JP3517965B2 - 有機硫黄化合物含有重合性組成物 - Google Patents
有機硫黄化合物含有重合性組成物Info
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- JP3517965B2 JP3517965B2 JP18145694A JP18145694A JP3517965B2 JP 3517965 B2 JP3517965 B2 JP 3517965B2 JP 18145694 A JP18145694 A JP 18145694A JP 18145694 A JP18145694 A JP 18145694A JP 3517965 B2 JP3517965 B2 JP 3517965B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、有機硫黄化合物を含有
してなる重合性組成物に関する。詳しくは光学材料とし
て有用な樹脂を与える有機硫黄化合物を含有してなる重
合性組成物に関するものである。
してなる重合性組成物に関する。詳しくは光学材料とし
て有用な樹脂を与える有機硫黄化合物を含有してなる重
合性組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、広く用いられている光学材料とし
ては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを
注型重合させた樹脂がある。しかし、この樹脂は屈折率
（ＮD）が１．５０であり、無機レンズに比べて小さ
く、無機レンズと同等の光学特性を得るためにはレンズ
の中心厚、コバ厚及び曲率を大きくする必要があり、全
体的に肉厚になることが避けられない。そこで樹脂の高
屈折率化を計る手段として樹脂の分子構造、即ち単量体
の分子構造にフッ素以外のハロゲン原子、芳香環及びイ
オウ原子を導入することが検討されている（特開昭６１
−８６７０１号公報、同６３−４５０８１号公報、同６
３−１３０６１４号公報）。
ては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを
注型重合させた樹脂がある。しかし、この樹脂は屈折率
（ＮD）が１．５０であり、無機レンズに比べて小さ
く、無機レンズと同等の光学特性を得るためにはレンズ
の中心厚、コバ厚及び曲率を大きくする必要があり、全
体的に肉厚になることが避けられない。そこで樹脂の高
屈折率化を計る手段として樹脂の分子構造、即ち単量体
の分子構造にフッ素以外のハロゲン原子、芳香環及びイ
オウ原子を導入することが検討されている（特開昭６１
−８６７０１号公報、同６３−４５０８１号公報、同６
３−１３０６１４号公報）。
【０００３】上記の単量体から得られる樹脂は、従来の
レンズ材料と比較すると屈折率はかなり高くなっている
ものの、比重、透明性、耐候性等の点でバランスのとれ
た材料ではなく、レンズ材料としては必ずしも満足でき
るものではなかった。
レンズ材料と比較すると屈折率はかなり高くなっている
ものの、比重、透明性、耐候性等の点でバランスのとれ
た材料ではなく、レンズ材料としては必ずしも満足でき
るものではなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記課題を
達成し、高屈折率でかつ、比重が小さく、透明性、耐熱
性等に優れた樹脂を与える重合性組成物を得ようとする
ものである。
達成し、高屈折率でかつ、比重が小さく、透明性、耐熱
性等に優れた樹脂を与える重合性組成物を得ようとする
ものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
［Ｉ］で示される新規な有機硫黄化合物を含有してなる
重合性組成物を提供するものである。
［Ｉ］で示される新規な有機硫黄化合物を含有してなる
重合性組成物を提供するものである。
【０００６】
【化２】
【０００７】一般式［Ｉ］で示される有機硫黄化合物に
必須の中心骨格であるトリシクロデカン環は、高アッベ
数で高屈折率かつ低比重発現に重要な基であり、また得
られる樹脂の耐熱性と靱性を共に高める効果を有する。
本発明における有機硫黄化合物を含有してなる重合性組
成物より得られる樹脂は、高い屈折率と高いアッベ数を
有し、かつ比重が低く、光学透明性、耐熱性、耐衝撃性
に優れており、メガネレンズとして最適であり、更には
カメラレンズ、光学用素子、高屈折率樹脂板等の光学分
野においても有用である。
必須の中心骨格であるトリシクロデカン環は、高アッベ
数で高屈折率かつ低比重発現に重要な基であり、また得
られる樹脂の耐熱性と靱性を共に高める効果を有する。
本発明における有機硫黄化合物を含有してなる重合性組
成物より得られる樹脂は、高い屈折率と高いアッベ数を
有し、かつ比重が低く、光学透明性、耐熱性、耐衝撃性
に優れており、メガネレンズとして最適であり、更には
カメラレンズ、光学用素子、高屈折率樹脂板等の光学分
野においても有用である。
【０００８】一般式［Ｉ］において、トリシクロデカン
環を有する主鎖のビニル基およびイソプロペニル基に対
する置換位置は、ｍ又はｐ位が好ましい。また後述する
入手可能な原料の関係から、トリシクロデカン環を有す
る主鎖のビニル基およびイソプロペニル基に対する置換
様式は左右同一であるとは限らない。しかし、この場合
もｍ位およびｐ位の組み合わせが好ましい。ベンゼン環
のＸ1 ，Ｘ2 ，Ｘ3 ，Ｘ4 の置換基は水素原子または臭
素原子が好ましく、置換基数は２以下が好ましい。置換
位置は、１置換の場合、ビニルベンジルチオ基またはイ
ソプロペニルベンジルチオ基がｐ体のときはビニル基ま
たはイソプロペニル基に対してｍ位が好ましい。ビニル
ベンジルチオ基またはイソプロペニルベンジルチオ基が
ｍ体のときはビニル基またはイソプロペニル基に対して
ｐ位が好ましい。２置換の場合、ビニルベンジルチオ基
またはイソプロペニルベンジルチオ基がｐ体のときはビ
ニル基またはイソプロペニル基に対してｍ，ｍ位、ビニ
ルベンジルチオ基またはイソプロペニルベンジルチオ基
がｍ体のときはビニル基またはイソプロペニル基に対し
てｍ，ｐ位が好ましい。
環を有する主鎖のビニル基およびイソプロペニル基に対
する置換位置は、ｍ又はｐ位が好ましい。また後述する
入手可能な原料の関係から、トリシクロデカン環を有す
る主鎖のビニル基およびイソプロペニル基に対する置換
様式は左右同一であるとは限らない。しかし、この場合
もｍ位およびｐ位の組み合わせが好ましい。ベンゼン環
のＸ1 ，Ｘ2 ，Ｘ3 ，Ｘ4 の置換基は水素原子または臭
