JP3532611B2 - 透明電磁波シールドフィルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法 - Google Patents
透明電磁波シールドフィルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、透明電磁波シールドフ
ィルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法に係わ
り、特に、透過型液晶表示装置のバックライトから発生
する雑音電波や静電誘導等のノイズを効率良く防止する
ための光拡散部材に展着される透明電磁波シールドフィ
ルムに関する。
ィルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法に係わ
り、特に、透過型液晶表示装置のバックライトから発生
する雑音電波や静電誘導等のノイズを効率良く防止する
ための光拡散部材に展着される透明電磁波シールドフィ
ルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ワードプロセッサー等に使用され
ている液晶表示装置としては、例えば、図３に示すよう
に液晶表示パネルＡの後側にバックライトＢを収納した
構造のものが一般に採用されており、更に液晶表示パネ
ルＡとバックライトＢの間に、バックライトから発生す
るノイズ等を遮断するために、透明基材上に酸化インジ
ウムと酸化錫との混合物であるＩＴＯ等からなる透明導
電性薄膜をスパッタリング法やイオンプレーティング法
等により設けた電磁波シールド板Ｃ’を挟み込んだもの
等がある。
ている液晶表示装置としては、例えば、図３に示すよう
に液晶表示パネルＡの後側にバックライトＢを収納した
構造のものが一般に採用されており、更に液晶表示パネ
ルＡとバックライトＢの間に、バックライトから発生す
るノイズ等を遮断するために、透明基材上に酸化インジ
ウムと酸化錫との混合物であるＩＴＯ等からなる透明導
電性薄膜をスパッタリング法やイオンプレーティング法
等により設けた電磁波シールド板Ｃ’を挟み込んだもの
等がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一方、パーソナルコン
ピューター、ワードプロセッサー等の小型軽量化とコス
トダウンの要請は、近年益々高まってきており、これら
の要請に応えるためにも一部材でも部材点数を少なく
し、また軽量化を図る必要がある。
ピューター、ワードプロセッサー等の小型軽量化とコス
トダウンの要請は、近年益々高まってきており、これら
の要請に応えるためにも一部材でも部材点数を少なく
し、また軽量化を図る必要がある。
【０００４】しかしながら、上記従来の電磁波シールド
板Ｃ’は、スパッタリング装置等の導電性薄膜を形成す
るための装置の技術的な制限により、基材Ｃ1の厚みが
少なくとも５０μｍ以上は必要で、基材Ｃ1上に透明導
電性薄膜Ｃ2が形成された電磁波シールド板Ｃ’自体の
厚さは５０μｍ以上となっていた。
板Ｃ’は、スパッタリング装置等の導電性薄膜を形成す
るための装置の技術的な制限により、基材Ｃ1の厚みが
少なくとも５０μｍ以上は必要で、基材Ｃ1上に透明導
電性薄膜Ｃ2が形成された電磁波シールド板Ｃ’自体の
厚さは５０μｍ以上となっていた。
【０００５】また、透明導電性薄膜Ｃ2が酸化インジウ
ムと酸化錫との混合物であるＩＴＯ膜の場合、液晶パネ
ルの誤動作を防止するためには少なくとも１５ｎｍのＩ
ＴＯ膜を設ける必要があり、耐熱特性、取扱い特性等の
点で基材Ｃ1の厚さが少なくとも５０μｍ以上必要であ
った。
ムと酸化錫との混合物であるＩＴＯ膜の場合、液晶パネ
ルの誤動作を防止するためには少なくとも１５ｎｍのＩ
ＴＯ膜を設ける必要があり、耐熱特性、取扱い特性等の
点で基材Ｃ1の厚さが少なくとも５０μｍ以上必要であ
った。
【０００６】従って、液晶表示装置の一部材として使用
される従来の電磁波シールド板は全体の厚さが５０μｍ
以上となり、液晶表示装置を備えた機器全体としての小
型軽量化に直接寄与することができなかった。
される従来の電磁波シールド板は全体の厚さが５０μｍ
以上となり、液晶表示装置を備えた機器全体としての小
型軽量化に直接寄与することができなかった。
【０００７】これらの事情から、従来の電磁波シールド
板全体の厚さは少なくとも５０μｍ以上はあったため、
バックライトからのノイズは遮断できてたが、相応の重
量増となり、５０μｍを越える総厚みのため、少なから
ず透過率が低くなってしまい、効率よくバックライト光
を液晶表示部に伝えることができなかった。
板全体の厚さは少なくとも５０μｍ以上はあったため、
バックライトからのノイズは遮断できてたが、相応の重
