JP3606545B2 - 半導体発光素子 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体発光素子に関し、特に、赤外帯の集光特性の優れた空間伝送用発光ダイオードに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、光通信や情報表示パネル等に発光ダイオード(LED)が広く用いられている。固体発光素子である発光ダイオードは、長寿命、消費電力の少なさ、応答速度の速さなどの利点を有しているため、様々な応用分野への展開が期待されている。
【0003】
光通信の分野において、赤外光を放射する赤外帯のLEDが光空間伝送用として用いられている。このような赤外光を発光するために、LEDの発光層にGaAsまたはAlGaAsまたはGaInAsからなる活性層を設けることが知られている。
【0004】
一方で、光出力の低下を抑制して効率のよい発光を達成するために、LEDの発光層と電極との間の電流拡散層に、電流拡散層とは逆導電型の電流ブロック層を設ける技術が、例えば、特開平5−343736号公報に開示されている。この技術においては、電流ブロック層が、発光層を流れる電流を発光層の中央領域付近に集中させるので、素子の側面からの影響による光出力の低下を抑制することができる。このような技術を用いることにより、安定して高輝度が得られるLEDが得られる。
【0005】
図7(a)および図7(b)を参照して、以下に従来のGaAs層を活性層とする赤外帯のLED(従来例1)の構造および製造工程を説明する。
【0006】
図7に示すLED500においては、n−GaAs基板50上に、液相成長法を用いて、n−Al0.3Ga0.7As第1クラッド層51(Te−ドープ、キャリア濃度5×1017cm−3、厚さ1.5μm)、p−GaAs活性層52(Mg−ドープ、キャリア濃度2×1018cm−3厚さ0.7μm)、p−Al0.3Ga0.7As第2クラッド層53(Mg−ドープ、キャリア濃度2×1018cm−3、厚さ1.5μm)および電流狭窄層(電流ブロック層)58を形成するためのn−GaAs層(Te−ドープ、キャリア濃度2×1018cm−3、厚さ0.4μm)が順次連続して成長されている。
【0007】
n−GaAs層は、図7(a)に示されているように100μmφの円形状にエッチングされ、素子中央を発光領域とするためのn−GaAs電流狭窄層58が完成する。
【0008】
この上に、有機金属気相成長(MOCVD)法を用いて、p−Al0.3Ga0.7As第2クラッド層53の上記エッチングされた円形に対応する領域とn−GaAs電流狭窄層58とを覆うようにp−Al0.3Ga0.7As電流拡散層54(Mg−ドープ、キャリア濃度3×1018cm−3、厚さ6μm)が再成長されており、更に電流拡散層54上にp−GaAsオーミックコンタクト層55(Mg−ドープ、キャリア濃度3×1018cm−3、厚さ0.5μm)が成長されている。
【0009】
最後に、第1電極56および第2電極57が、基板50および電流拡散層54上にそれぞれ形成される。オーミックコンタクト層55および第2電極57は、電流狭窄層58の円形状エッチング領域に対応する形状と大きさの部分がエッチングにより除去されている。
【0010】
このように形成したLED500においては、第1電極56と第2電極57との間に電圧を印加することにより、第1クラッド層51と第2クラッド層53と活性層52とを含むダブルヘテロ構造の発光層において電子と正孔とが再結合されて発光が行われる。LED500は、電流拡散層54とは逆導電型の電流狭窄層58を有しているので、注入された電流(キャリアの流れ)を素子中央の領域に集中して流し得、発光層における発光スポットを小さくすることができる。これにより、樹脂にモールドした後のLED素子の集光特性を良好にでき、空間伝送用LEDとしての性能が向上する。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来例1のLED500においては、p−Al0.3Ga0.7As電流拡散層54を再成長させる前の下地の一部である、p−Al0.3Ga0.7As第2クラッド層53の表面(界面59)に、酸素が取り込まれる場合がある。この酸素は、エッチング等の工程により電流狭窄層58を形成した後、電流拡散層54を再成長させるまでの間に、界面59が露出した状態で空気中に曝されることによって取り込まれる。この場合、取り込まれた酸素と、第2クラッド層53に含まれるAlとが反応して、高抵抗の酸化アルミニウム膜が形成される。その結果、界面59が高抵抗となったり、注入されたキャリアがそこで非発光再結合したりすることによって、発光に対するロスが生じていた。このようにして形成された発光素子の典型的な素子特性は、20mA通電時に、波長830nm、軸上広がりが±2°で、発光強度1mW、動作電圧2.2Vであった。