素原子が好ましく、置換基数は２以下が好ましい。置換
位置は、１置換の場合、ビニルベンジルチオ基またはイ
ソプロペニルベンジルチオ基がｐ体のときはビニル基ま
たはイソプロペニル基に対してｍ位が好ましい。ビニル
ベンジルチオ基またはイソプロペニルベンジルチオ基が
ｍ体のときはビニル基またはイソプロペニル基に対して
ｐ位が好ましい。２置換の場合、ビニルベンジルチオ基
またはイソプロペニルベンジルチオ基がｐ体のときはビ
ニル基またはイソプロペニル基に対してｍ，ｍ位、ビニ
ルベンジルチオ基またはイソプロペニルベンジルチオ基
がｍ体のときはビニル基またはイソプロペニル基に対し
てｍ，ｐ位が好ましい。
【０００９】一般式［Ｉ］で示される化合物を具体的に
列挙すると、下式で示した例示化合物（１）〜（１０）
等を好ましく挙げることができ、使用に際しては単独も
しくは混合物として用いることができる。
列挙すると、下式で示した例示化合物（１）〜（１０）
等を好ましく挙げることができ、使用に際しては単独も
しくは混合物として用いることができる。
【００１０】
【化３】
【００１１】
【化４】
【００１２】一般式［Ｉ］で示される化合物は、合目的
な任意の方法で合成することができ、例えば下記反応式
（Ａ）〜（Ｄ）に従って合成される。
な任意の方法で合成することができ、例えば下記反応式
（Ａ）〜（Ｄ）に従って合成される。
【００１３】
【化５】
【００１４】
【化６】
（ＸはＣｌ、Ｂｒまたは−ＳＯ2Ｒ″、但しＲ″はメチ
ル基、フェニル基またはトリル基を示す。Ｘ1 ，Ｘ2 ，
Ｘ3 ，Ｘ4 ，Ｒ，Ｒ′は前記と同じ）
ル基、フェニル基またはトリル基を示す。Ｘ1 ，Ｘ2 ，
Ｘ3 ，Ｘ4 ，Ｒ，Ｒ′は前記と同じ）
【００１５】反応（Ａ）はトリシクロデカンジメチロー
ル類（イ）（ヘキスト社製、ＴＣＤＡｌｃｏｈｏｌ Ｄ
Ｍ）を用いてハロゲン化剤またはスルホニル化剤により
化合物（ロ）を合成する反応である。トリシクロデカン
ジメチロール類は、ジシクロペンタジエンまたはその低
級アルキル置換体のオキソ反応によって得られるもので
あり、具体的には３，７−ビス（ヒドロキシメチル）ト
リシクロ〔５．２．１．０2,6 〕デカン、３，８−ビス
（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．
０2,6 〕デカン、３，９−ビス（ヒドロキシメチル）ト
リシクロ〔５．２．１．０2,6 〕デカン、４，７−ビス
（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．
０2,6 〕デカン、４，８−ビス（ヒドロキシメチル）ト
リシクロ〔５．２．１．０2,6 〕デカン、４，９−ビス
（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．
０2,6 〕デカンの混合物である。
ル類（イ）（ヘキスト社製、ＴＣＤＡｌｃｏｈｏｌ Ｄ
Ｍ）を用いてハロゲン化剤またはスルホニル化剤により
化合物（ロ）を合成する反応である。トリシクロデカン
ジメチロール類は、ジシクロペンタジエンまたはその低
級アルキル置換体のオキソ反応によって得られるもので
あり、具体的には３，７−ビス（ヒドロキシメチル）ト
リシクロ〔５．２．１．０2,6 〕デカン、３，８−ビス
（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．
０2,6 〕デカン、３，９−ビス（ヒドロキシメチル）ト
リシクロ〔５．２．１．０2,6 〕デカン、４，７−ビス
（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．
０2,6 〕デカン、４，８−ビス（ヒドロキシメチル）ト
リシクロ〔５．２．１．０2,6 〕デカン、４，９−ビス
（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．
０2,6 〕デカンの混合物である。
【００１６】ハロゲン化剤としては塩化チオニル、塩化
リン、トリフェニルホスフィン−四塩化炭素、トリフェ
ニルホスフィン−ヘキサクロロアセトン、塩化メタンス
ルホニル−塩化リチウム、トリフェニルホスフィン−塩
素等のクロル化剤、臭化チオニル、臭化リン、塩化トシ
ル−臭化リチウム等のブロム化剤が挙げられ、スルホニ
ル化剤としては塩化トシル、塩化ベンゼンスルホニル、
塩化メタンスルホニル等が挙げられる。ハロゲン化剤の
使用量はビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．
２．１．０2,6 〕デカン１モルに対し、２．０〜４．０
モル、好ましくは２．２〜３．２モルである。スルホニ
ル化剤の使用量はビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ
〔５．２．１．０2,6 〕デカン１モルに対し、２．０〜
４．０モル、好ましくは２．１〜３．０モルである。本
反応はアミン存在下で行なうのが好ましく、アミンとし
ては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．
２〕−オクタン、キノリン等の三級アミン類が好まし
い。アミンの使用量はビス（ヒドロキシメチル）トリシ
クロ〔５．２．１．０2, 6 〕デカン１モルに対し２．０
〜４．０モル、好ましくは２．２〜３．２モルである。
リン、トリフェニルホスフィン−四塩化炭素、トリフェ
ニルホスフィン−ヘキサクロロアセトン、塩化メタンス
ルホニル−塩化リチウム、トリフェニルホスフィン−塩
素等のクロル化剤、臭化チオニル、臭化リン、塩化トシ
ル−臭化リチウム等のブロム化剤が挙げられ、スルホニ
ル化剤としては塩化トシル、塩化ベンゼンスルホニル、
塩化メタンスルホニル等が挙げられる。ハロゲン化剤の
使用量はビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．
２．１．０2,6 〕デカン１モルに対し、２．０〜４．０
モル、好ましくは２．２〜３．２モルである。スルホニ
ル化剤の使用量はビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ
〔５．２．１．０2,6 〕デカン１モルに対し、２．０〜
４．０モル、好ましくは２．１〜３．０モルである。本
反応はアミン存在下で行なうのが好ましく、アミンとし
ては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．
２〕−オクタン、キノリン等の三級アミン類が好まし
い。アミンの使用量はビス（ヒドロキシメチル）トリシ