量増となり、５０μｍを越える総厚みのため、少なから
ず透過率が低くなってしまい、効率よくバックライト光
を液晶表示部に伝えることができなかった。
【０００８】更に、従来は拡散板やライティングカーテ
ンにＩＴＯを設けるには、バッチ処理によっており、作
業効率が悪く、生産性の向上が望まれていた。
ンにＩＴＯを設けるには、バッチ処理によっており、作
業効率が悪く、生産性の向上が望まれていた。
【０００９】本発明は上記問題点を解消するためになさ
れたもので、実質的に液晶表示装置の構成部材削減、重
量軽減に寄与し、バックライトからのノイズを効果的に
遮断しつつもバックライト光を効率よく液晶表示部に伝
えることができ、生産性の良い透明電磁波シールドフィ
ルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法を提供する
ことを目的とする。
れたもので、実質的に液晶表示装置の構成部材削減、重
量軽減に寄与し、バックライトからのノイズを効果的に
遮断しつつもバックライト光を効率よく液晶表示部に伝
えることができ、生産性の良い透明電磁波シールドフィ
ルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法を提供する
ことを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、実質的に透明なプラスチ
ックフィルム上に粘着剤層を介してセパレーターを積層
した基材を使用すると、上記実質的に透明なプラスチッ
クフィルムが非常に薄い場合でもシールド効果を得るこ
とができる最低膜厚である１５ｎｍ以上の透明導電性薄
膜を形成することができることを見い出し、本発明を完
成した。
成するためになされたもので、実質的に透明なプラスチ
ックフィルム上に粘着剤層を介してセパレーターを積層
した基材を使用すると、上記実質的に透明なプラスチッ
クフィルムが非常に薄い場合でもシールド効果を得るこ
とができる最低膜厚である１５ｎｍ以上の透明導電性薄
膜を形成することができることを見い出し、本発明を完
成した。
【００１１】即ち、本発明による透明電磁波シールドフ
ィルムは、実質的に透明なプラスチックフィルムの一方
の面に粘着剤層及びセパレーターを順次積層した基材の
プラスチックフィルムの他方の面に、透明導電性薄膜及
び前記透明導電性薄膜より屈折率の低い屈折率の樹脂か
らなる透明化樹脂層を順次積層したものである。
ィルムは、実質的に透明なプラスチックフィルムの一方
の面に粘着剤層及びセパレーターを順次積層した基材の
プラスチックフィルムの他方の面に、透明導電性薄膜及
び前記透明導電性薄膜より屈折率の低い屈折率の樹脂か
らなる透明化樹脂層を順次積層したものである。
【００１２】本発明の好適な態様において、実質的に透
明なプラスチックフィルムは、厚さが４〜３８μｍであ
り、粘着剤層には光拡散剤が混入されている。
明なプラスチックフィルムは、厚さが４〜３８μｍであ
り、粘着剤層には光拡散剤が混入されている。
【００１３】また、本発明による光拡散材の製造方法
は、実質的に透明なプラスチックフィルムの一方の面に
粘着剤層及びセパレーターを順次積層した基材のプラス
チックフィルムの他方の面に、透明導電性薄膜及び透明
化樹脂層を順次積層した透明電磁波シールドフィルム
の、基材のセパレーターを剥離し、露出した粘着剤層
を、光拡散部材に貼り合わせるものである。
は、実質的に透明なプラスチックフィルムの一方の面に
粘着剤層及びセパレーターを順次積層した基材のプラス
チックフィルムの他方の面に、透明導電性薄膜及び透明
化樹脂層を順次積層した透明電磁波シールドフィルム
の、基材のセパレーターを剥離し、露出した粘着剤層
を、光拡散部材に貼り合わせるものである。
【００１４】以下、本発明について図面を用いて具体的
に説明する。
に説明する。
【００１５】図１に示すように、本発明において使用さ
れる基材７は、実質的に透明なプラスチックフィルム１
（以下、透明フィルムとする）の一方の面に、粘着剤層
２及びセパレーター３を順次積層したものであり、この
ような多層構造の基材７を使用することにより、最終的
に残る透明フィルム１の厚みを薄くすることができる。
れる基材７は、実質的に透明なプラスチックフィルム１
（以下、透明フィルムとする）の一方の面に、粘着剤層
２及びセパレーター３を順次積層したものであり、この
ような多層構造の基材７を使用することにより、最終的
に残る透明フィルム１の厚みを薄くすることができる。
【００１６】透明フィルム１としては、ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリエーテルサルホン、ポリアクリ
レート、ポリプロピレン、トリアセテート、ポリイミ
ド、ノルボルネン樹脂等の合成樹脂からなる単層プラス
