JP3497847B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

Info

Publication number
JP3497847B2
JP3497847B2 JP2001253513A JP2001253513A JP3497847B2 JP 3497847 B2 JP3497847 B2 JP 3497847B2 JP 2001253513 A JP2001253513 A JP 2001253513A JP 2001253513 A JP2001253513 A JP 2001253513A JP 3497847 B2 JP3497847 B2 JP 3497847B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
die pad
terminal
resin body
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001253513A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003068935A (ja
Inventor
彰男 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP2001253513A priority Critical patent/JP3497847B2/ja
Priority to US10/212,171 priority patent/US7239008B2/en
Publication of JP2003068935A publication Critical patent/JP2003068935A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3497847B2 publication Critical patent/JP3497847B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49548Cross section geometry
    • H01L23/49551Cross section geometry characterised by bent parts
    • H01L23/49555Cross section geometry characterised by bent parts the bent parts being the outer leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8538Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/85399Material
    • H01L2224/854Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/85463Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than 1550°C
    • H01L2224/8547Zirconium (Zr) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12042LASER
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、装置の底側に、
リード端子を設けた半導体装置およびその製造方法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】本発明に関係する技術である特開200
0−252389号公報には、チップ306を接着し、
ワイヤ308および309を溶接した箔からなる基板3
07を、キャビティ内に収納し、樹脂封止するときの圧
力で電極となる小山312をデバイスの底側に突出させ
た後、電気的に分離するために、小山312を覆う金属
箔を高速回転刃もしくはレーザーによる切削加工等によ
って機械的に分離する半導体デバイスおよびそのための
製造方法が記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上述
べた構造や製造方法では、 (1)端子の大部分が樹脂材で形成されている為に端子
部の剛性が高くなり、基板接続後の基板の熱変形による
端子部分の接合性の劣化が生じる。
【0004】(2)ボール・グリッド・アレイ(BG
A)の端子を形成する基板の加工が高速回転刃もしくは
レーザーによる切削加工なので、加工時に端子基板の密
着性が劣化し、樹脂との界面で剥離が生じてワイヤーの
断線が生じる。
【0005】(3)端子を個々に分割しなければならな
いため、生産時間が長く、製品コストが高くなる。
【0006】(4)端子基板と樹脂の熱膨張差から樹脂
硬化後の熱収縮により端子の位置や高さが変化して、基
板に端子が接合できない。
【0007】(5)端子基板と樹脂の熱膨張差から樹脂
硬化後の熱収縮により端子の位置や高さが一定でない状
態で端子が固定されている為に、半導体装置の電気試験
でソケット端子との接触ができないことがある。
【0008】(6)半導体ペレットの裏面側の電位を制
御する必要のある場合の端子形成ができない。
【0009】(7)樹脂硬化後の熱収縮により樹脂の寸
法にばらつきが生じるので、基板の端子間距離が短い場
合に半導体装置の端子と基板の端子の間で半導体装置と
基板の熱膨張差から生じる応力によって断線が生じる。
【0010】本発明は、以上の従来技術の問題点に鑑
み、装置の底側にリード端子を配置した半導体装置およ
びそのための製造方法において、リード端子を基板端子
に接続しても熱に基づく影響を受けないようにする半導
体装置およびその製造方法を提供することを目的とす
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために下記の解決手段を採用する。
【0012】(1)半導体装置において、封止樹脂体
と、前記封止樹脂体の内部に位置するダイパッドと、前
記封止樹脂体の内部であって前記ダイパッド上に設けら
れ、主面に第 1 及び第 2 の電極が形成される半導体チップ
と、前記封止樹脂体の内部に位置し第 1 のボンディング
ワイヤを介して前記第 1 の電極と電気的に接続される前
記ダイパッドと平行な第 1 の水平部と、該第 1 の水平部か