クロ〔５．２．１．０2, 6 〕デカン１モルに対し２．０
〜４．０モル、好ましくは２．２〜３．２モルである。
【００１７】本反応に用いられる溶媒としては、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロ
ロエタン等のハロゲン化水素類、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘ
キサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類、ジメチルスルホキシド等が挙げられる
が、三級アミン類を溶媒として用いることもできる。反
応温度は−２０〜１２０℃、好ましくは−１０〜１００
℃であり、反応は通常１〜４０時間で終了する。このよ
うにして得た化合物（ロ）は溶媒抽出、クロマトグラフ
ィー、蒸留等の通常の精製手段を使って高純度に単離す
ることができる。
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロ
ロエタン等のハロゲン化水素類、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘ
キサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化
水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン類、ジメチルスルホキシド等が挙げられる
が、三級アミン類を溶媒として用いることもできる。反
応温度は−２０〜１２０℃、好ましくは−１０〜１００
℃であり、反応は通常１〜４０時間で終了する。このよ
うにして得た化合物（ロ）は溶媒抽出、クロマトグラフ
ィー、蒸留等の通常の精製手段を使って高純度に単離す
ることができる。
【００１８】反応（Ｂ）は、化合物（ハ）からチオ尿素
を用いて溶媒存在下、化合物（ニ）を合成する反応であ
り、化合物（ハ）としては、ｐ−クロロメチルスチレ
ン、ｍ−クロロメチルスチレン、１−イソプロペニル−
４−クロロメチルベンゼン、１−イソプロペニル−３−
クロロメチルベンゼンが挙げられ、試薬としてｐ体、ｍ
およびｐ体の混合物が入手可能である（例えばクロロメ
チルスチレンとして、セイミケミカル社製、ＣＭＳ−１
４（ｐ体、純度９５％）、ＣＭＳ−Ｐ（ｍ体６０％、ｐ
体４０％、純度９５％）。
を用いて溶媒存在下、化合物（ニ）を合成する反応であ
り、化合物（ハ）としては、ｐ−クロロメチルスチレ
ン、ｍ−クロロメチルスチレン、１−イソプロペニル−
４−クロロメチルベンゼン、１−イソプロペニル−３−
クロロメチルベンゼンが挙げられ、試薬としてｐ体、ｍ
およびｐ体の混合物が入手可能である（例えばクロロメ
チルスチレンとして、セイミケミカル社製、ＣＭＳ−１
４（ｐ体、純度９５％）、ＣＭＳ−Ｐ（ｍ体６０％、ｐ
体４０％、純度９５％）。
【００１９】チオ尿素の使用量は化合物（ハ）１モルに
対し、１．０〜２．０モル、好ましくは、１．０〜１．
３モルである。本反応に用いられる溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノ
ール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル、トリエチレングリコール等のアルコール類、水また
は両者の混合物が好ましい。反応温度は５０〜１３０
℃、好ましくは６０〜１２０℃であり、５０℃未満では
反応は極めて遅く、また、１３０℃を超えると副生物が
著しく増加する。反応は通常１〜２０時間で終了する。
反応終了後は、反応混合溶液のまま、または溶媒を留去
後、次の反応（Ｃ）に用いることができる。
対し、１．０〜２．０モル、好ましくは、１．０〜１．
３モルである。本反応に用いられる溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノ
ール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノー
ル、トリエチレングリコール等のアルコール類、水また
は両者の混合物が好ましい。反応温度は５０〜１３０
℃、好ましくは６０〜１２０℃であり、５０℃未満では
反応は極めて遅く、また、１３０℃を超えると副生物が
著しく増加する。反応は通常１〜２０時間で終了する。
反応終了後は、反応混合溶液のまま、または溶媒を留去
後、次の反応（Ｃ）に用いることができる。
【００２０】反応（Ｃ）は、化合物（ニ）をアルカリで
加水分解後、酸で中和するか、またはアミンで分解する
ことにより化合物（ホ）を得る反応である。前反応で溶
媒を留去した場合は新たに溶媒を加える。そのときに用
いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、１−
プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２
−ブタノール、ｔ−ブタノール、トリエチレングリコー
ル等のアルコール類、水または両者の混合物が好まし
い。
加水分解後、酸で中和するか、またはアミンで分解する
ことにより化合物（ホ）を得る反応である。前反応で溶
媒を留去した場合は新たに溶媒を加える。そのときに用
いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、１−
プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２
−ブタノール、ｔ−ブタノール、トリエチレングリコー
ル等のアルコール類、水または両者の混合物が好まし
い。
【００２１】アルカリとしてはアルカリ金属の水酸化
物、酸化物、およびアルコキシドが好ましく、中でも、
反応性も高く、安価である水酸化ナトリウムあるいは水
酸化カリウムがより好ましく挙げられる。アルカリの使
用量は化合物（ハ）１モルに対し、１．０〜２．０モ
ル、好ましくは１．０〜１．３モルであり、反応温度は
５０〜１３０℃、好ましくは６０〜１２０℃である。加
水分解反応は通常１〜２０時間で終了し、反応終了後、
酸を加えて中和（ｐＨ＝３〜８、好ましくはｐＨ＝４〜
８）することにより、化合物（ホ）が生成する。用いる
酸としては、塩酸、硫酸等の鉱酸、ギ酸等の有機カルボ
ン酸が好ましく挙げられる。
物、酸化物、およびアルコキシドが好ましく、中でも、
反応性も高く、安価である水酸化ナトリウムあるいは水
酸化カリウムがより好ましく挙げられる。アルカリの使
用量は化合物（ハ）１モルに対し、１．０〜２．０モ
