JP3524759B2 - 表示装置のドライバ回路 - Google Patents
表示装置のドライバ回路Info
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Description
quid Crystal Display、以下、「LCD」と称する。)
を駆動する走査信号側及び映像信号側ドライバ回路を構
成する薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以
下、「TFT」と称する。)を用いた表示装置のドライ
バ回路に関する。
のドライバ素子あるいは画素駆動素子として、非晶質シ
リコン膜にレーザ光を照射して多結晶シリコン膜とし、
それを能動層として用いたTFTの開発が進められてい
る。特にドライバ回路の各TFTは高い電子移動度が要
求されるため、従来の非晶質シリコンに比べ電子移動度
が高い多結晶シリコンをその能動層としている。
るTFTについて説明する。図4は従来のLCDのブロ
ック図を示し、図5は各ドライバ回路のTFTの配置と
照射するレーザとの関係を示す平面図である。図中の1
04及び107の枠は各TFTのチャネルの形状を示す
ものである。図5中、各ドライバ回路102,105の
TFTのチャネルは斜線の枠で示している。
00上に、走査信号を表示画素101を複数備えた表示
画素部108に供給する走査信号側ドライバ回路10
2、及び映像信号を表示画素部108に供給する映像信
号側ドライバ回路105からなっており、各ドライバ回
路は、それぞれLCDの表示画素部108の縦方向と横
方向に配置されている。即ち、互いに垂直に配置されて
いる。
シフトレジスタ103及びシフトレジスタからの信号を
表示画素108に供給するためのバッファーTFT10
4とから成り、シフトレジスタ103及びバッファーT
FT104のいずれもがTFTから成っている。また、
他方の映像信号側ドライバ回路105は、シフトレジス
タ106及びサンプリングTFT107とから成り、そ
れらはいずれもTFTから成っている。
から成っている。この多結晶シリコンは、基板上に形成
した非晶質シリコン膜に、レーザ光109、例えば50
0μmX150mmの棒状のエキシマレーザ光を送りピ
ッチ35μmでLCDパネルの左端から右に向かう方向
にスポット照射しながら走査させる(図5中矢印12方
向)ことにより形成することができる。
回路を構成する各TFT102,107のチャネル幅W
の方向は互いに異なっている。即ち、例えば図5に示す
ように一方の走査信号側ドライバ回路102において
は、チャネル幅W方向はレーザ光の矢印12で示す走査
方向と同じであり、他方の映像信号側ドライバ回路10
5においては、チャネル幅W方向はレーザの走査方向
(矢印12)と垂直になっている。
μm、チャネル長Lが7μm、レーザの送りピッチが3
5μmの場合には、走査信号側ドライバ回路においては
8乃至9回照射されることになり、映像信号側ドライバ
回路においては1回のみの照射が行われることになる。
従って、照射した各スポットのレーザ光の照射エネルギ
ーにばらつきがあると、照射によって形成される多結晶
シリコンの結晶粒径がばらついてしまう。そうするとT
FTの特性、例えば電子移動度がばらついてしまうこと
になる。
TFTから表示画素部に供給される映像信号が表示画素
部への各信号線毎に不均一となり、表示にムラが発生し
てしまうという欠点があった。そこで本発明は、上記の
従来の欠点に鑑みて為されたものであり、各ドライバ回
路のTFTのチャネルにレーザが複数回照射されるよう
に走査信号側と映像信号側ドライバ回路のTFTのチャ
ネル幅方向をレーザの走査方向に揃えて均一な表示を得
ることのできる表示装置のドライバ回路を提供すること
を目的とする。
示画素に供給する走査信号側ドライバ回路のバッファー
薄膜トランジスタと、映像信号を表示画素に供給する映
像信号側ドライバ回路のサンプリング薄膜トランジスタ
とのチャネル幅方向が一致している。また、走査信号を
表示画素に供給する走査信号側ドライバ回路のバッファ
ー薄膜トランジスタと、映像信号を表示画素に供給する
映像信号側ドライバ回路のサンプリング薄膜トランジス
タとのチャネル幅方向が、前記各薄膜トランジスタの能
動層に照射するレーザ光の走査方向に一致している。
ライバ回路の延在方向に一致し、前記表示画素から遠ざ
かる方向に並列配置された複数の前記サンプリング薄膜
トランジスタを1単位とし、該1単位が前記映像信号側
ドライバ回路の延在方向に複数配置されている。更にま