ら垂直下方に延在し一端は該封止樹脂体から露出する第
1の下方伸長部と、該第1の下方伸長部の一端と接続し
内側に向かって延在する第2の水平部とにより構成され
る複数の第1のリード群と、前記封止樹脂体の内部であ
って前記ダイパッドと前記第1の水平部との間に位置し
第2のボンディングワイヤを介して前記第2の電極と電
気的に接続される第3の水平部と、該第3の水平部から
垂直下方に延在し一端は該封止樹脂体から露出する第2
の下方伸長部と、該第2の下方伸長部の一端と接続し内
側に向かって延在する第4の水平部とにより構成される
複数の第2のリード群とを備えたことを特徴とする
【0013】(2)上記(1)記載の半導体装置におい
て、前記封止樹脂体は、該封止樹脂体から露出している
前記第1及び第2の下方伸長部と前記第2及び第4の水
平部とにより構成される折曲形状に沿って突部が形成さ
れていることを特徴とする
【0014】(3)半導体装置において、封止樹脂体
と、前記封止樹脂体の内部に位置するダイパッドと、前
記封止樹脂体の内部に位置し、前記ダイパッド上に設け
られ、主面に電極が形成される半導体チップと、前記封
止樹脂体の内部に位置しボンディングワイヤを介して前
記電極と電気的に接続される前記ダイパッドと平行な第
1の水平部と、該第1の水平部から垂直下方に延在し一
端は該封止樹脂体から露出する下方伸長部と、該下方伸
長部の一端と接続し該ダイパッドと平行な第2の水平部
とにより構成されるリード部とを備え、前記第2の水平
部の一部は円形であることを特徴とする。
【0015】(4)上記(3)記載の半導体装置におい
て、前記第2の水平部の一部に穴が形成されていること
を特徴とする
【0016】(5)半導体装置において、封止樹脂体
と、前記封止樹脂体の内部に位置するダイパッドと、前
記封止樹脂体の内部に位置し、前記ダイパッド上に設け
られ、主面に電極が形成される半導体チップと、前記封
止樹脂体の内部に位置しボンディングワイヤを介して前
記電極と電気的に接続される前記ダイパッドと平行な第
1の水平部と、該第1の水平部から垂直下方に延在し一
端は該封止樹脂体から露出する下方伸長部と、該下方伸
長部の一端と接続し該ダイパッドと平行な第2の水平部
とにより構成される複数のリード部とを備え、前記複数
のリード部のいずれか一つの第1の水平部は前記ダイパ
ッドと接続されていることを特徴とする半導体装置
【0017】(6)半導体装置の製造方法において、複
数のリード端子と配線用端子を連設した複数列の支持バ
ーがダイパッドサポートに連設されたリードフレームに
おける外側端子を装置底面側に曲げ加工する工程と、リ
ードフレームのダイパッドに半導体ペレットを固定し、
半導体ペレットと配線用端子にワイヤー配線する工程
と、リード端子を樹脂モールド体底面から露出するよう
に樹脂を封止する工程と、リード端子を半田付着させ曲
げ加工する工程と、切削刃でリード端子の支持バーを切
削分割する工程を、順に施すことを特徴とする。
【0018】(7)半導体装置の製造方法において、複
数のリード端子と配線用端子を連設した複数列の支持バ
ーがダイパッドサポートに連設されたリードフレームに
おける外側端子を装置底面側に曲げ加工する工程と、リ
ードフレームのダイパッドに半導体ペレットを固定し、
半導体ペレットと配線用端子にワイヤー配線する工程
と、樹脂モールド体底面からリード端子を露出し樹脂突
起を突設するように樹脂を封止する工程と、リード端子
を半導体装置底面に形成された樹脂突起に沿って曲げ加
工する工程と、研磨刃でリード端子の支持バーを切削分
割する工程を、順に施すことを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について図
面を参照しながら詳細に説明する。
【0020】(第1実施例) 図1は本発明の第1実施例の構成図であり、図1(a)
は装置全体の断面図、図1(b)は図1(a)の側面図
(A部詳細図)、図1(c)は図1(b)の底面図であ
る。
【0021】半導体ペレット1表面に形成された電極2
からワイヤー3が鉄や銅などからなり可撓性を有する条
状のリード端子4に配線されている。リード端子4は曲
げ加工がされている。リード端子4は、ダイパッド10
と同じ面を有し、その面から略直角に下方へ折り曲げら
れた下方伸長部と、その下方伸長部の樹脂モールド体5
の下面から突出する部分のさらに下方先端部分は前記下
方伸長部に対し略直角に折り曲げられ、基板端子と接触
するように形成されている。リード端子4は、図1
(b)に示す幅方向には曲がりにくいが、この幅方向と
直角方向の厚み方向には比較的曲がりやすい。
【0022】樹脂モールド体5は半導体ペレット1とワ
イヤー3とワイヤー3が配線されているリード端子4の
表面を覆う様に形成され、基板6の電極2への接続の為
に樹脂モールド体5外部のリード端子4の表面は半田層
8で覆われている。
【0023】本発明のリード端子は、前記特開2000
−252389号公報のものと比べ、樹脂に覆われてい
る部分は剥離が防止できると共に耐腐食性を向上でき、
基板との接続を確実にでき、ワイヤボンドの品質を向上
できる。
【0024】また、最近のパッケージサイズが小さくな
る傾向を受けて、実装サイズも小さくすると、端子のピ
ッチが0.4〜0.5mmとなり、この条件をクリアす
るためにはリード端子の幅が300μm以下となること
が求められている。そこで、本発明のリード端子4は、
図1(b)に示すリード端子4の幅が300μm以下に
設定されていることが好ましい。また、ボールグリッド
アレイにおけるボールのサイズは最小で0.25mmで
あり、このサイズが実装高さとして求められている。そ
こで、本発明のリード端子4は、樹脂封止端から基板端
子7固着部までのリード端子4の長さ(実装高さ)が約
200μm以上で、変形可能な条状に形成されているこ
とが好ましい。
【0025】図1に示すように、リード端子4の周囲が
樹脂封止されているので、リード端子4の周囲が防水構
造になる。
【0026】本発明の第1実施例は、以下の作用効果を
奏する。 (1)半導体ペレット1に接着されているダイパッド1
0とリード端子4とは充填された樹脂モールド体5によ
り分離される。これにより、従来のように半導体ペレッ
ト1とダイパッド10との間に外部から水分が侵入する
ことを阻止できる。 (2)半導体装置を基板6に接合した場合に半導体装置
は樹脂モールド体5と基板端子7までリード端子4で接
合されているので、熱による樹脂モールド体5と基板6