【0012】
また、第2クラッド層がAlを含まないLEDとしては、図8に示す構造(従来例2)のLED600が知られている(断面図のみ)。
【0013】
従来例2のLED600が有する電流狭窄層68及び電流拡散層54上の第2電極57の形状は、図7に示した従来例1のLED500と同じである。
【0014】
LED600においては、n−GaAs基板50上に、MOCVD法により、n−Ga0.5In0.5P第1クラッド層61(Si−ドープ、キャリア濃度5×1017cm−3、厚さ1.5μm)、ノンドープGaInAs活性層62(厚さ0.7μm)、p−Ga0.5In0.5P第2クラッド層63(Zn−ドープ、キャリア濃度5×1017cm−3、厚さ1.5μm)、n−Ga0.5In0.5P電流狭窄層68(Si−ドープ、キャリア濃度2×1018cm−3、厚さ0.4μm)、p−Al0.3Ga0.7As電流拡散層54(Mg−ドープ、キャリア濃度3×1018cm−3、厚さ6μm)、p−GaAsオーミックコンタクト層55(Mg−ドープ、キャリア濃度3×1018cm−3、厚さ0.5μm)が形成されている。
【0015】
従来例1と同様に、n−GaInP電流狭窄層68は素子中央を発光領域とするように、100μmφの円形状にエッチングされており、p−Al0.3Ga0.7As電流拡散層54はその上に再成長されている。
【0016】
本従来例2のLED600は、p−Al0.3Ga0.7As電流拡散層54を再成長させる時の下地層の一部となるp型第2クラッド層63が、Alを含まないGaInP層であるという点で、従来例1のLED500とは大きく異なる。この層が再成長時の下地となるため酸素が取り込まれにくく、界面59の状態は従来例1と比較して改善される。しかしながら、本従来例2においても、得られたLED600の特性は、20mA通電時に波長850nm、軸上拡がり±2°で、発光強度は1.2mW、動作電圧2.0Vと充分なものではなかった。これは再成長下地(第2クラッド層63)がp−GaInP層である一方、再成長層(電流拡散層54)がp−Al0.3Ga0.7As層であり、V族がAsとPとで異なっているためである。このことにより、第2クラッド層63と電流拡散層54との間でストイキオメトリーがずれ、界面59の状態が依然として良好でないので、やはり高抵抗層となり、注入されたキャリアのロスが生じることになる。
【0017】
従って、電流狭窄層としての電流ブロック層を有するLEDにおいて、電流拡散層の下地となる層と電流拡散層との界面の特性を良好にするという課題があった。
【0018】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、電流狭窄層としての電流ブロック層を有する半導体発光素子において、発光の軸上拡がりが小さく、低抵抗で発光効率の高い半導体発光素子を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体発光素子は、第1導電型の半導体基板と、第2導電型の電流拡散層と、該半導体基板と該電流拡散層との間に設けられたGaAsまたはAlGaAsまたはGaInAsからなる活性層を含む発光層と、該発光層上に形成された第2導電型の下地層と、該下地層の一部の上に形成された第1導電型の電流ブロック層とを有する半導体発光素子であって、該第2導電型の電流拡散層は、該第2導電型の下地層および該第1導電型の電流ブロック層を覆って形成されており、該下地層および該電流拡散層は、前記活性層からの光に対して透明な第2導電型のGaPからなっており、そのことによって上記目的が達成される。
【0020】
前記電流ブロック層は、素子の周辺領域に形成された第1導電型のGaPからなる層であってよい。
【0021】
前記発光層が、前記活性層を挟持する、前記半導体基板側に設けられた第1クラッド層と前記電流拡散層側に設けられた第2クラッド層とをさらに有しており、該第1クラッド層は、第1導電型のAlGaAsまたはGaInPまたはAlGaInPからなり、該第2クラッド層は第2導電型のAlGaAsまたはGaInPまたはAlGaInPからなっていてもよい。