チックフィルム、上記各プラスチックフィルムと同一又
は別の２枚以上のフィルムをラミネート加工によって複
合した多層プラスチックフィルムが使用できる。このよ
うな透明フィルム１には粘着剤層２や後述する透明導電
性薄膜４との接着性を向上させるために表面処理或いは
下引き処理を行うことが好ましい。透明フィルム１の厚
さは、良好な透明性、コストダウン、易入手性の点で５
０μｍ以下、４〜３８μｍのものが好適で、更に薄さの
点で１０μｍ以下のものが好ましい。
ポリカーボネート、ポリエーテルサルホン、ポリアクリ
レート、ポリプロピレン、トリアセテート、ポリイミ
ド、ノルボルネン樹脂等の合成樹脂からなる単層プラス
チックフィルム、上記各プラスチックフィルムと同一又
は別の２枚以上のフィルムをラミネート加工によって複
合した多層プラスチックフィルムが使用できる。このよ
うな透明フィルム１には粘着剤層２や後述する透明導電
性薄膜４との接着性を向上させるために表面処理或いは
下引き処理を行うことが好ましい。透明フィルム１の厚
さは、良好な透明性、コストダウン、易入手性の点で５
０μｍ以下、４〜３８μｍのものが好適で、更に薄さの
点で１０μｍ以下のものが好ましい。
【００１７】本発明において「実質的に透明」とは、少
なくともバックライトから出射した光を透過できる程度
の透明性があればよく、このような透明性を有していれ
ば着色されていてもよく、また、表面が粗面化されてい
てもよい。
なくともバックライトから出射した光を透過できる程度
の透明性があればよく、このような透明性を有していれ
ば着色されていてもよく、また、表面が粗面化されてい
てもよい。
【００１８】粘着剤層２としては、アクリル系樹脂、ウ
レタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコン系樹脂、
ゴム系樹脂等の粘着剤が使用され、厚さは１〜１０μｍ
の範囲、好ましくは２〜５μｍの範囲が採用される。
レタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコン系樹脂、
ゴム系樹脂等の粘着剤が使用され、厚さは１〜１０μｍ
の範囲、好ましくは２〜５μｍの範囲が採用される。
【００１９】また、粘着剤層２に、炭酸カルシウム、硫
酸バリウム等の無機粒子、アクリル樹脂、ポリスチレン
樹脂、シリコーン樹脂等の有機粒子等を光拡散剤として
添加してもよい。光拡散剤の添加量は、必要とされる光
拡散性、粒子の種類及び粒子の粒径により異なるが、通
常、粘着剤に対して５〜３００％、好ましくは１０〜１
００％である。５％以上としたのは、適度な光拡散性を
得るためであり、３００％以下としたのは、粘着力を低
下させないためである。これにより、粘着剤層２自体に
光拡散機能が付加される。
酸バリウム等の無機粒子、アクリル樹脂、ポリスチレン
樹脂、シリコーン樹脂等の有機粒子等を光拡散剤として
添加してもよい。光拡散剤の添加量は、必要とされる光
拡散性、粒子の種類及び粒子の粒径により異なるが、通
常、粘着剤に対して５〜３００％、好ましくは１０〜１
００％である。５％以上としたのは、適度な光拡散性を
得るためであり、３００％以下としたのは、粘着力を低
下させないためである。これにより、粘着剤層２自体に
光拡散機能が付加される。
【００２０】セパレーター３としては、離型性のあるフ
ィルム、紙等が使用され、機械適性の点で、厚さは２５
〜１００μｍの範囲が好ましく、更には２５〜５０μｍ
の範囲がより好ましい。
ィルム、紙等が使用され、機械適性の点で、厚さは２５
〜１００μｍの範囲が好ましく、更には２５〜５０μｍ
の範囲がより好ましい。
【００２１】基材７上の粘着剤層２とは反対の面に積層
される透明導電性薄膜４は、種々の金属、例えば、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｄ、Ｓｂ、Ｚｎの１種以上の金属酸
化物の薄膜を用いることができる。特に、光線透過率、
表面電気特性及びその経時変化の少ないものとして、Ｉ
ＴＯ（酸化インジウム−酸化錫）からなるものが好まし
い。
される透明導電性薄膜４は、種々の金属、例えば、Ｉ
ｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｄ、Ｓｂ、Ｚｎの１種以上の金属酸
化物の薄膜を用いることができる。特に、光線透過率、
表面電気特性及びその経時変化の少ないものとして、Ｉ
ＴＯ（酸化インジウム−酸化錫）からなるものが好まし
い。
【００２２】ＩＴＯ膜は、酸化インジウムと酸化錫との
重量比が１００：０〜５０：５０、好ましくは１００：
０〜８０：２０のものが、蒸着の容易さ、材料の入手の
容易さ、及び電磁波シールド特性の面で好ましい。この
ようなＩＴＯ膜は、酸化物材料の粉末混合体或いは粉末
