JP3604341B2

JP3604341B2 - フラックス管理システム

Info

Publication number: JP3604341B2
Application number: JP2000516801A
Authority: JP
Inventors: カドモア，ドナルド・ピィ; ベイリー，ジョエル・ブラッド; フォルメッラ，タデュース; アブラメスク，サビ; プレム，アンソニー
Original assignee: スピードライン・テクノロジーズ・インコーポレイテッド
Priority date: 1997-10-16
Filing date: 1998-10-06
Publication date: 2004-12-22
Anticipated expiration: 2018-10-06
Also published as: WO1999020425A1; DE69822491D1; CA2306623A1; EP1023136A1; EP1023136B1; ATE261789T1; JP2001520462A; US5993500A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、回路基板および他の基板上への電子部品のアセンブリに関し、より具体的には、電子部品アセンブリ処理において生じる揮発性の有機成分を制御することに関する。
【０００２】
【関連技術の説明】
リフローはんだ付け機およびウェーブはんだ付け機と同様、揮発性の有機成分は、電子部品の他の組立処理（たとえば樹脂化合物を硬化させて部品を回路基板または他の基板に接合する処理など）においても生じる。この明細書全体を通じて、「回路基板」という用語は、電子部品のいかなるタイプの基板アセンブリも含む。
【０００３】
リフローはんだ付け機での印刷回路基板の製造においては、はんだペーストがはんだ付けすべき領域に塗布される。はんだと同様、はんだペーストははんだの濡れを促進して優れたはんだ接合をもたらすフラックスを含む。はんだペーストには他の添加剤も存在し得る。回路基板はその後、コンベヤ上で、リフローはんだ付け機の複数の加熱ゾーンを通って運ばれる。はんだペーストが溶融すると、フラックスおよび他の添加剤中の揮発性成分は気化し、リフロー機中で凝縮する傾向にある。リフロー炉の多くは、現在、はんだ表面の酸化を減じるために主に窒素を用いて不活性雰囲気中ではんだ付けを行なっている。リフローはんだ付け機では、はんだ付けすべき製品は加熱ゾーンから冷却ゾーンへと通過する。
【０００４】
加熱ゾーンは通常、予熱ゾーン、均熱ゾーンおよびスパイクゾーンに分類される、多数の異なるゾーンに分けられている。予熱ゾーンおよび均熱ゾーンでは、製品は加熱され、フラックス揮発性成分は周りを取り巻くガス雰囲気中で気化する。スパイクゾーンは予熱ゾーンおよび均熱ゾーンより温度が高く、はんだが溶融するのはこのスパイクゾーンである。リフローはんだ付け機は多くの加熱ゾーンを有してもよく、これらの加熱ゾーンははんだ付けすべき製品に依存して変化し得る。異なる製品には異なる熱分布が必要であり、またはんだ付け機はフレキシブルであるべきであるので、たとえば１０の加熱ゾーンを含むあるはんだ付け機は１つの予熱ゾーンに続いて７つの均熱ゾーンと２つのスパイクゾーンとを有する場合もあり、また異なるタイプの基板に対しては３つの予熱ゾーン、６つの均熱ゾーンおよび１つのスパイクゾーンを有する場合もある。はんだが基板のはんだ領域で凝固する場所には、加熱ゾーンに続いて１つ以上の冷却ゾーンがある。
【０００５】
冷却ゾーンに揮発性成分が存在すると凝縮が起こり、その凝縮物が冷却機能を損なって処理上の問題が現れるかもしれない。最もよくある問題は、印刷能力の向上した不浄なはんだペーストによって起こる。これらのペーストはより優れた印刷能力を達成するために粘度調節剤を用いる。この粘度調節成分が冷却ゾーンで凝縮すると問題が生じる。本来、これらの残留物は粘性の液体であり、蓄積されて熱交換器などの冷却ゾーンの表面からはんだ付けされた製品の上に滴ることがあるかもしれない。
【０００６】
当社の米国特許第５，５７７，６５８号には、ガスフローシステムを用いて一定の冷却能力を維持し、かつ冷却モジュールのメンテナンスの間隔を大きく延ばす、ガスナイフ冷却システムが開示される。このシステムは、コンベヤ上で冷却ゾーンを通過するはんだ付けされた製品にガス流を向け、ガス流を向けるガスナイフに対応するヒータが予め定められた清浄サイクルにわたって作動され、はんだ付けされた製品からのフラックス堆積物のフラックス気化温度より上の温度までガスナイフを加熱する。