【0022】
前記下地層の厚さが2.5μm以下であることが望ましい。
【0023】
前記下地層のキャリア濃度が2×1018cm−3以下であり、前記電流拡散層のキャリア濃度が2×1018cm−3以上であることが望ましい。
【0024】
以下に本発明の作用について説明する。
【0025】
第2導電型下地層と第2導電型電流拡散層との間に部分的に形成された、第1導電型電流ブロック層は、第2導電型電流拡散層からのキャリアの移動(すなわち電流の流れ)を制限するように作用する。これにより、所望の領域において集中的にキャリアの再結合を行うことが可能になる。
【0026】
同時に、第2導電型GaPからなる下地層はAlを含まないので、製造工程中、下地層の一部が酸素に触れた場合にも、この部分において酸素を取り込んで、高抵抗の酸化アルミニウム膜を形成することがない。さらに、これらを覆って形成される電流拡散層は、下地層と同一材料のGaPから形成されているため、下地層と界面においてストイオキメトリーのずれによる界面準位の発生もない。従って、電流拡散層と下地層との界面は、低抵抗となり得、かつ、キャリアが非発光再結合することを低減できる。
【0027】
また、電流ブロック層を、第1導電型のGaPから形成し、且つ、素子の周辺領域において形成することにより、電流を素子中央領域に集中して流すという電流狭窄効果をより確実にできる。従って、発光スポットを小さくすることができ、モールド後の発光素子の集光特性を良好にすることができる。
【0028】
また、発光層を、第1クラッド層と第2クラッド層とが活性層を挟持する、いわゆるダブルヘテロ構造にすることにより、活性層においてキャリアの再結合が効率よく行われうる。
【0029】
下地層の厚さを2.5μm以下にすれば、下地層に於いて、その上に電流ブロック層が設けられていない領域へ電流が拡散することを低減することができる。従って、電流ブロック層の電流成分制御効果をより確実にできる。
【0030】
下地層のキャリア濃度を2×1018cm−3以下にし、電流拡散層のキャリア濃度を2×1018cm−3以上にすれば、これらの層の第2導電型を作る不純物が活性層へと拡散することを抑制することができる。これにより半導体発光素子の発光強度が大きくなる。
【0031】
【発明の実施の形態】
(実施形態1)
図1(a)および図1(b)を参照して、本実施形態1のLED100の構造および製造方法を説明する。
【0032】
実施形態1のLED100において、n−GaAs基板10上に、n−GaAsバッファ層11(Si−ドープ、キャリア濃度5×1017cm−3、厚さ1.0μm)と、n−Al0.3Ga0.7As第1クラッド層12(Si−ドープ、キャリア濃度5×1017cm−8、厚さ1.5μm)と、p−GaAs活性層13(Zn−ドープ、キャリア濃度2×1018cm−3厚さ0.7μm)と、p−Al0.3Ga0.7As第2クラッド層14(Zn−ドープ、キャリア濃度2×1018cm−3、厚さ1.5μm)とが順次形成されている。ここで、p−GaAs活性層13と、これを挟持するn−Al0.3Ga0.7As第1クラッド層12およびp−Al0.3Ga0.7As第2クラッド層14とによって発光層13Aが構成されており、すなわち、本実施形態において発光層13Aはダブルヘテロ構造をなしている。
【0033】
発光層13A上(具体的にはp−Al0.3Ga0.7As第2クラッド層14上)には、p−GaP下地層15(Zn−ドープ、キャリア濃度1×1018cm、厚さ1.5μm)が設けられている。また、p−GaP下地層15上の一部の上にn−GaP電流ブロック層16(Si−ドープ、キャリア濃度1×1018cm−3、厚さ0.5μm)が形成されている。このn−GaP電流ブロック層16は、図1(a)に示すように素子の中央領域の、例えば100μmφの円形状の領域(開口部16a)が除去されており、素子の周辺領域において形成されている。なお、本明細書において素子の中央領域とは、LEDの基板10と実質的に垂直に形成された素子側壁に対する基板と平行な面上での中央の領域を指し、素子の周辺領域とはこの側壁に近い領域を指す。
【0034】
さらにp−GaP電流拡散層17(Zn−ドープ、キャリア濃度3×1018cm−3、厚さ5μm)が、開口部16a内のp−GaP下地層15およびn−GaP電流ブロック層16を覆うように形成されている。
【0035】