焼結体を材料として蒸着してもよく、また金属材料を原
料としても良い。膜厚は１５〜５００ｎｍが採用され、
更に、１５〜１００ｎｍのものが本発明の目的である電
磁波シールド用として最適であり、表面電気抵抗は１０
〜２０００Ω／□の範囲が、更には４０〜５００Ω／□
の範囲が電磁波シールドの目的から好ましい。
重量比が１００：０〜５０：５０、好ましくは１００：
０〜８０：２０のものが、蒸着の容易さ、材料の入手の
容易さ、及び電磁波シールド特性の面で好ましい。この
ようなＩＴＯ膜は、酸化物材料の粉末混合体或いは粉末
焼結体を材料として蒸着してもよく、また金属材料を原
料としても良い。膜厚は１５〜５００ｎｍが採用され、
更に、１５〜１００ｎｍのものが本発明の目的である電
磁波シールド用として最適であり、表面電気抵抗は１０
〜２０００Ω／□の範囲が、更には４０〜５００Ω／□
の範囲が電磁波シールドの目的から好ましい。
【００２３】透明導電性薄膜４の形成方法としては、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法
等が可能であるが、特にイオンプレーティング法は低温
で成膜可能なため基材の熱変形、寸法変化を少なくでき
ることから、耐熱性に劣る基材や厚さの薄い基材を用い
ることができ好ましい。
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法
等が可能であるが、特にイオンプレーティング法は低温
で成膜可能なため基材の熱変形、寸法変化を少なくでき
ることから、耐熱性に劣る基材や厚さの薄い基材を用い
ることができ好ましい。
【００２４】一般に、ＩＴＯ等の透明導電性薄膜４に使
用される金属酸化物は屈折率が１．９〜２．０と高屈折
率であるため、必然的に反射率も高くなり、上記透明導
電性薄膜４を設けたシートは透明性が減少する。透明性
を減少させないためには反射率を減少させる必要があ
り、本発明では、屈折率が０．９〜１．５程度の低屈折
率の樹脂を、高屈折率の透明導電性薄膜４の表面に塗布
することで透明性を向上させた。
用される金属酸化物は屈折率が１．９〜２．０と高屈折
率であるため、必然的に反射率も高くなり、上記透明導
電性薄膜４を設けたシートは透明性が減少する。透明性
を減少させないためには反射率を減少させる必要があ
り、本発明では、屈折率が０．９〜１．５程度の低屈折
率の樹脂を、高屈折率の透明導電性薄膜４の表面に塗布
することで透明性を向上させた。
【００２５】透明導電性薄膜４上に積層される透明化樹
脂層５は、透明導電性薄膜４を保護すると共に、電磁波
シールド特性を阻害することなく、透明性を向上させる
性質を持ち、透明導電性薄膜４を構成する金属酸化物の
屈折率より低い屈折率の樹脂が用いられる。例えば、ア
クリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミ
ン系樹脂、尿素系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン
系樹脂、フッ素系樹脂等の１又は２以上或いはこれらの
共重合体等が使用され、５０〜１７０ｎｍの膜厚に成膜
される。
脂層５は、透明導電性薄膜４を保護すると共に、電磁波
シールド特性を阻害することなく、透明性を向上させる
性質を持ち、透明導電性薄膜４を構成する金属酸化物の
屈折率より低い屈折率の樹脂が用いられる。例えば、ア
クリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミ
ン系樹脂、尿素系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン
系樹脂、フッ素系樹脂等の１又は２以上或いはこれらの
共重合体等が使用され、５０〜１７０ｎｍの膜厚に成膜
される。
【００２６】上述のように、本発明による透明化樹脂層
５は、有機物樹脂が薄く成膜されているので軟らかく、
その表面に導電性金属箔テープを貼付すると、容易に透
明導電性薄膜４との導通がとれ、透明導電性薄膜４から
アースすることにより優れた電磁波シールド機能を持た
せることができる。高屈折率のＩＴＯ膜表面に、透明で
低屈折率の無機化合物（二酸化珪素、沸化カルシウム、
沸化マグネシウム等）の薄膜を形成して反射率を減少さ
せる従来法では、無機化合物薄膜が絶縁性で、硬いた
め、アースが困難であって十分な電磁波シールド特性は
得られなかった。
５は、有機物樹脂が薄く成膜されているので軟らかく、
その表面に導電性金属箔テープを貼付すると、容易に透
明導電性薄膜４との導通がとれ、透明導電性薄膜４から
アースすることにより優れた電磁波シールド機能を持た
せることができる。高屈折率のＩＴＯ膜表面に、透明で
低屈折率の無機化合物（二酸化珪素、沸化カルシウム、
