JP3501789B2 - ランドマークを利用した平面光導波路素子 - Google Patents
ランドマークを利用した平面光導波路素子Info
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- JP3501789B2 JP3501789B2 JP2001377846A JP2001377846A JP3501789B2 JP 3501789 B2 JP3501789 B2 JP 3501789B2 JP 2001377846 A JP2001377846 A JP 2001377846A JP 2001377846 A JP2001377846 A JP 2001377846A JP 3501789 B2 JP3501789 B2 JP 3501789B2
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
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- G—PHYSICS
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/30—Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Mechanical Coupling Of Light Guides (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は平面光導波路素子に
関するもので、特にランドマーク(landmark)を利用した
平面光導波路素子及びその製作方法に関する。
関するもので、特にランドマーク(landmark)を利用した
平面光導波路素子及びその製作方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、光信号の分岐、変調、スイッチン
グ、信号多重化などの光信号処理を目的として、平面基
板上に光導波路を製作する光素子の集積化技術に対して
多くの研究がなされている。このような光導波路素子を
製作するためには導波路の設計、製作及びパッケージな
どの多様な技術が必要である。
グ、信号多重化などの光信号処理を目的として、平面基
板上に光導波路を製作する光素子の集積化技術に対して
多くの研究がなされている。このような光導波路素子を
製作するためには導波路の設計、製作及びパッケージな
どの多様な技術が必要である。
【０００３】このような一般的な光導波路は、光波を囲
み、長さ方向に損失が少ないように伝播させる伝送路と
して、屈折率が大きなコアと、コアを囲む屈折率が低い
クラッディングと、からなる。
み、長さ方向に損失が少ないように伝播させる伝送路と
して、屈折率が大きなコアと、コアを囲む屈折率が低い
クラッディングと、からなる。
【０００４】図１及び図２を参照して、従来の平面光導
波路のパッケージングに対して説明すると、次のようで
ある。図１及び図２に示されたように、従来の平面光導
波路素子１０(ＰＬＣ:Planar Light waveguide circui
t)のパッケージング(packaging)は、光導波路素子１０
に／から光を入力し、出力するために光ファイバブロッ
ク１１及び１２(optical fiber block)との整列及び結
合を基にしている。平面光導波路素子１０はシリコン(s
ilicon)や石英基板(quartz substrate)に多層のシリカ
(silica)、またはポリマー(polymer)薄膜を蒸着し、コ
ア(core)部とこれを囲むクラッディング(cladding)部の
屈折率差を利用して光の強さを分割するか、波長を分割
するか、光の経路を変更させるか、光の強さを調節する
などの役割ができるように設計され使用された。光ファ
イバブロック１１、１２は光ファイバ１３、１４を支持
するためのブロックであり、普通、シリコン基板にＶ型
溝(V-groove)を形成して光ファイバ１３、またはリボン
型光ファイバ１４を配列し、接着剤１７を利用して固定
して製作される。この時、基板は石英に使用され得る。
平面光導波路素子１０と光ファイバブロック１１、１２
との整列は、素子１０とその両端の光ファイバブロック
１１、１２がそれぞれ精密位置制御装置を通じて整列さ
れ、整列後、両端に接着剤１７を塗布して接着するよう
になる。
波路のパッケージングに対して説明すると、次のようで
ある。図１及び図２に示されたように、従来の平面光導
波路素子１０(ＰＬＣ:Planar Light waveguide circui
t)のパッケージング(packaging)は、光導波路素子１０
に／から光を入力し、出力するために光ファイバブロッ
ク１１及び１２(optical fiber block)との整列及び結
合を基にしている。平面光導波路素子１０はシリコン(s
ilicon)や石英基板(quartz substrate)に多層のシリカ
(silica)、またはポリマー(polymer)薄膜を蒸着し、コ
ア(core)部とこれを囲むクラッディング(cladding)部の
屈折率差を利用して光の強さを分割するか、波長を分割
するか、光の経路を変更させるか、光の強さを調節する
などの役割ができるように設計され使用された。光ファ
イバブロック１１、１２は光ファイバ１３、１４を支持
するためのブロックであり、普通、シリコン基板にＶ型
溝(V-groove)を形成して光ファイバ１３、またはリボン
型光ファイバ１４を配列し、接着剤１７を利用して固定
して製作される。この時、基板は石英に使用され得る。
平面光導波路素子１０と光ファイバブロック１１、１２
との整列は、素子１０とその両端の光ファイバブロック
１１、１２がそれぞれ精密位置制御装置を通じて整列さ
れ、整列後、両端に接着剤１７を塗布して接着するよう
になる。
【０００５】この時、接着剤１７には紫外線、または熱
硬化型接着剤を使用する場合が一般的であるが、溶接を
通じる場合もある。整列接着された素子１０はメタル、
またはプラスチックハウジング１５に入れて最終製品に
製作され、場合によって気密封止(hermetic sealing)を
維持するために密封する場合もある。
硬化型接着剤を使用する場合が一般的であるが、溶接を
通じる場合もある。整列接着された素子１０はメタル、
またはプラスチックハウジング１５に入れて最終製品に
製作され、場合によって気密封止(hermetic sealing)を
維持するために密封する場合もある。
【０００６】また、光導波路素子に温度調整が必要な場
合、ハウジング１５の外部に電源連結部を形成して電流
を供給する場合もある。図２において、参照符号１６は
電源リードを意味する。
合、ハウジング１５の外部に電源連結部を形成して電流
を供給する場合もある。図２において、参照符号１６は
電源リードを意味する。
【０００７】しかし、このような整列結合をするために
は、光導波路素子及び光ファイバブロックの断面加工が
必要であり、この時、加工方法としてブレイド(blade)
を利用した切断と、研磨剤を利用したポリシング方法(p
olishing)が挙げられる。光導波路素子の加工精密度は
光ファイバブロックとの整列接着時、結合損失と密接な
関係を有しており、特に加工面の傾斜した角度は挿入損
失の均一度を低下させる要因になっており、加工後、加
工精度を測定する工程が必須的である。前記断面加工が
不正確であると再加工すべきであり、過大に切断される
と素子を捨てる問題点があった。
は、光導波路素子及び光ファイバブロックの断面加工が
必要であり、この時、加工方法としてブレイド(blade)
を利用した切断と、研磨剤を利用したポリシング方法(p
olishing)が挙げられる。光導波路素子の加工精密度は
光ファイバブロックとの整列接着時、結合損失と密接な
関係を有しており、特に加工面の傾斜した角度は挿入損
失の均一度を低下させる要因になっており、加工後、加
工精度を測定する工程が必須的である。前記断面加工が
不正確であると再加工すべきであり、過大に切断される
と素子を捨てる問題点があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は光導波路素子を製作し、整列する過程で、より正確に
加工される角度を測定し、これを容易に修正できるよう
にして素子の整列及び結合時に発生する結合損失を最小
化することができる平面光導波路素子を提供することに
ある。
は光導波路素子を製作し、整列する過程で、より正確に
加工される角度を測定し、これを容易に修正できるよう
にして素子の整列及び結合時に発生する結合損失を最小
化することができる平面光導波路素子を提供することに
ある。
【０００９】本発明の他の目的は平面光導波路素子と光
ファイバブロックを整列するために使用されるランドマ
ークを設けた平面光導波路素子を提供することにある。
ファイバブロックを整列するために使用されるランドマ
ークを設けた平面光導波路素子を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために本発明は平面光導波路素子において、平面光導波
路素子と光ファイバブロック間の整列及び接着時に発生
する結合損失と損失均一度を向上させるために、前記平
面光導波路素子の加工断面から許容公差内の所定位置に
一定の間隔(ｔ)にランドマークを備える。
ために本発明は平面光導波路素子において、平面光導波
路素子と光ファイバブロック間の整列及び接着時に発生
する結合損失と損失均一度を向上させるために、前記平
面光導波路素子の加工断面から許容公差内の所定位置に
一定の間隔(ｔ)にランドマークを備える。
【００１１】望ましくは、前記ランドマークは、平面光
導波路素子の側面を切断する時、許容公差を評価するた
めに、前記平面光導波路素子内に位置する。望ましく
は、切断加工中に、前記ランドマークの区別のために、
数字や記号をランドマークに表示する。
導波路素子の側面を切断する時、許容公差を評価するた
めに、前記平面光導波路素子内に位置する。望ましく
は、切断加工中に、前記ランドマークの区別のために、
数字や記号をランドマークに表示する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の望ましい実施形態
を添付図を参照しつつ詳細に説明する。下記の発明にお
いて、本発明の要旨のみを明瞭にする目的で、関連した
公知機能又は構成に関する具体的な説明は省略する。
を添付図を参照しつつ詳細に説明する。下記の発明にお
いて、本発明の要旨のみを明瞭にする目的で、関連した
公知機能又は構成に関する具体的な説明は省略する。
【００１３】図３に本発明の実施形態によるランドマー
ク３２が適用された平面光導波路素子３０を示す。図３
に示されたように、本発明による前記平面光導波路素子
３０は加工断面３０ａが光導波路３１と垂直になるよう
に設置されるべきである場合、ＡＢ線分と光導波路３１
が垂直になるようにランドマーク３２を構成する。
ク３２が適用された平面光導波路素子３０を示す。図３
に示されたように、本発明による前記平面光導波路素子
３０は加工断面３０ａが光導波路３１と垂直になるよう
に設置されるべきである場合、ＡＢ線分と光導波路３１
が垂直になるようにランドマーク３２を構成する。
【００１４】この時、二つの隣接したランドマーク間の
間隔“ｔ”は下記式(１)により計算される。
間隔“ｔ”は下記式(１)により計算される。
【００１５】
【数３】
【００１６】この場合、Φは任意の角度に形成すること
ができ、光導波路３１と加工断面３０ａが垂直ではな
く、任意の角度に加工することもできる。前記ランドマ
ーク３２は加工断面３０ａからｔの間隔に十分に位置す
るようになり、前記ランドマーク３２の区別のために、
端に数字や記号を表示するのが望ましい。
ができ、光導波路３１と加工断面３０ａが垂直ではな
く、任意の角度に加工することもできる。前記ランドマ
ーク３２は加工断面３０ａからｔの間隔に十分に位置す
るようになり、前記ランドマーク３２の区別のために、
端に数字や記号を表示するのが望ましい。
【００１７】本発明の望ましい実施形態による前記ラン
ドマーク３２の挿入方法は、シリコン、または石英基板
上に薄膜を蒸着し、エッチングする工程でフォトマスク
に設計された形態にマークをエッチングして構成する。
従って、前記ランドマーク３２と光導波路３１との角度
精密度は、電子ビームの加工精密度を有するようにな
る。
ドマーク３２の挿入方法は、シリコン、または石英基板
上に薄膜を蒸着し、エッチングする工程でフォトマスク
に設計された形態にマークをエッチングして構成する。
従って、前記ランドマーク３２と光導波路３１との角度
精密度は、電子ビームの加工精密度を有するようにな
る。
【００１８】前記式（１）によりランドマーク３２の間
隔(ｔ)に対して説明すると、次のようである。Φ＝９０
°である場合、ＡとＢを繋いだ線が加工断面３０ａを基
準に９０°であり、ＡとＢ’、またはＡとＢ’’を繋ぐ
線まで加工される場合、許容公差を△Φとすると、前記
ランドマーク３２の間隔(ｔ)は前記式（１）に決定され
ることができる。
隔(ｔ)に対して説明すると、次のようである。Φ＝９０
°である場合、ＡとＢを繋いだ線が加工断面３０ａを基
準に９０°であり、ＡとＢ’、またはＡとＢ’’を繋ぐ
線まで加工される場合、許容公差を△Φとすると、前記
ランドマーク３２の間隔(ｔ)は前記式（１）に決定され
ることができる。
【００１９】 次に、代表的なマーク製作方法としてマ
スクを利用し、一定大きさ及び間隔(ｔ)にマークを挿入
した光導波路素子を製作し、光導波路素子の断面を加工
する。加工過程の中、マークの除去された程度を検査す
る。加工過程中、顕微鏡を通じてランドマークの除去さ
れた程度を観察し、加工された程度がＡとＢを繋ぐ線を
基準に点Ｂ’、またはＢ’’から外れた場合、角度を修
正してさらに加工し、点Ｂ’とＢ’’間にある場合、加
工を終了する。
スクを利用し、一定大きさ及び間隔(ｔ)にマークを挿入
した光導波路素子を製作し、光導波路素子の断面を加工
する。加工過程の中、マークの除去された程度を検査す
る。加工過程中、顕微鏡を通じてランドマークの除去さ
れた程度を観察し、加工された程度がＡとＢを繋ぐ線を
基準に点Ｂ’、またはＢ’’から外れた場合、角度を修
正してさらに加工し、点Ｂ’とＢ’’間にある場合、加
工を終了する。
【００２０】図４Ａ乃至図５Ｂは本発明の望ましい一実
施形態による平面光導波路素子が光ファイバブロックと
整列された状態及び接着された状態をそれぞれ示す平面
図である。
施形態による平面光導波路素子が光ファイバブロックと
整列された状態及び接着された状態をそれぞれ示す平面
図である。
【００２１】図４Ａ及び図４Ｂに示されたように、前記
平面光導波路素子４０の両加工断面４０ａ、４０ｂは、
一つの光ファイバ４３、または複数個の光ファイバ４４
が配列されているそれぞれの光ファイバブロック４１、
４２を有している。前記平面光導波路素子４０と光ファ
イバブロック４１、４２は紫外線、または熱硬化型接着
剤４５を利用して結合されている。前記光ファイバブロ
ック４１、４２はシリコン、または石英基板を使用する
ことができ、接着方法も溶接やその他の方法もできる。
平面光導波路素子４０の両加工断面４０ａ、４０ｂは、
一つの光ファイバ４３、または複数個の光ファイバ４４
が配列されているそれぞれの光ファイバブロック４１、
４２を有している。前記平面光導波路素子４０と光ファ
イバブロック４１、４２は紫外線、または熱硬化型接着
剤４５を利用して結合されている。前記光ファイバブロ
ック４１、４２はシリコン、または石英基板を使用する
ことができ、接着方法も溶接やその他の方法もできる。
【００２２】図５Ａ及び図５Ｂに示されたように、前記
平面光導波路素子５０の加工断面５０ａは一つの光ファ
イバ５３、または複数個の光ファイバ５４が配列されて
いるそれぞれの光ファイバブロック５１、５２を有して
いる。前記平面光導波路素子５０と光ファイバブロック
５１、５２は紫外線、または熱硬化型接着剤５５を利用
して結合されている。前記光ファイバブロック５１、５
２はシリコン、または石英基板を使用することができ、
接着方法も溶接やその他の方法もできる。
平面光導波路素子５０の加工断面５０ａは一つの光ファ
イバ５３、または複数個の光ファイバ５４が配列されて
いるそれぞれの光ファイバブロック５１、５２を有して
いる。前記平面光導波路素子５０と光ファイバブロック
５１、５２は紫外線、または熱硬化型接着剤５５を利用
して結合されている。前記光ファイバブロック５１、５
２はシリコン、または石英基板を使用することができ、
接着方法も溶接やその他の方法もできる。
【００２３】上述したように、図４Ａ及び図４Ｂに示さ
れた配列、即ち、前記平面光導波路素子４０を中心に両
方向に光ファイバブロック４１、４２が整列され接着さ
れることができ、図５Ａ及び図５Ｂに示された配列、即
ち、前記平面光導波路素子５０を中心に一方向に光ファ
イバブロック５１、５２が並んでいる状態に整列され接
着されることができる。図４Ａ及び図５Ａは光導波路素
子を中心に光ファイバブロックが整列された状態を示
し、図４Ｂ及び図５Ｂは光導波路素子を中心に光ファイ
バブロックが接着剤を利用して結合された状態を示す。
れた配列、即ち、前記平面光導波路素子４０を中心に両
方向に光ファイバブロック４１、４２が整列され接着さ
れることができ、図５Ａ及び図５Ｂに示された配列、即
ち、前記平面光導波路素子５０を中心に一方向に光ファ
イバブロック５１、５２が並んでいる状態に整列され接
着されることができる。図４Ａ及び図５Ａは光導波路素
子を中心に光ファイバブロックが整列された状態を示
し、図４Ｂ及び図５Ｂは光導波路素子を中心に光ファイ
バブロックが接着剤を利用して結合された状態を示す。
【００２４】本発明の望ましい一実施形態によって製作
された平面光導波路素子を図４Ａ、図４Ｂ、図５Ａ及び
図５Ｂに示された状態に整列及び接着する場合、前記光
導波路素子に関する加工データを別に管理しなくても、
整列する時に顕微鏡により加工状態を確認できるので、
光ファイバブロックと加工断面の対を合わせることが可
能である。即ち、正の誤差は正の誤差どうし、負の誤差
は負の誤差どうし対を合わせて整列接着する場合、接着
損失の均一度を最大限向上させることができる。
された平面光導波路素子を図４Ａ、図４Ｂ、図５Ａ及び
図５Ｂに示された状態に整列及び接着する場合、前記光
導波路素子に関する加工データを別に管理しなくても、
整列する時に顕微鏡により加工状態を確認できるので、
光ファイバブロックと加工断面の対を合わせることが可
能である。即ち、正の誤差は正の誤差どうし、負の誤差
は負の誤差どうし対を合わせて整列接着する場合、接着
損失の均一度を最大限向上させることができる。
【００２５】図６は平面光導波路素子６０の加工断面６
０ａ、６０ｂがそれぞれ光ファイバブロック６１、６２
と直角である場合を示し、図７は平面光導波路素子７０
の加工断面７０ａ、７０ｂが光ファイバブロック７１，
７２に対して８°、または１２°程度の角度に傾斜して
いる場合を示す。図６を参照すると、平面光導波路素子
６０の加工断面６０ａ、６０ｂを中心にそれぞれの光フ
ァイバブロック６１、６２の加工断面６１ａ、６２ａが
対面して整列されている。図７を参照すると、平面光導
波路素子７０の加工断面７０ａ、７０ｂを中心にそれぞ
れの光ファイバブロック７１、７２の加工断面７１ａ、
７２ａが対面して整列されている。
０ａ、６０ｂがそれぞれ光ファイバブロック６１、６２
と直角である場合を示し、図７は平面光導波路素子７０
の加工断面７０ａ、７０ｂが光ファイバブロック７１，
７２に対して８°、または１２°程度の角度に傾斜して
いる場合を示す。図６を参照すると、平面光導波路素子
６０の加工断面６０ａ、６０ｂを中心にそれぞれの光フ
ァイバブロック６１、６２の加工断面６１ａ、６２ａが
対面して整列されている。図７を参照すると、平面光導
波路素子７０の加工断面７０ａ、７０ｂを中心にそれぞ
れの光ファイバブロック７１、７２の加工断面７１ａ、
７２ａが対面して整列されている。
【００２６】
【発明の効果】以上のように、本発明によると、平面光
導波路素子において、ランドマークを利用することによ
って、検査と修正を工程中に遂行して精密度を高めるだ
けではなく、製品の歩留まりを向上させるようになっ
た。さらに、本発明は光ファイバブロックを整列接着す
る場合、加工断面の対を合わせることができるようにな
って結合損失の均一度を最大限向上させることができる
効果を有する。
導波路素子において、ランドマークを利用することによ
って、検査と修正を工程中に遂行して精密度を高めるだ
けではなく、製品の歩留まりを向上させるようになっ
た。さらに、本発明は光ファイバブロックを整列接着す
る場合、加工断面の対を合わせることができるようにな
って結合損失の均一度を最大限向上させることができる
効果を有する。
【００２７】また、本発明による前記ランドマークは光
パワー分割器、波長分割器、スイッチ、減衰器、ＡＤＭ
(Add Drop Multiplexing)、ＯＡＤＭ(Optical Add Drop
Multiplexing)、ＴＡＤＭのような光素子にも適用する
ことができることに注意すべきである。
パワー分割器、波長分割器、スイッチ、減衰器、ＡＤＭ
(Add Drop Multiplexing)、ＯＡＤＭ(Optical Add Drop
Multiplexing)、ＴＡＤＭのような光素子にも適用する
ことができることに注意すべきである。
【００２８】以上、本発明の実施形態を添付図面を参照
して説明したが、本発明はこの特定の実施形態に限るも
のでなく、各種の変形及び修正が本発明の範囲を逸脱し
ない限り、該当分野における通常の知識を持つ者により
可能なのは明らかである。
して説明したが、本発明はこの特定の実施形態に限るも
のでなく、各種の変形及び修正が本発明の範囲を逸脱し
ない限り、該当分野における通常の知識を持つ者により
可能なのは明らかである。
【図１】 従来の一実施形態による平面光導波路素子に
光ファイバブロックが整列された状態を示す斜視図であ
る。
光ファイバブロックが整列された状態を示す斜視図であ
る。
【図２】 従来の一実施形態による整列された平面光導
波路素子がハウジング内にパッケージングされた状態を
示す斜視図である。
波路素子がハウジング内にパッケージングされた状態を
示す斜視図である。
【図３】 本発明の望ましい一実施形態によるランドマ
ークが適用された平面光導波路素子を示す平面図であ
る。
ークが適用された平面光導波路素子を示す平面図であ
る。
【図４Ａ】 本発明の望ましい一実施形態によるランド
マークが適用された平面光導波路素子の両方向に光ファ
イバブロックが整列された状態を示す平面図である。
マークが適用された平面光導波路素子の両方向に光ファ
イバブロックが整列された状態を示す平面図である。
【図４Ｂ】 本発明の望ましい一実施形態によるランド
マークが適用された平面光導波路素子の両方向に光ファ
イバブロックが接着された状態を示す平面図である。
マークが適用された平面光導波路素子の両方向に光ファ
イバブロックが接着された状態を示す平面図である。
【図５Ａ】 本発明の望ましい一実施形態によるランド
マークが適用された平面光導波路素子の一方向に光ファ
イバブロックが整列された状態を示す平面図である。
マークが適用された平面光導波路素子の一方向に光ファ
イバブロックが整列された状態を示す平面図である。
【図５Ｂ】 本発明の望ましい一実施形態によるランド
マークが適用された平面光導波路素子の一方向に光ファ
イバブロックが接着された状態を示す平面図である。
マークが適用された平面光導波路素子の一方向に光ファ
イバブロックが接着された状態を示す平面図である。
【図６】 本発明の望ましい一実施形態による平面光導
波路素子の両加工断面が光ファイバブロックと垂直をな
す状態を示す図である。
波路素子の両加工断面が光ファイバブロックと垂直をな
す状態を示す図である。
【図７】 本発明の望ましい一実施形態による平面光導
波路素子の両加工断面が光ファイバブロックに対して８
°、または１２°の角度に傾斜している状態を示した図
である。
波路素子の両加工断面が光ファイバブロックに対して８
°、または１２°の角度に傾斜している状態を示した図
である。
３０、４０、５０、６０、７０ 平面光導波路素子
３０ａ、４０ａ、４０ｂ、５０ａ、６０ａ、６０ｂ、７
０ａ、７０ｂ 加工断面 ３１ 光導波路 ３２ ランドマーク ４３、４４、５３、５４ 光ファイバ ４１、４２、５１、５２、６１、６２、７１、７２ 光
ファイバブロック ４５、５５ 熱硬化型接着剤
０ａ、７０ｂ 加工断面 ３１ 光導波路 ３２ ランドマーク ４３、４４、５３、５４ 光ファイバ ４１、４２、５１、５２、６１、６２、７１、７２ 光
ファイバブロック ４５、５５ 熱硬化型接着剤
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 崔 珍京
大韓民国ソウル特別市東大門區龍頭１洞
20番地17號
(56)参考文献 特開 平４−316005（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 6/30
G02B 6/122
Claims (11)
- 【請求項１】 光導波路素子において、 コア及びクラディングを含む平面光導波路と、 前記平面光導波路内の対向端に配列され、前記平面光導
波路の一端から所定間隔に離隔され位置する複数のラン
ドマークと、を備え、 前記複数のランドマークは、許容公差内で前記平面光導
波路の一側面を選択的に切断するために機能することを
特徴とする素子。 - 【請求項２】 前記ランドマーク間の所定の間隔(ｔ)
は、下記式により決定されることを特徴とする請求項１
に記載の平面光導波路素子。 【数１】 ここで、ΔΦは許容公差を、ＡＢは前記平面光導波路素
子の加工断面を意味する。 - 【請求項３】 前記ランドマークは、許容公差を評価す
るために、前記平面光導波路素子内に位置して配列され
ることを特徴とする請求項１に記載の平面光導波路素
子。 - 【請求項４】 前記平面光導波路素子は、光パワー分割
器、波長分割器、スイッチ、減衰器、ＡＤＭ、ＯＡＤ
Ｍ、ＴＡＤＭを含むことを特徴とする請求項１に記載の
平面光導波路素子。 - 【請求項５】 前記ランドマークの区別のために、数字
や記号を表示することを特徴とする請求項１に記載の平
面光導波路素子。 - 【請求項６】 複数の導波路を有する平面光導波路素子
を光ファイバブロックに整列する方法において、 前記複数の導波路に直角である加工断面を提供するため
に前記平面光導波路素子を切断する過程を有し、 前記平面光導波路素子を切断する過程は、設置されるべ
き前記加工断面から 所定間隔で、前記導波路を挟んで対
向するランドマークの列を、該対向するランドマークを
結ぶ線分が前記導波路と垂直になるように提供する段階
と、 前記平面光導波路素子の一側面を選択的に切断して、前
記対向するランドマークの除去された程度を検査するこ
とによって前記切断された一側面の前記導波路に対する
垂直性を判断し、加工された程度に応じて角度を修正し
てさらに加工するか、あるいは加工を終了する段階と、
を備えることを特徴とする平面光導波路素子の整列方
法。 - 【請求項７】 前記光ファイバブロックと相応する受容
断面を提供するために、前記許容公差を評価する段階を
さらに備えることを特徴とする請求項６に記載の平面光
導波路素子の整列方法。 - 【請求項８】 前記ランドマーク間の所定の間隔(ｔ)
は、下記式により決定されることを特徴とする請求項６
に記載の平面光導波路素子の整列方法。 【数２】 ここで、ΔΦは許容公差を、ＡＢは前記平面光導波路素
子の加工断面を意味する。 - 【請求項９】 前記ランドマークは、許容公差を評価す
るために、前記光導波路素子内に位置して配列されるこ
とを特徴とする請求項６に記載の平面光導波路素子の整
列方法。 - 【請求項１０】 前記平面光導波路素子は、光パワー分
割器、波長分割器、スイッチ、減衰器、ＡＤＭ、ＯＡＤ
Ｍ、ＴＡＤＭを含むことを特徴とする請求項６に記載の
平面光導波路素子の整列方法。 - 【請求項１１】 前記予め設定された基準は、前記ラン
ドマークの区別のために、数字や記号を含むことを特徴
とする請求項６に記載の平面光導波路素子の整列方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2000-087199 | 2000-12-30 | ||
| KR1020000087199A KR100357853B1 (ko) | 2000-12-30 | 2000-12-30 | 랜드 마크를 이용한 평면 광도파로 소자 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002214468A JP2002214468A (ja) | 2002-07-31 |
| JP3501789B2 true JP3501789B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=19704109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001377846A Expired - Fee Related JP3501789B2 (ja) | 2000-12-30 | 2001-12-11 | ランドマークを利用した平面光導波路素子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6574410B2 (ja) |
| EP (1) | EP1229362A3 (ja) |
| JP (1) | JP3501789B2 (ja) |
| KR (1) | KR100357853B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100984877B1 (ko) * | 2002-12-18 | 2010-10-01 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 전기 접점 장치 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030000285A (ko) * | 2001-06-23 | 2003-01-06 | 삼성전자 주식회사 | 평면 도파로형 광회로를 이용한 파장분할 다중화기 |
| US20040145381A1 (en) * | 2001-12-28 | 2004-07-29 | Jun Su | Test fixture for die-level testing of planar lightwave circuits |
| JP4144427B2 (ja) * | 2003-05-12 | 2008-09-03 | オムロン株式会社 | 光導波路およびその製造方法 |
| JP2006133666A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Mitsumi Electric Co Ltd | 光伝送モジュール及びその製造方法 |
| JP2006322999A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Matsushita Electric Works Ltd | 光導波路モジュール |
| JP2009270844A (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-19 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 光ファイバの活線検出装置 |
| US20130335110A1 (en) * | 2012-06-15 | 2013-12-19 | Polyvalor, Limited Partnership | Planar circuit test fixture |