の変形差で生じる応力を可撓性を有する条状のリード端
子4が吸収することができる。
【0027】以上のように、本発明の第1実施例によれ
ば、基板接続後の温度変化による基板6と半導体装置に
働く応力はリード端子4で吸収することができる。よっ
て外部環境による温度変化によってリード端子4が基板
6から剥離することがなくなる。
【0028】(第2実施例) 図2は本発明の第2実施例の構成図であり、図2(a)
は装置全体の断面図、図2(b)は図2(a)の側面図
(A部詳細図)、図2(c)は図2(b)の底面図であ
る。
【0029】半導体ペレット1表面に形成された電極2
からワイヤー3が鉄や銅などからなるリード端子4に配
線されており、リード端子4は曲げ加工がされている。
このリード端子4は前記第1実施例のものと同じになっ
ている。
【0030】また樹脂モールド体5は半導体ペレット1
とワイヤー3とワイヤー3が配線されているリード端子
4の表面を覆う様に形成され、基板6の電極2への接続
の為に樹脂モールド体5外部のリード端子4の表面は半
田層8で覆われている。基板6の電極2に接するリード
端子4は、前記第1実施例の構成の他にその接触部9が
円形状になっている特徴を有する。
【0031】リード端子4は、図2(b)に示すリード
端子4の幅が300μm以下に設定されていることが好
ましい。
【0032】リード端子4は、樹脂封止端から基板端子
7固着部までのリード端子4の長さが約200μm以上
に形成されていることが好ましい。
【0033】本発明の第2実施例は、以下の作用効果を
奏する。 (1)半導体ペレット1に接着されているダイパッド1
0とリード端子4とが充填された樹脂モールド体5によ
り分離される。これにより、従来のように半導体ペレッ
トとダイパッドとの間に外部から水分が侵入することを
阻止できる。 (2)リード端子4の接触部9が基板端子7の幅より広
い幅の円形状に構成されているので基板端子7との接合
面積が増大し、基板端子7との接合力が増す分衝撃荷重
等による接合後の両端子の剥離が阻止できる。 (3)半導体装置を基板6に接合した場合に半導体装置
は樹脂と基板6まで可撓性を有する条状のリード端子4
で接合されているので、熱による樹脂と基板6の変形差
で生じる応力をリード端子4で吸収することができる。
【0034】以上のように、第2の実施例によれば、第
1実施例の特徴および作用・効果に加え、さらにリード
端子4の接触部9の形状が円形状になっているため、一
端子あたりの基板接合面積が増大し、基板6に加わる衝
撃荷重による剥離が生じない。すなわち携帯電話機など
の機器に搭載することができる。
【0035】(第3実施例) 図3は本発明の第3実施例の構成図であり、図3(a)
は装置全体の断面図、図3(b)は図3(a)の側面図
(A部詳細図)、図3(c)は図3(b)の底面図であ
る。
【0036】半導体ペレット1表面に形成された電極2
からワイヤー3が鉄や銅などからなるリード端子4に配
線されており、リード端子4は曲げ加工がされている。
このリード端子4は前記第1実施例のものと同じになっ
ている。
【0037】樹脂モールド体5にはリード端子4の曲げ
形状に沿うように樹脂突起11が形成されている。樹脂
突起11の形状は、上記形状以外に、リード端子4が基
板端子7と接合後剥離等の不都合が発生しない程度の少
なくとも高さを有する形状が好ましい。樹脂突起11の
幅は、図3(b)に示されている例に限らず、半導体装
置を支持してもリード端子4に剥離等の異常が発生しな
い程度の強度のでる幅および厚みであればよい。
【0038】この樹脂モールド体5は、樹脂突起11と
同時に、半導体ペレット1とワイヤー3とワイヤー3が
配線されているリード端子4の表面を覆う様に形成され
る。基板6の基板端子7への接続の為に樹脂モールド体
5外部のリード端子4の表面は半田層8で覆われてい
る。リード端子4は、図3(b)に示すリード端子4の
幅が300μm以下に設定されていることが好ましい。
【0039】リード端子4は、樹脂封止端から基板端子
7固着部までのリード端子4の長さが約200μm以上
に形成されていることが好ましい。
【0040】本発明の第3実施例は、可撓性を有する条
状のリード端子4および樹脂突起11を備えたことによ
って以下の作用・効果を奏する。 (1)半導体ペレット1に接着されているダイパッド1
0とリード端子4とが、充填された樹脂モールド体5に
より分離される。これにより、従来のように半導体ペレ
ット1とダイパッド10との間に外部から水分が侵入す
ることを阻止できる。 (2)樹脂突起11によりリード端子4の形状を保持す
るようにその強度を補強することができる。 (3)半導体装置を基板6に接合した場合、半導体装置
は樹脂と基板端子7までの間がリード端子4で構成され
ているので、熱による樹脂と基板6の変形差で生じる応
力をリード端子が変形して吸収する。 (4)さらに基板6に半導体装置を取り付ける際、リー
ド端子4の位置に形成された樹脂突起11がリード端子
4を介して基板端子7と当接するまでリード端子4は接
触部が平坦性を保ちながら全体的に弾性変形するので、
各リード端子4が同じように弾性変形することになり、
リード端子4が全体的に均一に弾性変形しながら接続さ
れる。これにより、半導体装置の荷重でリード端子4が
異常に変形し、接触部9が剥離等することを防止でき
る。
【0041】以上のように、第3実施例によれば、第1
実施例の特徴および作用・効果に加え、さらに半導体装
置を基板6に搭載する時、リード端子4の形状に沿った
突部形状をした樹脂がリード高さのバラツキを吸収して
リード端子4の平坦性を保ちながら接合を行うので、全
ての端子を均一に接合することができ、接合不良が低減
できる。
【0042】(第4実施例) 図4は本発明の第4実施例の構成図であり、図4(a)
は装置全体の断面図、図4(b)は図4(a)の側面図
(A部詳細図)、図4(c)は図4(b)の底面図であ
る。
【0043】半導体ペレット1表面に形成された電極2
からワイヤー3が鉄や銅などからなるリード端子4に配
線されており、リード端子4は曲げ加工がされている。
リード端子4は前記第1実施例のものと同じになってい
る。
【0044】樹脂モールド体5は半導体ペレット1とワ
イヤー3とワイヤー3が配線されているリード端子4の
表面を覆う様に形成され、基板6の電極2への接続の為
に樹脂モールド体5外部のリード端子4の表面は半田層
8で覆われている。
【0045】さらに基板6に接するリード端子4の接触
部9は穴を設けたドーナツ形状円形状になっており、中
