチル(1.9g,17.5mmol)のTHF(5ml)溶液を氷冷下で滴下した。0℃で30分間撹拌した後、析出した塩を濾過して除き、濾液を2規定アンモニア(エタノール溶液,50ml)に氷冷下で滴下した。室温で30分間攪拌した後、減圧下で溶媒を留去し、得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−THF(1:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物167(3.32g)を収率83%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.53(3H, s), 4.00and4.36(3H, bs), 7.50-7.80(3H, m).
第3工程
化合物167(3.3g,13.9mmol)をTHF(50ml)に溶解し、ローソン試薬(6.7g,16.6mmol)を加えて1時間還流した。冷却後、減圧下で溶媒を留去した。氷を加えた後、濃塩酸で酸性とし、酢酸エチルで洗浄した。水層を炭酸水素ナトリウムでアルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、エーテルで結晶化させて化合物168の粗生成物(2.4g)を収率67%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:major; 2.53(2H, s), 4.31(3H, s), 7.67(1H, s), 9.36(1H, s), 9.99(1H, s), 12.86(1H, s), minor; 2.53(3H, s), 3.91(3H, s), 7.46(1H, s), 9.42(1H, s), 10.07(1H, s), 12.90(1H, s).
第4工程
化合物168(2.4g,9.3mmol)のTHF(70ml)溶液に、ジイソプロピルエチルアミン(1.2g,9.3mmol)、ヨウ化メチル(2.8g,20mmol)を加え、60℃で1時間攪拌した。反応液を氷に加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、エーテルで結晶化させて化合物169の粗生成物(2.1g)を収率83%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:major; 2.39(3H, s), 2.53(3H, s), 4.18(3H, brs), 7.09(1H, s), 10.07(1H, s), 12.86(1H, s), minor; 2.36(3H, s), 2.53(3H, s), 4.00(3H, brs), 7.20(1H, s), 10.30(1H, brs), 12.86(1H, s).
第5工程
化合物169(300mg,1.1mmol)とパラフルオロフェニル酢酸ヒドラジド(280mg,1.66mmol)の酢酸溶液(5ml)を1時間還流した。減圧下で溶媒を留去し、残さに酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−メタノール(50:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、エーテルで結晶化させて化合物170(330mg)を収率81%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.53(3H, s), 4.03(2H, s), 4.36(3H, brs), 7.08-7.18(2H, m), 7.32-7.40(2H, m), 7.78(1H, s), 12.90(1H, brs), 13.45(1H, brs).
第6工程
化合物170(300mg,0.81mmol)を酢酸(6ml)に溶解し、47%臭化水素酸(2ml)を加えて、4時間還流した。減圧下で溶媒を留去し、炭酸水素ナトリウム溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残さをアセトンから再結晶して、化合物I-158(200mg)を無色結晶として収率70%で得た。
融点:295℃ 再結晶溶媒:アセトン
元素分析:C17H13ClFN5Oとして
計算値(%):C, 57.07; H, 3.66; N, 19.57; Cl, 9.91; F, 5.31.
分析値(%):C, 56.99; H, 3.59; N, 19.23; Cl, 9.59; F, 5.15.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 4.11and4.23(2H, brs), 7.10-7.25(2H, m), 7.32-7.40(2H, m), 7.67and7.74(1H, brs), 11.73(1H, brs), 12.89 and13.00(1H, brs), 14.28(1H, brs).
第7工程
実施例6の第1工程に従い、化合物I-158(160mg,0.45mmol)から化合物I-159(100mg)を無色結晶として収率69%で得た。
融点:170℃ 再結晶溶媒:アセトニトリル
元素分析:C17H14FN5O・4H2Oとして
計算値(%):C, 61.77; H, 4.51; N, 21.19; F, 5.75.
分析値(%):C, 61.77; H, 4.32; N, 21.41; F, 5.79.
NMR(DMSO-d6)δ:2.50(3H, s), 4.14(2H, s), 7.04(1H, m), 7.10-7.20(2H, m), 7.34-7.42(2H, m), 7.50(1H, d, J=8.7Hz), 12.30(1H, brs), 12.56(1H, brs).
実施例55
化合物I-160,I-161
Figure 0003616628
第1工程
実施例54の第5工程に従い、化合物169(500mg,1.85mmol)と、1-アミノ-3-(4-フルオロフェニル)プロパン-2-オン塩酸塩(560mg,2.75mmol)から、化合物171(220mg)を収率32%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.58(3H, s), 3.99(2H, s), 4.17(3H, s), 6.72(1H, s), 6.96-7.03(2H, m), 7.23-7.33(2H, m), 7.94(1H, s).
第2工程
実施例54の第6工程に従い、化合物171(450mg,1.22mmol)から化合物I-160(410mg)を無色結晶として収率94%で得た。
融点:193-195℃(分解)再結晶溶媒:アセトン
元素分析:C18H14FN4O・0.5H2Oとして
計算値(%):C, 59.10; H, 4.13; N, 15.32; Cl, 9.69; F, 5.19.
分析値(%):C, 59.36; H, 3.84; N, 15.22; Cl, 9.79; F, 4.91.
NMR(CDCl3)δ:2.58(3H, brs), 3.96(2H, s), 6.68(1H, s), 7.00-7.03(2H, m), 7.21-7.30(2H, m), 7.36(1H, s).
第3工程
実施例6の第1工程に従い、化合物I-160(400mg,1.12mmol)から化合物I-161(300mg)を無色結晶として収率83%で得た。
融点:167℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C18H15FN4O・0.7H2Oとして
計算値(%):C, 64.55; H, 4.94; N, 16.73; F, 5.67.
分析値(%):C, 64.68; H, 4.87; N, 16.91; F, 5.42.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 3.94(2H, brs), 6.95(1H, brs), 7.02(1H, d, J=8.1Hz), 7.10-7.20(2H, m), 7.30-7.40(2H, m), 7.53(1H, d, J=8.1Hz), 12.19(1H, brs), 12.37(1H, brs).
実施例56
化合物I-162,I-163
Figure 0003616628
第1工程
化合物172(5g,32.4mmol)をクロロホルム(30ml)及びアセトニトリル(15ml)に溶解し、N,O-ジメチルヒドロキシアミン(3.48g,35.6mmol)、HOBt(4.8g,35.6mmol)、トリエチルアミン(3.6g,35.6mmol)、及びWSCD(5.5g,35.6mmol)を加えた。室温下1時間攪拌し、溶媒を減圧下留去した。得られた残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付し、クロロホルム-メタノール(49:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物173(5.27g)を収率82%で得た。
NMR(CDCl3)δ:3.19(3H, s), 3.63(3H, s), 3.74(2H, s), 6.97-7.03(2H, m), 7.23-7.28(2H, m).
第2工程
トリメチルシリルアセチレン(982mg,10mmol)のTHF(10ml)溶液に、-78℃でn-ブチルリチウムを滴下した。30分攪拌した後、化合物173(1.97g,10mmol)のTHF(5ml)溶液を加え0℃まで昇温した。30分攪拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物174の粗生成物(2.1g)を得た。
第3工程
化合物174の粗生成物(2.1g)のエタノール(10ml)溶液に、40wt%メチルアミン水溶液(20mmol)を加え、室温下1時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残さをシリカゲルクロマトグラフィーに付した。酢酸エチルで溶出される目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物175(547mg)を、第2、第3行程を通して収率26%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.77(3H, bs), 3.07(3H, bs), 3.60(2H, s), 4.98(1H, d, J=12.3Hz), 6.95-7.01(2H, m), 7.20-7.26(2H, m), 7.60(1H, d, J=12.3Hz).
第4工程
実施例54の化合物169(1.36g,5.04mmol)をエタノール(30ml)に溶解し、塩化アンモニウム(280mg,5.24mmol)を加えて30分間還流した。溶媒を留去したのち、エーテルで結晶化させてアミジン体の塩酸塩を定量的に得た。この塩酸塩(280mg,1mmol)をメタノール(5ml)に溶解し、化合物175(250mg,1.2mmol)と28%ナトリウムメトキシド溶液(メタノール,1ml,5mmol)を加えて6時間還流した。室温に冷却後、飽和塩化アンモニウム溶液に加え、クロロホルムで3回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(20:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮し、化合物176(260mg)を収率68%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.59(3H, s), 4.00(3H, s), 4.16(2H, s), 6.97-7.10(3H, m), 7.25-7.31(2H, m), 7.37(1H, s), 8.72(1H, d, J=5.1Hz).
第5工程
実施例54の第6工程に従い、化合物176(260mg,0.68mmol)から化合物I-162(220mg)を無色結晶として収率88%で得た。
融点:280℃ 再結晶溶媒:アセトン
元素分析:C19H14ClFN4Oとして
計算値(%):C, 61.88; H, 3.83; N, 15.19; Cl, 9.61; F, 5.15.
分析値(%):C, 61.60; H, 3.75; N, 15.03; Cl, 9.69; F, 4.93.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 4.25(2H, s), 7.15-7.25(2H, m), 7.35-7.46(3H, m), 8.15(1H, s), 8.83(1H, d, J=5.1Hz), 13.79(1H, s).
第6工程
実施例6の第1工程に従い、化合物I-162(120mg,0.33mmol)から化合物I-163(60mg)を無色結晶として収率55%で得た。
融点:203℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
元素分析:C19H15FN4Oとして
計算値(%):C, 68.25; H, 4.52; N, 16.76; F, 5.68.
分析値(%):C, 68.05; H, 4.42; N, 16.57; F, 5.43.
NMR(CDCl3)δ:2.59(3H, s), 4.13(2H, s), 6.93(1H, d, J=5.1Hz), 7.00-7.08(2H, m), 7.13(1H, d, J=5.1Hz), 7.24-7.30(2H, m), 8.30(1H, d, J=8.7Hz), 8.59(1H, d, J=5.1Hz).
実施例56の合成法に順じ、化合物I-164を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-164
無色結晶、収率87%
融点:273℃ 再結晶溶媒:アセトン
元素分析:C20H16ClFN4Oとして
計算値(%):C, 62.75; H, 4.21; N, 14.64; Cl, 9.26; F, 4.96.
分析値(%):C, 62.52; H, 4.18; N, 14.34; Cl, 9.17; F, 4.70.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 3.06-2.30(4H, m), 7.06-7.15(2H, m), 7.26-7.36(3H, m), 8.15(1H, s), 8.78(1H, d, J=5.4Hz), 13.02(1H, s), 14.11(1H, s).
実施例57
化合物I-165
Figure 0003616628
第1工程
実施例56の第1工程に従い、化合物177(10.1g,60mmol)から化合物178(10.97g)を収率87%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.72(2H, t, J=7.5Hz), 2.94(2H, t, J=7.6Hz), 3.18(3H, s), 3.61(3H, s), 6.94-7.00(2H, m), 7.16-7.26(2H, m).