また、n−GaAs基板10の下面およびp−GaP電流拡散層17の上面には、第1電極18および第2電極19がそれぞれ設けられている。本実施形態においては、第1電極18は、AuGe/Auから形成され、第2電極19は、AuBe/Auから形成される。ただし、電極の材料はこれらの材料に限られない。例えば、第1電極18はAuGeから、第2電極19はAuBe/Mo/Auから形成されていてもよい。なお、電流拡散層17上の第2電極19は、n−GaP電流ブロック層16と同様に、素子中央領域に円形状の開口部19aを有する形状に形成されている。
【0036】
本実施形態1のLED100においても、従来のLEDと同様の動作により発光が行われる。まず、第1電極18と第2電極19との間に所定の順方向バイアス電圧を印加する。これにより、第2電極19からp−GaP電流拡散層17に注入された正孔は、p−GaP電流拡散層17とは逆導電型であるn−GaP電流ブロック層16を回避して、開口部16aを通り、p−GaP下地層15を介して発光層13Aのp−GaAs活性層13へと移動し、第1電極18からn−GaAs基板10に注入された電子とp−GaAs活性層13において再結合する。このようにして、p−GaAs活性層13における正孔と電子との再結合により、赤外光(波長約830nm)が発光される。発生した赤外光は、第2電極19の開口部19aから外部に照射される。なお、n−GaAsバッファ層11は、n−GaAs基板10の結晶欠陥を緩和し、その上に形成される層の結晶性を良好にするために設けられている。
【0037】
本実施形態においては、p−GaP下地層15とp−GaP電流拡散層17との間に形成されたn−GaP電流ブロック層16が、電流狭窄効果を付与する。n−GaP電流ブロック層16は、第2電極19から注入されたキャリアである正孔の移動をブロックし、素子中央領域に設けられた開口部16aを通るように作用する(すなわち電流成分を開口部16aに集束させる)。従って、発光層の素子中央領域において集中的に再結合(発光)させることができる。このようにすることで、素子側壁近傍において結晶欠陥等によって光出力が低下するといった影響を受けることなく発光が行われるので、高効率の発光が可能である。また、発光スポットを小さくできるので、出力光の軸対称拡がり(LEDから出力される光が拡がる程度)を小さくでき、モールド後の素子の集光特性を良好にすることができる。
【0038】
また、拡散層および下地層はp−GaP層から形成されているので、p−GaAs活性層13から出力される赤外光の波長に対して十分透明(すなわち、発光波長に対して光吸収がない)である。従って、これらの層において出力光の輝度が低下することを防ぐことができる。さらに、p−GaP拡散層は、Alを含んでいないので、耐湿性も高い。
【0039】
このように、本実施形態のLED100では、発光層上にp−GaP下地層を設け、その上にn−GaP電流ブロック層およびp−GaP電流拡散層を設ける構造にしているので、従来のように、電流拡散層とその下地の一部となる発光層との界面において生じる、光出力の低下等を引き起こす問題を解決することができる。
【0040】
以下に、本実施形態1のLED100の製造工程について説明する。
【0041】
まず、例えば有機金属気相成長(MOCVD)法により、n−GaAs基板10上にn−GaAsバッファ層11、n−Al0.3Ga0.7As第1クラッド層12、p−GaAs活性層13、p−Al0.3Ga0.7As第2クラッド層14、p−GaP下地層15およびn−GaP電流ブロック層16を形成するためのn−GaP層を連続して成長させる。この成長工程は、MOCVD装置内において、例えば、温度730℃、圧力0.1気圧の条件で行われてよい。また、III族材料として、トリメチルガリウム、トリメチルアルミニウムが、V族材料として、アルシン、ホスフィンが、ドーピング用材料として、ジエチルジンク、モノシランが用いられ得る。
【0042】
ここで、一度、膜成長を停止し、MOCVD装置の外ヘ上記の各層が形成されたウェハを取り出し、所望のパターニングを行った後、熱硫酸等を用いて素子中央領域のn−GaP層を例えば100μmφの円形状にエッチングして除去することにより、n−GaP電流ブロック層16を形成した。その後、ウェハをMOCVD装置内に戻し、再度MOCVD法を用いてp−GaP電流拡散層17を、p−GaP下地層15およびn−GaP電流ブロック層16の上に再成長させた。
【0043】