【０００７】
本発明の目的は、印刷回路基板のアセンブリ処理において存在する揮発性の有機成分のうち少なくともいくらかを取り除くことである。一実施例では、本発明の目的は、リフローはんだ付け機のリフローガス流から気化したフラックス成分の少なくともいくらかを取り除くことである。これは、ガス流からガスの少なくとも一部を取り除き、凝縮された揮発物がリフローはんだ付け機を通過する基板上に滴り得ない場所でフラックス揮発物を凝縮するようにその取り除いた部分を処理し、さらにその後、清浄なガスを好ましくはそれが取られたところの下流でリフローはんだ付け機に戻すことにより、達成される。このガスは次いで機械中で再循環され、さらにガスフローの変化、冷却および他の処理機能によって、ガス流中の気化したフラックス成分の量を制御することができる。
【０００８】
加熱および冷却ゾーンからフラックス揮発物を取り除くこととに加えて、清浄な冷却ガスは、他に少なくとも３つの目的を有する。第１に、回路基板上で冷却効果をもたらし、これは下流の冷却ゾーンのいずれかに清浄なガスを与えると生じる。第２に、冷却ガスは、頂部と底部とに温度差をもたらすために、回路基板の頂部または回路基板の底部のいずれかに与えられる。第３に、冷却ガスは、ゾーンごとの温度の分離をもたらすために用いられる。処理によっては隣接するゾーン間に大きな温度差を要するものもあり、たとえば、均熱ゾーンと隣接するスパイクゾーンとの間には１００℃の温度差があり得る。冷却されたガスを温度のより低いゾーンに与えることにより、温度の高い方のゾーンから低い方のゾーンへ溢出する熱の影響は減じられ、より高い温度差が達成され得る。これは特に、より高いピーク温度を要するが均熱温度は必要ない、鉛を含まない合金に関して有用である。
【０００９】
ガスの部分が取り除かれるゾーンおよび清浄なガスが戻されるゾーンを変更する能力を有することにより、システムはフレキシブルになる。
【００１０】
熱交換器をリフローはんだ付け機の加熱ゾーンおよび冷却ゾーンの外側に設けることにより、それらのゾーンに入らなくても熱交換器を取り除いて取り替えることが可能になり、よって優れたメンテナンス上の利点を有する。いくつかの例においては、熱交換器の両側のガスダクトラインにバルブが位置付けられるので、リフローはんだ付け機を停止させずに熱交換器を取り除き清浄なユニットと取り替えることができる。これにより機械の雰囲気の完全性は保持され、よってメンテナンス中断時間は大幅に減じられる。
【００１１】
今日、両面基板アセンブリのリフローはんだ付けは、よりありふれたものとなってきている。基板の底面をリフローする場合、部品は溶融したはんだの濡れ力だけで基板に保持され得る。部品の質量がこの濡れ力の値を超えると、その部品は落ちてしまう。この問題に取り組むために、業界ではさまざまな技術が現在用いられている。ある技術によると、接着剤を用いて部品を印刷回路基板に接着する。しかしながら、このアプローチは、さらなるステップ（すなわち接着剤の塗布）を伴うので、経済的な観点からは望ましくない。本願は、リフローはんだ付けのピーク温度段階の間にスパイクゾーンにおいて印刷回路基板アセンブリの底面に冷却されたガスを向けることにより、これらの問題に解決策をもたらす。この技術は、強制的な対流とリフロー処理領域の頂部から基板上に向けられる赤外線加熱とを組合わせて、基板の底面の大きな部品の温度をはんだの溶融温度より低く維持すると同時に、基板の頂面の部品をはんだの溶融温度より高くする。したがって、冷却されたガスを基板の底面に向けることにより、さらなる処理工程を必要とすることなく両面基板アセンブリに関連する問題を解決することができる。
【００１２】
さらなる実施例では、清浄な冷却ガスが基板の底部よりも頂部に向けられるように基板の底部により多くの熱を与えることが所望され得る。
【００１３】
米国特許第５，５７７，６５８号に開示されたガスナイフ冷却システムでは、熱交換器に堆積された凝縮したフラックス成分を取り除くために自己清浄サイクルが設けられる。清浄サイクルをなくすか、さもなければその数を減じ得る（これにより製造中断時間を減じる）ことが現在わかっている。さらに、加熱ゾーンから離れており、またリフローはんだ付け機を停止する必要さえなく取り外して清浄な熱交換器と取り替えることのできる、熱交換器を設けることにより、製造中断時間はさらに減じられ、リフローはんだ付け機からの生産率は増加し得る。