ル、好ましくは１．０〜１．３モルであり、反応温度は
５０〜１３０℃、好ましくは６０〜１２０℃である。加
水分解反応は通常１〜２０時間で終了し、反応終了後、
酸を加えて中和（ｐＨ＝３〜８、好ましくはｐＨ＝４〜
８）することにより、化合物（ホ）が生成する。用いる
酸としては、塩酸、硫酸等の鉱酸、ギ酸等の有機カルボ
ン酸が好ましく挙げられる。
【００２２】一方、アミンで分解することにより化合物
（ホ）を得る場合、アミンとしては、テトラエチレンペ
ンタミン等の二級アミンが好ましく、その使用量は、化
合物（ハ）１モルに対し、二級アミンを１．０〜５．０
モル、好ましくは１．０〜３．０モルであり、反応温度
は５０〜１３０℃、好ましくは６０〜１２０℃である。
上記のようにして得られた化合物（ホ）は溶媒抽出、ク
ロマトグラフィー、蒸留等の通常の精製手段を使って単
離し、次の反応（Ｄ）に用いることができる。反応
（Ｄ）は塩基性条件下で置換メルカプトメチルスチレン
または置換イソプロペニルメルカプトメチルベンゼン
（ホ）と化合物（ロ）との反応により、一般式［Ｉ］で
示される化合物を合成する反応である。
（ホ）を得る場合、アミンとしては、テトラエチレンペ
ンタミン等の二級アミンが好ましく、その使用量は、化
合物（ハ）１モルに対し、二級アミンを１．０〜５．０
モル、好ましくは１．０〜３．０モルであり、反応温度
は５０〜１３０℃、好ましくは６０〜１２０℃である。
上記のようにして得られた化合物（ホ）は溶媒抽出、ク
ロマトグラフィー、蒸留等の通常の精製手段を使って単
離し、次の反応（Ｄ）に用いることができる。反応
（Ｄ）は塩基性条件下で置換メルカプトメチルスチレン
または置換イソプロペニルメルカプトメチルベンゼン
（ホ）と化合物（ロ）との反応により、一般式［Ｉ］で
示される化合物を合成する反応である。
【００２３】置換メルカプトメチルスチレンまたは置換
イソプロペニルメルカプトメチルベンゼン（ホ）の使用
量は化合物（ロ）１モルに対し、２．０〜３．０モル、
好ましくは２．０〜２．２モルである。本反応に用いる
塩基としては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ
〔２．２．２〕オクタン、キノリン等の三級アミン類、
アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、
酸化物、水素化物、水素化ほう素塩、炭酸水素塩が好ま
しく、反応性も高く安価である水酸化ナトリウムあるい
は水酸化カリウムがより好ましく挙げられる。塩基の使
用量は化合物（ロ）１モルに対し、２．０〜６．０モ
ル、好ましくは２．０〜４．０モルである。本反応に用
いる溶媒としてはメタノール、エタノール、１−プロパ
ノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタ
ノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ｎ−ペンタ
ン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、水または水と上記の
各種溶媒との混合物が好ましく、不均一溶媒を用いる場
合には、相間移動触媒を用いるのが好ましく、その使用
量は用いられる触媒により異なるが、通常、化合物
（ロ）１モルに対し、０．０１〜０．５モル、好ましく
は０．０１〜０．１モルである。相間移動触媒としては
臭化セチルトリメチルアンモニウム、臭化テトラブチル
アンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、塩化ベ
ンジルトリエチルアンモニウム等のアンモニウム塩類、
塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム、臭化ヘキサデ
シルトリブチルホスホニウム等のホスホニウム塩類が好
ましい。なお、アルコール類を溶媒として用いた場合
は、相間移動触媒を用いないで反応を行なうこともでき
る。反応温度は−１０〜１２０℃、好ましくは１０〜１
００℃である。置換反応は通常１〜４０時間で終了す
る。上記のようにして得られた一般式［Ｉ］で示される
化合物は溶媒抽出、クロマトグラフィー、再結晶等の通
常の精製手段を用いて同一分子式で示される異性体混合
物として高純度に単離することができる。
イソプロペニルメルカプトメチルベンゼン（ホ）の使用
量は化合物（ロ）１モルに対し、２．０〜３．０モル、
好ましくは２．０〜２．２モルである。本反応に用いる
塩基としては、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ
〔２．２．２〕オクタン、キノリン等の三級アミン類、
アルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、
酸化物、水素化物、水素化ほう素塩、炭酸水素塩が好ま
しく、反応性も高く安価である水酸化ナトリウムあるい
は水酸化カリウムがより好ましく挙げられる。塩基の使
用量は化合物（ロ）１モルに対し、２．０〜６．０モ
ル、好ましくは２．０〜４．０モルである。本反応に用
いる溶媒としてはメタノール、エタノール、１−プロパ
ノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタ
ノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ｎ−ペンタ
ン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン等のケトン類、水または水と上記の
各種溶媒との混合物が好ましく、不均一溶媒を用いる場
合には、相間移動触媒を用いるのが好ましく、その使用
量は用いられる触媒により異なるが、通常、化合物
（ロ）１モルに対し、０．０１〜０．５モル、好ましく
は０．０１〜０．１モルである。相間移動触媒としては
臭化セチルトリメチルアンモニウム、臭化テトラブチル
アンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、塩化ベ
ンジルトリエチルアンモニウム等のアンモニウム塩類、
塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム、臭化ヘキサデ
シルトリブチルホスホニウム等のホスホニウム塩類が好
ましい。なお、アルコール類を溶媒として用いた場合
は、相間移動触媒を用いないで反応を行なうこともでき
る。反応温度は−１０〜１２０℃、好ましくは１０〜１
００℃である。置換反応は通常１〜４０時間で終了す