その後、n−GaAs基板10の下面に、例えばAu−Ge膜を蒸着して第1電極18を形成する一方で、p−GaP電流拡散層17の上面に、例えばAu−Be/Au膜を蒸着し、これをフォトリソグラフィおよび例えばヨウ素系エッチャントでのエッチングを用いて、例えば100μmφの円形状の開口部を形成するようにパターニングすることによって第2電極19を形成した。さらに、第2電極19と電流拡散層17との接触面において、p−GaAs層からなるオーミックコンタクト層が設けられてもよい。
【0044】
上述の製造工程においては、各層の形成方法としてMOCVD法を用いているが、これに限られるものではない。例えば、MBE法(分子線エピタキシー法)を用いて各層を形成してもよい。
【0045】
本実施形態においては、p−GaP電流拡散層17を再成長させる前の開口部16a内での下地は、従来例1に示すLED500のようにp−AlGaAs第2クラッド層ではなく、Alを含まないp−GaP下地層15で形成されているので、MOCVD装置の外で下地層表面が露出する場合にも、p−GaP電流拡散層17を再成長させる前に界面20に酸素が取り込まれて、界面20に高抵抗の酸化アルミニウム膜が形成されるということがない。これにより、界面20が高抵抗となることや、この界面20においてキャリアが非発光再結合することを防ぐことができる。
【0046】
さらに、電流拡散層17と下地層15とが同一材料であるp−GaPから形成されているため、従来例2に示すLED600のように、これらの界面20でストイキオメトリーがずれるということがなく、従って、界面準位の発生を防ぐことができる。この場合、界面準位を通じて正孔と電子とが再結合することを防ぐことができるので、発光のために有効に再結合するキャリアのロスが抑制される。また、従来のように、異種材料(例えば従来例2においては、p−GaInPとp−AlGaAs)が接触して形成された場合に生じる、バンドギャップの不連続性に起因する接触面の高抵抗化を生じることもない。
【0047】
本実施形態のLED100を樹脂にモールドして(直径5mmφの樹脂モールド)、素子特性を測ったところ、発光波長830nmで、20mA駆動時に発光強度2.1mW、動作電圧1.8Vと良好であった。
【0048】
図2は、p−GaP電流拡散層17の再成長前の下地層である、p−GaP下地層15の層厚を変化させた時の、LED100の発光強度を示すグラフである。ここでは、p−GaP電流拡散層17の層厚は5μmと一定にした。図2からわかるように、p−GaP下地層15の層厚が2.5μmを越えると、素子の発光強度は急激に低下する。これは、p−GaP下地層15の層厚を厚くすると、p−GaP下地層15において、電流ブロック層の直下に位置する素子周辺領域へ逃げる電流成分が増えるためであると考えられる。したがってp−GaP下地層15の厚さは2.5μm以下にすることが望ましい。
【0049】
なお、上記実施形態においては、より発光効率を高める目的で、発光層13Aがn−AlGaAs第1クラッド層12およびp−AlGaAs第2クラッド層14を有するダブルへテロ型構造の場合について説明したが、n−AlGaAs第1クラッド層12を有さないシングルヘテロ型構造の場合にも、本実施形態のn−GaP下地層およびn−GaP電流拡散層が好適に適応されることはいうまでもない。
【0050】
また、p−GaP下地層15およびp−GaP電流拡散層17を除く上記各層に用いた材料は例示的なものであり、他の材料を用いて各層が形成されていてもよい。例えば、活性層はn型、p型またはノンドープのGaAsまたはAlGaAsまたはGaInAsからなっていてもよく、第1クラッド層はn型のAlGaAsまたはGaInPまたはAlGaInPからなっていてもよく、第2クラッド層はp型のAlGaAsまたはGaInPまたはAlGaInPからなっていてもよい。さらに、これらの組成比についても任意の値をとりうる。
【0051】
(実施形態2)
図3(a)および図3(b)を参照して、実施形態2のLED200について説明する。これらの図において、図1に示す部材と同じ機能を有する部材は、同じ参照符号によって示している。
【0052】