央部は円形の穴12が形成されている。
【0046】リード端子4は、図4(b)に示すリード
端子4の幅が300μm以下に設定されていることが好
ましい。
【0047】リード端子4は、樹脂封止端から基板端子
7固着部までのリード端子4の長さが約200μm以上
で、変形可能な条状に形成されていることが好ましい。
【0048】本発明の第4実施例は、リード端子4の接
触部の中央部に穴が形成されていることにより、以下の
作用効果を奏する。 (1)半導体ペレット1に接着されているダイパッド1
0とリード端子4とが充填された樹脂モールド体5によ
り分離される。これにより、従来のように半導体ペレッ
ト1とダイパッド10との間に外部から水分が侵入する
ことを阻止できる。 (2)リード端子4の接触部9がリード端子4の接触部
9以外の幅より広い幅のドーナツ状に構成されているの
で基板端子7との接合面積が増大し、基板端子7との接
合力が増す分、衝撃荷重等による接合後の両端子の剥離
が阻止できる。 (3)半導体装置を基板端子7に接合した場合に半導体
装置は樹脂モールド体5から基板端子7までリード端子
4で接合されているので、熱による樹脂モールド体5と
基板6の熱などの影響による変形差で生じる応力をリー
ド端子4が変形して吸収する。 (4)さらにリード端子4の接触部9がドーナツ形状に
なっているので基板端子7との接合面積を増大し、基板
6との接合力を増すことができる。 (5)また電気試験の際、ソケット端子にリード端子4
の穴12に挿入できる突起を設ける事で、ソケット端子
とリード端子4が確実に接触できる。
【0049】以上のように、第4の実施例によれば、第
2実施例の特徴および効果に加え、さらにリード端子4
の接触部9をドーナツ形状としているため、突起のある
ソケット端子がリード端子4の穴12に挿入でき接触が
容易に行われるので、電気試験における接触不良を防止
できる。
【0050】(第5実施例) 図5は本発明の第5実施例の構成図であり、図5(a)
は装置全体の断面図、図5(b)は図5(a)の側面図
(A部詳細図)、図5(c)は図5(b)の底面図であ
る。
【0051】半導体ペレット1表面に形成された電極2
からワイヤー3が鉄や銅などからなるリード端子4に配
線されており、リード端子4は曲げ加工がされている。
リード端子4は前記第1実施例のものと同じになってい
る。半導体ペレット1が導電性接着剤13によって接続
されているダイパッド10よりリード端子4が形成され
ている。樹脂モールド体5は半導体ペレット1とワイヤ
ー3とワイヤー3が配線されているリード端子4の表面
を覆う様に形成され、基板6の電極端子7への接続のた
めに樹脂モールド体5外部のリード端子4の表面は半田
層8で覆われている。
【0052】リード端子4は、図5(b)に示すリード
端子4の幅が300μm以下に設定されていることが好
ましい。また、リード端子4は、樹脂封止端から基板端
子7固着部までのリード端子4の長さが約200μm以
上に形成されていることが好ましい。
【0053】本発明の第5実施例は可撓性を有する条状
のリード端子4を設けたことおよび半導体ペレット裏面
側から導電性接着剤13を介してリード端子4を設けた
ことによって以下の作用効果を有する。 (1)半導体ペレット1に接着されているダイパッド1
0とリード端子4とが充填された樹脂モールド体5によ
り分離されることである。これにより、従来のように半
導体ペレットとダイパッドとの間に外部から水分が侵入
することを阻止できる。 (2)半導体ペレット1裏面側から導電性接着剤13を
介してリード端子4を設けたことである。これにより、
半導体ペレット1裏面電位を制御する必要がある半導体
(例えばSilicon on Insulatorな
ど)の裏面電位制御が容易にできる。 (3)半導体装置を基板端子7に接合した場合に、半導
体装置は樹脂モールド体5から基板端子7までリード端
子4で接合されているので、熱による樹脂モールド体5
と基板6の熱などの影響による変形差で生じる応力をリ
ード端子4が変形して吸収することができる。 (4)さらに半導体装置中央部より半導体ペレット裏面
電位制御用の端子が設けてあるので半導体ペレットの裏
面電位制御が可能となる。
【0054】以上のように、本発明の第5実施例によれ
ば、第1実施例の特徴および効果に加え、さらに半導体
ペレット1裏面側から導電性接着剤13を介してリード
端子4が設けてある為、裏面電位を制御する必要がある
半導体(例えばSilicon on Insulat
orなど)の裏面電位制御が容易にできる。
【0055】(第6実施例) 図6は本発明の第6実施例の構成図(その1)であり、
図6(a)は装置全体の断面図、図6(b)は図6
(a)の側面図(A部詳細図)、図6(c)は図6
(b)の底面図であり、図7は本発明の第6実施例の構
成図(その2)であり、図7(a)は装置全体の断面
図、図7(b)は図7(a)の底面図である。
【0056】半導体ペレット1表面に形成された電極2
からワイヤー3が鉄や銅などからなるリード端子4に配
線されており、リード端子4は曲げ加工がされている。
リード端子4は前記第1実施例のものと同じである。
【0057】樹脂モールド体5は半導体ペレット1とワ
イヤー3とワイヤー3が配線されているリード端子4の
表面を覆うように形成され、基板6の電極2への接続の
為に樹脂モールド体5外部のリード端子4の表面は半田
層8で覆われている。
【0058】図7(a)に示すように半導体装置の4隅
にはリードフレームのサポートバー20延長部分で形成
された固定部21があり、各固定部21には位置出し用
の穴22が形成されている。
【0059】リード端子4は、図6(b)に示すリード
端子4の幅が300μm以下に設定されていることが好
ましい。リード端子4は、樹脂封止端から基板端子7固
着部までのリード端子4の長さが約200μm以上に形
成されていることが好ましい。
【0060】本発明の第6実施例は、リード端子4およ
び半導体装置の4隅の固定部21に位置出し用の穴22
を設けたことによって以下の特徴を有する。 (1)半導体ペレット1に接着されているダイパッド1
0とリード端子4とが充填された樹脂モールド体5によ
り分離されることである。これにより、従来のように半
導体ペレットとダイパッド10との間に外部から水分が
侵入することを阻止できる。 (2)半導体装置の4隅の固定部21に位置出し穴22
を設けたことにより、リード端子4と基板端子7の位置
