JP3543985B2 - レントゲンケーブルの製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、レントゲンケーブルの製造方法に関し、特にレントゲンケーブルを細径化する場合に有用なレントゲンケーブルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、Ｘ線装置用の高電圧ケーブルは医療用装置をはじめ高電圧工業装置用に至るまで幅広く使用されている。従来、かかるレントゲンケーブルとしては、２条の低圧絶縁線心と２条の裸導体とをより合わせ、このより合わせ体の外周に順次、半導電層、高圧絶縁体、遮蔽層及びシースを設けて成るものが知られている。なお、低圧絶縁線心は、導体上に絶縁体を設けたもので構成されている。
【０００３】
ところで、このようなレントゲンケーブルは、移動・屈曲を受けて使用されることから、可撓性に富むことが要求される。このため、上記の高圧絶縁体の形成材料としては、ゴム状弾性の性質を有するエチレンプロピレンゴムが用いられている。しかして、高圧絶縁体をエチレンプロピレンゴムで形成した場合においては、押出被覆作業と同時に連続加硫機で高温高圧水蒸気雰囲気下で熱処理を行い架橋させる必要がある。ところが、加熱加圧媒体として高温高圧の水蒸気を用いた場合においては、エチレンプロピレンゴムの架橋工程中に水蒸気が絶縁体中に浸透し、ひいては、高圧絶縁体の絶縁特性を大幅に低下させる恐れがあった。
【０００４】
また、このような構成のレントゲンケーブルは、レントゲン装置に組み込んで使用されることから、占積率を向上させる必要上、細径化が望まれている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、レントゲンケーブルの外径を細くするには、高圧絶縁体の被覆厚さをより薄くすればよいが、水蒸気加硫を行ったエチレンプロピレンゴム中には、２０００〜３０００ｐｐｍ程度にも及ぶ水分量が存在するため、７５ｋＶ級のレントゲンケーブルの場合においては、高圧絶縁体の直流破壊電圧値の関係上、その被覆厚さを６ｍｍ程度より薄くすることはできないという難点があった。このため、７５ｋＶ級のレントゲンケーブルの外径は２０ｍｍ程度となり、ケーブルをより細径化することができないという難点があった。
【０００６】
本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、蒸気加硫を行った高圧絶縁体中の水分量を減少させて高圧絶縁体の直流破壊ストレスを向上させ、これによってケーブルの外径を細くしうるレントゲンケーブルを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明のレントゲンケーブルの製造方法は、低圧絶縁線心と導電線心とのより合わせ体の外周に半導電層を設け、この半導電層の外周にエチレンプロピレンゴムを押出被覆するとともに水蒸気雰囲気下で加熱架橋させて高圧絶縁体を形成し、得られた高圧絶縁線心を乾燥処理した後に、当該高圧絶縁線心の外周に遮蔽層及びシースを形成することを特徴とする。
【０００８】
【作用】
本発明のレントゲンケーブルの製造方法においては、所定の工程を経て製造された高圧絶縁線心が乾燥処理され、この乾燥処理によって高圧絶縁体の水分量が大幅に減少しているので、高圧絶縁体の直流破壊ストレスを向上させることができる。従って本発明においては、高圧絶縁体の被覆厚さを従来のそれよりも薄くすることが可能になり、レントゲンケーブルの外径を従来のそれよりも１０〜２０％程度細くすることができる。
【０００９】
【実施例】
以下、本発明の一実施例の図面を用いて説明する。図１は、本発明に係るレントゲンケーブルの半製品を示す縦断面図である。図１において、符号１は、低圧絶縁線心を示しており、この低圧絶縁線心１は、例えば素線径が０．３５ｍｍの導線を１９本集合よりしてなる導体１ａと、この導体１ａの外周に、厚さが０．２５程度の弗素樹脂を押出被覆して成る絶縁体１ｂとで構成されている。符号２は、導電線心を示しており、この導電線心は、例えば素線径が０．１８ｍｍ導線を５０本集合よりしてなるもので構成されている。しかして、これらの２条の低圧絶縁線心１と２条の導電線心２とは図１に示すようにより合わせられ、このより合わせ体の外周には半導電層３を介して厚さが４．６ｍｍ程度の高圧絶縁体４が設けられている。高圧絶縁体４は、エチレンプロピレンゴムを押出被覆することにより形成され、押出被覆作業と同時に連続加硫機で高温高圧水蒸気雰囲気下で熱処理が行われ架橋される。
【００１０】
以上のようにして得られた、いわゆる高圧絶縁線心は、リールに巻収された状態で乾燥釜内に収容され、架橋工程中に高圧絶縁体４中に浸透した水分量が３００ｐｐｍ程度に減少するまで乾燥処理される。高圧絶縁体中の水分量を３００ｐｐｍ程度まで減少させるには、乾燥釜内を６０℃程度に保持し、この状態で一週間程度乾燥すればよい。なお、乾燥処理時間を短縮させるには、乾燥釜内を６０℃程度に保持しつつ、真空引き処理すればよい。
【００１１】
上記のようにして、高圧絶縁体４中の水分量を３００ｐｐｍ程度まで減少させると、１００ｋＶ／ｍｍ上の直流破壊値が得られ、このため、設計上、５０ｋＶ／ｍｍ値を最低破壊ストレスとして用いることができる。
【００１２】
しかして、高乾燥処理した高圧絶縁体４の外周には、外部半導電層５を介して遮蔽編組からなる遮蔽層６が設けられ、この上には、厚さが１．０ｍｍ度の塩化ビニル樹脂の押出被覆により構成されるシース７が設けられている。
【００１３】
かかる構成のレントゲンケーブルの製造方法においては、高圧絶縁線心の乾燥処理によって高圧絶縁体の水分量を大幅に減少させることができ、高圧絶縁体の直流破壊ストレスを５０ｋＶ／ｍｍにすることができる。従って本発明においては、高圧絶縁体の被覆厚さを従来のそれよりも薄くすることが可能となり、全体としてレントゲンケーブルの外径を従来のそれよりも１０〜２０％程度細くすることができる。
【００１４】
なお、前述の実施例においては、７５ｋＶ級のレントゲンケーブルケーブルについて述べているが、本発明はこれに限定されず、５０ｋＶ級のレントゲンケーブルの製造に適用してもよい。
【００１５】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のレントゲンケーブルの製造方法においては、所定の工程を経て製造された高圧絶縁線心が乾燥処理され、この乾燥処理によって高圧絶縁体の水分量を大幅に減少させているので、高圧絶縁体の直流破壊ストレスを向上させることができる。従って本発明においては、高圧絶縁体の被覆厚さを従来のそれよりも薄くすることが可能になり、レントゲンケーブルの外径を従来のそれよりも１０〜２０％程度細くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るレントゲンケーブルの製造方法によって得られたレントゲンケーブルの横断面図
【符号の説明】
１………低圧絶縁線心
２………導電線心
３………内部半導電層
４………高圧絶縁体
５………外部半導電層
６………遮蔽層
７………シース

Claims (1)

1. 低圧絶縁線心と導電線心とのより合わせ体の外周に半導電層を設け、この半導電層の外周にエチレンプロピレンゴムを押出被覆するとともに水蒸気雰囲気下で加熱架橋させて高圧絶縁体を形成し、得られた高圧絶縁線心を乾燥処理した後に、当該高圧絶縁線心の外周に遮蔽層及びシースを形成することを特徴とするレントゲンケーブルの製造方法。

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