図3に示すように、実施形態2では実施形態1と異なり、電流ブロック層26の開口部26aおよび第2電極29の開口部29aを、素子中央領域において矩形状に設けることにより、発光領域を矩形状に形成している。この形状は、例えば縦80μm横120μmの長方形であり得る。また、縦横100μmの正方形または縦120μm横80μmの長方形であってもよい。このように発光領域を素子中央部で矩形状にすることによっても、高効率の発光が可能である。また、出力光の軸対称拡がりを小さくでき、モールド後の素子の集光特性を良好にすることができる。
【0053】
本実施形態2のLED200は、p−AlGaAs第2クラッド層14とp−GaP下地層15との間にp−(Al0.2Ga0.8)0.75In0.25P中間層21(Zn−ドープ、キャリア濃度1×1018cm−3、厚さ0.2μm)を更に有している点において実施形態1のLED100と異なっている。ここでp−GaP下地層15の厚さは0.5μmとした。また、電流ブロック層17は、実施形態1のLED100の電流ブロック層17と同一材料であるn−GaP(厚さ0.5μm)で形成されている。p−(Al0.2Ga0.8)0.75In0.25P中間層21は、p−AlGaAs第2クラッド層14とp−GaP下地層15との中間のバンドギャップを有する層であり、この界面の抵抗を低下させるように作用する。従って、本実施形態2のLED200は、さらに低抵抗で、光出力効率が高いLEDでありうる。
【0054】
本実施形態のLED200は以下のようにして製造される。まず、例えば有機金属気相成長(MOCVD)法により、n−GaAs基板10上にn−GaAsバッファ層11、n−Al0.3Ga0.7As第1クラッド層12、p−GaAs活性層13、p−Al0.3Ga0.7As第2クラッド層14、p−(Al0.2Ga0.8)0.75In0.25P中間層21、p−GaP下地層15およびn−GaP電流ブロック層26を形成するためのn−GaP層を連続して成長させる。この成長工程は、MOCVD装置内において、例えば、温度750℃、圧力0.05気圧の条件で行われてよい。また、III族材料として、トリメチルガリウム、トリメチルアルミニウム、トリメチルインジウムが、V族材料として、ターシャリーブチルアルシン、ターシャリーブチルホスフィンが、ドーピング用材料として、ジメチルジンク、ジシランが用いられ得る。
【0055】
その後、矩形状の開口部26aが形成されるようにn−GaP層をパターニングしてn−GaP電流ブロック層26を形成し、再度MOCVD装置内でp−GaP電流拡散層17を、p−GaP下地層15およびn−GaP電流ブロック層26の上に再成長させる工程は、上述の実施形態1と同様にして行ってよい。本実施形態2においても、開口部26a内でのp−GaP電流拡散層17の下地層はp−GaP下地層15であるので、界面20は実施形態1と同様に良好な状態である。
【0056】
その後、n−GaAs基板10の下面に第1電極18を形成し、p−GaP電流拡散層17の上面に第2電極29を形成する工程も、実施形態1の工程と同様に行われてよい。ただし、第2電極は、n−GaP電流ブロック層26と同様に素子中央部に矩形状開口部29aを有するようにパターニングされる。
【0057】
本実施形態のLED200を樹脂にモールドし、素子特性を測ったところ、発光波長830nmで、20mA駆動時に、発光強度2.2mW、動作電圧1.7Vと良好であった。
【0058】
図4は、p−GaP下地層15およびp−GaP電流拡散層17のキャリア濃度を変化させた時の、LED200の発光強度をプロットしたグラフである。グラフからわかるように、下層のp−GaP層15のキャリア濃度が小さく、上層のp−GaP層17のキャリア濃度が大きい場合に、素子の発光強度を高くすることができる。この効果は、p−GaP下地層15およびp−GaP電流拡散層17に含まれる不純物(本実施形態においてはZn)の活性層13への拡散が低減されることに起因する。より具体的には、下層のp−GaP下地層15のキャリア濃度が2×1018cm−3以下であることが好ましい。また、上層のp−GaP電流拡散層17のキャリア濃度が2×1018cm−3以上であることが好ましい。キャリア濃度がこのような適正範囲にある場合、LED200の発光強度はさらに高められる。
【0059】
(実施形態3)
図5を参照して、実施形態3のLED300を説明する。図5において、図1に示す部材と同じ機能を有する部材は、同じ参照符号によって示している。n−GaP電流ブロック層16は、実施形態1と同様に素子中央領域が円形状にエッチングされている。
【0060】