合せが高精度で行える。 (3)半導体装置を基板6に接合した場合に、半導体装
置は樹脂と基板6までリード端子4で接合されているの
で、熱による樹脂と基板6の変形差で生じる応力をリー
ド端子4で吸収することができる。 (4)さらに、4隅の位置出し穴22を基準にすること
により、リード端子4と基板端子7の位置合せが高精度
で行える。
【0061】以上のように、本発明の第6実施例によれ
ば、第1実施例の特徴および効果に加え、さらに半導体
装置を基板6に搭載する時、リード端子部は四隅の位置
出し穴22より高輝度で位置の制御ができるので基板端
子7のピッチが狭い場合においても位置合せができる。
【0062】(第7実施例) 図8は本発明の第7実施例の製造工程図(その1)であ
り、図8(a)はリードフレームの平面図、図8(b)
は端子折り曲げ後のリードフレームの平面図、図8
(c)はペレットを搭載し、配線した後のリードフレー
ムの平面図であり、図9は本発明の第7実施例の製造工
程図(その2)であり、図9(a)は型込め行程図、図
9(b)は樹脂注入行程図、図9(c)は端子曲げ行程
図、図9(d)は枠フレーム切断行程図、図9(e)は
支持バー切断行程図、図9(f)は完成図である。
【0063】リードフレーム23は、ペレットを搭載す
るダイパッド10と、それから4隅に向かって延びるサ
ポートバー20と、サポートバー20間にダイパッド1
0の各辺と平行して延びる支持バー24と、支持バー2
4の両側に設けられる配線用端子4と外側端子25とか
ら形成されている。一列に並ぶ全ての外側端子25を連
結する支持バー24は、樹脂封止される位置26より外
側に設けられている。リード端子4は、外側端子25と
配線用端子からなる。
【0064】次に、リードフレーム23の外側端子25
をワイヤー配線用端子4列の外側、即ち、図8(b)に
示すように支持バー24を含んで配線用端子4から裏方
向へ直角に折り曲げる。
【0065】次に、図8(c)に示すように、接着剤を
介してダイパッド10に半導体ペレット1を接合し、半
導体ペレット1とリード端子4をワイヤー3にて配線す
る。
【0066】次に、図9(a)に示すように、樹脂封止
用の金型30の下型31に形成された端子穴33に外側
端子25を挿入しながら、リードフレーム23を下型3
1に設置し、上型32を載せる。
【0067】次に、図9(b)に示すように、金型31
内に樹脂を注入、封止する。
【0068】次に、図9(c)に示すように、金型30
から取り出し、樹脂外部に露出した外側端子25表面に
半田を付着させ、外側端子25をローラ34で曲げる。
【0069】次に、図9(d)に示すように、樹脂外側
の枠フレーム27を切断する。
【0070】最後に、図9(e)に示すように、高速回
転する外周刃35で外側端子25、の支持バー24を切
断し、図9(f)に示すような半導体装置を完成する。
【0071】このリードフレーム23では、複数列リー
ド端子4が配置された支持バー24とダイパッドサポー
トバー20の交点を外側端子25リード形成の曲げ加工
されない位置、即ち、樹脂封止される位置26よりも樹
脂封止される側に設ける。これにより、曲げ加工時、前
記交点が曲げ加工によって切断され、曲げ加工ができな
くなることを阻止できる。
【0072】ワイヤー配線のリード端子4は樹脂で表裏
が保護されているので、リード端子4の個々の分離加工
によるストレスの影響をワイヤ配線部分に与えることが
ない以上のように、第7実施例によれば、ワイヤー3が
配線されているリード端子4は表裏共に樹脂に覆われて
いるので、従来ボール・グリッド・アレイ(BGA)の
端子を形成する加工時に発生していたストレスによる、
樹脂とリード端子4との界面での剥離が、生じない。こ
れによってワイヤー3の断線が生じることはない。
【0073】(第8実施例) 図10は本発明の第8実施例の製造工程図(その1)で
あり、図10(a)はリードフレームの平面図、図10
(b)は端子折り曲げ後のリードフレームの平面図、図
10(c)はペレットを搭載し、配線した後のリードフ
レームの平面図であり、図11は本発明の第8実施例の
製造工程図(その2)であり、図11(a)は型込め行
程図、図11(b)は樹脂注入行程図、図11(c)は
端子曲げ行程図、図11(d)は枠フレーム切断行程
図、図11(e)は支持バー切削行程図、図11(f)
は完成図である。
【0074】図10(a)に示すように、リードフレー
ム23は、ペレットを搭載するダイパッド10と、それ
から四隅に向かって延びるサポートバー20と、サポー
トバー20間にダイパッド10の各辺と平行して延びる
支持バー24と、支持バー24の片側、ダイパッド10
寄りに設けられる外側端子25およびその先に設けられ
る配線用端子4の一体形成体とから形成されている。一
列に並ぶ全ての外側端子25と支持バー24は、樹脂封
止される位置26より外側に設けられている。
【0075】次に、図10(b)に示すように、リード
フレーム23の外側端子25および支持バー24を配線
用端子4列の外側を側面図のように裏方向へ直角に折り
曲げる。
【0076】次に、図10(c)に示すように、接着剤
を介してダイパッド10に半導体ペレット1を接合し、
半導体ペレット1とリード端子4をワイヤー3にて配線
する。
【0077】次に、図11(a)に示すように、端子を
曲げた先端位置に突起を形成する為の窪み36のある樹
脂封止用の金型30の下型31に形成された端子穴33
に外側端子25および支持バー24を挿入しながら、リ
ードフレーム23を下型31に設置し、上型32を載せ
る。
【0078】次に、図11(b)に示すように、金型3
0内に樹脂を注入、封止する。
【0079】次に、図11(c)に示すように、金型3
0から取り出し、外側端子25を樹脂の突起19に接触
するまでローラ34で曲げる。
【0080】次に、図11(d)に示すように、樹脂外
側の枠フレーム27を切断する。
【0081】最後に、図11(e)、(f)に示すよう
に、高速回転する砥石37で樹脂13の突起19により
突き出した外側端子25の支持バー24を削り、外側端
子25に半田処理する。
【0082】このリードフレーム23では、複数列リー
ド端子4が配置された支持バー24とダイパッドサポー
トバー20の交点を外側端子25リード形成の曲げ加工
されない位置、即ち、樹脂封止される位置26よりも樹
脂封止される側に設ける。これにより、曲げ加工時、前
記交点が曲げ加工によって切断され、曲げ加工ができな
くなることを阻止できる。
【0083】ワイヤー配線のリード端子4は樹脂で表裏