【００１４】
米国特許第５，５７７，６５８号のガスナイフ冷却システムでは、新鮮な冷却供給ガスがガスナイフに供給される。本発明ではガスの一部が冷却され、清浄され、かつ再循環されるが、その再循環されたガスがガスナイフを通じて再び与えられることはない。再循環された冷却ガスは、必要に応じて頂部または底部のいずれかから、または両方から、印刷回路基板に与えられる。
【００１５】
熱交換機は好ましくは二重流路設計であり、冷却効果を変化させるようにフレキシブルにされている。ガス流の流速を変え、熱交換器に対する冷却媒体の流れを変え、さらにガスから取り除かれた熱量を設定するための制御変量である熱交換器にわたる濡れ長さまたは経路長さを与えることにより、冷却は変化し得る。
【００１６】
【発明の概要】
本発明は、ラインにおける複数の加熱ゾーンおよびそれに続く少なくとも１つの冷却ゾーンと、コンベヤ経路上で加熱ゾーンおよび冷却ゾーンを通って回路基板を運ぶコンベヤと、少なくとも１つの加熱ゾーンから延びる流入ガスダクトと、加熱ゾーンおよび冷却ゾーンから離れて流入ガスダクトに接続し、加熱ゾーンおよび冷却ゾーンのうち他の少なくとも１つのゾーンに下流で接続する流出ガスダクトに結合されるフィルタリングおよび冷却装置とを含む、回路基板に部品をアセンブリするための機械を提供する。
【００１７】
本発明はまた、回路基板への部品のアセンブリのための機械における揮発性の成分を制御する方法を提供し、この機械は、複数の囲まれた加熱ゾーンおよびそれに続く中にガスを含む少なくとも１つの冷却ゾーンと、コンベヤ経路上で加熱ゾーンおよび冷却ゾーンを通って回路基板を運ぶコンベヤとを有し、上記の方法は、少なくとも１つの加熱ゾーンからガスの一部を取り除くステップと、加熱ゾーンおよび冷却ゾーンから離れたガスの部分を冷却およびフィルタリングしてガスの部分における揮発性の成分の少なくともいくらかを凝縮するステップと、下流の冷却およびフィルタリングされたガスの部分を加熱ゾーンおよび冷却ゾーンのうち少なくとも１つの他のゾーンに戻すステップとを含む。
【００１８】
【好ましい実施例の説明】
図１にはリフローはんだ付け機１０が示され、これは５つの均熱ゾーン１２およびそれに続く２つのスパイクゾーン１４を含む、複数の加熱ゾーンを含む。この図面に示されていないものは、均熱ゾーン１２に先行する予熱ゾーンである。スパイクゾーンに続いて、２つの冷却ゾーン１６がある。流入ガスダクト１８は、第５の均熱ゾーン１２から出て、凝縮フィルタ２０を通過し、中にファン２４を有する流出ガスダクト２２へと続くように示されている。流出ガスダクト２２は２つに分かれ、両方の冷却ゾーン１６に清浄な排気ガスが入る。
【００１９】
図２は、リフローはんだ付け機の別の実施例を示し、この例では、冷却ゾーン１６が、リフローはんだ付け機１０において左から右へ搬送されるコンベヤ経路３２を通過して回路基板３０上にガスを向ける複数のガスナイフ２８を有する。流入ガスダクト１８は、加熱ゾーン（この特定の実施例では均熱ゾーン１２）から延びる。これはリフローはんだ付け機における第１の均熱ゾーン１２でない場合もあるが、さらなる均熱ゾーン１２およびスパイクゾーン１４は、流入ガスダクト１８が出ている均熱ゾーンの下流に示される。凝縮フィルタ２０はリバースフロー熱交換機を含み、流出ガスダクト２２は冷却ゾーン１６の底部から入るように示される。
【００２０】
図３は複数の均熱ゾーン１２とそれに続くスパイクゾーン１４とを含むリフローはんだ付け機を表す。図示されるように、流入ガスダクト１８は均熱ゾーン１２から延び、凝縮フィルタ２０を通過し、流出ガスダクト２２から下流の均熱ゾーン１２（スパイクゾーン１４の前の最後の均熱ゾーン１２）へと入る。冷却ガスにより、２つのゾーン間の温度差はより大きくなる。ある処理に対しては、１００℃程度の温度差が望ましい場合もあり、温度の低い方のゾーンに冷却ガスを与えることにより、より優れたゾーン間の温度分離が生じ、温度の高い方のゾーンから熱が溢出することが少なくなる。
【００２１】