沸化マグネシウム等）の薄膜を形成して反射率を減少さ
せる従来法では、無機化合物薄膜が絶縁性で、硬いた
め、アースが困難であって十分な電磁波シールド特性は
得られなかった。
【００２７】なお、透明電磁波シールドフィルムの透明
性を減少させないためには、低屈折率の樹脂と金属酸化
物の屈折率の差は、少なくとも０．２以上は必要であ
る。
性を減少させないためには、低屈折率の樹脂と金属酸化
物の屈折率の差は、少なくとも０．２以上は必要であ
る。
【００２８】また、これらの樹脂に触媒を添加して重合
又は架橋させれば、耐薬品性、耐溶剤性が向上するので
好ましい。
又は架橋させれば、耐薬品性、耐溶剤性が向上するので
好ましい。
【００２９】更に、透明化樹脂層５には上記性能に支障
を来さない限り、必要に応じて公知の染料、顔料、紫外
線吸収剤、赤外線吸収剤等を添加してもよい。透明な無
機或いは有機の粉末を添加すれば、透過する光線を散乱
透過させることもできる。
を来さない限り、必要に応じて公知の染料、顔料、紫外
線吸収剤、赤外線吸収剤等を添加してもよい。透明な無
機或いは有機の粉末を添加すれば、透過する光線を散乱
透過させることもできる。
【００３０】透明化樹脂層５を透明導電性薄膜４上に塗
布する方法としては、熔融押出しコート法、エマルジョ
ン分散体コート法、溶剤溶解体コート法がある。また、
エマルジョン分散体コート法と溶剤溶解体コート法には
それぞれ、リップダイコート法とロールコート法があ
り、更に凸版印刷法、平版印刷法、オフセット印刷法、
スプレー印刷法、シルクスクリーン印刷法も使用可能で
ある。いずれにしても使用する透明化樹脂原材料の持っ
ている性質に合わせた塗布方法を採択することが必要で
ある。
布する方法としては、熔融押出しコート法、エマルジョ
ン分散体コート法、溶剤溶解体コート法がある。また、
エマルジョン分散体コート法と溶剤溶解体コート法には
それぞれ、リップダイコート法とロールコート法があ
り、更に凸版印刷法、平版印刷法、オフセット印刷法、
スプレー印刷法、シルクスクリーン印刷法も使用可能で
ある。いずれにしても使用する透明化樹脂原材料の持っ
ている性質に合わせた塗布方法を採択することが必要で
ある。
【００３１】本発明による光拡散材の製造方法は、上述
の本発明による透明電磁波シールドフィルムの基材７の
セパレーター３を剥離しながら、露出した粘着剤層２
を、ラミネーターを用いて、光拡散部材６上に貼り合わ
せて光拡散材Ｃを製造する。
の本発明による透明電磁波シールドフィルムの基材７の
セパレーター３を剥離しながら、露出した粘着剤層２
を、ラミネーターを用いて、光拡散部材６上に貼り合わ
せて光拡散材Ｃを製造する。
【００３２】このように非常に薄い電磁波シールド材料
を貼り合わせた光拡散材Ｃは、実質光拡散部材６のみの
厚さのスペースしか必要としないため、バックライトに
必要な構成部材の重量及び厚さを削減することになる。
を貼り合わせた光拡散材Ｃは、実質光拡散部材６のみの
厚さのスペースしか必要としないため、バックライトに
必要な構成部材の重量及び厚さを削減することになる。
【００３３】
【作用】本発明の透明電磁波シールドフィルムは、特殊
な基材を使用しているため、透明フィルムが３８μｍ以
下と非常に薄い場合でもシールド効果を得ることができ
る最低膜厚である１５ｎｍ以上の透明導電性薄膜を形成
することができ、しかも使用時には不要部分であるセパ
レーターを剥離し拡散部材に貼り合わせて使用するの
で、実質的に液晶表示装置の構成部材削減に寄与し得
る。
な基材を使用しているため、透明フィルムが３８μｍ以
下と非常に薄い場合でもシールド効果を得ることができ
る最低膜厚である１５ｎｍ以上の透明導電性薄膜を形成
することができ、しかも使用時には不要部分であるセパ
レーターを剥離し拡散部材に貼り合わせて使用するの
で、実質的に液晶表示装置の構成部材削減に寄与し得
る。
【００３４】また、粘着剤層に光拡散剤を混入すること
により拡散部材をも削減することができる。
により拡散部材をも削減することができる。
【００３５】
【実施例】本発明を実施例により、更に詳しく説明す
る。 ［実施例１］ 厚さ１２μｍのポリエステルフィルム（ルミラー：東レ
社製）上に、アクリル系粘着剤（アロンタックＳＣＬ−
２００：東亜合成化学社製）１０重量部、トルエン１０
重量部、酢酸エチル１０重量部からなる粘着剤層用塗布
液をバーコーティング法により塗布、乾燥して膜厚２μ
ｍの粘着剤層を得た。上記粘着剤層上に厚さ３８μｍの
セパレーター（セラピール：東洋メタライジング社製）
を貼り合わせて基材を作成した。上記基材の粘着剤層と
は反対の面にイオンプレーティング法にて厚さ３０ｎｍ
のＩＴＯ膜を形成した。基材の熱変形、シワの発生もな
く、正常にＩＴＯ膜を形成することができた。また、こ