第2工程
リチウムアルミニウムハイドランド(1.31g,34.63mmol)のTHF(50ml)溶液に、化合物178(6.65g,31.48mmol)のTHF(10ml)溶液を、-78℃で滴下した。その後0℃まで昇温し1時間攪拌した。硫酸水素カリウム水溶液を加え、沈殿物を濾過し有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥した。溶媒を減圧下留去し、化合物179の粗生成物(5.49g)を得た。
第3工程
化合物179の粗生成物(5.49g)とジメチルホルムアミドジメチルアセタール(3.4g,31mmol)のDMF(20ml)溶液を130℃で8時間加熱攪拌した。その後水を加え、ジエチルエーテルで抽出し硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出される目的物の分画を濃縮して、化合物180(588mg)を収率9%で得た。
NMR(CDCl3)δ:3.04(6H, s), 3.80(2H, s), 6.73(1H, s), 6.91-6.96(2H, m), 7.06-7.12(2H, m), 9.03(1H, s).
第4工程
実施例56の第4工程に従い、化合物180(250mg,1.2mmol)から化合物181(240mg)を収率63%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.62(3H, s), 3.99(2H, s), 4.06(3H, s), 7.00-7.08(2H, m), 7.16-7.24(2H, m), 7.74(1H, s), 8.68(2H, s).
第5工程
実施例54の第6工程に従い、化合物181(240mg,0.68mmol)から化合物I-165(180mg)を無色結晶として収率78%で得た。
融点:>300℃ 再結晶溶媒:アセトン
融点:280℃ 再結晶溶媒:アセトン
元素分析:C19H14ClFN4Oとして
計算値(%):C, 61.88; H, 3.83; N, 15.19; Cl, 9.61; F, 5.15.
分析値(%):C, 61.50; H, 3.69; N, 15.02; Cl, 10.02; F, 4.94.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 4.05(2H, s), 7.12-7.20(2H, m), 7.35-7.41(2H, m), 8.11(1H, s), 8.85(2H, s), 13.00(1H, s), 13.78(1H, s).
実施例57の合成法に準じ、化合物I-166を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-166
無色結晶、収率65%
融点:293℃ 再結晶溶媒:アセトン
元素分析:C20H17ClN4Oとして
計算値(%):C, 65.84; H, 4.70; N, 15.36; Cl, 9.72.
分析値(%):C, 65.84; H, 4.57; N, 15.38; Cl, 9.84.
NMR(DMSO-d6)δ:2.51(3H, s), 2.98(4H, m), 7.15-7.32(5H, m), 8.10(1H, s), 8.78(1H, s), 13.00(1H, s), 13.85(1H, s).
実施例58
化合物I-167
Figure 0003616628
第1工程
文献(J.Heterocycl.Chem.,21,401-406,(1984))既知の化合物182(3.93g,13.6mmol)のジオキサン−水(2:1 v/v,60ml)溶液に室温で水酸化リチウム(688mg,28.2mmol)を加え、2時間攪拌した。反応液に室温で水(40ml)を加えた後、さらに2規定塩酸を加え酸性とした。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄し、化合物183(3.42g)を無色結晶として収率96%で得た。
第2工程
実施例9の第2工程に従い、化合物183(3.42g13.1mmol)から化合物184(5.28g)を薄黄色結晶として収率98%で得た。
第3工程
実施例9の第3工程に従い、化合物184(1.01g,2.46mmol)から化合物185(806mg)を薄褐色結晶として収率84%で得た。
第4工程
化合物185(514mg,1.31mmol)およびp-トルエンスルフィン酸ナトリウム(706mg,3.96mmol)のエタノール(20ml)溶液を25時間加熱還流した。反応液に氷冷下、水(40ml)を加えた。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄して得られた粗結晶をエタノールで再結晶を行い、化合物186(583mg)を無色結晶として収率80%で得た。
NMR(DMSO-d6)δ:2.39(3H, s), 2.87(3H, s), 4.48(2H, s), 7.23(2H, m), 7.46(4H, m), 7.88(2H, d, J=8.4Hz), 8.83(1H, s).
第5工程
化合物186(356mg,0.694mmol)のジオキサン−水(5:1 v/v,8.4ml)溶液に室温で水酸化リチウム(33.7mg,1.38mmol)を加え、24時間攪拌した。反応液に氷冷下、水(14ml)を加えた後、さらに2規定塩酸を加え中和した。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄して得られた粗結晶をエタノールで再結晶を行い、化合物I-167(126mg)を黄褐色結晶として収率43%で得た。
融点:280−290℃ 再結晶溶媒:エタノール
元素分析:C17H12FN3O3(H2O)0.2として
計算値(%):C, 50.84; H, 3.04; N, 14.82; F, 5.03; S, 16.97.
分析値(%):C, 50.55; H, 2.66; N, 14.63; F, 4.86; S, 17.08.
NMR(DMSO-d6)δ:2.73(3H, s), 4.33(2H, s), 7.20(2H, m), 7.44(2H, m), 8.39(1H, s).
IR(KBr):3442, 1603cm-1
実施例59
化合物I-168
Figure 0003616628
第1工程
N,O-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(467mg,4.78mmol)のテトラヒドロフラン(100ml)懸濁液を-78℃に冷却し、1.55M n-ブチルリチウム/n-ヘキサン溶液(6.2ml,9.61mmol)を5分間かけて滴下し同温度で3分間攪拌し、0℃で12分間攪拌した。再び、-78℃に冷却し、化合物77(実施例29に記載)(529mg,2.39mmol)のテトラヒドロフラン溶液(5ml)を加え同温度で15分間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(100:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物187(495mg)を得た。
NMR(CDCl3)δ:3.39(3H, s), 3.84(3H, s), 4.42(3H, s), 7.34(1H, dd, J=8.4, 4.7Hz), 7.75(1H, d, J=8.4Hz), 8.60(1H, d, J=4.7Hz).
第2工程
2-ブロモ5-(p-フルオロベンジル)フラン(578mg,2.27mmol)のテトラヒドロフラン(5ml)溶液を-78℃に冷却し、1.55M n-ブチルリチウム/n-ヘキサン溶液(1.4ml,2.17mmol)を2分間かけて滴下し同温度で13分間攪拌した。化合物187(480mg,2.03mmol)のテトラヒドロフラン(5ml)溶液を加え、同温度で6時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去してえられた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(3:2 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物188(400mg)を得た。
NMR(CDCl3)δ:4.10(2H, s), 4.57(3H, s), 6.17(1H, d, J=3.8Hz), 6.99-7.06(2H, m), 7.24-7.29(2H, m), 7.42(1H, dd, J=8.7,4.5Hz), 7.62(1H, d, J=3.8Hz), 7.81(1H, dd, J=8.7, 1.2Hz), 8.64(1H, dd, J=4.5, 1.2Hz).
第3工程
化合物188(136mg,0.387mmol)のジクロロメタン(3ml)溶液を0℃に冷却し、1.0M三臭化ホウ素ジクロロメタン溶液(0.58ml,0.580mmol)を加え、同温度で30分間攪拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をアセトン−メタノール(1:10)混液を用いて洗浄し黄色固体(87mg)を得た。さらにアセトン−メタノール混液を用いて再結晶を行ないI-168(34mg)を黄色結晶として得た。
融点:186−188℃ 再結晶溶媒:アセトン−メタノール
NMR(CDCl3)δ:4.13(2H, s), 6.26(1H, d, J=3.8Hz), 7.00-7.10(2H, m), 7.24-7.30(2H, m), 7.48(1H, dd, J=8.6, 4.7Hz), 7.818(1H, d, J=3.8Hz), 7.823(1H, dd, J=8.6, 1.1Hz), 8.71(1H, dd, J=4.7, 1.1Hz).
実施例60
化合物I-169
Figure 0003616628
第1工程
文献(J.Chem.Soc.,Perkin Trans.1,1985,p213)既知化合物である6,7-ジヒドロキ-5H-キノリン-8-オン(化合物189)(147mg,1.0mmol)のテトラヒドロフラン(3ml)にドライアイス氷冷下、1Mリチウムヘキサメチルシラザミドのテトラヒドロフラン溶液(1.2ml,1.2mmol)を加えた。45分攪拌した後、酸クロリド239mg,1.0mmol)を加えた。その後、自然昇温し、室温で1時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物I-169(88mg)を油状物として収率25%で得た。
Nagative ESIMS m/z348(M-H)
Positive ESIMS m/z350(M+H)
NMR(CDCl3)(enol-form:keto-form=3:1)δ:2.88-3.05(4H, m), 4.00(0.25H, s), 4.05(0.75H, s), 4.41(0.25H, dd,J=5.0, 9.2Hz), 6.14(0.25H, d, J=3.3Hz), 6.19(0.75H, d, J=3.3Hz), 6.9-7.5(6H, m), 7.58(0.75H, d, J=7.5Hz), 7.68(0.25H, d, J=8.1Hz), 8.68(0.75H, d, J=5.1Hz), 8.73(0.25H, d, J=4.8Hz).
IR(neat):3051, 1601, 1506, 1223, 1157, 1018, 810, 735cm-1
実施例61
化合物I-170
Figure 0003616628
第1工程
化合物190(5.45g,80.0mmol)のジクロロメタン(160ml)溶液に氷冷下、ジイソプロピルエチルアミン(20.9ml,120mmol)とクロロメチルメチルエーテル(7.90ml,104mmol)を加え、室温で18時間攪拌した。反応液を濃縮後、水を加え、これを酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られる残さを減圧蒸留(84-87℃/6mmHg)して、化合物191(3.06g)を無色油状物として収率34%で得た。
NMR(CDCl3)δ:3.28(3H, s), 5.25(2H, s), 7.06(1H, t, J=Hz), 7.12(1H, s), 7.61(1H, s).
第2工程
化合物191(1.12g,10.0mmol)のテトラヒドロフラン(40ml)溶液に、-40℃で1.55M n-ブチルリチウム/n-ヘキサン溶液(6.77ml,10.5mmol)を加え、同温度で30分間攪拌した。これに、-60℃でWeinreb amide(2.00g,12.0mmol)のテトラヒドロフラン(8ml)溶液を加え同温度で30分間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル(1:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物192(2.19g)を無色油状物として得た。
第3工程
上記の工程で得られた化合物192(2.14g)のジオキサン(30ml)溶液に6N塩酸(10ml)を加え、80℃で3時間攪拌した。溶媒を留去した後、水酸化ナトリウム水溶液で中和した。析出した結晶をろ取し、水洗後、乾燥して、化合物193(840mg)を無色結晶として収率49%(第2、第3工程)で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.23(2H, quintet, J=6.9Hz), 3.31(2H, t, J=7.2Hz), 3.65(2H, t, J=6.6Hz), 7.27(2H, brs), 10.58(1H, brs).