が保護されているので、リード端子4の個々の分離加工
によるストレスの影響をワイヤ配線部分に与えることが
ない。
【0084】さらに、支持バー24を樹脂の突起により
突き出し、研磨加工により支持バー24を除去するので
一度に多数の半導体装置の端子分割ができる。
【0085】以上のように、第8実施例によれば、ワイ
ヤー3が配線されているリード端子4は表裏共に樹脂モ
ールド体5に覆われているので、従来BGAの端子を形
成する加工時に発生していたストレスによる、樹脂モー
ルド体5とリード端子4との界面での剥離は生じない。
よってワイヤー3の断線が生じることはない。
【0086】さらに、外側端子25の分割を研磨加工で
実施しているので一度に多数の半導体装置の端子分割が
可能になり、加工時間が短くなり生産コストの低減が可
能になる。
【0087】(他の実施の形態) (1)第1から第6実施例では樹脂の外側に突出するリ
ード端子4はいずれも装置の内側、即ち、装置の中心に
向かう方向に向けて曲げ加工したが、外側、即ち、装置
の中心から外側に向かう方向に向けて曲げ加工すること
も可能である。
【0088】(2)第4実施例ではリード端子4の接触
部9の穴12は円形状であったが、位置出しを目的とす
るので多角形形状や溝でも可能である。
【0089】(3)第1から第6実施例では樹脂モール
ド体5の外側に突出するリード端子4に半田層8を形成
してあったが、リード端子4の接触部9にボールを接合
することも可能である。
【0090】(4)第6実施例では半導体装置の四隅に
位置出し穴22を設けた形状であるが、位置出し穴22
は1つから3つのうちの任意の値でも可能である。
【0091】(5)第6実施例では半導体装置の4隅の
位置出し穴22は円形状であるが、多角形でも可能であ
る。
【0092】(6)第7実施例では半導体装置の端子分
割は外周刃による切削加工であるが、レーザー加工や高
圧液体ジェット加工による加工方法も適用可能である。
【0093】(7)第1から第8実施例では各辺のリー
ド端子4は2列の場合であったが、任意の複数列でも可
能である。
【0094】
【発明の効果】本発明は、以上述べた事項により、下記
の効果を奏する。
【0095】(1)封止樹脂体の内部であってダイパッ
ドと第1の水平部との間に位置し第2のボンディングワ
イヤを介して第2の電極と電気的に接続される第3の水
平部と、該第3の水平部から垂直下方に延在し一端は該
封止樹脂体から露出する第2の下方伸長部と、該第2の
下方伸長部の一端と接続し内側に向かって延在する第4
の水平部とにより構成される複数の第2のリード群とを
備えることにより、複数のリード群を配置することがで
き、また、半導体装置ペレットが設けられているダイパ
ッドとリード端子とは封止樹脂体により分離することが
できる。 (2)リード端子の周囲が樹脂封止されているので、リ
ード端子と樹脂モールド体との間の防水効果を奏する。
【0096】(3)半導体ペレットに接着されているダ
イパッドとリード端子とが充填された樹脂モールド体に
より分離されるので、従来のように半導体ペレットとダ
イパッドとの間に外部から水分が侵入することを阻止で
きる。
【0097】(4)リード端子の接触部の形状が円形状
になっているため、一端子あたりの基板接合面積が増大
し、基板に加わる衝撃荷重による剥離が生じない。
【0098】(5)半導体装置を基板に搭載する時、リ
ード端子の形状に沿った突部形状をした樹脂モールド体
がリード高さのバラツキを吸収してリード端子の平坦性
を保ちながら接合を行うので、全ての端子を均一に接合
することができ、接合不良が低減できる。
【0099】(6)リード端子の接触部を中央に穴のあ
る形状としているため、突起のあるソケット端子がリー
ド端子の穴に挿入でき接触が容易に行われるので電気試
験における接触不良を防止できる。
【0100】(7)半導体ペレットの裏面側からリード
端子が設けてある為、裏面電位を制御する必要がある半
導体(例えばSilicon onInsulator
など)の裏面電位制御が容易にできる。
【0101】()ワイヤー配線のリード端子は樹脂モ
ールド体で表裏が保護されているので、リード端子の個
々の分離加工によるストレスの影響をワイヤ配線部分に
与えることがない。
【0102】()ワイヤーが配線されているリード端
子は表裏共に樹脂モールド体に覆われているので、従来
BGAの端子を形成する加工時に発生していたストレス
による、樹脂モールド体とリード端子との界面での剥離
が生じない。
【0103】(10)外側端子の分割を研磨加工で実施
しているので一度に多数の半導体装置の端子分割が可能
になり、加工時間が短くなり生産コストの低減が可能に
なる。
【0104】(11)従来の樹脂封止型のパッケージに
対しては、側面からリード端子が出ないため、実装面積
を小さくでき、裏面に例えば千鳥状にリード端子を出す
ことにより多ピン化に対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は本発明の第1実施例の構成図である。
【図2】図2は本発明の第2実施例の構成図である。
【図3】図3は本発明の第3実施例の構成図である。
【図4】図4は本発明の第4実施例の構成図である。
【図5】図5は本発明の第5実施例の構成図である。
【図6】図6は本発明の第6実施例の構成図(その1)
である。
【図7】図7は本発明の第6実施例の構成図(その2)
である。
【図8】図8は本発明の第7実施例の製造工程図(その
1)である。
【図9】図9は本発明の第7実施例の製造工程図(その
2)である。
【図10】図10は本発明の第8実施例の製造工程図
(その1)である。
【図11】図11は本発明の第8実施例の製造工程図
(その2)である。
【符号の説明】
1 半導体ペレット 2 電極 3 ワイヤー 4 リード端子 5 樹脂モールド体 6 基板 7 基板端子 8 半田層 9 接触部 10 ダイパッド 11 樹脂突起 12 穴 13 導電性接着剤 19 突起 20 サポートバー 21 固定部 22 位置出し穴 23 リードフレーム 24 支持バー 25 外側端子(リード端子) 26 樹脂封止された位置 27 枠フレーム 30 金型 31 下型 32 上型 33 端子穴 34 ローラ 35 外周刃 36 窪み 37 砥石
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/12 H01L 23/28 H01L 23/48 - 23/50