る。上記のようにして得られた一般式［Ｉ］で示される
化合物は溶媒抽出、クロマトグラフィー、再結晶等の通
常の精製手段を用いて同一分子式で示される異性体混合
物として高純度に単離することができる。
【００２４】前記一般式［Ｉ］で示される化合物の構造
は、赤外吸収スペクトル（ＩＲ）、 1Ｈ−核磁気共鳴ス
ペクトル（ 1Ｈ−ＮＭＲ）、13Ｃ−核磁気共鳴スペクト
ル（ 13Ｃ−ＮＭＲ）、質量分析等の手段によって確認す
ることができる。本発明の重合性組成物は、前記一般式
［Ｉ］で示される化合物の異性体混合物を含んでなるも
のであり、光学材料、とりわけレンズ材料を得る際、異
性体混合物として単独またはラジカル共重合可能な多官
能性不飽和単量体、単官能性不飽和単量体、あるいは
（および）ポリチオールと混合し重合硬化させることが
好ましい。これらの単量体は一種又は二種以上を混合し
て使用できる。その単量体の組成比は前記一般式［Ｉ］
で示される有機硫黄化合物が全単量体中に占める割合が
１０〜１００重量％、特に４０〜１００重量％の範囲で
使用するのが好ましい。１０％以下で使用しても本発明
による効果、すなわち高屈折率性、あるいは高耐熱性が
期待できない。
は、赤外吸収スペクトル（ＩＲ）、 1Ｈ−核磁気共鳴ス
ペクトル（ 1Ｈ−ＮＭＲ）、13Ｃ−核磁気共鳴スペクト
ル（ 13Ｃ−ＮＭＲ）、質量分析等の手段によって確認す
ることができる。本発明の重合性組成物は、前記一般式
［Ｉ］で示される化合物の異性体混合物を含んでなるも
のであり、光学材料、とりわけレンズ材料を得る際、異
性体混合物として単独またはラジカル共重合可能な多官
能性不飽和単量体、単官能性不飽和単量体、あるいは
（および）ポリチオールと混合し重合硬化させることが
好ましい。これらの単量体は一種又は二種以上を混合し
て使用できる。その単量体の組成比は前記一般式［Ｉ］
で示される有機硫黄化合物が全単量体中に占める割合が
１０〜１００重量％、特に４０〜１００重量％の範囲で
使用するのが好ましい。１０％以下で使用しても本発明
による効果、すなわち高屈折率性、あるいは高耐熱性が
期待できない。
【００２５】前記単官能性不飽和単量体の代表例とし
て、例えばビニル化合物、具体的にはスチレン、ビニル
トルエン、メトキシスチレン、クロロスチレン、ブロモ
スチレン、ジクロロスチレン、ジブロモスチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルナフタレン等、および（メタ）ア
クリレート化合物、具体的にはフェニル（メタ）アクリ
レート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキ
シフェニル）プロパン、そのハロゲン誘導体、２，２−
ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキ
シ）フェニル）プロパン、ｐ−ビス（β−（メタ）アク
リロイルオキシエチルチオ）キシリレン、ｍ−ビス（β
−（メタ）アクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン
等、がある。
て、例えばビニル化合物、具体的にはスチレン、ビニル
トルエン、メトキシスチレン、クロロスチレン、ブロモ
スチレン、ジクロロスチレン、ジブロモスチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルナフタレン等、および（メタ）ア
クリレート化合物、具体的にはフェニル（メタ）アクリ
レート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキ
シフェニル）プロパン、そのハロゲン誘導体、２，２−
ビス（４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキ
シ）フェニル）プロパン、ｐ−ビス（β−（メタ）アク
リロイルオキシエチルチオ）キシリレン、ｍ−ビス（β
−（メタ）アクリロイルオキシエチルチオ）キシリレン
等、がある。
【００２６】前記多官能性不飽和単量体の代表例とし
て、例えばビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ等のビ
スフェノール類のビスβ−メタリルカーボネート、ジア
クリレートまたはジメタクリレート；テトラクロロフタ
ル酸ビスヒドロキシエチルエステル、テトラクロロイソ
フタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、テトラクロロ
テレフタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、テトラブ
ロモフタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、もしくは
テトラブロモテレフタル酸ビスヒドロキシエチルエステ
ル等のビスβ−メタリルカーボネート、ジアクリレート
またはジメタクリレート；ジビニルベンゼン、２，５−
ジビニルピリジン等、がある。
て、例えばビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ等のビ
スフェノール類のビスβ−メタリルカーボネート、ジア
クリレートまたはジメタクリレート；テトラクロロフタ
ル酸ビスヒドロキシエチルエステル、テトラクロロイソ
フタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、テトラクロロ
テレフタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、テトラブ
ロモフタル酸ビスヒドロキシエチルエステル、もしくは
テトラブロモテレフタル酸ビスヒドロキシエチルエステ
ル等のビスβ−メタリルカーボネート、ジアクリレート
またはジメタクリレート；ジビニルベンゼン、２，５−
ジビニルピリジン等、がある。
【００２７】本発明の重合性組成物の重合硬化には、熱
による重合、活性エネルギー線による重合、および、こ
れらを併用する方法が採用され、このような励起作用を
印加することによって実施することができる。熱による
重合の場合は熱重合開始剤を、活性エネルギー線、例え
ば紫外線、の場合には光（紫外線）重合開始剤を使用す
ることが好ましい。
による重合、活性エネルギー線による重合、および、こ
れらを併用する方法が採用され、このような励起作用を
印加することによって実施することができる。熱による
重合の場合は熱重合開始剤を、活性エネルギー線、例え
ば紫外線、の場合には光（紫外線）重合開始剤を使用す