の時の透明導電性薄膜の表面電気抵抗値３５０Ω／□
で、全体の透過率は全光線透過率で８５％であった。
る。 ［実施例１］ 厚さ１２μｍのポリエステルフィルム（ルミラー：東レ
社製）上に、アクリル系粘着剤（アロンタックＳＣＬ−
２００：東亜合成化学社製）１０重量部、トルエン１０
重量部、酢酸エチル１０重量部からなる粘着剤層用塗布
液をバーコーティング法により塗布、乾燥して膜厚２μ
ｍの粘着剤層を得た。上記粘着剤層上に厚さ３８μｍの
セパレーター（セラピール：東洋メタライジング社製）
を貼り合わせて基材を作成した。上記基材の粘着剤層と
は反対の面にイオンプレーティング法にて厚さ３０ｎｍ
のＩＴＯ膜を形成した。基材の熱変形、シワの発生もな
く、正常にＩＴＯ膜を形成することができた。また、こ
の時の透明導電性薄膜の表面電気抵抗値３５０Ω／□
で、全体の透過率は全光線透過率で８５％であった。
【００３６】更に、塩ビ−酢ビ共重合体樹脂（ＭＰＲ−
ＴＭ：日信化学製）をアセトンに混合して固形分濃度４
重量％の透明化樹脂層用塗布液を調整し、グラビアロー
ルコーティング法により塗布、乾燥して膜厚１００ｎｍ
の透明化樹脂層を形成し、本発明の透明電磁波シールド
フィルムを得た。この時の全体の透過率は全光線透過率
で９４％であった。
ＴＭ：日信化学製）をアセトンに混合して固形分濃度４
重量％の透明化樹脂層用塗布液を調整し、グラビアロー
ルコーティング法により塗布、乾燥して膜厚１００ｎｍ
の透明化樹脂層を形成し、本発明の透明電磁波シールド
フィルムを得た。この時の全体の透過率は全光線透過率
で９４％であった。
【００３７】次に、この透明電磁波シールドフィルムの
セパレーターを剥離し、露出した粘着剤層を厚さ１００
μｍの光拡散部材である光拡散フィルム（ライトアップ
ＳＨ：きもと社製）にラミネーターを用いて貼り合わせ
て、透明電磁波シールドフィルムを有する光拡散材を得
た。
セパレーターを剥離し、露出した粘着剤層を厚さ１００
μｍの光拡散部材である光拡散フィルム（ライトアップ
ＳＨ：きもと社製）にラミネーターを用いて貼り合わせ
て、透明電磁波シールドフィルムを有する光拡散材を得
た。
【００３８】［比較例１］
実施例１と同様にして、厚さ３８μｍのポリエステルフ
ィルム（ルミラー：東レ社製）の単体表面に、実施例１
と同一条件で、イオンプレーティング法で厚さ３０ｎｍ
のＩＴＯ膜を形成したところ、フィルムにシワが発生
し、ＩＴＯ膜を設けられなかった。
ィルム（ルミラー：東レ社製）の単体表面に、実施例１
と同一条件で、イオンプレーティング法で厚さ３０ｎｍ
のＩＴＯ膜を形成したところ、フィルムにシワが発生
し、ＩＴＯ膜を設けられなかった。
【００３９】［実施例２］
厚さ１２μｍのポリエステルフィルム（ルミラー：東レ
社製）上に、アクリル系粘着剤（リキダインＡＲ−２１
２０ 固形分４０％：リキダイン社製）１０重量部、炭
酸カルシウム（サンライトＳＬ−７００：竹原化学工業
社製）４重量部、トルオール１０重量部、酢酸エチル１
０重量部からなる粘着剤層用塗布液をバーコーティング
法により塗布、乾燥して膜厚５μｍの粘着剤層を得た。
上記粘着剤層上に厚さ３８μｍのセパレーター（セラピ
ール：東洋メタライジング社製）を貼り合わせて基材を
作成した。上記基材の粘着剤層とは反対の面にイオンプ
レーティング法にて厚さ３０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し
た。この時の透明導電性薄膜の表面電気抵抗値３３０Ω
／□で、全体の透過率は全光線透過率で８０％であっ
た。
社製）上に、アクリル系粘着剤（リキダインＡＲ−２１
２０ 固形分４０％：リキダイン社製）１０重量部、炭
酸カルシウム（サンライトＳＬ−７００：竹原化学工業
社製）４重量部、トルオール１０重量部、酢酸エチル１
０重量部からなる粘着剤層用塗布液をバーコーティング
法により塗布、乾燥して膜厚５μｍの粘着剤層を得た。
上記粘着剤層上に厚さ３８μｍのセパレーター（セラピ
ール：東洋メタライジング社製）を貼り合わせて基材を
作成した。上記基材の粘着剤層とは反対の面にイオンプ
レーティング法にて厚さ３０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し
た。この時の透明導電性薄膜の表面電気抵抗値３３０Ω
／□で、全体の透過率は全光線透過率で８０％であっ
た。
【００４０】更に、塩ビ−酢ビ共重合体樹脂（ＭＰＲ−
ＴＭ：日信化学製）をアセトンに混合して固形分濃度４
重量％の透明化樹脂層用塗布液をグラビアロールコーテ
ィング法により塗布、乾燥して膜厚１００ｎｍの透明化
樹脂層を形成し、本発明の透明電磁波シールドフィルム
を得た。この時の全体の透過率は全光線透過率で９２％
であった。
ＴＭ：日信化学製）をアセトンに混合して固形分濃度４