本実施形態3のLED300は、p−GaP電流拡散層17が、p−GaP第1拡散層17a(Zn−ドープ、キャリア濃度1×1018cm−3、厚さ2μm)と、p−GaP第2拡散層17b(Zn−ドープ、キャリア濃度3×1018cm−3、厚さ3μm)との2層で構成されている点において実施形態1のLED100と異なっている。なお、本実施形態3において、p−GaP下地層15は、Zn−ドープ、キャリア濃度1×1018cm−3、厚さ1.5μmで形成されている。
【0061】
p−GaP電流拡散層17を2層構造とし、下層のp−GaP第1拡散層17aのキャリア濃度を小さく、上層のp−GaP第2拡散層17bのキャリア濃度を大きくすることによって、発光素子の発光強度を高くすることができる。この効果は、p−GaP電流拡散層17に含まれる不純物(本実施形態においてはZn)の活性層13への拡散が低減されることに起因する。より具体的には、下層のp−GaP第1拡散層17aのキャリア濃度が2×1018cm−3以下であることが好ましい。また、上層のp−GaP第2拡散層17bのキャリア濃度が2×1018cm−3以上であることが好ましい。キャリア濃度がこのような適正範囲にある場合、LED300の発光強度はさらに高められる。
【0062】
LED300の製造において、電流ブロック層16を形成するまでの工程については実施形態1と同様にして行うことができる。ただし、p−GaP下地層15は、Zn−ドープ、キャリア濃度1×1018cm−3、厚さ1.5μmで形成される。その後、2層構造のp−GaP電流拡散層17を再成長させるために、再度MOCVD装置内において、Zn−ドープ、キャリア濃度1×1018cm−3のp−GaP第1拡散層17aを厚さ2μmに成長させたあと、キャリア濃度を変化させたZn−ドープ、キャリア濃度3×1018cm−3のp−GaP第2拡散層17bを厚さ3μmに、連続的に成長させる。この工程は、公知の膜成長方法を用いて容易に行われうる。
【0063】
本実施形態においても、開口部16a内において、p−GaP電流拡散層17(具体的にはp−GaP第1拡散層17a)を再成長させる下地の層がp−GaP下地層15であるため、界面20は、実施形態1と同様に良好な状態である。
【0064】
LED300を樹脂にモールドし、素子特性を測ったところ、発光波長830nmで、20mA駆動時に、発光強度で2.3mW、動作電圧1.9Vとやはり良好な素子特性が得られた。
【0065】
(実施形態4)
図6を参照して、実施形態4のLED400を説明する。図6において、図1に示す部材と同じ機能を有する部材は、同じ参照符号によって示している。n−GaP電流ブロック層16は、実施形態1と同様に素子中央領域が円形状にエッチングされている。
【0066】
本実施形態4のLED400は、発光層13A(具体的にはn−AlGaAs第1クラッド層12)とn−GaAs基板10との間に、n−Al0.3Ga0.7Asとn−GaAsと(共にSi−ドープ、キャリア濃度5×1017cm−3、厚さ0.05μm)の10対からなる光反射層22が形成されている点において、実施形態1のLED100と異なっている。このように光反射層22を設けることにより、素子の発光強度をさらに高めることができる。
【0067】
また、LED400は、実施形態1のLED100の製造方法において、n−GaAs基板10上にn−GaAsバッファ層11を形成した後、n−Al0.3Ga0.7As第1クラッド層12を形成する前に、n−Al0.3Ga0.7Asとn−GaAsと(共にSi−ドープ、キャリア濃度5×1017cm−3、厚さ0.05μm)の10対からなる光反射層22を形成することによって製造される。これらの膜は、連続して形成することができる。その他の工程については、実施形態1のLED100の製造工程と同様の工程を適用することができる。
【0068】
従って、本実施形態においても、開口部16a内において、p−GaP電流拡散層17(具体的にはp−GaP第1拡散層17a)を再成長させる下地の層がp−GaP下地層15であるため、界面20は実施形態1と同様に良好な状態である。
【0069】
LED400を樹脂にモールドし、素子特性を測ったところ、発光波長830nmで、20mA駆動時に、発光強度で4mW、動作電圧1.9Vと良好な特性が得られた。
【0070】
なお、上記実施形態1〜4においては発光ダイオード(LED)について例示的に説明したが、例えば半導体レーザなどの半導体発光素子についても、本発明は好適に適用され得る。
【0071】
【発明の効果】