凝縮フィルタ２０は、図３では、両側にフランジ３４を有し、流入ガスダクト１８および流出ガスダクト２２中にバルブ３６を有するように示される。したがって、ファン２４を止めてバルブ３６を閉めると、流入ガスダクト１８と流出ガスダクト２２との間から凝縮フィルタ２０を取り外して、リフローはんだ付け機の動作を停止させることなく新しい凝縮フィルタ２０と取り替えることができる。
【００２２】
図４は、予熱ゾーン１１と、それに続く均熱ゾーン１２およびスパイクゾーン１４とを有するリフローはんだ付け機１０を示す。流出ガスダクト２２はスパイクゾーン１４に頂部に入るように示される。これにより、回路基板３０は底部よりも頂部において冷却されるようになる。
【００２３】
図５はリフローはんだ付け機１０を示し、これは図４に示すものと同様であるが、流出ガスダクト２２はスバイクゾーン１４の底部に入る。これにより、回路基板３０は底部で冷却され、頂部よりも底面の温度を低く維持し、これは両面基板アセンブリに適用可能である。
【００２４】
図６には流出ガスダクト２２に接続される排気マニホールド７０が示される。各々が中にバルブ７４を有する４つの分離したマニホールドダクト７２が、均熱ゾーン１２、スパイクゾーン１４および冷却ゾーン１６に接続して示される。バルブ７４によりマニホールドダクト７２は開閉可能になり、したがって種々のアセンブリ動作に対して、清浄なガスが必要に応じて別々のゾーンに循環され得るようになる。
【００２５】
図７は、不活性ガスが加熱ゾーン内の循環領域３８でファン４０によって循環されるリフローはんだ付け機の加熱ゾーンにわたる軸方向の断面図を示し、空気溜（プレナム）４２の外側を取り囲む循環領域３８からガスを引き寄せ、拡散器４４を通じてガスをプレナム４２に吹き込み、そこからガスはリフローはんだ付け機で搬送中の回路基板３０上に出る。ガスはヒータパネル４６を通してプレナム４２から出る。流入ガスダクト１８は、ヒータパネル４６を出た後にプレナム４２のまわりのガス循環領域３８から延びて示される。加熱ゾーンは１つ以上の予熱ゾーン、均熱ゾーンまたはスパイクゾーンであり、それらのゾーン自体が特定の回路基板アセンブリに依存して変化し得る。
【００２６】
凝縮フィルタ２０は図８および図９にリバースフロー熱交換器として示され、これにおいてガスフローは第１の組のフィン５０を通過して反転領域５２へ入り、中を通過するガスから熱を取り除くエネルギ除去ユニットに相当する第２の組のフィン５４がそれに続く。第２の組のフィン５４に続いて、標準空気路フィルタであり、かつ熱交換器内に生じる凝縮物がファン２４を通じて排出または排気ライン２２中へ吸い込まれるのを防ぐために設けられる粒子フィルタ５６が、置かれる。図９は、熱交換器２０にわたって循環される冷却剤のためにフィン５０および５２を通る冷却管５８を示すリバースフロー熱交換器２０の側面図を示す。熱交換器の下にはドリップトレイ５９が示され、熱交換器２０から凝縮物を取り除くための排水路６０も示される。
【００２７】
他の実施例では、冷却剤がパイプ内をガスフローと反対の方向に流れる、逆流熱交換器が用いられ得る。半導体装置に関連する電気的エネルギを用いて低温の表面を生じさせるペルチェ接合冷却器もまた、熱交換器として用いられ得る。適切な熱交換器の種々の型は、フィン付きガス−ガス熱交換機またはチューブフィン付き液体−ガス熱交換機を含む。
【００２８】
図１０の流入ガスダクト１８にはヒータ６６が示される。ヒータ（好ましくは電気ヒータ）は、清浄サイクル中で用いられ、流入ガスダクト１８内の循環するガスを加熱して、流入ガスダクト１８、熱交換器２０および流出ガスダクト２２中に生じ得る何らかの凝縮堆積物を気化させる。清浄サイクルはリフローはんだ付け機が動作中でないときのみ用いられ、循環ガスは加熱されて、システム中のいずれかで堆積されたかもしれない何らかの凝縮物を気化させる。
【００２９】
本発明は一般に、回路基板への電子部品のアセンブリのための機械であって、その機械にわたってコンベヤ上を通る印刷回路基板を取り巻くガス雰囲気を有する機械に適用する。ガスの一部は加熱ゾーン、すなわち予熱ゾーン１１、均熱ゾーン１２および／またはスパイクゾーン１４のうち少なくとも１つから引き出され、冷却されてガスから凝縮物が取り除かれ、これが結果的にガスを清浄にし、その後その清浄なガスを、ガスの一部を取ったゾーンの下流の少なくとも１つのゾーンに戻す。すなわち、リフローはんだ付け機の均熱ゾーン１２、スパイクゾーン１４または冷却ゾーン１６の少なくともいずれか１つに戻す。