重量％の透明化樹脂層用塗布液をグラビアロールコーテ
ィング法により塗布、乾燥して膜厚１００ｎｍの透明化
樹脂層を形成し、本発明の透明電磁波シールドフィルム
を得た。この時の全体の透過率は全光線透過率で９２％
であった。
【００４１】次に、この透明電磁波シールドフィルムの
セパレーターを剥離し、露出した粘着剤層を厚さ１００
μｍのアクリルシートにラミネーターを用いて貼り合わ
せて、光拡散機能と電磁波シールド特性を合わせ持つ光
拡散材を得た。
セパレーターを剥離し、露出した粘着剤層を厚さ１００
μｍのアクリルシートにラミネーターを用いて貼り合わ
せて、光拡散機能と電磁波シールド特性を合わせ持つ光
拡散材を得た。
【００４２】［比較例２］
実施例２と同様にして、ポリエステルフィルム上に光拡
散材入り粘着剤層を設け、粘着剤層上にセパレーターを
貼り合わせて基材を作成し、基材の粘着剤層とは反対の
面にＩＴＯ膜を形成した。この時、全体の透過率は全光
線透過率で８０％であった。透明化樹脂層を形成しない
ため、全光線透過率は、実施例２より１２％低かった。
散材入り粘着剤層を設け、粘着剤層上にセパレーターを
貼り合わせて基材を作成し、基材の粘着剤層とは反対の
面にＩＴＯ膜を形成した。この時、全体の透過率は全光
線透過率で８０％であった。透明化樹脂層を形成しない
ため、全光線透過率は、実施例２より１２％低かった。
【００４３】
【発明の効果】本発明の透明電磁波シールドフィルム
は、特殊な基材を使用しているため、透明フィルムが３
８μｍ以下と非常に薄い場合でもシールド効果を得るこ
とができる最低膜厚である１５ｎｍ以上の透明導電性薄
膜を形成することができ、しかも使用時には不要部分で
あるセパレーターを剥離し光拡散部材に貼り合わせて使
用するので、実質的に液晶表示装置の構成部材削減に寄
与し得る。
は、特殊な基材を使用しているため、透明フィルムが３
８μｍ以下と非常に薄い場合でもシールド効果を得るこ
とができる最低膜厚である１５ｎｍ以上の透明導電性薄
膜を形成することができ、しかも使用時には不要部分で
あるセパレーターを剥離し光拡散部材に貼り合わせて使
用するので、実質的に液晶表示装置の構成部材削減に寄
与し得る。
【００４４】また、粘着剤層に光拡散剤を混入すること
により拡散部材をも削減することができるという極めて
優れた効果を有するものである。
により拡散部材をも削減することができるという極めて
優れた効果を有するものである。
【図１】本発明の透明電磁波シールドフィルムの部分拡
大断面図
大断面図
【図２】本発明の透明電磁波シールドフィルムによる光
拡散材を採用した液晶表示装置の断面図
拡散材を採用した液晶表示装置の断面図
【図３】従来の液晶表示装置の断面図
１…透明フィルム
２…粘着剤層
３…セパレーター
４、Ｃ2…透明導電性薄膜
５…透明化樹脂層
６…光拡散部材
７、Ｃ1…基材
Ａ…液晶表示パネル
Ｂ…バックライト
Ｃ…光拡散材
Ｃ’…電磁波シールド板
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 依田 公夫
東京都新宿区新宿２−９−22 株式会社
きもと内
(72)発明者 牛尾 成次
大阪府大阪市中央区和泉町１−２−６
株式会社きもと内
(56)参考文献 特開 平２−56811（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−270302（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−260202（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−278800（ＪＰ，Ａ)
特開 昭62−215202（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−12920（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−235219（ＪＰ，Ａ)
実開 平１−93798（ＪＰ，Ｕ)
実開 平５−38995（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H05K 9/00
B32B 7/02
G02F 1/13357
H01B 5/14
Claims (4)
- 【請求項１】実質的に透明なプラスチックフィルムの一
方の面に粘着剤層及びセパレーターを順次積層した基材
の前記プラスチックフィルムの他方の面に、透明導電性
薄膜及び前記透明導電性薄膜より屈折率の低い屈折率の
樹脂からなる透明化樹脂層を順次積層したことを特徴と
する透明電磁波シールドフィルム。 - 【請求項２】前記実質的に透明なプラスチックフィルム
は、厚さが４〜３８μｍであることを特徴とする請求項