ることが好ましい。
【００２８】さらに具体的には、熱硬化の場合は、重合
性組成物に熱重合開始剤、例えば、好ましくはベンゾイ
ルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネ
ート、ラウロイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキ
シ（２−エチルヘキサノエート）、アゾイソブチロニト
リル等、を添加溶解し、加熱温度２０℃〜１５０℃、好
ましくは３０〜１３０℃、の範囲で１〜３０時間、好ま
しくは１０〜２０時間、重合硬化反応させることが好ま
しい。反応雰囲気は、大気中あるいは不活性ガス中の何
れでもよいが、操作上好ましくは大気中である。
性組成物に熱重合開始剤、例えば、好ましくはベンゾイ
ルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネ
ート、ラウロイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキ
シ（２−エチルヘキサノエート）、アゾイソブチロニト
リル等、を添加溶解し、加熱温度２０℃〜１５０℃、好
ましくは３０〜１３０℃、の範囲で１〜３０時間、好ま
しくは１０〜２０時間、重合硬化反応させることが好ま
しい。反応雰囲気は、大気中あるいは不活性ガス中の何
れでもよいが、操作上好ましくは大気中である。
【００２９】紫外線硬化の場合は、重合性組成物に光重
合開始剤、例えば、好ましくはベンゾフェノン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ジエトキシアセトフェノン、２，４，６−トリメチ
ルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド等、を添
加溶解し、大気中あるいは不活性ガス中で紫外線を照射
して重合硬化反応させる。照射光量は、組成物および光
重合開始剤の種類によって適宜選択されるが、０．０１
〜３００Ｊ／ｃｍ2 、特に２０〜１００Ｊ／ｃｍ 2 が好
ましい。光源としては、ケミカルランプ、キセノンラン
プ、低圧（高圧）水銀ランプ、メタルハライドランプ等
が使用される。紫外線以外の活性エネルギー線、たとえ
ば電子線等では光重合開始剤なしでも重合硬化が可能で
ある。
合開始剤、例えば、好ましくはベンゾフェノン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ジエトキシアセトフェノン、２，４，６−トリメチ
ルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド等、を添
加溶解し、大気中あるいは不活性ガス中で紫外線を照射
して重合硬化反応させる。照射光量は、組成物および光
重合開始剤の種類によって適宜選択されるが、０．０１
〜３００Ｊ／ｃｍ2 、特に２０〜１００Ｊ／ｃｍ 2 が好
ましい。光源としては、ケミカルランプ、キセノンラン
プ、低圧（高圧）水銀ランプ、メタルハライドランプ等
が使用される。紫外線以外の活性エネルギー線、たとえ
ば電子線等では光重合開始剤なしでも重合硬化が可能で
ある。
【００３０】光重合開始剤および熱重合開始剤の使用量
は、組成物の総重量に対して０．０１〜５％程度、好ま
しくは０．０３〜２％の範囲である。その量が少なすぎ
ると硬化が不充分となるし、多すぎると硬化樹脂が黄変
しやすいし、かつ重合制御が困難となる。本発明の重合
組成物においては、補助剤として、ラジカル重合促進
剤、重合調節剤、紫外線吸収剤、離型剤、酸化防止剤、
その他の添加剤を適宜配合することができる。これらの
添加剤は公知の市販品を使用することができるが、特に
酸化防止剤としてはリン系の酸化防止剤が好ましい。
は、組成物の総重量に対して０．０１〜５％程度、好ま
しくは０．０３〜２％の範囲である。その量が少なすぎ
ると硬化が不充分となるし、多すぎると硬化樹脂が黄変
しやすいし、かつ重合制御が困難となる。本発明の重合
組成物においては、補助剤として、ラジカル重合促進
剤、重合調節剤、紫外線吸収剤、離型剤、酸化防止剤、
その他の添加剤を適宜配合することができる。これらの
添加剤は公知の市販品を使用することができるが、特に
酸化防止剤としてはリン系の酸化防止剤が好ましい。
【００３１】前記の単量体組成物を用いて高屈折率樹脂
を得る重合方法は、特に限定的でなく、公知の注型重合
方法を採用できる。代表的な重合方法を例示すると、エ
ラストマーガスケットまたはスペーサーで保持されてい
るモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単量
体組成物を注入し、空気炉中で硬化させた後、取出せば
よい。重合を完結させるために、重合硬化物を、モール
ド内で、あるいはモールドから取り出してから、更なる
加熱および（または）活性エネルギー線の照射その他の
重合促進処理に付することもできる。
を得る重合方法は、特に限定的でなく、公知の注型重合
方法を採用できる。代表的な重合方法を例示すると、エ
ラストマーガスケットまたはスペーサーで保持されてい
るモールド間に、ラジカル重合開始剤を含む前記の単量
体組成物を注入し、空気炉中で硬化させた後、取出せば
よい。重合を完結させるために、重合硬化物を、モール
ド内で、あるいはモールドから取り出してから、更なる
加熱および（または）活性エネルギー線の照射その他の
重合促進処理に付することもできる。
【００３２】本発明の有機硫黄化合物を含有してなる組
成物は高屈折率で比重が小さく、透明性、靱性、耐熱
性、耐候性等に優れた樹脂を与える。
成物は高屈折率で比重が小さく、透明性、靱性、耐熱
性、耐候性等に優れた樹脂を与える。
【００３３】
【実施例】以下、本発明を具体的に説明するために、実
験例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。なお、実施例において得られた
有機硫黄化合物及び高屈折率樹脂は、下記の試験法によ
って諸物性を測定した。 （１）ＩＲスペクトル 日本分光（株）製Ａ−３型赤外分光光度計を用い、Ｎａ
Ｃｌ法により測定した。 （２） 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル バリアン社製ジェミニ３００（３００ＭＨｚ）を用い、
試料をＣＤＣｌ3 に希釈し、テトラメチルシランを内部
標準として測定した。 （３）13Ｃ−ＮＭＲスペクトル バリアン社製ジェミニ３００（７５ＭＨｚ）を用い、試
料をＣＤＣｌ3 に希釈し、ＣＤＣｌ3 の炭素のシフトを