凝縮フィルタを通じて再循環されるガスの量はファン２４によって、また流入ガスダクト１８および流出ガスダクト２２の流路の断面積を変えることによって、制御される。これは、ダクト内のダンパまたはバルブを用いて変えることができる。熱交換器に関しては、より遅いガス速度を有し、かつ凝縮物が落ちないように支持するためにガスが熱交換器と接触することが好ましく、一方、熱交換器以外の場所、すなわち流入ガスダクト１８および流出ガスダクト２２では、凝縮材料を懸垂状態で保ち、またダクト表面にそれらを堆積させないようにするために、高速であることが好ましい。熱交換器では、システムの適正な機能に必要な望ましいエネルギ除去を達成するには、十分な濡れ長さ、すなわちガスが冷却表面と接触する長さが必要とされる。公知のリフローはんだ付け機では、熱交換機が冷却ゾーンに含まれていたのに対して、本願では、熱交換器は加熱ゾーンおよび冷却ゾーンから離されており、よって熱交換器内に生じる凝縮物はドリップトレイ５９内へ堆積され、排水路６０によって収集される。
【００３０】
冷却ゾーン内に、それらのゾーン内のガスを冷却するかまたはそれらのゾーンに新鮮な冷却ガスを与えるかのいずれかを行なう他の熱交換器を設けてもよいが、加熱ゾーンおよび冷却ゾーン中のガスのいくらかは清浄済みであるので、冷却ゾーン内の熱交換機におけるフラックス揮発性堆積物はより少なくなる。
【００３１】
図２および図６に示すように、当社の米国特許第５，５７７，６５８号に開示されるものと同様のガスナイフ冷却システムを有する冷却ゾーン１６に、ガスナイフ２８が設けられ得る。このシステムでは、ガスナイフ２８へ循環する冷却ガスのための別の熱交換器（図示せず）が冷却ゾーン１６に含まれてもよい。冷却ゾーン内のフラックス堆積物がより少ないので、必要な清浄サイクルもより少なくなり、機械の中断時間も減少する。
【００３２】
熱交換器２０内の管５８Ａおよび５８Ｂを通過する冷却剤の制御は、ガスフローに供給されるエネルギの量もまた制御する。熱交換器２０にわたるガスフローの圧力差のモニタリングを用いて、循環するガスの温度降下およびシステム中を循環するのガスの流れを制御かつ調節することができる。
【００３３】
ガスが下流の均熱ゾーン、スパイクゾーンまたは冷却ゾーンのいずれかに戻されると、それは加熱ゾーンでコンベヤ上の回路基板の動きと逆方向に進むように再循環するので、清浄なガスが継続的に循環し、リフローはんだ付け機に存在するフラックス揮発物を減じる。
【００３４】
一実施例では、凝縮フィルタ２０を通過するプロセスガスは約２５℃から１００℃の範囲のある温度まで冷却され、循環してリフローはんだ付け機１０へ戻される。図３に示す実施例では、ガスは約１６０℃の設定点を有する加熱ゾーン１２から取られ、第１のスパイクゾーン１４の前の最後の均熱ゾーン１２へ循環される。この最後の均熱ゾーン１２は１７０℃の設定点を有する。スパイクゾーン１４は２５０℃の設定点を有し、したがって循環する冷却ガスはゾーン間の温度差を維持する助けとなる。エネルギの除去は、約１００℃の凝縮フィルタ２０にわたって循環するガスにおける温度降下を引き起こす。ガスが冷却ゾーン１６へ循環する図２に示す実施例については、ガスの温度降下は約１６０℃である。温度降下は、所望の冷却に依存して、約５０℃から２００℃の間で変動する。
【００３５】
ここに示した実施例に対しては、前掲の請求項によってのみ限定される本発明の範囲から離れることなく、さまざまな変更をなすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に従った凝縮フィルタを有するリフローはんだ付け機を示す概略図である。
【図２】本発明のさらなる実施例に従ったリバースフロー凝縮フィルタを有し、冷却ガスが冷却ゾーンに戻るリフローはんだ付け機を示す概略図である。
【図３】本発明のまたさらなる実施例に従った取り外し可能な凝縮フィルタを有し、冷却ガスがスパイクゾーンの前の最後の均熱ゾーンに戻ってゾーンを分離するリフローはんだ付け機を示す概略図である。
【図４】ガスが下流の加熱ゾーンの頂部へ循環する、本発明の別の実施例に従った印刷回路基板を処理するための機械を示す概略図である。
【図５】下流の加熱ゾーンの底部へガスが循環する、図４に示すものと同様の機械を示す概略図である。
【図６】ガスフローの戻りを選択するための排気マニホールドを有する、本発明の別の実施例を示す概略図である。