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】封止樹脂体と、前記封止樹脂体の内部に位
    置するダイパッドと、前記封止樹脂体の内部であって前
    記ダイパッド上に設けられ、主面に第 1 及び第 2 の電極が
    形成される半導体チップと、前記封止樹脂体の内部に位
    置し第 1 のボンディングワイヤを介して前記第 1 の電極と
    電気的に接続される前記ダイパッドと平行な第 1 の水平
    部と、該第 1 の水平部から垂直下方に延在し一端は該封
    止樹脂体から露出する第1の下方伸長部と、該第1の下
    方伸長部の一端と接続し内側に向かって延在する第2の
    水平部とにより構成される複数の第1のリード群と、前
    記封止樹脂体の内部であって前記ダイパッドと前記第1
    の水平部との間に位置し第2のボンディングワイヤを介
    して前記第2の電極と電気的に接続される第3の水平部
    と、該第3の水平部から垂直下方に延在し一端は該封止
    樹脂体から露出する第2の下方伸長部と、該第2の下方
    伸長部の一端と接続し内側に向かって延在する第4の水
    平部とにより構成される複数の第2のリード群とを備え
    たことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】前記封止樹脂体は、該封止樹脂体から露出
    している前記第1及び第2の下方伸長部と前記第2及び
    第4の水平部とにより構成される折曲形状に沿って突部
    が形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導
    体装置。
  3. 【請求項3】封止樹脂体と、前記封止樹脂体の内部に位
    置するダイパッドと、前記封止樹脂体の内部に位置し、
    前記ダイパッド上に設けられ、主面に電極が形成される
    半導体チップと、前記封止樹脂体の内部に位置しボンデ
    ィングワイヤを介して前記電極と電気的に接続される前
    記ダイパッドと平行な第1の水平部と、該第1の水平部
    から垂直下方に延在し一端は該封止樹脂体から露出する
    下方伸長部と、該下方伸長部の一端と接続し該ダイパッ
    ドと平行な第2の水平部とにより構成されるリード部と
    を備え、前記第2の水平部の一部は円形であることを特
    徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】前記第2の水平部の一部に穴が形成されて
    いることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】封止樹脂体と、前記封止樹脂体の内部に位
    置するダイパッドと、前記封止樹脂体の内部に位置し、
    前記ダイパッド上に設けられ、主面に電極が形成される
    半導体チップと、前記封止樹脂体の内部に位置しボンデ
    ィングワイヤを介して前記電極と電気的に接続される前
    記ダイパッドと平行な第1の水平部と、該第1の水平部
    から垂直下方に延在し一端は該封止樹脂体から露出する
    下方伸長部と、該下方伸長部の一端と接続し該ダイパッ
    ドと平行な第2の水平部とにより構成される複数のリー
    ド部とを備え、前記複数のリード部のいずれか一つの第
    1の水平部は前記ダイパッドと接続されていることを特
    徴とする半導体装置
  6. 【請求項6】 複数のリード端子と配線用端子を連設し
    た複数列の支持バーがダイパッドサポートに連設された
    リードフレームにおける外側端子を装置底面側に曲げ加
    工する工程と、リードフレームのダイパッドに半導体ペ
    レットを固定し、半導体ペレットと配線用端子にワイヤ
    ー配線する工程と、リード端子を樹脂モールド体底面か
    ら露出するように樹脂を封止する工程と、リード端子を
    半田付着させ曲げ加工する工程と、切削刃でリード端子
    の支持バーを切削分割する工程を、順に施すことを特徴
    とする半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 複数のリード端子と配線用端子を連設し
    た複数列の支持バーがダイパッドサポートに連設された
    リードフレームにおける外側端子を装置底面側に曲げ加
    工する工程と、リードフレームのダイパッドに半導体ペ
    レットを固定し、半導体ペレットと配線用端子にワイヤ
    ー配線する工程と、樹脂モールド体底面からリード端子
    を露出し樹脂突起を突設するように樹脂を封止する工程
    と、リード端子を半導体装置底面に形成された樹脂突起
    に沿って曲げ加工する工程と、研磨刃でリード端子の支
    持バーを切削分割する工程を、順に施すことを特徴とす
    る半導体装置の製造方法。
JP2001253513A 2001-08-23 2001-08-23 半導体装置およびその製造方法 Expired - Fee Related JP3497847B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001253513A JP3497847B2 (ja) 2001-08-23 2001-08-23 半導体装置およびその製造方法
US10/212,171 US7239008B2 (en) 2001-08-23 2002-08-06 Semiconductor apparatus and method for fabricating the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001253513A JP3497847B2 (ja) 2001-08-23 2001-08-23 半導体装置およびその製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003358924A Division JP4103764B2 (ja) 2003-10-20 2003-10-20 リードフレーム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003068935A JP2003068935A (ja) 2003-03-07
JP3497847B2 true JP3497847B2 (ja) 2004-02-16