７７．０ｐｐｍとして測定した。 （４）マススペクトル 日本電子（株）製ＪＭＳ Ｄ−３００を用いて測定し
た。 （５）屈折率・アッベ数 アタゴ（株）製アッベ屈折計２形を用いて、室温におけ
る屈折率及びアッベ数を測定した。接触液にはジヨード
メタンを使用した。なお、合成例３で得た有機硫黄化合
物については、接触液を用いずに液相のままで測定し
た。 （６）外観 目視により測定した。
験例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。なお、実施例において得られた
有機硫黄化合物及び高屈折率樹脂は、下記の試験法によ
って諸物性を測定した。 （１）ＩＲスペクトル 日本分光（株）製Ａ−３型赤外分光光度計を用い、Ｎａ
Ｃｌ法により測定した。 （２） 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル バリアン社製ジェミニ３００（３００ＭＨｚ）を用い、
試料をＣＤＣｌ3 に希釈し、テトラメチルシランを内部
標準として測定した。 （３）13Ｃ−ＮＭＲスペクトル バリアン社製ジェミニ３００（７５ＭＨｚ）を用い、試
料をＣＤＣｌ3 に希釈し、ＣＤＣｌ3 の炭素のシフトを
７７．０ｐｐｍとして測定した。 （４）マススペクトル 日本電子（株）製ＪＭＳ Ｄ−３００を用いて測定し
た。 （５）屈折率・アッベ数 アタゴ（株）製アッベ屈折計２形を用いて、室温におけ
る屈折率及びアッベ数を測定した。接触液にはジヨード
メタンを使用した。なお、合成例３で得た有機硫黄化合
物については、接触液を用いずに液相のままで測定し
た。 （６）外観 目視により測定した。
【００３４】合成例１
ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．０
2,6 〕デカンの異性体混合物１０３ｇ（０．５０モル）
とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン１７８ｇ（１．５モル）と
ジクロロメタン３００ｍｌをよく混合した溶液に、氷浴
中で２時間かけて塩化チオニル１８８ｇ（１．５モル）
を加え室温で１０分、５０℃で３時間撹拌した。これを
１Ｎ塩酸水溶液１リットルにそそぎよく振った後、有機
層を分取し、水層からはジクロロメタン５００ｍｌで抽
出し、先の有機層と合わせた溶液を１Ｎ塩酸水溶液１リ
ットル、蒸留水８００ｍｌ、２Ｎ炭酸ナトリウム水溶液
１リットル、蒸留水８００ｍｌで洗浄した。これを無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶媒：四塩化炭素）で精製し、ビ
ス（クロロメチル）トリシクロ〔５．２．１．０2,6 〕
デカンの異性体混合物９２ｇ（ビス（ヒドロキシメチ
ル）トリシクロ〔５．２．１．０2,6 〕デカンから収率
７８％）を得た。
2,6 〕デカンの異性体混合物１０３ｇ（０．５０モル）
とＮ，Ｎ−ジメチルアニリン１７８ｇ（１．５モル）と
ジクロロメタン３００ｍｌをよく混合した溶液に、氷浴
中で２時間かけて塩化チオニル１８８ｇ（１．５モル）
を加え室温で１０分、５０℃で３時間撹拌した。これを
１Ｎ塩酸水溶液１リットルにそそぎよく振った後、有機
層を分取し、水層からはジクロロメタン５００ｍｌで抽
出し、先の有機層と合わせた溶液を１Ｎ塩酸水溶液１リ
ットル、蒸留水８００ｍｌ、２Ｎ炭酸ナトリウム水溶液
１リットル、蒸留水８００ｍｌで洗浄した。これを無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶媒：四塩化炭素）で精製し、ビ
ス（クロロメチル）トリシクロ〔５．２．１．０2,6 〕
デカンの異性体混合物９２ｇ（ビス（ヒドロキシメチ
ル）トリシクロ〔５．２．１．０2,6 〕デカンから収率
７８％）を得た。
【００３５】合成例２
チオ尿素４１．９ｇ（０．５４モル）をトリエチレング
リコール１００ｍｌに溶かした溶液に、７５℃で５０分
かけてクロロメチルスチレン７６．３ｇ（０．４７モ
ル）（セイミケミカル社製、ＣＭＳ−Ｐ（ｍ体６０％、
ｐ体４０％、純度９５％）を加え、１１０℃で８０分攪
拌した後、テトラエチレンペンタミン９５ｇ（０．５０
モル）を１００℃で４０分かけて加え、１１０℃で７０
分攪拌した。得られた溶液を減圧蒸留し、２ｍｍＨｇで
６５〜７５℃の留分を分取し、メルカプトメチルスチレ
ンの無色液体５３．９ｇ（ｍ体６０％、ｐ体４０％、ク
ロロメチルスチレンから収率７６％）を得た。
リコール１００ｍｌに溶かした溶液に、７５℃で５０分
かけてクロロメチルスチレン７６．３ｇ（０．４７モ
ル）（セイミケミカル社製、ＣＭＳ−Ｐ（ｍ体６０％、
ｐ体４０％、純度９５％）を加え、１１０℃で８０分攪
拌した後、テトラエチレンペンタミン９５ｇ（０．５０
モル）を１００℃で４０分かけて加え、１１０℃で７０
分攪拌した。得られた溶液を減圧蒸留し、２ｍｍＨｇで
６５〜７５℃の留分を分取し、メルカプトメチルスチレ
ンの無色液体５３．９ｇ（ｍ体６０％、ｐ体４０％、ク
ロロメチルスチレンから収率７６％）を得た。
【００３６】合成例３
水酸化ナトリウム７．６ｇ（１８０ミリモル）、ヘキサ
デシルトリブチルホスホニウムブロマイド４．４ｇ
（８．４ミリモル）、蒸留水５５ｍｌ、トルエン５０ｍ
ｌをよく混合した溶液に、ゆっくりとメルカプトメチル
スチレン（ｍ体６０％、ｐ体４０％）２５．９ｇ（１６
４ミリモル）を加えてよく撹拌した。これに合成例１で
得たビス（クロロメチル）トリシクロ〔５．２．１．０
2,6 〕デカン１９．２ｇ（８２ミリモル）をトルエン２
５ｍｌに溶かした溶液を室温で１０分かけて加えた後、
室温で１５分、７５℃で３．５時間撹拌した。この溶液
をトルエン７００ｍｌで抽出し、１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液５００ｍｌで２回、塩化ナトリウム水溶液１リッ
トルで１回洗浄後、濃縮し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒：ｎ−ヘキサン−ジクロロメタン）で
精製し、ビス（ｐ−スチリルメチルチオ）トリシクロ
〔５．２．１．０2,6 〕デカンの異性体混合物２５ｇ
（収率６６％、純度９６％）を得た。
デシルトリブチルホスホニウムブロマイド４．４ｇ
（８．４ミリモル）、蒸留水５５ｍｌ、トルエン５０ｍ
ｌをよく混合した溶液に、ゆっくりとメルカプトメチル
スチレン（ｍ体６０％、ｐ体４０％）２５．９ｇ（１６
４ミリモル）を加えてよく撹拌した。これに合成例１で
得たビス（クロロメチル）トリシクロ〔５．２．１．０