【図７】本発明のさらなる実施例に従った凝縮フィルタへのガスフローの排気ポートを示すリフローはんだ付け機にわたる軸方向の概略断面図である。
【図８】本発明の一実施例に従った凝縮フィルタを示す概略断面図である。
【図９】図５の凝縮フィルタを示す概略断面図である。
【図１０】本発明のさらなる実施例に従った凝縮フィルタを示す概略断面図である。

Claims

回路基板に部品をはんだ接合するためのリフローはんだ付け機であって、
ラインにおける複数の加熱ゾーンを含み、前記加熱ゾーンは、少なくとも１つの予熱ゾーン、それに続く少なくとも１つの均熱ゾーン、それに続く少なくとも１つのスパイクゾーン、およびそれに続く少なくとも１つの冷却ゾーンを含み、前記リフローはんだ付け機はさらに、
コンベヤ経路上で加熱ゾーンおよび冷却ゾーンを通って回路基板を運ぶコンベヤと、
少なくとも１つの均熱ゾーンから延びる流入ガスダクトと、
加熱ゾーンおよび冷却ゾーンから離れて流入ガスダクトに接続されるとともに、少なくとも１つの均熱ゾーンの下流で冷却ゾーンに接続する流出ガスダクトに結合される、フィルタリングおよび冷却装置と、
を含む、リフローはんだ付け機。
前記流出ガスダクトに位置付けられた送風機を含む、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
フィルタリングおよび冷却装置で凝縮されたフラックス残留物を収集するためのフィルタリングおよび冷却装置に対応する収集トレイを含む、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
前記流入ガスダクトが加熱ゾーンの１つの下から延びる、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
前記フィルタリングおよび冷却装置が、熱交換器の下流に粒子フィルタを有する熱交換機を含む、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
前記熱交換器がチューブフィン型熱交換器である、請求項５に記載のリフローはんだ付け機。
前記熱交換器がリバースフローのチューブフィン型熱交換器である、請求項５に記載のリフローはんだ付け機。
前記フィルタリングおよび冷却装置が流入ガスダクトおよび流出ガスダクトから取り外し可能であり、流入ガスダクトおよび流出ガスダクトにバルブが設けられて、フィルタリングおよび冷却装置が流入ガスダクトおよび流出ガスダクトから取り外されるとフィルタリングおよび冷却装置を分離する、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
フィルタリングおよび冷却装置の前に流入ガスダクトに設置されたヒータを含み、前記ヒータは流入ガスダクト、フィルタリングおよび冷却装置、および流出ガスダクト中で循環するガスを、そこに堆積された何らかの揮発性の有機成分を気化するのに十分な温度まで加熱するように適合される、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
複数の均熱ゾーンがあり、前記流出ガスダクトが、最も下流の均熱ゾーンの下流で、かつ少なくとも１つのスパイクゾーンの前に接続される、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
前記冷却ゾーンに配置され、コンベヤの上方に位置付けられたガスナイフ冷却システムをさらに含み、
前記流出ガスダクトが冷却ゾーンに接続されてコンベヤの下に位置付けられ、コンベヤ経路上の冷却ゾーンにおける回路基板が、その頂面においてガスナイフ冷却システムによって冷却され、その底面において流出ガスダクトによって冷却されるようになっている、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
前記流出ガスダクトが、複数のバルブ本体を備えるマニホールドを有する、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。
前記流出ガスダクトが、コンベヤの下で少なくとも１つの均熱ゾーンに接続され、少なくとも均熱ゾーンにおけるコンベヤ上の回路基板がその上面で加熱され、その下面で冷却されるようになっており、基板の両面に部品を有する印刷回路基板の処理を容易にする、請求項１に記載のリフローはんだ付け機。