| JPWO2017047076A1 (ja) * | 2015-09-18 | 2018-07-12 | 日本電気株式会社 | 光導波路素子 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0769497B2 (ja) * | 1988-02-05 | 1995-07-31 | 日本電信電話株式会社 | 光部品実装体 |
| JPH0411204A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-16 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 埋込み光導波路 |
| JP3054278B2 (ja) * | 1992-11-16 | 2000-06-19 | 日本碍子株式会社 | 光集積回路の製造方法 |
| US5359686A (en) * | 1993-03-29 | 1994-10-25 | Motorola, Inc. | Interface for coupling optical fibers to electronic circuitry |
| US5555333A (en) * | 1993-07-12 | 1996-09-10 | Ricoh Company, Ltd. | Optical module and a fabrication process thereof |
| JP3293115B2 (ja) * | 1994-08-11 | 2002-06-17 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバアレイ及び光導波路モジュールの結合方法 |
| JPH10256664A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Fujitsu Ltd | 光半導体装置のマーカ形成方法 |
| US6046101A (en) * | 1997-12-31 | 2000-04-04 | Intel Corporation | Passivation technology combining improved adhesion in passivation and a scribe street without passivation |
-
2000
- 2000-12-30 KR KR1020000087199A patent/KR100357853B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-09-28 US US09/967,006 patent/US6574410B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-10-31 EP EP01126046A patent/EP1229362A3/en not_active Withdrawn
- 2001-12-11 JP JP2001377846A patent/JP3501789B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100984877B1 (ko) * | 2002-12-18 | 2010-10-01 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 전기 접점 장치 및 그 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002214468A (ja) | 2002-07-31 |
| US20020118940A1 (en) | 2002-08-29 |
| EP1229362A3 (en) | 2004-06-16 |
| KR20020056975A (ko) | 2002-07-11 |
| US6574410B2 (en) | 2003-06-03 |
| KR100357853B1 (ko) | 2002-10-25 |
| EP1229362A2 (en) | 2002-08-07 |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091212 Year of fee payment: 6 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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