１記載の透明電磁波シールドフィルム。 - 【請求項３】前記粘着剤層には光拡散剤が混入されてい
ることを特徴とする請求項１又は２記載の透明電磁波シ
ールドフィルム。 - 【請求項４】請求項１〜３のうちいずれか一項記載の透
明電磁波シールドフィルムの、前記基材の前記セパレー
ターを剥離し、露出した前記粘着剤層を、光拡散部材に
貼り合わせることを特徴とする光拡散材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09096094A JP3532611B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 透明電磁波シールドフィルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09096094A JP3532611B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 透明電磁波シールドフィルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003299885A Division JP2004136659A (ja) | 2003-08-25 | 2003-08-25 | 透明導電性薄膜付き透明プラスチックフィルムの製造方法、および透明導電性薄膜付き透明プラスチックフィルムの作製用基材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07297591A JPH07297591A (ja) | 1995-11-10 |
| JP3532611B2 true JP3532611B2 (ja) | 2004-05-31 |
Family
ID=14013071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09096094A Expired - Fee Related JP3532611B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 透明電磁波シールドフィルムおよびそれを用いた光拡散材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3532611B2 (ja) |
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| JPH11233991A (ja) * | 1998-02-09 | 1999-08-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 剥離除去可能な電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ |
| JP2002245858A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-30 | Hs Planning:Kk | 透明導電性積層体 |
| KR101005354B1 (ko) * | 2003-12-30 | 2011-01-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 노이즈 차폐기능을 갖는 액정표시장치 모듈 |
| JP4867055B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2012-02-01 | 富士フイルム株式会社 | 分散型エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP5506011B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2014-05-28 | 日東電工株式会社 | 粘着剤層付き透明導電性フィルムおよびその製造方法 |
| CN102711428B (zh) * | 2012-06-21 | 2015-11-18 | 广州方邦电子有限公司 | 一种高屏蔽效能的极薄屏蔽膜及其制作方法 |
| JP6364285B2 (ja) * | 2014-09-02 | 2018-07-25 | 株式会社巴川製紙所 | 透明電極用フィルム |
-
1994
- 1994-04-28 JP JP09096094A patent/JP3532611B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07297591A (ja) | 1995-11-10 |
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