た、チャネル幅方向を前記走査信号側ドライバ回路の延
在方向に一致し、前記表示画素から遠ざかる方向に並列
配置された複数の前記バッファー薄膜トランジスタを1
単位とし、該1単位が前記走査信号側ドライバ回路の延
在方向に複数配置されている。
信号側シフトレジスタを構成する薄膜トランジスタのチ
ャネル幅方向が、該薄膜トランジスタの能動層に照射す
るレーザ光の走査方向に一致している。
バ回路について図に従って説明する。図1に本発明の実
施の形態を示すLCDのドライバ回路の一部平面図を示
し、図2に図1に示されたTFT中、1つのTFTの斜
視図を示す。なお、図1中において、各ドライバ回路の
TFTのチャネル領域は斜線で示す領域であり、チャネ
ル幅はWで示し、チャネル長はLで示している。
路102は、LCDパネル100の表示画素部108の
左側に図中上下方向に延在し、シフトレジスタ103及
びバッファーTFT104から成っている。バッファー
TFT104はインバータ回路構成を有しており、シフ
トレジスタ103からの信号がバッファーTFTのゲー
ト電極に接続されており、シフトレジスタの電源に接続
され電圧VDDとグランドに接地された電圧GNDとの
選択により表示画素部108にゲート信号を供給する。
Dパネル100の表示画素部108の図中下方に左側か
ら右方向に延在し、シフトレジスタ106及び映像信号
側サンプリングTFT107から成っている。それらは
いずれもTFTから成っている。サンプリングTFT1
07はシフトレジスタ106からの信号がそのゲート電
極に入力され、映像信号(例えばR,G,B)がドレイ
ンに供給され、そしてチャネルを介して表示画素部10
8に映像信号が供給される。
バッファーTFT104のチャネル幅W方向は、照射す
るレーザの走査方向12と同じ方向を向いて配置されて
いる。即ち、図1に示すようにレーザの走査方向12が
例えば左端から右に向かう方向である場合には、各TF
T104,107のチャネル幅Wは左右方向に延在する
ように配置されている。また、映像信号側ドライバ回路
105のサンプリングTFT107のチャネル幅W方向
は走査信号線側バッファーTFT104のチャネル幅W
方向と同じ方向になるように配置されている。
ガラス等からなる絶縁性基板1上に、Cr、Moなどの
高融点金属からなるゲート電極2、SiN膜及びSiO
2膜から成るゲート絶縁膜3を順に形成する。そしてそ
の上に能動層4となる非晶質シリコンを堆積する。その
非晶質シリコン膜にエキシマレーザを照射して多結晶シ
リコン膜に改質する。
ャネル7と、そのチャネル7の両側にイオン注入されて
形成されたソース5及びドレイン6とが設けられてい
る。チャネル7の上には、ソース5及びドレイン6を形
成のためのイオン注入時にチャネル7にイオンが入らな
いようにチャネル7を覆うマスクとして機能するSiO
2膜から成るストッパ8が設けられる。
トッパ6上の全面に、SiO2膜、SiN膜及びSiO
2膜の順に積層された層間膜9を形成する。またソース
5及びドレイン6に対応してその層間膜9に設けたコン
タクトホールにAl等の金属を充填してそれぞれソース
電極10及びドレイン電極11を形成する。ここで、非
晶質シリコン膜にレーザを照射して多結晶シリコン膜に
する方法について説明する。
FT及び映像信号側サンプリングTFTの能動層へのレ
ーザの照射方法を示す。能動層4である非晶質シリコン
膜は、ガラス基板1上にゲート電極2を形成し、その上
にゲート絶縁膜3を形成した後に形成する。その非晶質
シリコン膜にエキシマレーザ13を照射して多結晶化す
る。
で示すように、ゲート電極2の延在方向、即ちチャネル
幅W方向に繰り返し例えば35μmのピッチでスポット
照射を行い順に走査していき、非晶質シリコンを多結晶
化していく。例えば、エキシマレーザのチャネル幅W方
向の幅が40μmで、TFTのチャネル幅Wが300μ
mである場合には、チャネルへのレーザ照射は8乃至9
回行われることになる。
ッファーTFT104とサンプリングTFT107とで
同一方向とすることにより、レーザ光106が各TFT
とも非晶質シリコン膜に複数回ずつ照射されるので、そ
の複数回行うレーザ照射のエネルギーにばらつきがあっ
ても1つのTFTにおいては特性の低下は生じないの
で、表示画素101への信号の伝達は他の各TFTと同
様に均一に行うことができる。
い均一な表示が得られることになる。なお、本実施の形
態においては、照射するレーザの走査方向が左端から右
に向かう方向である場合について示したが、レーザの走
査方向が上端から下方向である場合には、各ドライバ回
路のバッファーTFT104及びサンプリングTFT1
07のチャネル幅W方向は上下方向になるように配置さ
れている。
1に示すように、このサンプリングTFT107のチャ
ネル幅方向が映像信号側ドライバ回路の延在方向に一致
するようにし、表示画素から遠ざかる方向に3つを一定
間隔、例えばサンプリングTFT107にシフトレジス
タ106からの信号を供給する配線を配置できるだけの
間隔だけずらして並列に配置し、これを1単位として映
像信号側ドライバ回路105と並行に表示画素101の
数に応じて配置されている。即ち、映像信号線のドライ
バ回路側の表示画素数が720個の場合には24個が配
置されることになる。なお、1単位中のTFTの数及び
配置する単位の数はTFTのサイズ(チャネル幅、チャ
ネル長等)により決定されるものである。
イバ回路のサンプリングTFTの場合について説明した
が、走査信号側ドライバのバッファーTFTに適用する
ことも可能である。このような配置にすることにより、
シフトレジスタからの信号線やサンプリングTFTから
表示画素への信号配線のスペースを確保できるととも
に、十分なチャネル幅を得ることができるため映像信号
を表示画素に供給するのに十分に大きな電流が得られる
サンプリングTFTを得ることができる。
側のバッファーTFTと映像信号側のサンプリングTF
Tとのチャネル幅W方向がレーザの走査方向に一致して
いる場合について説明したが、本発明はそれに限定され
るものではなく、走査信号側及び映像信号側シフトレジ
スタのTFTのチャネル幅W方向がレーザの走査方向に
一致しているように配置した場合にも同様の効果が得ら
れるものである。
号側ドライバ回路のすべてのTFTのチャネル幅方向が
レーザ光の走査方向に一致していても同様の効果が得ら
れる。
ば、照射するレーザの照射エネルギーのばらつきに影響
されることなく特性の均一なドライバ回路のTFTを得
ることができるので、各TFTから均一に信号が表示画
素部に供給できることになりムラのない表示を得ること
ができる。
路のブロック図である。
る。
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 絶縁性を有する基板上に、表示画素を有
する表示画素部と、前記表示画素部の縁に沿ってそれぞ
れ延在して配置された、走査信号を走査信号線を介して
表示画素に供給する走査信号側ドライバ回路、及び映像
信号を映像信号線を介して表示画素に供給する映像信号
側ドライバ回路を有するドライバ回路部と、を備えた表
示装置のドライバ回路であって、 前記 走査信号側ドライバ回路のバッファー薄膜トランジ
スタと、前記映像信号側ドライバ回路のサンプリング薄
膜トランジスタとのチャネル幅方向が、製造工程におい
て前記各薄膜トランジスタの能動層に照射されるレーザ
光の走査方向に一致しているとともに、チャネル幅方向
が前記映像信号側ドライバ回路の延在方向に一致してお
り、前記サンプリング薄膜トランジスタが複数の前記映
像信号線毎に1単位をなし、該1単位中の前記各サンプ
リング薄膜トランジスタが前記表示画素から遠ざかる方
向に順にずらして並列配置されているとともに、前記1
単位が前記映像信号側ドライバ回路の延在方向に複数配
置されていることを特徴とする表示装置のドライバ回
路。 - 【請求項2】 絶縁性を有する基板上に、表示画素を有
する表示画素部と、前記表示画素部の縁に沿ってそれぞ
れ延在して配置された、走査信号を走査信号線を介して
表示画素に供給する走査信号側ドライバ回路、及び映像
信号を映像信号線を介して表示画素に供給する映像信号
側ドライバ回路を有するドライバ回路部と、を備えた表
示装置のドライバ回路であって、 前記 走査信号側ドライバ回路のバッファー薄膜トランジ
スタと、前記映像信号側ドライバ回路のサンプリング薄
膜トランジスタとのチャネル幅方向が、製造工程におい
て前記各薄膜トランジスタの能動層に照射されるレーザ
光の走査方向に一致しているとともに、チャネル幅方向
が前記走査信号側ドライバ回路の延在方向に一致してお
り、前記バッファー薄膜トランジスタが複数の前記走査
信号線毎に1単位をなし、該1単位中の前記各バッファ
ー薄膜トランジスタが前記表示画素から遠ざかる方向に
順にずらして並列配置されているとともに、前記1単位
が前記走査信号側ドライバ回路の延在方向に複数配置さ
れていることを特徴とする表示装置のドライバ回路。
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