第4工程
化合物193(556mg,3.22mmol)のアセトニトリル(16ml)溶液に氷冷下、炭酸カリウム(890mg,6.44mmol)とよう化ナトリウム(480mg,3.20mmol)を加え、室温で3時間、70℃で20時間攪拌した。反応液をろ過して得られた残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(9:1 v/v)で溶出した。目的物の分画を減圧下濃縮して、化合物194(358mg)を無色結晶として収率82%で得た。
NMR(CDCl3)δ:2.39(2H, m), 2.77(2H, m), 4.26(2H, m), 7.08(1H, s), 7.34(1H, d, J=0.9Hz).
第5工程
実施例60の第1工程に従い、化合物194(136mg,1.00mmol)から化合物I-170(69mg)を黄色油状物として収率20%で得た。
FABMS m/z339(M+H)+
高分解能質量分析:C19H16FN2O3として
計算値(m/z):339.1145.
分析値(m/z):339.1153.
NMR(CDCl3)(enol-form:keto-form=1:1)δ:2.50-2.62and2.72-2.86(total 1H, both m),3.28(1H, t, J=7.2Hz), 4.01and4.05(total 2H, both s), 4.08-4.70(total 3H,m) ,6.17and6.6.22(total 1H, both d, J=3.6Hz), 6.96-7.42(7H, m).
IR(neat):3014, 1660, 1508, 1227, 1213, 1205cm-1
実施例62
化合物I-171
Figure 0003616628
第1工程
化合物195の3-ニトロサリチル酸(51g,279mmol,)のDMF(250ml)溶液に炭酸カリウム(77g)を加え、水浴(25℃)で冷却しながら硫酸ジメチル(58ml)を滴下した。反応液を室温下終夜攪拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗、飽和食塩水洗浄の後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって化合物196の粗生成物(56.3g)を白色結晶として得た。
第2工程
化合物196の粗生成物(56.3g)をエタノール200ml)−ジオキサン(200ml)−水(40ml)の混合溶媒に溶解し、10%パラジウム−炭素(2.82g)の水(20ml)懸濁液を加え、水素雰囲気下5.5時間攪拌した。反応液をセライトで濾過後、溶媒を減圧下留去した。残渣に水(300ml)を加え、エーテルで2回抽出した。抽出液を水洗、飽和食塩水洗浄の後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって化合物197の粗生成物(48.4g,266mmol)を油状物質として得た。
第3工程
実施例40の第2工程に準じて反応を行い、実施例40の第1工程で得た化合物109(47.0g,279mmol)と化合物197の粗生成物(48.4g,266mmol)から、化合物198(78.5g,237.0mmol)を結晶として89.1%の収率で得た。
融点:90−92℃
第4工程
実施例40の第3工程に準じて反応を行い、化合物198(78.0g,235mmol)から、化合物199(24.2g)を結晶として28.5%の収率で得た。
融点:126−127℃
第5工程
実施例40の第4工程に準じて反応を行い、化合物199(23.9g,66.4mmol)から、化合物200(19.3g)を結晶として89.2%の収率で得た。
融点:60−60.5℃
第6工程
化合物200(32.3g,99.2mmol)を酢酸(400ml)に溶解し、酢酸ナトリウム(10.4g,127mmol)を加えた後、臭素(5.62ml,109mmol)の酢酸(10ml)溶液を15分間で滴下した。室温下1時間40分攪拌した後、同様に酢酸ナトリウム(10.4g,127mmol)、臭素(5.62ml,109mmol)の酢酸(10ml)溶液を加えた。更に1時間30分攪拌した後、酢酸ナトリウム(20.4g,249mmol)を加え氷冷下攪拌した。反応液に10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液(260ml)及び水(250ml)を加え、同温にて30分間攪拌した。析出した結晶を濾取し、水洗した。得た結晶を酢酸エチル(600ml)に溶解し10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄の後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去した結晶性残渣をアセトン−ヘキサンから再結晶する事によって化合物201(37.4g,92.5mmol)を結晶として93.2%の収率で得た。
融点:110−111℃
第7工程
化合物201(3.05g,7.55mmol)、酢酸パラジウム(II)(339mg,1.51mmol)および1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(781mg,1.89mmol)のジメチルスルホキシド(60ml)懸濁液に室温でトリエチルアミン(10.5ml,75.3mmol)、水(15ml)を順次加え、室温で30分間攪拌した後、1気圧の一酸化炭素雰囲気下、室温で1時間、70℃で2時間攪拌した。反応液を酢酸エチル(120ml)および水(120ml)で希釈した後、セライトでろ過し、残さを酢酸エチル(60ml)および水(60ml)で洗浄した。ろ液から酢酸エチルを減圧下留去して得られた残さに10%クエン酸水溶液(60ml)を加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、酢酸エチル−メタノール(1:1 v/v)で再結晶を行い、化合物202(2.16g,58.5mmol)を薄褐色結晶として収率78%で得た。
第8工程
化合物202(199mg,0.539mmol)および1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(7.5mg,0.056mmol)のDMF(2ml)懸濁液に室温でイソプロピルアミン(0.056ml,0.66mmol)、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(125mg,0.652mmol)を順次加え、90分間攪拌した後、反応液に室温で水(4ml)を滴下した。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄し、化合物203(194mg)を無色結晶として収率88%で得た。
第9工程
化合物203(90.0mg,0.219mmol)の塩化メチレン(4.5ml)溶液に氷冷下、三臭化ほう素の1M塩化メチレン溶液(0.880ml,0.880mmol)を滴下し、30分間攪拌した後、反応液に氷冷下、水(9ml)を加えた。析出した結晶をろ取し、水で洗浄した後、酢酸エチルで再結晶を行い、表題化合物I-171(31.6mg,0.08mmol)を薄褐色結晶として収率36%で得た。
融点:210−212℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(DMSO-d6)δ:1.16(6H, d, J=6.9Hz), 3.93(3H, s), 4.10(1H, m), 4.23(2H, s), 7.16(2H, m), 7.35(2H, m), 7.96(1H, s), 8.42(1H, brs), 8.51(1H, m), 8.90(1H, m).
実施例18及び実施例62の合成法に準じ、化合物I-172〜I-179を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-172
融点:247−249℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロパノール
NMR(DMSO-d6)δ:3.93(3H, s), 4.23(2H, s), 7.15(2H, m), 7.35(2H, m), 7.48(1H, brs), 8.06(1H, brs), 8.11(1H, s), 8.73(1H, d, J=4.2Hz), 8.90(1H, d, J=4.2Hz).
化合物I-173
融点:219−221℃ 再結晶溶媒:メタノール
NMR(DMSO-d6)δ:2.81(3H, d, J=4.2Hz), 3.93(3H, s), 4.22(2H, s), 7.15(2H, m), 7.35(2H, m), 8.04(1H, s), 8.52(1H, brt), 8.67(1H, m), 8.90(1H, m).
化合物I-174
融点:198−200℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.30(3H, t, J=7.2Hz), 3.49-3.59(2H, m), 4.03(3H, s), 4.14(2H, s), 6.99(2H, t, J=8.7Hz), 7.14-7.27(2H, m), 8.02(1H, s), 8.64(1H, d, J=2.1Hz), 8.80(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-175
融点:190−193℃ 再結晶溶媒:アセトン−エーテル
NMR(CDCl3)δ:1.02(3H, t, J=7.5Hz), 1.68(2H, m), 3.46(2H, m), 4.04(3H, s), 4.15(2H, s), 6.06(2H, m), 6.99(2H, m), 7.17(1H, m), 8.04(1H, s), 8.64(1H, s), 8.83(1H, s).
化合物I-176
NMR(CDCl3)δ:1.00-1.60(2H, m), 1.60-1.80(4H, m), 3.10-3.20(2H, m), 3.40-4.00(2H, m), 4.09(3H, s), 4.34(2H, s), 7.04-7.21(2H, m), 7.22-7.28(2H, m), 8.06(1H, s), 8.49(1H, s), 9.45(1H, d, J=1.5Hz).
化合物I-177
融点:228−230℃ 再結晶溶媒:メタノール
NMR(DMSO-d6)δ:3.92(3H, s), 4.21(2H, s), 4.49(2H, d, J=5.7Hz), 7.15(2H, m), 7.28(2H, m), 8.09(1H, s), 8.62(1H, s), 8.91(1H, s), 9.14(1H, brs).
化合物I-178
融点:158−161℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:2.82(3H, s), 3.17(3H, s), 4.02(3H, s), 4.15(2H, s), 6.14(1H, br.s), 7.01(2H, t, J=8.7Hz), 7.13-7.19(2H, m), 7.87(1H, d, J=2.1Hz), 7.89(1H, s), 8.85(1H, d, J=2.1Hz), 11.94(1H, br.s).
化合物I-179
融点:159−163℃ 再結晶溶媒:アセトン−イソプロパノール
NMR(CDCl3)δ:3.96(3H, s), 4.07(3H, s), 4.20(2H, s), 7.01(2H, m), 7.20(2H, m), 8.76(1H, s), 8.88(1H, s), 9.30(1H, s).
実施例63
化合物I-180
Figure 0003616628
第1工程
化合物201(1.5g,3.71mmol)のテトラヒドロフラン(12.5ml)−メタノール(12.5ml)溶液に氷冷下2規定水酸化ナトリウム水溶液(2.20ml,4.45mmol)を加え、30分間還流攪拌した。2規定塩酸(2.2ml)、水(75ml)を加え室温で30分間攪拌したのち氷冷し、析出した結晶を濾取、水洗して化合物141(1.4g)を97.0%の収率で得た。
NMR(CDCl3)δ:4.23(2H, s), 4.49(3H, s), 7.01−7.09(2H, m), 7.17-7.29(2H, m), 8.31(1H, d, J=1.8Hz), 8.49(1H, s), 8.66(1H, d, J=1.8Hz), 11.40(1H, brs).
第2工程
化合物141(1.4g,3.59mmol)の塩化メチレン(30ml)溶液に、室温下1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(827mg,4.31mmol)及び1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(566mg,4.31mmol)を加え40分間撹拌した。エタノール(20ml)とトリエチルアミン(0.60ml,4.31mmol)を加え、1時間加熱灌流した。反応液を冷却後溶媒を留去し、氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した残渣をカラムクロマトグラフィー精製(酢酸エチル:n-ヘキサン=1:2-1:1)して化合物142(1.30g)を87.0%の収率で得た。
NMR(CDCl3)δ:1.45(3H, t, J=7.2Hz),4.21(2H, s), 4.21(3H, s), 4.45(2H, q, J=7.2Hz), 6.99-7.08(2H, m), 7.16-7.29(2H, m), 8.41(1H, s), 8.24(1H, d, J=2.1Hz), 8.85(1H, d, J=2.1Hz).
第3工程
実施例62の第7工程に従い、化合物142(3.0g,7.18mmol)から化合物204(2.38g)を淡黄色結晶として収率87.0%で得た。
NMR(CDCl3)δ:1.37(3H, t, J=7.1Hz), 4.18(3H, s), 4.25(2H, s), 4.38(2H, q, J=7.1Hz), 7.13-7.20(2H, m), 7.34-7.40(2H, m), 3.45(1H, s), 8.98(1H, d, J=2.0Hz), 9.18(1H, d, J=2.0Hz), 13.40(1H, brs).
第4工程
実施例62の第8工程に従い、化合物204(200mg,0.52mmol)から化合物205(173mg)を白色結晶として収率81.0%で得た。
NMR(CDCl3)δ:1.44(3H, t, J=7.2Hz), 2.83(3H, s), 3.20(3H, s), 4.15(2H, s), 4.23(3H, s), 4.44(2H, q, J=7.2Hz), 6.98-7.05(2H, m), 4.14-7.20(2H, m), 7.83(1H, s), 7.89(1H, d, J=2.1Hz), 8.85(1H, d, J=2.1Hz).
第5工程
実施例62の第9工程に従い、化合物205(170mg,0.41mmol)から表題化合物I-180(90mg)を淡黄色結晶として収率55.0%で得た。
融点:127−128℃ 再結晶溶媒:メタノール−ジイソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:1.46(3H, t, J=7.2Hz), 2.80(3H, s), 3.17(3H, s), 4.15(2H, s), 4.48(2H, q, J=Hz), 6.96-7.07(2H, m), 7.12-7.22(2H, m), 7.84(1H, d, J=2.1Hz), 7.90(1H, s), 8.86(1H, d, J=2.1Hz), 12.07(1H, brs).
実施例63の合成法に準じ、化合物I-181〜I-190を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-181
融点:208−210℃ 再結晶溶媒:メタノール
NMR(CDCl3)δ:1.48(3H, t, J=7.2Hz), 3.75(3H, d, J=3.9Hz), 4.16(2H, s), 4.50(2H, q, J=7.2Hz), 6.07(1H, brs), 6.95-7.05(2H, m), 7.12-7.23(2H, m), 8.06(1H, s), 8.67(1H, s), 8.30(1H, s), 12.15(1H, brs).
化合物I-182
融点:153−155℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.35(3H, t, J=7.1Hz), 1.51(3H, t, J=7.1Hz), 3.57(2H, q, J=7.1Hz), 4.28(2H, s), 4.55(2H, q, J=7.1Hz), 6.91(1H, brs), 7.03-7.12(2H, m), 7.18-7.28(2H, m), 8.36(1H, s), 9.22(1H, s), 9.40(1H, s), 12.26(1H, brs).
化合物I-183
融点:134−137℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.04(3H, t, J=7.2Hz), 1.50(3H, t, J=7.0Hz), 1.66-1.79(2H, m), 3.49(2H, q, J=6.5Hz), 4.23(2H, s), 4.52(2H, q, J=Hz), 6.93(1H, brs), 7.01-7.09(2H, m), 7.18-7.28(2H, m), 8.28(1H, s), 9.07(1H, s), 9.16(1H, s).
化合物I-184
融点:140−143℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.10-1.50(2H, m), 1.48(3H, t, J=7.1Hz), 1.60-1.74(4H, m), 3.06-3.22(2H, m), 3.54-3.96(2H, m), 4.37(2H, s), 4.54(2H, q, J=7.1Hz), 7.03-7.12(2H, m), 7.21-7.29(2H, m), 8.06(1H, s), 8.47(1H, s), 9.50(1H, s), 12.39(1H, brs).
化合物I-185
融点:194−195℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−メタノール
NMR(CDCl3)δ:1.48(3H, t, J=7.2Hz), 3.65-3.74(2H, m), 3.86-3.95(2H, m), 4.14(2H, s), 4.51(2H, q, J=7.2Hz), 6.57(1H, brs), 6.94-7.05(2H, m), 7.12-7.23(2H, m), 8.07(1H, s), 8.62(1H, s), 8.81(1H, d, J=2.1Hz), 12.13(1H, brs).
化合物I-186
融点:214−217℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.46(3H, t, J=7.1Hz), 4.15(2H, s), 4.49(2H, q, J=7.1Hz), 4.70(2H, d, J=5.7Hz), 6.35(1H, brs), 6.95-7.04(2H, m), 7.13-7.21(2H, m), 7.31-7.42(5H, m), 8.08(1H, s), 8.67(1H, s), 8.83(1H, d, J=1.5Hz), 12.14(1H, brs).
化合物I-187
融点:168℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:1.49(3H, t, J=6.9Hz), 4.15(2H, s), 4.53(2H, q, J=6.9Hz), 6.94-7.70(9H, m), 7.77(1H, brs), 8.23(1H, s), 8.72(1H, s), 8.87(1H, d, J=Hz), 12.17(1H, brs).
化合物I-188
融点:218−219℃ 再結晶溶媒:アセトン−酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.45(6H, d, J=6.3Hz), 4.17(2H, s), 5.39(1H, sep, J=6.3Hz), 5.92(2H, brs), 6.96-7.04(2H, m), 7.14-7.21(2H, m), 8.17(1H, s), 8.76(1H, s), 8.84(1H, s), 12.29(1H, brs).
化合物I-189
融点:208−209℃ 再結晶溶媒:アセトン−メタノール
NMR(CDCl3)δ:1.46(6H, d, J=6.2Hz), 3.08(3H, d, J=3.9Hz), 4.16(2H, s), 5.39(1H, sep, J=6.2Hz), 6.07(1H, brs), 6.96-7.03(2H, m), 7.15-7.21(2H, m), 8.03(1H, s), 8.67(1H, s), 8.84(1H, s), 12.23(1H, brs).
化合物I-190
NMR(CDCl3)δ:1.43(6H, d, J=6.3Hz), 2.78(3H, s), 3.17(3H, s), 4.16(2H, s), 5.36(1H, sep, J=6.3Hz), 6.97-7.06(2H, m), 7.12-7.20(2H, m), 7.82(1H, s), 7.89(1H, s), 8.87(1H, d, J=2.1Hz), 12.23(1H, brs).
実施例64
化合物191
Figure 0003616628
第1工程
化合物141(390mg,1.0mmol)のテトラヒドロフラン(20ml)溶液に、2,2'-ジピリジルジスルフィド(242mg,1.1mmol)、トリフェニルホスフィン(288mg,1.1mmol)を加えた。2時間後、さらに反応液に、2,2'-ジピリジルジスルフィド(242mg,1.1mmol)、トリフェニルホスフィン(288mg,1.1mmol)を加えた。一晩放置後、溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィーに付した後、ジイソプロピルエーテルで結晶化させ、化合物206(436mg)を収率90%で得た。
第2工程
第1工程によって得られた化合物206(2.20g,4.55mmol)のテトラヒドロフラン(50ml)溶液に、ドライアイス氷冷下、1Mメチルマグネシウムプロミド(5.0ml,5.0mmol)を加えた。40分後、さらに反応液に、1Mメチルマグネシウムブロミド(0.9ml,0.9mmol)を加えた。15分後、反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を水、ブラインで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、カラムクロマトグラフィーに付した後、ヘキサン−ジイソプロピルエーテルで結晶化させ、化合物207(1.64g)を収率93%で得た。
第3工程
第2工程によって得られた化合物207(1.6g,4.2mmol)を実施例62の第7工程に準じて反応を行い、化合物208(1.18g,3.34mmol)を白色結晶として収率80.5%で得た。
第4工程
第3工程によって得られた化合物208(194.3mg,0.55mmol)を実施例62の第8工程に準じて反応を行い、化合物209(148mg,0.39mmol)を白色結晶として収率70.7%で得た。
第5工程
第4工程によって得られた化合物209(100.0mg,0.26mmol)を実施例45の第3工程に準じて反応を行い、表題化合物I-191(51.8mg,0.39mmol)を薄緑色結晶として収率54.4%で得た。
融点:141−142℃ 再結晶溶媒:エタノール−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:2.74(3H, s), 2.80(3H, s), 3.18(3H, s), 4.16(2H, s), 6.96-7.06(2H, m), 7.10-7.20(2H, m), 7.80(1H, s), 7.80-7.86(1H, m), 8.82-8.90(1H, m).
実施例45の第3工程、実施例62の第7,8工程及び実施例64の合成法に準じ、化合物I-192〜I-243を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-192
融点:230−232℃ 再結晶溶媒:ジエチルエーテル
NMR(DMSO)δ:2.75(3H, s), 4.23(2H, s), 7.12-7.18(2H, m), 7.32-7.37(2H, m), 7.46(1H, brs), 8.05(1H, brs), 8.13(1H, s), 8.75(1H, s), 8.89(1H, s).
化合物I-193
融点:207−209℃ 再結晶溶媒:エタノール−ジエチルエーテル
NMR(DMSO)δ:2.75(3H, s), 2.81(3H, d, J=4.4Hz), 4.22(2H, s), 7.12-7.18(2H, m), 7.32-7.36(2H, m), 8.07(1H, s), 8.52(1H, d, J=4.7Hz), 8.70(1H, s), 8.90(1H, s).
化合物I-194
融点:211−213℃ 再結晶溶媒:エタノール−ジエチルエーテル
NMR(DMSO)δ:1.17(6H, d, J=6.6Hz), 2.75(3H, s), 4.10(1H, sept, J=6.7Hz), 4.23(2H, s), 7.12-7.18(2H, m), 7.32-7.37(2H, m), 7.98(1H, s), 8.39(1H, d, J=7.7Hz), 8.53(1H, s), 8.90(1H, s).
化合物I-195
融点:191−193℃ 再結晶溶媒:エタノール−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:1.00-1.80(6H, m), 2.73(3H, s), 3.00-3.12(2H, m), 3.48-4.02(2H, m), 4.16(2H, s), 6.98-7.08(2H, m), 7.14-7.22(2H, m), 7.74(1H, s), 7.78-7.82(1H, m), 8.86-7.92(1H, m).
化合物I-196
融点:180−183℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:2.78(3H, s), 3.40(3H, s), 3.58-3.64(2H, m), 3.66-3.74(2H, m), 4.16(2H, s), 6.37-6.49(1H, m), 6.96-7.04(2H, m), 7.14-7.21(2H, m), 8.04(1H, s), 8.64-8.67(1H, m), 8.77-8.84(1H, m).
化合物I-197
融点:208−210℃ 再結晶溶媒:エタノール−ジエチルエーテル
NMR(DMSO)δ:2.75(3H, s), 4.22(2H, s), 4.51(2H, d, J=6.1Hz), 7.12-7.18(2H, m), 7.27-7.34(5H, m), 7.33-7.37(2H, m), 8.13(1H, s), 8.65(1H, s), 8.91(1H, s), 9.12(1H, t, J=5.5Hz).
化合物I-198
融点:212−215℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:2.76(3H, s), 4.11(2H, s), 6.92-7.02(2H, m), 7.10-7.28(3H, m), 7.38-7.46(2H, m), 7.60-7.70(2H, m), 7.80-8.08(1H, brs), 8.12(1H, s), 8.60-8.66(1H, m), 8.72-8.80(1H, m).
化合物I-199
融点:217−219℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.30(3H, t, J=7.2Hz), 3.19(2H, q, J=7.2Hz), 4.18(2H, s), 5.85(2H, bs), 6.97-7.03(2H, m), 7.16-7.20(2H, m), 8.19(1H, s), 8.77(1H, s), 8.80(1H, d, J=2.0Hz).
化合物I-200
融点:214−216℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.29(3H, t, J=7.2Hz), 3.07(3H, d, J=4.0Hz), 3.18(2H, q, J=7.2Hz), 4.16(2H, s), 6.09(1H, bs), 6.97-7.04(2H, m), 7.16-7.20(2H, m), 8.05(1H, s), 8.68(1H, s), 8.79(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-201
融点:194−195℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.29(3H, t, J=7.2Hz), 1.29(3H, t, J=7.2Hz), 3.17(2H, q, J=7.2Hz), 3.50-3.59(2H, m), 4.16(2H, s), 6.07(1H, bs), 6.97-7.03(2H, m), 7.16-7.21(2H, m), 8.03(1H, s), 8.63(1H, d, J=1.8Hz), 8.79(1H, d, J=1.8Hz).
化合物I-202
融点:196−197℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.29(3H, t, J=7.2Hz), 1.29(6H, d, J=Hz), 3.19(2H, q, J=7.2Hz), 4.17(2H, s), 4.25-4.40(1H, m), 5.82(1H, bs), 6.98-7.04(2H, m), 7.16-7.21(2H, m), 8.01(1H, s), 8.58(1H, s), 8.80(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-203
融点:136−138℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.29(3H, t, J=7.2Hz), 1.00-1.75(6H, m), 3.00-3.17(4H, m), 3.60(1H, bs), 3.92(1H, bs), 4.16(2H, s), 6.99-7.05(2H, m), 7.16-7.19(2H, m), 7.77(1H, s), 7.80(1H, d, J=1.8Hz), 8.88(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-204
NMR(CDCl3)δ:1.29(3H, t, J=7.2Hz), 3.18(2H, q, J=7.2Hz), 3.41(3H, s), 3.61(2H, d, J=5.0Hz), 3.71(2H, d, J=5.0Hz), 4.16(2H, s), 6.41(1H, bs), 6.97-7.03(2H, m), 7.16-7.20(2H, m), 8.07(1H, s), 8.65(1H, s), 8.80(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-205
融点:201−203℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.26(3H, t, J=7.2Hz), 3.14(2H, q, J=7.2Hz), 4.14(2H, s), 4.68(2H, d, J=5.5Hz), 6.41(1H, bs), 6.97-7.03(2H, m), 7.14-7.19(2H, m), 7.26-7.40(5H, m), 8.06(1H, s), 8.66(1H, d, J=2.1Hz), 8.77(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-206
融点:196−197℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.28(3H, t, J=7.2Hz), 3.16(2H, q, J=7.2Hz), 4.12(2H, s), 6.94-7.01(2H, m), 7.13-7.26(3H, m), 7.40-7.45(2H, m), 7.67(2H, d, J=7.6Hz), 8.01(1H, s), 8.16(1H, s), 8.64(1H, s), 8.78(1H,
化合物I-207
融点:150−152℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.29(3H, t, J=7.2Hz), 2.81(3H, s), 3.14(2H, q, J=7.2Hz), 3.18(3H, s), 4.16(2H, s), 6.99-7.05(2H, m), 7.14-7.19(2H, m), 7.83(1H, s), 7.84(1H, s), 8.85(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-208
融点:178−180℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:1.05(6H, d, J=6.7Hz),2.30(1H, m), 3.00(2H, d, J=6.7Hz), 4.18(2H, s), 5.68-6.12(2H, brs), 6.95-7.05(2H, m), 7.14-7.24(2H, m), 8.16(1H, s), 8.74-8.78(1H, m), 8.80-8.84(1H, m).
化合物I-209
融点:170−171℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.05(6H, d, J=6.7Hz), 1.30(3H, t, J=7.4Hz), 2.36(1H, m), 3.04(2H, d, J=6.7Hz), 3.50-3.62(2H, m), 4.17(2H, s), 5.95-6.03(1H, m), 6.96-7.05(2H, m), 7.14-7.24(2H, m), 8.02(1H, s), 8.60-8.64(1H, m), 8.79-8.82(1H, m).
化合物I-210
融点:171−173℃ 再結晶溶媒:エタノール−イソプロピルエーテル
NMR(DMSO)δ:0.97(6H, d, J=6.4Hz), 1.17(6H, d, J=6.4Hz), 2.23(1H, sept, J=6.7Hz), 3.07(2H, d, J=6.7Hz), 4.04-4.16(1H, m), 4.23(2H, s), 7.12-7.18(2H, m), 7.32-7.36(2H, m), 7.96(1H, s), 8.38(1H, d, J=7.6Hz), 8.52(1H, d, J=1,8Hz), 8.89(1H, d, J=1.5Hz).
化合物I-211
融点:140−142℃ 再結晶溶媒:エタノール−イソプロピルエーテル
NMR(DMSO)δ:0.97(6H, d, J=6.7Hz), 2.24(1H, sept, J=6.7Hz), 3.07(2H, d, J=6.7Hz), 3.29(3H, s), 3.30-3.49(4H, m), 4.22(2H, s), 7.12-7.18(2H, m), 7.32-7.36(2H, m), 8.03(1H, s), 8.62(1H, d, J=1.8Hz), 8.65(1H, brs), 8.89(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-212
融点:260−262℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:1.30-2.00(10H, m), 3.38-3.49(1H, m), 4.18(2H, s), 5.70-6.00(1H, brs), 6.96-7.04(2H, m), 7.16-7.22(2H, m), 8.15(1H, s), 8.72-8.76(2H, m), 8.80-8.82(1H, m).
化合物I-213
融点:163−164℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:1.20-2.00(10H, m), 3.08(3H, d, J=2.3Hz), 3.96-3.48(1H, m), 4.16(2H, s), 6.00-6.11(1H, m), 6.96-7.04(2H, m), 7.14-7.20(2H, m), 8.01(1H, s), 8.62-8.68(1H, m), 8.78-8.82(1H, m).
化合物I-214
NMR(CDCl3)δ:1.06-2.00(10H, m), 2.80(3H, s), 3.19(3H, s), 3.28-3.44(1H, m), 4.16(2H, s), 6.96-7.08(2H, m), 7.10-7.20(2H, m), 7.78-7.86(2H, m), 8.80-8.92(1H, m), 13.6-14.2(1H, brs).
化合物I-215
融点:163−164℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル−イソプロパノール
NMR(CDCl3)δ:1.20-2.00(10H, m), 3.08(3H, d, J=2.3Hz), 3.36-3.48(1H, m), 4.16(2H, s), 6.00-6.11(1H, m), 6.96-7.04(2H, m), 7.14-7.20(2H, m), 8.01(1H, s), 8.62-8.68(1H, m), 8.78-8.82(1H, m).
化合物I-216
融点:165℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(CDCl3)δ:2.04-2.14(2H, m), 3.25(2H, t, J=7.5Hz), 3.37(3H, s), 3.52(2H, t, J=5.7Hz), 4.17(2H, s), 5.94(2H, brs), 6.96-7.05(2H, m), 7.14-7.22(2H, m), 8.23(1H, s), 8.81(2H, s).
化合物I-217
融点:148℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:2.03-2.14(2H, m), 3.07(3H, d, J=5.1Hz), 3.23(2H, t, J=7.5Hz), 3.37(3H, s), 3.51(2H, t, J=6.0Hz), 4.16(2H, s), 6.16(1H, brs), 6.95-7.05(2H, m), 7.14-7.22(2H, m), 8.08(1H, s), 8.71(1H, s), 8.79(1H, d, J=1.2Hz), 12.63(1H, brs).
化合物I-218
融点:123−126℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:2.03-2.13(2H, m), 2.81(3H, s), 3.18(3H, s), 3.21(2H, t, J=7.2Hz), 3.35(3H, s), 3.50(2H, t, J=6.0Hz), 4.16(2H, s), 6.97-7.06(2H, m), 7.12-7.20(2H, m), 7.83(1H, s), 7.85(1H, s), 8.85(1H, d, J=1.2Hz), 13.44(1H, brs).
化合物I-219
融点:259−261℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C24H17FN2O3として
計算値(%):C, 71.99; H, 4.28; F, 4.74; N, 7.00.
分析値(%):C, 71.87; H, 4.15; F, 4.63; N, 6.90.
NMR(CDCl3)δ:4.20(2H, s), 5.76(2H, m), 7.01(2H, m), 7.20(2H, m), 7.54(2H, m), 7.65(1H, m), 7.80(2H, m), 8.00(1H, s), 8.82(1H, m), 8.85(1H, m).
化合物I-220
融点:88−89℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C25H19FN2O3(H2O)0.6として
計算値(%):C, 70.61; H, 4.79; F, 4.47; N, 6.59.
分析値(%):C, 70.52; H, 4.58; F, 4.33; N, 6.43.
NMR(CDCl3)δ:3.02(3H, d, J=4.5Hz), 4.18(2H, s), 6.00(1H, brq), 7.01(2H, m), 7.19(2H, m), 7.54(2H, m), 7.64(1H, m), 7.78(2H, m), 7.86(1H, s), 8.75(1H, m), 8.81(1H, m).
化合物I-221
融点:70−72℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C26H21FN2O3(H2O)0.5として
計算値(%):C, 71.38; H, 5.07; F, 4.34; N, 6.40.
分析値(%):C, 71.25; H, 5.08; F, 4.32; N, 6.46.
NMR(CDCl3)δ:1.24(3H, t, J=7.4Hz), 3.50(2H, m), 4.19(2H, s), 5.95(1H, brt), 7.01(2H, m), 7.20(2H, m), 7.53(2H, m), 7.64(1H, m), 7.80(2H, m), 7.86(1H, s), 8.72(1H, m), 8.80(1H, m).
化合物I-222
融点:77−78℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C27H23FN2O3(H2O)1.0として
計算値(%):C, 70.42; H, 5.47; F, 4.13; N, 6.08.
分析値(%):C, 70.47; H, 5.32; F, 4.01; N, 5.93.
NMR(CDCl3)δ:1.25(6H, d, J=6.3Hz), 4.19(2H, s), 4.29(1H, m), 5.79(1H, brd), 7.01(2H, m), 7.20(2H, m), 7.53(2H, m), 7.64(1H, m), 7.80(2H, m), 7.84(1H, s), 8.67(1H, m), 8.80(1H, m).
化合物I-223
融点:150−151℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロピルエーテル
元素分析:C29H25FN2O3として
計算値(%):C, 74.34; H, 5.38; F, 4.05; N, 5.98.
分析値(%):C, 74.07; H, 5.25; F, 4.01; N, 5.87.
NMR(CDCl3)δ:1.12(1H, m), 1.29(1H, m), 1.58(4H, m), 3.08(2H, m), 3.50(1H, m), 3.92(1H, m), 4.18(2H, s), 7.03(2H, m), 7.19(2H, m), 7.53(2H, m), 7.60(1H, s), 7.63(1H, m), 7.75(2H, m), 7.87(1H, m), 8.90(1H, m).
化合物I-224
融点:178−180℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C27H23FN2O4として
計算値(%):C, 70.73; H, 5.06; F, 4.14; N, 6.11.
分析値(%):C, 70.46; H, 4.89; F, 4.04; N, 6.03.
NMR(CDCl3)δ:3.34(3H, s), 3.55(2H, m), 3.65(2H, m), 4.19(2H, s), 6.33(1H, brt), 7.01(2H, m), 7.19(2H, m), 7.54(2H, m), 7.64(1H, m), 7.79(2H, m), 7.90(1H, s), 8.73(1H, m), 8.31(1H, m).
化合物I-225
融点:164−165℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C31H23FN2O3として
計算値(%):C, 75.90; H, 4.73; F, 3.87; N, 5.71.
分析値(%):C, 75.54; H, 4.56; F, 3.82; N, 5.63.
NMR(CDCl3)δ:4.19(2H, s), 4.65(2H, d, J=5.7Hz), 6.26(1H, brt), 7.01(2H, m), 7.19(2H, m), 7.33(5H, m), 7.52(2H, m), 7.64(1H, m), 7.78(2H, m), 7.91(1H, s), 8.76(1H, m), 8.81(1H, m).
化合物I-226
融点:103−104℃ 再結晶溶媒:メタノール
元素分析:C30H21FN2O3として
計算値(%):C, 75.62; H, 4.44; F, 3.99; N, 5.88.
分析値(%):C, 75.23; H, 4.24; F, 4.02; N, 5.78.
NMR(CDCl3)δ:4.16(2H, s), 6.99(2H, m), 7.18(3H, m), 7.40(2H, m), 7.53(2H, m), 7.63(3H, m), 7.79(2H, m), 7.86(1H, brs), 8.00(1H, s), 8.77(1H, m), 8.79(1H, m).
化合物I-227
融点:79−81℃ 再結晶溶媒:イソプロパノール
NMR(CDCl3)δ:2.81(3H, s), 3.14(3H, s), 4.18(2H, s), 7.02(2H, m), 7.16(2H, m), 7.53(2H, m), 7.62(1H, m), 7.65(1H, s), 7.76(2H, m), 7.93(1H, m), 8.86(1H, m), 12.73(1H, brs).
化合物I-228
融点:174−175℃ 再結晶溶媒:メタノール−クロロホルム
NMR(CDCl3)δ:3.90(3H, s), 4.22(3H, s), 7.03(2H, m), 7.22(2H, m), 7.55(2H, m), 7.66(1H, m), 7.80(2H, m), 8.58(1H, s), 8.84(1H, m), 9.30(1H, m).
化合物I-229
融点:243−245℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(d6-DMSO)δ:4.25(2H, s), 7.13-7.19(2H, m), 7.32-7.38(4H, m), 7.43(1H, brs), 7.83(1H, s), 7.85-7.90(2H, m), 8.01(1H, brs), 8.84(1H, d, J=2.1Hz), 8.89(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-230
融点:156−158℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−イソプロピルエーテル
NMR(d6-DMSO)δ:2.79(3H, d, J=4.5Hz), 4.24(2H, s), 7.13-7.19(2H, m), 7.32-7.38(4H, m), 7.75(1H, s), 7.84-7.89(2H, m), 8.48(1H, d, J=4.5Hz), 8.76(1H, d, J=1.8Hz), 8.89(1H, d, J=1.8Hz), 11.11(1H, brs).
元素分析:C25H18F2N2O3として
計算値(%):C, 69.44; H, 4.20; F, 8.79; N, 6.48.
分析値(%):C, 69.14; H, 4.09; F, 8.53; N, 6.43.
化合物I-231
融点:152−153 ℃再結晶溶媒:酢酸エチル−イソプロピルエーテル
NMR(d6-DMSO)δ:1.12(3H, t, J=2.1Hz),3.29(2H, m), 4.25(2H, s), 7.13-7.19(2H, m), 7.33-7.38(4H, m), 7.74(1H, s), 7.85-7.90(2H, m), 8.52(1H, t, J=5.7Hz), 8.73(1H, d, J=2.1Hz), 8.90(1H, d, J=2.1Hz), 10.80(1H, brs).
元素分析:C26H20F2N2O3として
計算値(%):C, 69.95; H, 4.52; F, 8.51; N, 6.27.
分析値(%):C, 69.65; H, 4.48; F, 8.25; N, 6.15.
化合物I-232
融点:167−169℃ 再結晶溶媒:エタノール
NMR(CDCl3)δ:1.26(6H, d, J=6.7Hz), 4.19(2H, s), 4.27-4.34(1H, m), 5.87(1H, d, J=7.3Hz), 6.98-7.04(2H, m), 7.16-7.22(4H, m), 7.82(1H, s), 7.83-7.88(2H, m), 8.71(1H, s), 8.77(1H, s).
化合物I-233
融点:114−116℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:1.12(1H, m), 1.31(1H, m), 1.59(4H, m), 3.09(2H, m), 3.53(1H, m), 3.91(1H, m), 4.18(2H, s), 7.00-7.06(2H, m), 7.17-7.23(4H, m), 7.58(1H, s), 7.79-7.84(2H, m), 7.89(1H, d, J=1.8Hz), 8.88(1H, d, J=1.8Hz), 12.07(1H, brs).
化合物I-234
融点:152−154℃ 再結晶溶媒:
NMR(CDCl3)δ:3.36(3H, s), 3.54-3.60(2H, m), 3.62-3.70(2H, m), 4.19(2H, s), 6.38-6.44(1H, m), 6.98-7.06(2H, m), 7.16-7.24(4H, m), 7.80-7.90(3H, m), 8.74-8.80(2H, m).
化合物I-235
融点:172−173℃ 再結晶溶媒:イソプロパノール
NMR(CDCl3)δ:4.19(2H, s), 4.66(2H, d, J=3.1Hz), 6.28-6.36(1H, m), 6.98-7.06(2H, m), 7.14-7.23(4H, m), 7.30-7.38(4H, m), 7.80-7.86(2H, m), 8.78-8.82(2H, m).
化合物I-236
融点:95−98℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:4.16(2H, s), 6.94-7.04(2H, m), 7.12-7.24(5H, m), 7.34-7.44(2H, m), 7.60-7.72(2H, m), 7.80-792(2H, m), 8.04(1H, s), 8.22(1H, brs), 8.54-8.90(2H, m).
化合物I-237
融点:115−116℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル-イソプロピルエーテル
NMR(d6-DMSO)δ:2.79(3H, s), 3.06(3H, s), 4.25(2H, s), 7.14-7.20(2H, m), 7.32-7.39(4H, m), 7.46(1H, s), 7.85-7.89(2H, m), 8.01(1H, d, J=2.1Hz), 8.90(1H, d, J=2.1Hz), 10.84(1H, brs).
元素分析:C26H20F2N2O3として
計算値(%):C, 69.95; H, 4.52; F, 8.51; N, 6.27.
分析値(%):C, 69.71; H, 4.65; F, 7.97; N, 5.99.
化合物I-238
融点:181−183℃ 再結晶溶媒:メタノール
NMR(d6-DMSO)δ:3.86(3H, s), 4.28(2H, s), 7.15-7.21(2H, m), 7.31-7.40(4H, m), 7.84-7.89(2H, m), 8.30(1H, s), 8.92(1H, d, J=2.1Hz), 9.23(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-239
融点:209−210℃ 再結晶溶媒:メタノール−アセトン
NMR(d6-DMSO)δ:4.25(2H, s), 7.13-7.19(2H, m), 7.24(1H, dd, J=4.0, 4.9Hz), 7.33-7.38(2H, m), 7.42(1H, brs), 7.66(1H, d, J=4.0Hz), 7.84(1H, s), 7.99(1H, brs), 8.10(1H, d, J=4.6Hz), 8.86(1H, d, J=1.5Hz), 8.90(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-240
融点:200−201℃ 再結晶溶媒:メタノール−アセトン
NMR(CDCl3)δ:3.06(3H, d, J=4.9Hz), 4.15(2H, s), 6.37(1H, brd, J=4.3Hz), 6.97-7.03(2H, m), 7.16-7.20(3H, m), 7.71(1H, dd, J=0.9, 3.6Hz), 7.77(1H, dd, J=0.9, 4.9Hz), 7.99(1H, s), 8.72-8.73(2H, m).
化合物I-241
融点:174−175℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:1.28(3H, t, J=7.3Hz), 3.49-3.58(2H, m), 4.17(2H, s), 6.18(1H, brt), 6.97-7.03(2H, m), 7.17-7.21(3H, m), 7.73(1H, dd, J=1.1, 3.8Hz), 7.77(1H, dd, J=0.6, 4.9Hz), 8.00(1H, s), 8.72-8.75(2H, m).
化合物I-242
融点:202−204℃ 再結晶溶媒:メタノール−アセトン
NMR(CDCl3)δ:4.17(2H, s), 4.68(2H, d, J=5.8Hz), 6.45(1H, brt), 6.98-7.04(2H, m), 7.16-7.21(2H, m), 7.31-7.37(5H, m), 7.73(1H, dd, J=0.9, 3.6Hz), 7.77(1H, dd, J=1.2, 4.9Hz), 8.06(1H, s), 8.76-8.77(2H, m).
化合物I-243
融点:158−160℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:2.85(3H, s), 3.18(3H, s), 4.18(2H, s), 6.99-7.05(2H, m), 7.15-7.22(3H, m), 7.75-7.79(2H, m), 7.90(1H, s), 7.94-7.95(1H, m), 8.83(1H, d, J=1.8Hz).
実施例65
化合物I-244
Figure 0003616628
第1工程
実施例63の第1工程によって得られた化合物141(1.52g,3.90mmol)および1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(52.6mg,0.39mmol)のDMF(15ml)懸濁液に室温で2.0MジメチルアミンTHF溶液(2.92ml,5.84mmol)、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(896.0mg,3.90mmol)を順次加え60分間攪拌した後、反応液に水(20ml)を滴下した。析出した結晶をろ取した後、水で洗浄、乾燥し、化合物210(1.47g,3.52mmol)を白色結晶として収率90.3%で得た。
第2工程
第1工程によって得られた化合物210(1.47,3.52mmol)を実施例62の第7工程に準じて反応を行い、化合物211(1.38g)を白色結晶として定量的に得た。
第3工程
第2工程によって得られた化合物211(191.0mg,0.5mmol)を実施例62の第8工程に準じて反応を行い、化合物212(165.0mg,0.43mmol)を収率86.0%得た。
第4工程
第3工程によって得られた化合物212(165.0mg,0.43mmol)を実施例45の第3工程に準じて反応を行い、表題化合物I-244(82.5mg,0.25mmol)を薄緑色結晶として収率52.5%で得た。
融点:177−178℃ 再結晶溶媒:エーテル
NMR(CDCl3)δ:3.11(6H, s), 4.17(2H, s), 5.72(1H, brs), 6.29(1H, brs), 6.95-7.05(2H,, m), 7.14-7.24(2H, m), 7.86(1H, s), 8.64-8.66(1H, m), 8.90-8.94(1H, m), 14.6(1H, brs).
実施例62及び実施例65の合成法に準じ、化合物I-245〜I-248を合成した。
Figure 0003616628
化合物I-245
融点:199−202℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:3.41(3H, s), 3.67(3H, s), 4.17(2H, s), 5.56-6.40(2H, m), 6.95-7.05(2H, m), 7.15-7.23(2H, m), 7.98(1H, s), 8.67-8.72(1H, m), 8.88-8.93(1H, m).
化合物I-246
融点:99−102℃ 再結晶溶媒:イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:3.43(3H, s), 3.67(3H, s), 3.94(3H, s), 4.20(2H, s), 7.00-7.08(2H, m), 7.15-7.25(2H, m), 8.58(1H, s), 8.70-8.78(1H, m), 9.30-9.35(1H, m).
化合物I-247
融点:90−91℃ 再結晶溶媒:メタノール−イソプロピルエーテル
NMR(CDCl3)δ:3.10(6H, s), 3.39(3H, s), 3.58(2H, t, J=4.8Hz), 3.68(2H, q, J=5.4Hz), 4.16(2H, s), 6.56(1H, brs), 7.00(2H, t-like, J=8.4Hz), 7.18(1H, dd,
J=8.4H&5.4Hz), 7.77(1H, s), 8.64(1H, d, J=2.1Hz), 8.83(1H, d, J=2.1Hz).
化合物I-248
融点:160−161℃ 再結晶溶媒:エーテル
NMR(CDCl3)δ:2.90(3H, s), 3.10(6H, s), 3.20(3H, s), 4.15(2H, s), 7.01(2H, t-like, J=8.7Hz), 7.16(2H, dd, J=8.7&5.4Hz), 7.49(1H, s), 8.03(1H, d, J=1.8Hz), 8.67(1H, d, J=1.8Hz).
実施例66
化合物I-249
Figure 0003616628
第1工程
実施例64の第3工程よって得られた化合物208(87.0mg,0.25mmol)を実施例45の第3工程に準じて反応を行い、標題化合物I-249(43.2mg,0.15mmol)を灰色結晶として収率59.4%で得た。
融点:134−136℃ 再結晶溶媒:エタノール−ジエチルエーテル
NMR(DMSO)δ:2.73(3H, s), 4.20(2H, s), 7.12-7.18(2H, m), 7.35-7.39(2H, m), 7.38(1H, d, J=8.9Hz), 7.87(1H, d, J=8.9Hz), 8.15(1H, d, J=2.1Hz), 8.87(1H, d, J=1.8Hz).
実施例67
Figure 0003616628
第1工程
実施例64の第1工程から第3工程の合成法に準じて合成した化合物209(77.0mg,0.178mmol)を実施例18の第6工程に準じて反応を行い、標題化合物I-250(34.0mg,0.08mmol)を黄色結晶として収率46.0%で得た。
融点:255−256℃ 再結晶溶媒:酢酸エチル
NMR(d6-DMSO)δ:4.28(2H, s), 7.14-7.20(2H, m), 7.32-7.39(4H, m), 7.86-7.89(2H, m), 8.29(1H, s), 8.90(1H, d, J=2.1Hz), 9.32(1H, d, J=2.1Hz).
実施例67の合成法に準じ、化合物I-251を合成した。
化合物I-251
Figure 0003616628
融点:220−223℃ 再結晶溶媒:メタノール−クロロホルム
NMR(DMSO-d6)δ:4.28(2H, s), 7.17(2H, m), 7.37(2H, m), 7.53(2H, m), 7.67(1H, m), 7.79(2H, m), 8.30(1H, s), 8.92(1H, m), 9.31(1H, m).
実施例68
Figure 0003616628
第1工程
実施例62の第7工程で合成した化合物202(200mg,0.542mmol)の塩化メチレン(2ml)溶液に室温下、オキサリルクロリド(0.9ml,1.1mmol)および少量のDMFを加え、室温で1時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮後、アセトニトリル(2ml)に溶解した。次に、3-アミノピリジン(46mg,0.49mmol)のアセトニトリル(1ml)溶液に室温下、ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(0.24ml,0.97mmol)を加え、40-45℃で20分間攪拌した。室温まで冷却後、上述の酸クロリドのアセトニトリル溶液を加え、室温で30分間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、酢酸エチルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で2回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去する事によって得られた粗生成物を、エーテル−酢酸エチルで結晶化、洗浄することにより、化合物213(60mg,0.13mmol)を灰色結晶として24%の収率で得た。
第2工程
第1工程で得られた化合物213(60mg,0.13mmol)を実施例45の第3工程に準じて反応を行い、標題化合物I-252(40mg,0.093mmol)を黄色結晶として収率72%で得た。
NMR(d6-DMSO)δ:3.92(3H, s), 4.26(2H, s), 7.13-7.21(3H, m), 7.33-7.41(3H, m), 8.63(1H, s), 8.88(1H, d, J=1.8Hz), 8.92(1H, d, J=2.1Hz), 9.26(1H, brs), 9.74(1H, brs), 12.82(1H, brs).
実施例69
Figure 0003616628
第1工程
実施例62の第7工程で合成した化合物202(200mg,0.542mmol)を実施例62の第8工程に準じて反応を行い、化合物214(212mg,0.470mmol)を灰色結晶として収率86.7%で得た。
第2工程
第1工程で得られた化合物214(10mg,0.022mmol)を実施例68の第2工程に準じて反応を行い、標題化合物I-253(5mg,0.012mmol)を黄緑色結晶として収率55%で得た。
NMR(d6-DMSO)δ:4.33(2H, s), 7.13-7.19(2H, m), 7.27(1H, d, J=3.3Hz), 7.36-7.41(2H, m), 7.56(1H, d, J=3.3Hz), 8.56(1H, s), 8.90(1H, d, J=1.8Hz), 9.30(1H, d, J=1.8Hz), 12.73(1H, brs).
実施例70
実施例62の合成法に準じて反応し、化合物I-254を合成した。
Figure 0003616628
融点:212−213℃ 再結晶溶媒:アセトン−アセトニトリル
NMR(CDCl3)δ:4.01(3H, s), 4.09(2H, s), 6.96(2H, t, J=8.4Hz), 7.10-7.26(3H, m), 7.42(2H, d, J=7.8Hz), 7.68(2H, d, J=7.8Hz), 8.06(1H, br.s), 8.13(1H, s), 8.64(1H, br.s), 8.78(1H, br.s), 11.89(1H, br.s).
実施例71
実施例62の合成法に準じて反応し、化合物I-255を合成した。
化合物I-255
Figure 0003616628
融点:190−194℃ 再結晶溶媒:アセトン−アセトニトリル
NMR(CDCl3)δ:4.05(3H, s), 4.18(2H, s), 6.99(2H, t, J=8.4Hz), 7.11-7.20(3H, m), 7.79-7.86(1H, m), 8.30-8.33(1H, m), 8.35(1H, s), 8.41(2H, d, J=8.1Hz), 8.74(1H, br.s), 8.79(1H, d, J=2.1Hz), 8.87(1H, d, J=2.1Hz), 12.13(1H, br.s).
本発明化合物には、以下の化合物も含まれる。以下の化合物は上記実施例と同様に合成することができる。
Figure 0003616628
上記化合物IのR1、R2、R3、R4及びR5の置換基としては、以下の置換基が挙げられる。
Figure 0003616628
上記化合物IIのR1、R2、R3、R4及びR5の置換基としては、以下の置換基が挙げられる。
Figure 0003616628
上記化合物I及びIIの置換基の好ましい組合わせ((R1,R2,R3,R4,R5)として表わす)としては、以下の組合わせが挙げられる。
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
Figure 0003616628
なお、(R1,R2,R3,R4,R5)=(1A,2A,3A,4A,5A)はR1が1Aであり、R2が2Aであり、R3が3Aであり、R4が4Aであり、R5が5Aである化合物を表わす。他の組合わせも同様である。
試験例
本発明化合物のインテグラーゼ阻害作用を以下に示すアッセイ法に基づき調べた。
(1)DNA溶液の調製
アマシャムファルマシア社により合成された以下の各DNAを、KTEバッファー液(組成:100mM KCl,1mM EDTA,10mM Tris-塩酸(pH7.6))に溶解させることにより、基質DNA溶液(2pmol/μl)およびターゲットDNA溶液(5pmol/μl)を調製した。各溶液は、一旦煮沸後、ゆるやかに温度を下げて相補鎖同士をアニーリングさせてから用いた。
(基質DNA配列)
Figure 0003616628
(ターゲットDNA配列)
Figure 0003616628
(2)阻害率(IC50値)の測定
Streptavidin(Vector Laboratories社製)を0.1M炭酸バッファー液(組成:90mM Na2CO3,10mM NaHCO3)に溶かし、濃度を40μg/mlにした。この溶液、各50μlをイムノプレート(NUNC社製)のウエルに加え、4℃で一夜静置、吸着させる。次に各ウエルをリン酸バッファー(組成:13.7mM NaCl,0.27mM KCl,0.43mM Na2HPO4,0.14mM KH2PO4)で2回洗浄後、1%スキムミルクを含むリン酸バッファー300μlを加え、30分間ブロッキングした。さらに各ウエルをリン酸バッファーで2回洗浄後、基質DNA溶液(2pmol/μl)50μlを加え、振盪下、室温で30分間吸着させた後、リン酸バッファーで2回、次いで蒸留水で1回洗浄した。
次に上記方法で調製した各ウエルに、バッファー(組成:150mM MOPS(pH7.2),75mM MnCl2,50mM 2-mercaptoethanol,25%glycerol,500μg/ml bovine serum albumin-fraction V)12μl、ターゲットDNA(5pmol/μl)1μlおよび蒸留水32μから調製した反応溶液45μlを加えた。さらに各ウエルに被検化合物のDMSO溶液6μlを加え、ポジティブコントロール(PC)としてのウエルには、DMSO6μlを加える。次にインテグラーゼ溶液(30pmol)9μlを加え、良く混合した。ネガティブコントロール(NC)としてのウエルには、希釈液(組成:20mM MOPS(pH7.2),400mM potassium glutamete,1mM EDTA,0.1%NP-40,20%glycerol,1mM DTT,4M urea)9μlを加えた。
各プレートを30℃で1時間インキュベート後、反応液を捨て、リン酸バッファーで2回洗浄した。次にアルカリフォスファターゼ標識した抗ジゴキシゲニン抗体(ヒツジFabフラグメント:ベーリンガー社製)を100μl加え、30℃で1時間結合させた後、0.05%Tween20を含むリン酸バッファーで2回、リン酸バッファーで1回、順次洗浄した。次に、アルカリフォスファターゼ呈色バッファー(組成:10mMパラニトロフェニルホスフェート(Vector Laboratories社製),5mM MgCl2,100mM NaCl,100mM Tris-塩酸(pH9.5))を150μl加えて30℃で2時間反応させ、1N NaOH溶液50μlを加え反応を止めた後、各ウエルの吸光度(OD405nm)を測定し、以下の計算式に従い阻害率を求めた。
阻害率(%)=100[1-{(C abs.-NC abs.)/(PC abs.-NC abs.)}]
C abs.;化合物のウエルの吸光度
NC abs.:NCの吸光度
PC abs.:PCの吸光度
次にIC50値は、上記の阻害率を用いて以下の計算式で求められる。
すなわち阻害率50%をはさむ2点の濃度において、xμg/mlの濃度で阻害率X%、yμg/mlの濃度で阻害率Y%をそれぞれ示す時、IC50(μg/ml)=x-{(X-50)(x-y)/(X-Y)}となる。
阻害率50%に相当する化合物濃度(IC50)を以下の表に示す。表中の化合物No.は実施例の化合物No.を示す。
Figure 0003616628
上記に示した化合物以外の本発明化合物も、上記同様、あるいはそれ以上のインテグラーゼ阻害活性を示した。
また、本発明化合物は、代謝に対する安定性が高く、優れたインテグラーゼ阻害剤である。
製剤例
以下に示す製剤例1〜8は例示にすぎないものであり、発明の範囲を何ら限定することを意図するものではない。「活性成分」なる用語は、本発明化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、それらの製薬的に許容される塩又はそれらの溶媒和物を意味する。
(製剤例1)
硬質ゼラチンカプセルは次の成分を用いて製造する:
Figure 0003616628
(製剤例2)
錠剤は下記の成分を用いて製造する:
Figure 0003616628
成分を混合し、圧縮して各重量665mgの錠剤にする。
(製剤例3)
以下の成分を含有するエアロゾル溶液を製造する:
Figure 0003616628
活性成分とエタノールを混合し、この混合物をプロペラント22の一部に加え、−30℃に冷却し、充填装置に移す。ついで必要量をステンレススチール容器へ供給し、残りのプロペラントで希釈する。バブルユニットを容器に取り付ける。
(製剤例4)
活性成分60mgを含む錠剤は次のように製造する:
活性成分 60mg
デンプン 45mg
微結晶性セルロース 35mg
ポリビニルピロリドン(水中10%)溶液 4mg
ナトリウムカルボキシメチルデンプン 4.5mg
ステアリン酸マグネシウム 0.5mg
滑石 1mg
合計 150mg
活性成分、デンプン、およびセルロースはNo.45メッシュU.S.のふるいにかけて、十分に混合する。ポリビニルピロリドンを含む水溶液を得られた粉末と混合し、ついで混合物をNo.14メッシュU.S.ふるいに通す。このようにして得た顆粒を50℃で乾燥してNo.18メッシュU.S.ふるいに通す。あらかじめNo.60メッシュU.S.ふるいに通したナトリウムカルボキシメチルデンプン、ステアリン酸マグネシウム、および滑石をこの顆粒に加え、混合した後、打錠機で圧縮sて各重量150mgの錠剤を得る。
(製剤例5)
活性成分80mgを含むカプセル剤は次のように製造する:
活性成分 80mg
デンプン 59mg
微結晶性セルロース 59mg
ステアリン酸マグネシウム 2mg
合計 200mg
活性成分、デンプン、セルロース、およびステアリン酸マグネシウムを混合し、No.45メッシュU.S.のふるいに通して硬質ゼラチンカプセルに200mgずつ充填する。
(製剤例6)
活性成分225mgを含む坐剤は次のように製造する:
活性成分 225mg
飽和脂肪酸グリセリド 2000mg
合計 2225mg
活性成分をNo.60メッシュU.S.のふるいに通し、あらかじめ必要最小限に加熱して融解させた飽和脂肪酸グリセリドに懸濁する。ついでこの混合物を、みかけ2gの型に入れて冷却する。
(製剤例7)
活性成分50mgを含む懸濁剤は次のように製造する:
活性成分 50mg
ナトリウムカルボキシメチルセルロース 50mg
シロップ 1.25ml
安息香酸溶液 0.10ml
香料 q.v.
色素 q.v.
精製水を加え合計 5ml
活性成分をNo.45メッシュU.S.のふるいにかけ、ナトリウムカルボキシメチルセルロースおよびシロップと混合して滑らかなペーストにする。安息香酸溶液および香料を水の一部で希釈して加え、攪拌する。ついで水を十分量加えて必要な体積にする。
(製剤例8)
静脈用製剤は次のように製造する:
活性成分 100mg
飽和脂肪酸グリセリド 1000ml
上記成分の溶液は通常、1分間に1mlの速度で患者に静脈内投与される。
産業上の利用可能性
本発明化合物は、インテグラーゼ阻害活性を有し、抗ウイルス薬、抗HIV薬等として、エイズ等の治療に有効である。

Claims (15)

  1. 式:
    Figure 0003616628
    (式中、
    Bは、ヒドロキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシ及び/又は置換されていてもよいアミノ)、又は置換されていてもよいアミノ(置換基としては、アルキル及び/又はアルコキシ)であり;
    10は−C(−R16)= 又は −N=であり;
    15は、式:−Z1−Z2−Z3−R1(式中、Z1及びZ3はそれぞれ独立して単結合;2炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレン、炭素数2〜3個の直鎖状のアルケニレン、−S−又はO−であり;R1は置換されていてもよいフェニル、置換されていてもよい5〜8員の単環芳香族複素環式基、又は置換されていてもよい炭素数3〜6のシクロアルキルであり、「置換されていてもよい」の各置換基は、炭素数1〜6個のアルキル、1以上のハロゲンで置換された炭素数1〜3個のアルキル、ハロゲン、及び炭素数1〜6個のアルキルオキシからなる群から選択される。)で示される基であり;
    14 は、水素、炭素数1〜6個のアルキル、又はハロゲンであり;
    16 は、水素、炭素数1〜6個のアルキル、又はハロゲンであり;
    17 は、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいカルバモイル、アルキルオキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいスルファモイル、置換されていてもよいアミノ、シアノ、又はホルミルであり
    18 は、水素、炭素数1〜6個のアルキル又はハロゲンである
    で示される化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  2. B は、ヒドロキシ、炭素数1〜6のアルコキシ、置換されていてもよい炭素数1〜6アルキル(置換基としては、炭素数1〜6のアルコキシ及び/又はアミノ)、又は置換されていてもよいアミノ(置換基としては、炭素数1〜6のアルキル及び/又は炭素数1〜6のアルコキシ)である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  3. B は、ヒドロキシ、炭素数1〜6のアルコキシ、置換されていてもよい炭素数1〜6アルキル(置換基としては、メトキシ)、又は置換されていてもよいアミノ(置換基としては、メチル及び/又はメトキシ)である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  4. 14 は水素である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  5. 14 は水素であり;R 16 は水素であり及び/又はR 18 は水素である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  6. 15 は、式:−Z 1 −Z 2 −Z 3 −R 1 (式中、Z 1 及びZ 3 はそれぞれ独立して単結合;Z 2 は炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレンであり;R 1 は置換されていてもよいフェニルであり、「置換されていてもよい」の置換基は、炭素数1〜6個のアルキル、1以上のハロゲンで置換された炭素数1〜3個のアルキル、ハロゲン、及び炭素数1〜6個のアルキルオキシからなる群から選択される。)で示される基である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  7. 15 は、式:−Z 1 −Z 2 −Z 3 −R 1 (式中、Z 1 及びZ 3 はそれぞれ独立して単結合;Z 2 は炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレンであり;R 1 は置換されていてもよい フェニルであり、「置換されていてもよい」の置換基は、炭素数1〜3個のアルキル、1以上のハロゲンで置換された炭素数1〜3個のアルキル、ハロゲン、及び炭素数1〜3個のアルキルオキシからなる群から選択される。)で示される基である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  8. 15 は、式:−Z 1 −Z 2 −Z 3 −R 1 (式中、Z 1 及びZ 3 はそれぞれ独立して単結合;Z 2 は炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレン、炭素数2〜3個の直鎖状のアルケニレン、−S−又はO−であり;R 1 はハロゲンで置換されていてもよいフェニルである)で示される基である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  9. 15 は、ハロゲンで置換されていてもよいベンジルである、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  10. 17 は、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいフェニル及び/又はカルバモイル)、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又はカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル、アルキルオキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ(置換基:アルキル)、シアノ、又はホルミルである、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  11. 14 、R 16 およびR 18 は水素であり;R 15 は、式:−Z 1 −Z 2 −Z 3 −R 1 (式中、Z 1 及びZ 3 はそれぞれ独立して単結合;Z 2 は炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレンであり;R 1 は置換されていてもよいフェニルであり、「置換されていてもよい」の置換基は、炭素数1〜6個のアルキル、1以上のハロゲンで置換された炭素数1〜3個のアルキル、ハロゲン、及び炭素数1〜6個のアルキルオキシからなる群から選択される。)で示される基である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  12. 14 、R 16 およびR 18 は水素であり;R 15 は、式:−Z 1 −Z 2 −Z 3 −R 1 (式中、Z 1 及びZ 3 はそれぞれ独立して単結合;Z 2 は炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレンであり;R 1 はハロゲンで置換されていてもよいフェニルである。)で示される基である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  13. B は、ヒドロキシ又はアルコキシであり、R 14 は水素であり;R 15 は、式:−Z 1 −Z 2 −Z 3 −R 1 (式中、Z 1 及びZ 3 はそれぞれ独立して単結合、;Z 2 は炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレンであり;R 1 はハロゲンで置換されていてもよいフェニルである。)で示される基であり;R 16 は水素であり;R 17 は、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいカルバモイル、アルキルオキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ、シアノ、又はホルミルであり;R 18 は水素である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  14. B は、ヒドロキシ又はアルコキシであり、R 14 は水素であり;R 15 は、式:−Z 1 −Z 2 −Z 3 −R 1 (式中、Z 1 及びZ 3 はそれぞれ独立して単結合、;Z 2 は炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレンであり;R 1 はハロゲンで置換されていてもよいフェニルである。)で示される基であり;R 16 は水素であり;R 17 は、水素、ハロゲン、置換されていてもよいアルキル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ、置換されていてもよいフェニル及び/又はカルバモイル)、置換されていてもよいアルケニル(置換基としては、アルコキシカルボニル、カルボキシ及び/又はカルバモイル)、置換されていてもよいカルバモイル、アルキルオキシカルボニル、カルボキシ、アルコキシ、置換されていてもよいアミノ(置換基:アルキル)、シアノ、又はホルミルであり;R 18 は水素である、請求項1記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  15. 請求項1〜14項のいずれかに記載の化合物、その製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する医薬組成物。
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