2,6 〕デカン１９．２ｇ（８２ミリモル）をトルエン２
５ｍｌに溶かした溶液を室温で１０分かけて加えた後、
室温で１５分、７５℃で３．５時間撹拌した。この溶液
をトルエン７００ｍｌで抽出し、１Ｎ水酸化ナトリウム
水溶液５００ｍｌで２回、塩化ナトリウム水溶液１リッ
トルで１回洗浄後、濃縮し、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒：ｎ−ヘキサン−ジクロロメタン）で
精製し、ビス（ｐ−スチリルメチルチオ）トリシクロ
〔５．２．１．０2,6 〕デカンの異性体混合物２５ｇ
（収率６６％、純度９６％）を得た。
【００３７】本化合物の屈折率およびアッベ数は以下の
とおりであった。 屈折率：１．６１５ アッベ数：２８ このもののＩＲチャートを図１に、 1Ｈ−ＮＭＲチャー
トを図２に、13Ｃ−ＮＭＲチャートを図３に示した。ま
た、マススペクトルでは分子イオンピーク（４６１）や
スチリルメチルチオ基のピーク（１４９）等を確認し
た。
とおりであった。 屈折率：１．６１５ アッベ数：２８ このもののＩＲチャートを図１に、 1Ｈ−ＮＭＲチャー
トを図２に、13Ｃ−ＮＭＲチャートを図３に示した。ま
た、マススペクトルでは分子イオンピーク（４６１）や
スチリルメチルチオ基のピーク（１４９）等を確認し
た。
【００３８】実施例１
合成例３で得られたモノマー１５．００ｇとｔ−ブチル
パーオキシ−２−エチルヘキサネート（ＰＢＯ）０．１
５ｇを混合し、均一な配合物とした。次に、直径１００
ｍｍの円板型ガラス２枚を間隔が２ｍｍとなる様に対向
させ、周囲をポリエチレン製ガスケットで囲むことによ
り構成された鋳型内に前記の配合物を注入し、５０℃で
６時間、７０℃で３時間、９０℃で３時間、１１０℃で
３時間加熱し硬化させた。硬化物を鋳型から脱型し、１
３０℃で２時間加熱し、透明な平板を得た。得られた平
板の屈折率，アッベ数、比重および外観を表１に示し
た。
パーオキシ−２−エチルヘキサネート（ＰＢＯ）０．１
５ｇを混合し、均一な配合物とした。次に、直径１００
ｍｍの円板型ガラス２枚を間隔が２ｍｍとなる様に対向
させ、周囲をポリエチレン製ガスケットで囲むことによ
り構成された鋳型内に前記の配合物を注入し、５０℃で
６時間、７０℃で３時間、９０℃で３時間、１１０℃で
３時間加熱し硬化させた。硬化物を鋳型から脱型し、１
３０℃で２時間加熱し、透明な平板を得た。得られた平
板の屈折率，アッベ数、比重および外観を表１に示し
た。
【００３９】
【表１】
【００４０】
【発明の効果】本発明の有機硫黄化合物を含有してなる
組成物は、高屈折率で比重が小さく、透明性、靱性、耐
熱性、耐候性等に優れた樹脂を与える。本発明により得
られる高屈折率樹脂は有機ガラスとして有用であり、例
えばメガネレンズ、光学機器レンズ等の光学レンズとし
て最適であり、更にプリズム、光ディスク基板、光ファ
イバー等の用途に好適に使用することができる。
組成物は、高屈折率で比重が小さく、透明性、靱性、耐
熱性、耐候性等に優れた樹脂を与える。本発明により得
られる高屈折率樹脂は有機ガラスとして有用であり、例
えばメガネレンズ、光学機器レンズ等の光学レンズとし
て最適であり、更にプリズム、光ディスク基板、光ファ
イバー等の用途に好適に使用することができる。
【図１】 実施例１により得られた異性体混合物のＩＲ
スペクトルチャート
スペクトルチャート
【図２】 実施例１により得られた異性体混合物の1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルチャート
−ＮＭＲスペクトルチャート
【図３】 実施例１により得られた異性体混合物の13Ｃ
−ＮＭＲスペクトルチャート
−ＮＭＲスペクトルチャート
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C08F 12/00 - 12/36
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式［Ｉ］で示される不飽和有機化合
物４０〜１００重量％と、これを共重合して透明な共重
合体を与え得る他の不飽和単量体０〜６０重量％との混
合物を重合硬化させてなる硬化体。 【化１】 - 【請求項２】 下記一般式［Ｉ］で示される有機硫黄化
合物。 【化２】
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP18145694A JP3517965B2 (ja) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 有機硫黄化合物含有重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18145694A JP3517965B2 (ja) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 有機硫黄化合物含有重合性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0841126A JPH0841126A (ja) | 1996-02-13 |
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Family
ID=16101083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18145694A Expired - Fee Related JP3517965B2 (ja) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 有機硫黄化合物含有重合性組成物 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3517965B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2006152105A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Jsr Corp | 光硬化性樹脂組成物及び光学部材 |
-
1994
- 1994-08-02 JP JP18145694A patent/JP3517965B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH0841126A (ja) | 1996-02-13 |
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