上述のように、本発明の半導体発光素子は、第2導電型GaP下地層において酸素の取り込みがなく、第2導電型GaP下地層と第2導電型GaP電流拡散層との間でストイキオメトリーのずれによる界面準位の発生もない。従って、低抵抗かつキャリアロスの少ない半導体発光素子を得ることができる。また、第1導電型の電流ブロック層が、第2導電型GaP下地層の一部の上に形成されているために、電流拡散層からの電流成分の流れを制限することができる。電流ブロック層を素子中央部以外の素子周辺部に設けた場合、電流が素子中央領域に集中して流れるため、発光層での発光スポットを小さくすることができる。従って、モールド後の集光特性が良好な半導体発光素子を得ることができる。活性層はGaAsまたはAlGaAsまたはGaInAsからなり、かつ下地層および電流拡散層を形成するGaPは、赤外光に対して光吸収を起こさないので、低抵抗で発光効率が良好な、赤外帯の半導体発光素子が得られる。
【0072】
また、下地層を2.5μm以下とすることで電流狭窄効果がさらに高められる。
【0073】
また、第2導電型のGaP下地層のキャリア濃度を2×1018cm−3以下、かつ、第2導電型のGaP電流拡散層のキャリア濃度を2×1018cm−3以上に適性化することで、第2導電型を作る不純物の活性層への拡散がなく、発光輝度が大きくできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1による発光ダイオードを示す図である。(a)は斜視図、(b)は(a)のA−A’線に対応する断面図である。
【図2】実施形態1による発光ダイオードにおいて、下地層となるp−GaP層厚を変化させた時の発光強度を示すグラフである。
【図3】本発明の実施形態2による発光ダイオードを示す図である。(a)は斜視図、(b)は(a)のA−A’線に対応する断面図である。
【図4】実施形態2による発光ダイオードにおいて、下層のp−GaP下地層と、再成長した上層のp−GaP電流拡散層とのキャリア濃度を変化させた場合の発光強度を示すグラフである。
【図5】本発明の実施形態3による発光ダイオードを示す断面図である。
【図6】本発明の実施形態4による発光ダイオードを示す断面図である。
【図7】従来の発光ダイオード(従来例1)を示す図である。(a)は斜視図、(b)は(a)のA−A’線に対応する断面図である。
【図8】従来の発光ダイオード(従来例2)を示す断面図である。
【符号の説明】
10 n−GaAs基板
11 n−GaAsバッファ層
13A 発光層
12 n−AlGaAs第1クラッド層
13 p−GaAs活性層
14 p−AlGaAs第2クラッド層
15 p−GaP下地層
16 n−GaP電流ブロック層
16a 開口部
17 p−GaP電流拡散層
18 第1電極
19 第2電極
19a 開口部
20 界面
Claims (5)
- 第1導電型の半導体基板と、第2導電型の電流拡散層と、該半導体基板と該電流拡散層との間に設けられたGaAsまたはAlGaAsまたはGaInAsからなる活性層を含む発光層と、該発光層上に形成された第2導電型の下地層と、該下地層の一部の上に形成された第1導電型の電流ブロック層とを有する半導体発光素子であって、
該第2導電型の電流拡散層は、該第2導電型の下地層および該第1導電型の電流ブロック層を覆って形成されており、
該下地層および該電流拡散層は、前記活性層からの光に対して透明な第2導電型のGaPからなる、半導体発光素子。 - 前記電流ブロック層は、素子の周辺領域に部分的に形成された第1導電型のGaPからなる層である、請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記発光層は、前記活性層を挟持する、前記半導体基板側に設けられた第1クラッド層と前記電流拡散層側に設けられた第2クラッド層とをさらに有し、
該第1クラッド層は、第1導電型のAlGaAsまたはGaInPまたはAlGaInPからなり、該第2クラッド層は第2導電型のAlGaAsまたはGaInPまたはAlGaInPからなる、請求項1または2に記載の半導体発光素子。 - 前記下地層の厚さが2.5μm以下である、請求項1から3のいずれかに記載の半導体発光素子。
- 前記下地層のキャリア濃度が2×1018cm-3以下であり、前記電流拡散層のキャリア濃度が2×1018cm-3以上である、請求項1から4のいずれかに記載の半導体発光素子。
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