Family

ID=19081826

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001253513A Expired - Fee Related JP3497847B2 (ja) 2001-08-23 2001-08-23 半導体装置およびその製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7239008B2 (ja)
JP (1) JP3497847B2 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7901995B2 (en) * 2002-02-11 2011-03-08 Gabe Cherian Interconnections resistant to wicking
FR2854498B1 (fr) * 2003-04-29 2005-09-16 St Microelectronics Sa Boitier semi-conducteur a capteur optique s'installant a l'interieur d'un objet.
US20070004092A1 (en) * 2003-08-29 2007-01-04 Hiromichi Suzuki Semiconductor device manufacturing method
US6940013B2 (en) * 2003-11-14 2005-09-06 Vlt, Inc. Surface mounting a power converter
US8629537B2 (en) * 2006-01-23 2014-01-14 Stats Chippac Ltd. Padless die support integrated circuit package system
US7449369B2 (en) * 2006-01-23 2008-11-11 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system with multiple molding
US20080185695A1 (en) * 2007-02-07 2008-08-07 Kim Hong Hyoun Package-on-package device and method for manufacturing the same by using a leadframe
TW200840000A (en) * 2007-03-16 2008-10-01 Advanced Semiconductor Eng Multi-chip package with a single die pad
KR101412913B1 (ko) * 2012-07-31 2014-06-26 삼성전기주식회사 반도체 패키지, 반도체 패키지 제조 방법 및 반도체 패키지 제조 금형
JP6357371B2 (ja) * 2014-07-09 2018-07-11 新光電気工業株式会社 リードフレーム、半導体装置及びリードフレームの製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01113359A (ja) 1987-10-23 1989-05-02 Kao Corp 新規な両性化合物
US4989117A (en) * 1990-02-12 1991-01-29 Rogers Corporation Molded integrated circuit package incorporating thin decoupling capacitor
JPH04256351A (ja) 1991-02-08 1992-09-11 Nec Corp Icパッケージ
JPH05291460A (ja) 1992-04-13 1993-11-05 Hitachi Ltd 樹脂封止型半導体フラットパッケージ
US5367124A (en) * 1993-06-28 1994-11-22 International Business Machines Corporation Compliant lead for surface mounting a chip package to a substrate
US5455446A (en) * 1994-06-30 1995-10-03 Motorola, Inc. Leaded semiconductor package having temperature controlled lead length
US5616953A (en) * 1994-09-01 1997-04-01 Micron Technology, Inc. Lead frame surface finish enhancement
JPH11204713A (ja) * 1998-01-09 1999-07-30 Sony Corp 半導体装置用リードフレーム及び半導体装置
KR20000071375A (ko) 1999-02-25 2000-11-25 윌리엄 비. 켐플러 땜납 볼을 모방한 융기를 갖는 집적 회로 소자 및 그 제조방법
US6437429B1 (en) * 2001-05-11 2002-08-20 Walsin Advanced Electronics Ltd Semiconductor package with metal pads
US7057273B2 (en) * 2001-05-15 2006-06-06 Gem Services, Inc. Surface mount package

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003068935A (ja) 2003-03-07
US20030038361A1 (en) 2003-02-27
US7239008B2 (en) 2007-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6927096B2 (en) Method of manufacturing a semiconductor device
US6649448B2 (en) Method of manufacturing a semiconductor device having flexible wiring substrate
JP2001015679A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH10313082A (ja) 半導体装置とその製造方法
US6677219B2 (en) Method of forming a ball grid array package
JP3497847B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3150253B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法並びに実装方法
JPH0455341B2 (ja)
US5382546A (en) Semiconductor device and method of fabricating same, as well as lead frame used therein and method of fabricating same
KR19980042513A (ko) 반도체장치 및 반도체장치용 리이드프레임
US6331738B1 (en) Semiconductor device having a BGA structure
JP4038021B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP4103764B2 (ja) リードフレーム
JP3599031B2 (ja) 半導体装置
JP4175343B2 (ja) 半導体ペレット及び半導体装置
KR960000221B1 (ko) 반도체 패키지
JPH02211643A (ja) 半導体装置
JP3439890B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
KR100199854B1 (ko) 칩 스케일 패키지용 리드 프레임 및 그를 이용한 칩 스케일 패키지
JP3474408B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3706379B2 (ja) 半導体ペレット
KR100351038B1 (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
JP3632883B2 (ja) 半導体装置
JP2004179300A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH08340074A (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20031118

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3497847

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060909

A072 Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072

Effective date: 20070206

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081128

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081128

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091128

Year of fee payment: 6

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091128

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101128

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101128

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111128

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128

Year of fee payment: 9

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128

Year of fee payment: 9

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121128

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131128

Year of fee payment: 10

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees