JP3495605B2 - 印刷用版材及びその再生方法 - Google Patents
印刷用版材及びその再生方法Info
- Publication number
- JP3495605B2 JP3495605B2 JP22911098A JP22911098A JP3495605B2 JP 3495605 B2 JP3495605 B2 JP 3495605B2 JP 22911098 A JP22911098 A JP 22911098A JP 22911098 A JP22911098 A JP 22911098A JP 3495605 B2 JP3495605 B2 JP 3495605B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating layer
- printing
- plate material
- printing plate
- titanium oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 238000004064 recycling Methods 0.000 title claims description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 84
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 58
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims description 42
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 36
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 20
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 10
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims description 10
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 230000009471 action Effects 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 3
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 acryl Chemical group 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- MASDFXZJIDNRTR-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trimethylsilyl)urea Chemical compound C[Si](C)(C)NC(=O)N[Si](C)(C)C MASDFXZJIDNRTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCCl KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOOMLFKONHCLCJ-UHFFFAOYSA-N N-(trimethylsilyl)diethylamine Chemical compound CCN(CC)[Si](C)(C)C JOOMLFKONHCLCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100258086 Postia placenta (strain ATCC 44394 / Madison 698-R) STS-01 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100422634 Postia placenta (strain ATCC 44394 / Madison 698-R) STS-02 gene Proteins 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCJHMXXKIKBHQP-UHFFFAOYSA-N dichloro-(3-chloropropyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCl UCJHMXXKIKBHQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAHVZNKZQFSBFW-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-trimethylsilylmethanamine Chemical compound CN(C)[Si](C)(C)C KAHVZNKZQFSBFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N n-trimethylsilylacetamide Chemical compound CC(=O)N[Si](C)(C)C LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、印刷用版材及びそ
の再生方法に関するものである。
の再生方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】印刷技術一般としては、昨今、印刷工程
のデジタル化が進行しつつある。これは、スキャナ等で
読み込んだ画像データを、パソコン等を介することによ
ってデジタルデータ化し、このデータをそのまま利用す
ることによって版を作製しようとする試みである。この
ことによって、印刷作業の省力化が図れると共に、高精
細な印刷を行うことも可能となる。
のデジタル化が進行しつつある。これは、スキャナ等で
読み込んだ画像データを、パソコン等を介することによ
ってデジタルデータ化し、このデータをそのまま利用す
ることによって版を作製しようとする試みである。この
ことによって、印刷作業の省力化が図れると共に、高精
細な印刷を行うことも可能となる。
【0003】ところで、従来、印刷に用いる版材として
は、いわゆるPS版が一般的に知られている。これは、
陽極酸化アルミニウムを親水性の非画線部とし、その表
面上に感光性樹脂を硬化させて形成した疎水性の画線部
を有するものとなっている。印刷は、上記疎水性の画線
部に付着したインクが紙面上に転移することによって行
われる。もっとも、このPS版は、上記した印刷工程デ
ジタル化に対応できるものとはなっていない。
は、いわゆるPS版が一般的に知られている。これは、
陽極酸化アルミニウムを親水性の非画線部とし、その表
面上に感光性樹脂を硬化させて形成した疎水性の画線部
を有するものとなっている。印刷は、上記疎水性の画線
部に付着したインクが紙面上に転移することによって行
われる。もっとも、このPS版は、上記した印刷工程デ
ジタル化に対応できるものとはなっていない。
【0004】一方で上記PS版の他、印刷工程のデジタ
ル化に対応して、版の作製を容易にする方法も提案され
ている。例えば、PETフィルム上に、カーボンブラッ
ク等のレーザ吸収層、さらにその上にシリコン樹脂層を
塗布したものに、レーザ光線で画線を書き込むことによ
りレーザ吸収層を発熱させ、その熱によりシリコン樹脂
層を焼きとばして版を作製する方法が知られている。ま
た、アルミニウム版の上に親油性のレーザ吸収層を塗布
し、さらにその上に塗布した親水層を前記と同様にレー
ザ光線で焼き飛ばして版とする方法等も知られている。
ル化に対応して、版の作製を容易にする方法も提案され
ている。例えば、PETフィルム上に、カーボンブラッ
ク等のレーザ吸収層、さらにその上にシリコン樹脂層を
塗布したものに、レーザ光線で画線を書き込むことによ
りレーザ吸収層を発熱させ、その熱によりシリコン樹脂
層を焼きとばして版を作製する方法が知られている。ま
た、アルミニウム版の上に親油性のレーザ吸収層を塗布
し、さらにその上に塗布した親水層を前記と同様にレー
ザ光線で焼き飛ばして版とする方法等も知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来技
術においては以下のような問題があった。まず、上記P
S版においては、その作製に多くの時間とコストを必要
とするため、特に少数部数の印刷においては印刷コスト
アップの要因となっていた。また、一つの絵柄の印刷が
終わり次の印刷を行う際には、版の交換作業が必要とな
り、従前までに使用されていた版は廃棄処分となってい
た。さらに、PS版は、上述したように、印刷工程のデ
ジタル化に対応できるものとなっていない。すなわち、
PS版では、デジタルデータから版を直接作製すること
ができず、省力化や高精細印刷を実現するための印刷工
程デジタル化を実現することが不可能であった。
術においては以下のような問題があった。まず、上記P
S版においては、その作製に多くの時間とコストを必要
とするため、特に少数部数の印刷においては印刷コスト
アップの要因となっていた。また、一つの絵柄の印刷が
終わり次の印刷を行う際には、版の交換作業が必要とな
り、従前までに使用されていた版は廃棄処分となってい
た。さらに、PS版は、上述したように、印刷工程のデ
ジタル化に対応できるものとなっていない。すなわち、
PS版では、デジタルデータから版を直接作製すること
ができず、省力化や高精細印刷を実現するための印刷工
程デジタル化を実現することが不可能であった。
【0006】また、上記デジタル化に対応した版の作
製、すなわちPETフィルムを用いるものやアルミニウ
ム版を用いるものは、確かにデジタルデータから直接版
を作製することは可能であるが、一つの絵柄に関して印
刷が終わると新しい版に交換しなければ印刷ができな
い。つまり、一度使った版が廃棄処分となる事情に関し
ては上記PS版と変わりはない。すなわち、その相応分
印刷に係るコストが上昇することとなっていた。また、
近年とみに提唱されるようになった地球環境保護という
立場からも、一度使用した版を廃棄処分とするのは、好
ましい状況といえるものではない。
製、すなわちPETフィルムを用いるものやアルミニウ
ム版を用いるものは、確かにデジタルデータから直接版
を作製することは可能であるが、一つの絵柄に関して印
刷が終わると新しい版に交換しなければ印刷ができな
い。つまり、一度使った版が廃棄処分となる事情に関し
ては上記PS版と変わりはない。すなわち、その相応分
印刷に係るコストが上昇することとなっていた。また、
近年とみに提唱されるようになった地球環境保護という
立場からも、一度使用した版を廃棄処分とするのは、好
ましい状況といえるものではない。
【0007】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、印刷工程のデジタル化に
対応しつつ再利用が可能であるような印刷用版材及びそ
れを用いた印刷機を提供することにある。
で、その目的とするところは、印刷工程のデジタル化に
対応しつつ再利用が可能であるような印刷用版材及びそ
れを用いた印刷機を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の課題を
解決するために以下の手段をとった。すなわち、請求項
1記載の印刷用版材は、基材の表面に直接又は中間層を
介し、酸化チタン光触媒のバンドギャップエネルギより
も高いエネルギをもつ波長の光、すなわち活性光を照射
することにより水酸基が予め形成されている酸化チタン
光触媒を含むコート層と、該コート層上に前記活性光を
照射することで分解可能な化合物からなる塗布層とを備
えていることを特徴とするものである。
解決するために以下の手段をとった。すなわち、請求項
1記載の印刷用版材は、基材の表面に直接又は中間層を
介し、酸化チタン光触媒のバンドギャップエネルギより
も高いエネルギをもつ波長の光、すなわち活性光を照射
することにより水酸基が予め形成されている酸化チタン
光触媒を含むコート層と、該コート層上に前記活性光を
照射することで分解可能な化合物からなる塗布層とを備
えていることを特徴とするものである。
【0009】 この印刷用版材の表面は、化合物及び酸
化チタン光触媒の作用により、疎水性を示す部分と、親
水性を示す部分とのそれぞれに領域を分けることが可能
である。なお、親水性部分は前記塗布層を有するコート
層表面に活性光を照射することにより現出される。そし
て、当該親水性に変換された部分をインキの付着しない
非画線部、残る疎水性部分をインキの付着する画線部と
して利用することにより、印刷用版材としての機能を発
揮することが可能となる。また、基材と前記コート層と
の間に中間層を介した場合には、当該コート層の付着強
度を十分に保つことが可能となる。また、請求項2に記
載の印刷用版材は、前記塗布層が前記水酸基と反応する
化合物からなることを特徴とする。
化チタン光触媒の作用により、疎水性を示す部分と、親
水性を示す部分とのそれぞれに領域を分けることが可能
である。なお、親水性部分は前記塗布層を有するコート
層表面に活性光を照射することにより現出される。そし
て、当該親水性に変換された部分をインキの付着しない
非画線部、残る疎水性部分をインキの付着する画線部と
して利用することにより、印刷用版材としての機能を発
揮することが可能となる。また、基材と前記コート層と
の間に中間層を介した場合には、当該コート層の付着強
度を十分に保つことが可能となる。また、請求項2に記
載の印刷用版材は、前記塗布層が前記水酸基と反応する
化合物からなることを特徴とする。
【0010】 また、請求項3記載の印刷用版材は、前
記塗布層表面が、版作製時の初期状態において、水の接
触角が少なくとも50゜以上の疎水性を示すことを特徴と
する。
記塗布層表面が、版作製時の初期状態において、水の接
触角が少なくとも50゜以上の疎水性を示すことを特徴と
する。
【0011】これによれば、版作製時の初期状態におい
ては、版全面が画線部となり得る状態であるといえる。
ては、版全面が画線部となり得る状態であるといえる。
【0012】 また、請求項4記載の印刷用版材は、前
記塗布層表面に前記活性光を照射することにより、前記
コート層表面を現出させると共に該コート層表面を水の
接触角が10゜以下となる親水性表面に変換することを特
徴とする。
記塗布層表面に前記活性光を照射することにより、前記
コート層表面を現出させると共に該コート層表面を水の
接触角が10゜以下となる親水性表面に変換することを特
徴とする。
【0013】これによれば、酸化チタン光触媒のバンド
ギャップエネルギより高いエネルギをもつ波長の光を照
射したコート層表面が、親水性表面に変換されることか
ら、その部分を非画線部として利用することが可能とな
る。ところで、この親水化処理においては、以下に示す
ような作用がえられることを示唆している。すなわち、
前記酸化チタン光触媒による、その本来的な「触媒」作
用により前記化合物の分解が促進されるという作用、及
び酸化チタン光触媒表面自身が水の接触角が10゜以下と
なる親水性表面となる作用である。したがって、この場
合においては、前記親水化処理を速やかに完了し得るこ
とが推測されることになる。また、この紫外線照射は、
例えば、印刷しようとする画像に準拠したデジタルデー
タに基づいて行われるようにすることが可能であり、こ
の場合、本発明による印刷用版材は、印刷工程のデジタ
ル化に対応したものとなっているということがいえる。
ギャップエネルギより高いエネルギをもつ波長の光を照
射したコート層表面が、親水性表面に変換されることか
ら、その部分を非画線部として利用することが可能とな
る。ところで、この親水化処理においては、以下に示す
ような作用がえられることを示唆している。すなわち、
前記酸化チタン光触媒による、その本来的な「触媒」作
用により前記化合物の分解が促進されるという作用、及
び酸化チタン光触媒表面自身が水の接触角が10゜以下と
なる親水性表面となる作用である。したがって、この場
合においては、前記親水化処理を速やかに完了し得るこ
とが推測されることになる。また、この紫外線照射は、
例えば、印刷しようとする画像に準拠したデジタルデー
タに基づいて行われるようにすることが可能であり、こ
の場合、本発明による印刷用版材は、印刷工程のデジタ
ル化に対応したものとなっているということがいえる。
【0014】 また、請求項5記載の印刷用版材は、版
作製時の初期状態において、水の接触角が少なくとも50
゜以上の疎水性を示す前記塗布層表面に前記活性光を照
射することにより、当該活性光の照射された領域におい
て前記コート層表面を現出させるとともに該コート層表
面を水の接触角が10゜以下の親水性表面に変換し、当該
親水性となる表面を非画線部、残る疎水性表面を画線部
として利用することを特徴とするものである。
作製時の初期状態において、水の接触角が少なくとも50
゜以上の疎水性を示す前記塗布層表面に前記活性光を照
射することにより、当該活性光の照射された領域におい
て前記コート層表面を現出させるとともに該コート層表
面を水の接触角が10゜以下の親水性表面に変換し、当該
親水性となる表面を非画線部、残る疎水性表面を画線部
として利用することを特徴とするものである。
【0015】 これは、上述した請求項3及び請求項4
に記載した発明と同様な作用を有する印刷用版材である
ということがいえる。したがって、この印刷用版材は、
親水化処理において酸化チタン光「触媒」の本来的作用
を生かすことが可能であると共に、印刷工程のデジタル
化にも対応可能となっているものといえる。また、請求
項6記載の印刷機は、酸化チタン光触媒を含むコート層
を少なくとも有する印刷用版材を備えた版胴と、酸化チ
タン光触媒のバンドギャップエネルギよりも高いエネル
ギをもつ波長の光、すなわち活性光を照射することで分
解可能な化合物を含む疎水化処理液を前記印刷用版材に
塗布するコーティング装置と、前記印刷用版材表面に塗
布された前記疎水化処理液からなる塗布層を乾燥させる
乾燥装置と、前記印刷用版材、および前記印刷用版材上
に形成された前記塗布層に向けて前記活性光を発して画
像を書き込む書き込み装置と、前記塗布層表面に印刷用
のインキを塗布するインキングローラと、印刷終了後に
前記印刷用版材に付着した前記インキを主体とする付着
物をふき取る版クリーニング装置とを備えることを特徴
とする。
に記載した発明と同様な作用を有する印刷用版材である
ということがいえる。したがって、この印刷用版材は、
親水化処理において酸化チタン光「触媒」の本来的作用
を生かすことが可能であると共に、印刷工程のデジタル
化にも対応可能となっているものといえる。また、請求
項6記載の印刷機は、酸化チタン光触媒を含むコート層
を少なくとも有する印刷用版材を備えた版胴と、酸化チ
タン光触媒のバンドギャップエネルギよりも高いエネル
ギをもつ波長の光、すなわち活性光を照射することで分
解可能な化合物を含む疎水化処理液を前記印刷用版材に
塗布するコーティング装置と、前記印刷用版材表面に塗
布された前記疎水化処理液からなる塗布層を乾燥させる
乾燥装置と、前記印刷用版材、および前記印刷用版材上
に形成された前記塗布層に向けて前記活性光を発して画
像を書き込む書き込み装置と、前記塗布層表面に印刷用
のインキを塗布するインキングローラと、印刷終了後に
前記印刷用版材に付着した前記インキを主体とする付着
物をふき取る版クリーニング装置とを備えることを特徴
とする。
【0016】 また、請求項7記載の印刷用版材の再生
方法は、基材の表面に直接又は中間層を介し、酸化チタ
ン光触媒のバンドギャップエネルギよりも高いエネルギ
をもつ波長の光、すなわち活性光を照射することにより
水酸基が予め形成されている酸化チタン光触媒を含むコ
ート層と、該コート層上に前記活性光を照射することで
分解可能な化合物からなる塗布層とを備えている印刷用
版材にあって、印刷終了後、その面内において少なくと
も一部が親水性を示す前記コート層表面を含む印刷用版
材表面に付着したインキを主体とする付着物をふき取る
工程と、前記活性光を照射して少なくとも版材表面の一
部に存在する前記塗布層を構成する化合物を分解すると
共に、前記コート層表面に前記水酸基を形成する工程
と、その後前記塗布層を再形成し水の接触角が50゜以上
となる疎水性表面を現出させる工程と、さらにその後当
該塗布層表面に前記活性光を照射し画像書き込みする工
程とを少なくとも含むことを特徴とするものである。
方法は、基材の表面に直接又は中間層を介し、酸化チタ
ン光触媒のバンドギャップエネルギよりも高いエネルギ
をもつ波長の光、すなわち活性光を照射することにより
水酸基が予め形成されている酸化チタン光触媒を含むコ
ート層と、該コート層上に前記活性光を照射することで
分解可能な化合物からなる塗布層とを備えている印刷用
版材にあって、印刷終了後、その面内において少なくと
も一部が親水性を示す前記コート層表面を含む印刷用版
材表面に付着したインキを主体とする付着物をふき取る
工程と、前記活性光を照射して少なくとも版材表面の一
部に存在する前記塗布層を構成する化合物を分解すると
共に、前記コート層表面に前記水酸基を形成する工程
と、その後前記塗布層を再形成し水の接触角が50゜以上
となる疎水性表面を現出させる工程と、さらにその後当
該塗布層表面に前記活性光を照射し画像書き込みする工
程とを少なくとも含むことを特徴とするものである。
【0017】これによれば、化合物を塗布することによ
り、コート層表面は疎水性に変換されることになるか
ら、このとき、この印刷用版材は請求項3に記載したも
のと同様なもの、すなわち、印刷用版材は初期状態にな
ったとみなすことが可能である。また、このことはつま
り、印刷用版材の再利用が可能となっていることを意味
している。さらに、上記事実、すなわち疎水性への変換
作業は実質的に化合物の塗布作業のみによるということ
から、当該作業は速やかに完了することが可能であると
いえる。
り、コート層表面は疎水性に変換されることになるか
ら、このとき、この印刷用版材は請求項3に記載したも
のと同様なもの、すなわち、印刷用版材は初期状態にな
ったとみなすことが可能である。また、このことはつま
り、印刷用版材の再利用が可能となっていることを意味
している。さらに、上記事実、すなわち疎水性への変換
作業は実質的に化合物の塗布作業のみによるということ
から、当該作業は速やかに完了することが可能であると
いえる。
【0018】 また、請求項8記載の印刷用版材の再生
方法は、請求項5記載の印刷用版材の再生方法を、印刷
機上で行うことを特徴とする。
方法は、請求項5記載の印刷用版材の再生方法を、印刷
機上で行うことを特徴とする。
【0019】これによれば、実際に印刷を行う際におい
て、前記疎水性への変換に係る作業時に一般に伴うと考
えられる印刷作業の中断を挟むことなく、連続的な印刷
作業を実施することが可能となる。
て、前記疎水性への変換に係る作業時に一般に伴うと考
えられる印刷作業の中断を挟むことなく、連続的な印刷
作業を実施することが可能となる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下では、本発明の実施の形態に
ついて、図を参照して説明する。図1は、本実施形態に
係る印刷用版材の表面をも示す断面図を示している。図
1において、基材1はアルミニウムで構成されている。
なお、アルミニウムを印刷用版材として用いるのは極め
て一般的な形態といえるが、ただし、本発明はこのこと
に限定されるものではない。
ついて、図を参照して説明する。図1は、本実施形態に
係る印刷用版材の表面をも示す断面図を示している。図
1において、基材1はアルミニウムで構成されている。
なお、アルミニウムを印刷用版材として用いるのは極め
て一般的な形態といえるが、ただし、本発明はこのこと
に限定されるものではない。
【0021】基材1表面上には、中間層2が形成されて
いる。中間層2としては、例えば、シリカ(SiO2)、
シリコーン樹脂、シリコーンゴム等のシリコン系化合物
がその材質として利用される。そのうち特に、シリコー
ン樹脂としては、シリコーンアルキド、シリコーンウレ
タン、シリコーンエポキシ、シリコーンアクリル、シリ
コーンポリエステル等が使用される。この中間層2は、
前記基材1と後述するコート層3との付着を確実なもの
とならしめるため、また密着性を確保するために形成さ
れているものである。すなわち、基材1と中間層2と
を、またコート層3と中間層2とを、それぞれ確実に密
着させることによって、結果、基材1とコート層3との
付着強度を確保することとなっている。
いる。中間層2としては、例えば、シリカ(SiO2)、
シリコーン樹脂、シリコーンゴム等のシリコン系化合物
がその材質として利用される。そのうち特に、シリコー
ン樹脂としては、シリコーンアルキド、シリコーンウレ
タン、シリコーンエポキシ、シリコーンアクリル、シリ
コーンポリエステル等が使用される。この中間層2は、
前記基材1と後述するコート層3との付着を確実なもの
とならしめるため、また密着性を確保するために形成さ
れているものである。すなわち、基材1と中間層2と
を、またコート層3と中間層2とを、それぞれ確実に密
着させることによって、結果、基材1とコート層3との
付着強度を確保することとなっている。
【0022】中間層2上には、酸化チタン光触媒を含む
コート層3が形成されている。このコート層3表面にお
いては、版作製時の初期状態に疎水性を示し、紫外線を
照射することによって親水性を示す部分を現出させるこ
とが可能となっている。この性質は、前記酸化チタン光
触媒の備える性質に依るものである。なお、このことに
ついては後に詳しく説明することとする。
コート層3が形成されている。このコート層3表面にお
いては、版作製時の初期状態に疎水性を示し、紫外線を
照射することによって親水性を示す部分を現出させるこ
とが可能となっている。この性質は、前記酸化チタン光
触媒の備える性質に依るものである。なお、このことに
ついては後に詳しく説明することとする。
【0023】このコート層3には、前記性質、すなわち
疎水性から親水性への変換特性を改良するため、あるい
は当該コート層3の強度や基材1との密着性を向上させ
ることを目的として、次に示すような物質を添加したも
のとしてよい。この物質とは、例えば、シリカ、シリカ
ゾル、オルガノシラン、シリコン樹脂等のシリカ系化合
物、また、ジルコニウム、アルミニウム等からなる金属
酸化物又は金属水酸化物、さらにはフッ素系樹脂を挙げ
ることができる。なお、酸化チタン光触媒の強い酸化力
を考慮すると、コート層3の組成は無機化合物の方が、
コート層3の劣化を防ぐという観点から好ましいものと
いえる。
疎水性から親水性への変換特性を改良するため、あるい
は当該コート層3の強度や基材1との密着性を向上させ
ることを目的として、次に示すような物質を添加したも
のとしてよい。この物質とは、例えば、シリカ、シリカ
ゾル、オルガノシラン、シリコン樹脂等のシリカ系化合
物、また、ジルコニウム、アルミニウム等からなる金属
酸化物又は金属水酸化物、さらにはフッ素系樹脂を挙げ
ることができる。なお、酸化チタン光触媒の強い酸化力
を考慮すると、コート層3の組成は無機化合物の方が、
コート層3の劣化を防ぐという観点から好ましいものと
いえる。
【0024】また、酸化チタン光触媒そのものとして
は、結晶構造がそれぞれ異なるアナターゼ型とルチル型
とがあり、本実施形態においては両者とも利用可能であ
るが、一般的には光触媒作用が高いアナターゼ型の方が
好ましい。また、版面に書き込む画像の解像度を高めて
高精細印刷を可能とするため、及び薄い膜厚となるコー
ト層3を形成することも視野内に収めることを可能とす
るため、酸化チタン光触媒の粒径は0.1μm以下であるこ
とが好ましい。
は、結晶構造がそれぞれ異なるアナターゼ型とルチル型
とがあり、本実施形態においては両者とも利用可能であ
るが、一般的には光触媒作用が高いアナターゼ型の方が
好ましい。また、版面に書き込む画像の解像度を高めて
高精細印刷を可能とするため、及び薄い膜厚となるコー
ト層3を形成することも視野内に収めることを可能とす
るため、酸化チタン光触媒の粒径は0.1μm以下であるこ
とが好ましい。
【0025】なお、使用する酸化チタン光触媒として
は、市販されていて、かつ本実施形態において使用可能
なものを具体的に列挙すれば、石原産業製のST-01、
ST-21、その加工品ST-K01、ST-K03、水分散タイ
プSTS-01、STS-02、STS-21、また、堺化学工
業製のSSP-25、SSP-20、SSP-M、CSB、CS
B-M、塗料タイプのLACTI-01、テイカ製のATM-10
0、ATM-600、ST-157等を挙げることができる。た
だし、本発明はこれらの酸化チタン光触媒以外にあって
も適用可能なことはもちろんである。
は、市販されていて、かつ本実施形態において使用可能
なものを具体的に列挙すれば、石原産業製のST-01、
ST-21、その加工品ST-K01、ST-K03、水分散タイ
プSTS-01、STS-02、STS-21、また、堺化学工
業製のSSP-25、SSP-20、SSP-M、CSB、CS
B-M、塗料タイプのLACTI-01、テイカ製のATM-10
0、ATM-600、ST-157等を挙げることができる。た
だし、本発明はこれらの酸化チタン光触媒以外にあって
も適用可能なことはもちろんである。
【0026】また、コート層3の膜厚は、0.01〜10μm
の範囲内にあることが好ましい。というのは、膜厚があ
まりに小さければ、前記した性質を十分に生かすことが
困難となるし、また、膜厚があまりに大きければ、コー
ト層3がヒビ割れしやすくなり、耐刷性低下の要因とな
るためである。なお、このヒビ割れは、膜厚が50μmを
越えるようなときに顕著に観察されるから、前記範囲を
緩和するとしても当該50μmをその上限として認識する
必要がある。また、実際上は2〜3μm程度の膜厚とな
るのが一般的な形態であるといえる。
の範囲内にあることが好ましい。というのは、膜厚があ
まりに小さければ、前記した性質を十分に生かすことが
困難となるし、また、膜厚があまりに大きければ、コー
ト層3がヒビ割れしやすくなり、耐刷性低下の要因とな
るためである。なお、このヒビ割れは、膜厚が50μmを
越えるようなときに顕著に観察されるから、前記範囲を
緩和するとしても当該50μmをその上限として認識する
必要がある。また、実際上は2〜3μm程度の膜厚とな
るのが一般的な形態であるといえる。
【0027】さらに、このコート層3の形成方法として
は、ゾル塗布法、有機チタネート法、蒸着法等を適宜選
択して形成すればよい。このとき例えば、塗布法を採用
するのであれば、それに用いられる塗布液には、酸化チ
タン光触媒及び前記コート層3の強度や基材1との密着
性を向上させる前記各種の物質の他に、溶剤、架橋剤、
界面活性剤等を添加しても良い。また塗布液は、常温乾
燥タイプでも加熱乾燥タイプでも良いが、後者の方を作
用する方がより好ましい。というのは、加熱によりコー
ト層3の強度を高めた方が、版の耐刷性を向上させるの
に有利となるからである。
は、ゾル塗布法、有機チタネート法、蒸着法等を適宜選
択して形成すればよい。このとき例えば、塗布法を採用
するのであれば、それに用いられる塗布液には、酸化チ
タン光触媒及び前記コート層3の強度や基材1との密着
性を向上させる前記各種の物質の他に、溶剤、架橋剤、
界面活性剤等を添加しても良い。また塗布液は、常温乾
燥タイプでも加熱乾燥タイプでも良いが、後者の方を作
用する方がより好ましい。というのは、加熱によりコー
ト層3の強度を高めた方が、版の耐刷性を向上させるの
に有利となるからである。
【0028】コート層3上には、酸化チタン光触媒のバ
ンドギャップエネルギよりも高いエネルギをもつ波長の
光を照射することで分解可能な化合物からなる塗布層4
が形成されている。この塗布層4表面は、図1に示すよ
うに、水の接触角が少なくとも50゜以上の疎水性を示す
ようになっている。ちなみに、接触角が80゜以上となる
ようにすればより好ましい状態であるといえる。この状
態においては、図1からも察することが可能なように、
水が塗布層4表面に付着することが困難、すなわちいわ
ゆる撥水性が極めて高い状態となっているから、逆に言
えば印刷用インキが塗布層4表面上に付着することが容
易な状態が現出されているといえる。
ンドギャップエネルギよりも高いエネルギをもつ波長の
光を照射することで分解可能な化合物からなる塗布層4
が形成されている。この塗布層4表面は、図1に示すよ
うに、水の接触角が少なくとも50゜以上の疎水性を示す
ようになっている。ちなみに、接触角が80゜以上となる
ようにすればより好ましい状態であるといえる。この状
態においては、図1からも察することが可能なように、
水が塗布層4表面に付着することが困難、すなわちいわ
ゆる撥水性が極めて高い状態となっているから、逆に言
えば印刷用インキが塗布層4表面上に付着することが容
易な状態が現出されているといえる。
【0029】以下では、上記構成となる印刷用版材に関
する作用及び効果について説明する。 まず、印刷用版
材作製時の初期状態においては、前記コート層3表面
を、図1に示すように、水の接触角が少なくとも50゜以
上の疎水性を示すように調整しておく。ここでいう「版
作製時の初期状態」及び「疎水性を示すように調整」す
るということは、具体的には以下のような事情を指す。
まず、「疎水性を示すように調整」するとは、コート層
3表面に紫外線照射により分解可能な化合物からなる塗
布層4を形成し、かつそれを乾燥させることによって行
われる。なお、この塗布には、スプレーコーティング、
ブレードコーティング、ディプコーティング、ロールコ
ーティング等の方法を適宜採用すればよい。また、乾燥
は、常温又は加熱のいずれによる方法であっても良い。
そして、これら「調整」によりコート層3表面が疎水性
となったときを指して、「版作製時の初期状態」である
旨規定するものである。
する作用及び効果について説明する。 まず、印刷用版
材作製時の初期状態においては、前記コート層3表面
を、図1に示すように、水の接触角が少なくとも50゜以
上の疎水性を示すように調整しておく。ここでいう「版
作製時の初期状態」及び「疎水性を示すように調整」す
るということは、具体的には以下のような事情を指す。
まず、「疎水性を示すように調整」するとは、コート層
3表面に紫外線照射により分解可能な化合物からなる塗
布層4を形成し、かつそれを乾燥させることによって行
われる。なお、この塗布には、スプレーコーティング、
ブレードコーティング、ディプコーティング、ロールコ
ーティング等の方法を適宜採用すればよい。また、乾燥
は、常温又は加熱のいずれによる方法であっても良い。
そして、これら「調整」によりコート層3表面が疎水性
となったときを指して、「版作製時の初期状態」である
旨規定するものである。
【0030】 上記化合物としては、前記表面に疎水性
を付与する作用を有することはもちろん、それとともに
紫外線照射によって「容易に」酸化分解反応されるもの
が好ましい。具体的には、(1) トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキ
シシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルト
リエトキシシラン等のアルコキシシラン (2) トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、
ジメチルクロロシラン等のクロロシラン(3) ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-クロ
ロプロピルメチルジクロロシラン、γ-クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、γ-クロロプロピルメチルジ
エトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラ
ン等のシランカップリング剤 (4) ヘキサメチルジシラザン、N,N’-ビス(トリ
メチルシリル)ウレア、N-トリメチルシリルアセトア
ミド、ジメチルトリメチルシリルアミン、ジエチルトリ
メチルシリルアミン等のシラザン(5) パーフロロアルキルトリメトキシシラン等のフロ
ロアルキルシラン等が挙げられる。ただし、本発明はこ
れらの化合物のみに限られるものでないことは言うまで
もない。さらに、これらの化合物は必要に応じて溶剤で
希釈して使用してももちろん良い。
を付与する作用を有することはもちろん、それとともに
紫外線照射によって「容易に」酸化分解反応されるもの
が好ましい。具体的には、(1) トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシ
シラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキ
シシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、テトラエトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルト
リエトキシシラン等のアルコキシシラン (2) トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、
ジメチルクロロシラン等のクロロシラン(3) ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-クロ
ロプロピルメチルジクロロシラン、γ-クロロプロピル
メチルジメトキシシラン、γ-クロロプロピルメチルジ
エトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラ
ン等のシランカップリング剤 (4) ヘキサメチルジシラザン、N,N’-ビス(トリ
メチルシリル)ウレア、N-トリメチルシリルアセトア
ミド、ジメチルトリメチルシリルアミン、ジエチルトリ
メチルシリルアミン等のシラザン(5) パーフロロアルキルトリメトキシシラン等のフロ
ロアルキルシラン等が挙げられる。ただし、本発明はこ
れらの化合物のみに限られるものでないことは言うまで
もない。さらに、これらの化合物は必要に応じて溶剤で
希釈して使用してももちろん良い。
【0031】なお、上記でいう「版作製時の初期状態」
ということを、より一般的にいえば、実際上の印刷工程
におけるその開始時とみなしてよい。つまり、ある与え
られた任意の画像に関して、それをデジタル化したデー
タが既に用意されていて、これを版材上に書き込みしよ
うとするときの状態を指すものとみなせる。ただし、こ
のデジタル化データが用意される段階が、後述するコー
ト層3表面に関する親水化処理を施した後であってもよ
く、いま述べたことは厳密に解されるべきではない。つ
まり、「版作製時の初期状態」を、上記のように「実際
上の印刷工程開始時」と定義するときには、それを広義
に解釈するものとする。
ということを、より一般的にいえば、実際上の印刷工程
におけるその開始時とみなしてよい。つまり、ある与え
られた任意の画像に関して、それをデジタル化したデー
タが既に用意されていて、これを版材上に書き込みしよ
うとするときの状態を指すものとみなせる。ただし、こ
のデジタル化データが用意される段階が、後述するコー
ト層3表面に関する親水化処理を施した後であってもよ
く、いま述べたことは厳密に解されるべきではない。つ
まり、「版作製時の初期状態」を、上記のように「実際
上の印刷工程開始時」と定義するときには、それを広義
に解釈するものとする。
【0032】次に、上記状態となる塗布層4表面に対し
て、図2に示すような紫外線照射を実施する。この紫外
線照射は、前記した画像に関するデジタルデータに準拠
して、そのデータに対応するように行われる。なお、こ
こでいう紫外線とは、酸化チタン光触媒のバンドギャッ
プエネルギより高いエネルギをもつ波長の光のことであ
る。より具体的には、波長400nm以下の光を含む紫外
線である。
て、図2に示すような紫外線照射を実施する。この紫外
線照射は、前記した画像に関するデジタルデータに準拠
して、そのデータに対応するように行われる。なお、こ
こでいう紫外線とは、酸化チタン光触媒のバンドギャッ
プエネルギより高いエネルギをもつ波長の光のことであ
る。より具体的には、波長400nm以下の光を含む紫外
線である。
【0033】この紫外線照射によって、同じく図2に示
すように、塗布層4を構成する前記化合物が分解される
ことで、そのコート層3表面が現出すると共に当該表面
が親水性を示すように変換される。これは酸化チタン光
触媒の作用によるものである。なお、化合物の分解は、
酸化チタン光「触媒」としての本来的な作用により進行
するため、極めて速やかに完了することとなる。これら
のことによって、コート層3表面における紫外線が照射
された領域は、水の接触角が10゜以下の状態となる。こ
の状態は、先の塗布層4における疎水性表面の状態とち
ょうど逆の関係となるものである。すなわち、水は殆ど
膜状にコート層3表面に広がることとなるが、印刷用イ
ンキはこの表面に付着することが不可能となる。
すように、塗布層4を構成する前記化合物が分解される
ことで、そのコート層3表面が現出すると共に当該表面
が親水性を示すように変換される。これは酸化チタン光
触媒の作用によるものである。なお、化合物の分解は、
酸化チタン光「触媒」としての本来的な作用により進行
するため、極めて速やかに完了することとなる。これら
のことによって、コート層3表面における紫外線が照射
された領域は、水の接触角が10゜以下の状態となる。こ
の状態は、先の塗布層4における疎水性表面の状態とち
ょうど逆の関係となるものである。すなわち、水は殆ど
膜状にコート層3表面に広がることとなるが、印刷用イ
ンキはこの表面に付着することが不可能となる。
【0034】ちなみに、酸化チタン光触媒が、紫外線照
射によって親水化する機構に関しては、概ね次のように
言われている。酸化チタン光触媒が非親水性となるとき
には、図3左方に示すように、表面において酸素がブリ
ッジされた状態となっている。このため水分子が表面に
付着することがなく、結果疎水性を発揮することにな
る。一方、これに紫外線を照射すると、先の酸素のブリ
ッジ状態が解かれ、図3右方に示すように、水酸基が表
面上にあらわれる。そして、この水酸基が、表面上に存
在する水を吸着して親水性を発揮することになる。な
お、この水酸基が表面上に露出した形態は、放置してお
けば自然に元の疎水性表面へと移行しようとする。つま
り、酸素がブリッジされた状態の方が、化学的には安定
であるといえる。
射によって親水化する機構に関しては、概ね次のように
言われている。酸化チタン光触媒が非親水性となるとき
には、図3左方に示すように、表面において酸素がブリ
ッジされた状態となっている。このため水分子が表面に
付着することがなく、結果疎水性を発揮することにな
る。一方、これに紫外線を照射すると、先の酸素のブリ
ッジ状態が解かれ、図3右方に示すように、水酸基が表
面上にあらわれる。そして、この水酸基が、表面上に存
在する水を吸着して親水性を発揮することになる。な
お、この水酸基が表面上に露出した形態は、放置してお
けば自然に元の疎水性表面へと移行しようとする。つま
り、酸素がブリッジされた状態の方が、化学的には安定
であるといえる。
【0035】上記までの処理が終了したら、塗布層4あ
るいは親水化処理されたコート層3表面に印刷用インキ
を塗布する。すると、例えば図4に示すような印刷用版
材が作製されることになる。この図において、ハッチン
グされた部分が上記親水化処理のなされなかった部分、
すなわち疎水性部分又は塗布層4が残存する部分であ
り、したがって、印刷用インキが付着した画線部を示し
ており、一方の白地の部分、すなわち親水性部分又はコ
ート層3表面部分は印刷用インキがはじかれて、その付
着がなされなかった非画線部を示している。このように
絵柄が浮かび上がることにより、この印刷用版材は親版
としての作用を有することになる。
るいは親水化処理されたコート層3表面に印刷用インキ
を塗布する。すると、例えば図4に示すような印刷用版
材が作製されることになる。この図において、ハッチン
グされた部分が上記親水化処理のなされなかった部分、
すなわち疎水性部分又は塗布層4が残存する部分であ
り、したがって、印刷用インキが付着した画線部を示し
ており、一方の白地の部分、すなわち親水性部分又はコ
ート層3表面部分は印刷用インキがはじかれて、その付
着がなされなかった非画線部を示している。このように
絵柄が浮かび上がることにより、この印刷用版材は親版
としての作用を有することになる。
【0036】この後、通常の印刷工程を実行しこれを終
了させる。そして、この印刷を終えた印刷用版材に対し
ては、再び上述したような化合物からなる塗布層4の形
成を行う。したがって、印刷用版材は、この塗布を終え
た段階で再び「版作製時の初期状態」に復帰しているこ
とになる。つまり、このときコート層3表面上には、印
刷用インキの付着が全面に付着可能な塗布層4が形成さ
れ疎水性を示していることとなり、この表面に再び紫外
線照射を行えば印刷用の新たな親版を作製することが可
能となる。端的に言えば、本実施形態における印刷用版
材は、その再利用が、言い換えれば繰り返し利用が可能
なものとなっているものである。
了させる。そして、この印刷を終えた印刷用版材に対し
ては、再び上述したような化合物からなる塗布層4の形
成を行う。したがって、印刷用版材は、この塗布を終え
た段階で再び「版作製時の初期状態」に復帰しているこ
とになる。つまり、このときコート層3表面上には、印
刷用インキの付着が全面に付着可能な塗布層4が形成さ
れ疎水性を示していることとなり、この表面に再び紫外
線照射を行えば印刷用の新たな親版を作製することが可
能となる。端的に言えば、本実施形態における印刷用版
材は、その再利用が、言い換えれば繰り返し利用が可能
なものとなっているものである。
【0037】以上説明したことを、まとめて示している
のが図5に示すグラフである。これは、横軸に時間、縦
軸に水の接触角をとったグラフであって、本実施形態に
おける印刷用版材に関して、その表面の水の接触角(す
なわち、疎水、親水状態)が時間と共にどのように遷移
するかを示したものである。なお、この図は、酸化チタ
ン光触媒単独では疎水性に係る性能が十分ではない(紫
外線照射前の水の接触角が50゜以上とならない)が、疎
水性から親水性への変換が速やかに完了する能力を備え
た酸化チタン光触媒を利用した場合について示したもの
となっている。
のが図5に示すグラフである。これは、横軸に時間、縦
軸に水の接触角をとったグラフであって、本実施形態に
おける印刷用版材に関して、その表面の水の接触角(す
なわち、疎水、親水状態)が時間と共にどのように遷移
するかを示したものである。なお、この図は、酸化チタ
ン光触媒単独では疎水性に係る性能が十分ではない(紫
外線照射前の水の接触角が50゜以上とならない)が、疎
水性から親水性への変換が速やかに完了する能力を備え
た酸化チタン光触媒を利用した場合について示したもの
となっている。
【0038】これによれば、まず、当初のコート層3表
面においては、上記に述べたように、水の接触角が20〜
30゜であって疎水性能が十分でない。したがって、この
ままでは画線部として用いるには不十分であり、印刷用
版材としてこれを利用することができない。ただし、こ
の酸化チタン光触媒は、図に示すように、紫外線を照射
すると速やかに親水性表面へと変換する能力を備えてい
る。通常にあっては、この変換は10min程度かかるのが
一般的であるが、この例においては1〜2minでそれが
完了していることがわかる。
面においては、上記に述べたように、水の接触角が20〜
30゜であって疎水性能が十分でない。したがって、この
ままでは画線部として用いるには不十分であり、印刷用
版材としてこれを利用することができない。ただし、こ
の酸化チタン光触媒は、図に示すように、紫外線を照射
すると速やかに親水性表面へと変換する能力を備えてい
る。通常にあっては、この変換は10min程度かかるのが
一般的であるが、この例においては1〜2minでそれが
完了していることがわかる。
【0039】次に、コート層3表面に化合物を塗布す
る、すなわち塗布層4を形成することによって、版材の
疎水性は、図5中曲線Aを経て点Bに示すように十分な
状態となる。すなわち、インキの付着が可能となって印
刷の使用に供することが可能な状態となる。また、これ
がつまり「版作製時の初期状態」(図5中点B)であ
る。なお、この「版作製時の初期状態」を現出するため
には、上記したように実質的に化合物を塗布するのみで
よいから、極めて短時間のうちにこれを完了できること
は明らかである。
る、すなわち塗布層4を形成することによって、版材の
疎水性は、図5中曲線Aを経て点Bに示すように十分な
状態となる。すなわち、インキの付着が可能となって印
刷の使用に供することが可能な状態となる。また、これ
がつまり「版作製時の初期状態」(図5中点B)であ
る。なお、この「版作製時の初期状態」を現出するため
には、上記したように実質的に化合物を塗布するのみで
よいから、極めて短時間のうちにこれを完了できること
は明らかである。
【0040】この後、紫外線照射を行い、前記化合物を
分解すると共に、コート層3表面の少なくとも一部を親
水性部分として変換する。なおこの場合において、疎水
性から親水性への変換速度が大きい上記のような酸化チ
タン光触媒を用いていること、また、化合物の分解が先
に述べたように酸化チタン光「触媒」の本来的な作用に
より速やかに完了すること、の両作用によって、この酸
化チタン光触媒における疎水性から親水性への変換は、
図5中曲線Cに示すように、1〜2minで完了すること
が可能となっている。
分解すると共に、コート層3表面の少なくとも一部を親
水性部分として変換する。なおこの場合において、疎水
性から親水性への変換速度が大きい上記のような酸化チ
タン光触媒を用いていること、また、化合物の分解が先
に述べたように酸化チタン光「触媒」の本来的な作用に
より速やかに完了すること、の両作用によって、この酸
化チタン光触媒における疎水性から親水性への変換は、
図5中曲線Cに示すように、1〜2minで完了すること
が可能となっている。
【0041】上記処理が施された印刷用版材には印刷用
インキが付着され、図5中直線Dに示すように、実際の
印刷が行われることになる。以下、印刷が終了すると、
印刷用版材には、化合物の塗布、紫外線照射等の処理が
上記同様に施されて再利用に供されることになる。
インキが付着され、図5中直線Dに示すように、実際の
印刷が行われることになる。以下、印刷が終了すると、
印刷用版材には、化合物の塗布、紫外線照射等の処理が
上記同様に施されて再利用に供されることになる。
【0042】いま述べたように、本実施形態における印
刷用版材は、再利用が可能となっているという利点もさ
ることながら、そのサイクルを迅速化できる利点をも備
えている。すなわち、上記によれば、疎水性を付与する
にも、親水性を付与するにも、いずれにしても、それら
を実現するための作業に時間がかからないこととなって
いる。したがって、印刷工程全体を極めて速やかに完了
することが可能なものとなっている。
刷用版材は、再利用が可能となっているという利点もさ
ることながら、そのサイクルを迅速化できる利点をも備
えている。すなわち、上記によれば、疎水性を付与する
にも、親水性を付与するにも、いずれにしても、それら
を実現するための作業に時間がかからないこととなって
いる。したがって、印刷工程全体を極めて速やかに完了
することが可能なものとなっている。
【0043】以下では、印刷用版材の作製及び印刷に係
る、本願発明者らが確認したより具体的な実施例につい
て説明する。まず、その面積が葉書サイズ、厚さが0.3m
mのアルミニウム製の基材を用意し、これに堺化学工業
製プライマーLAC PR-01を塗布、乾燥させた。乾燥後
のプライマーの厚みは1.4μmであった。なお、このプラ
イマー層とは、図1における中間層2に対応しているこ
とになる。その後、石原産業性の酸化チタン光触媒コー
ティング剤ST-K03を塗布し150℃で乾燥させて、厚み
0.8μmのコート層3を成膜した。さらに、このコート層
3表面に、東芝シリコーン製のオクタデシルトリメトキ
シシラン(商品名TSL8185)をエタノールにて3wt%濃
度に希釈して5分間ゆっくり撹拌し、さらにこの溶液に
対して酢酸を2000ppm添加し再度5分間ゆっくり撹拌し
て疎水化処理液としたものを、ロールコーティングによ
り塗布した。そしてこれを120℃で乾燥させて、上記ま
でに何度か説明した「版作製時の初期状態」を現出させ
た。
る、本願発明者らが確認したより具体的な実施例につい
て説明する。まず、その面積が葉書サイズ、厚さが0.3m
mのアルミニウム製の基材を用意し、これに堺化学工業
製プライマーLAC PR-01を塗布、乾燥させた。乾燥後
のプライマーの厚みは1.4μmであった。なお、このプラ
イマー層とは、図1における中間層2に対応しているこ
とになる。その後、石原産業性の酸化チタン光触媒コー
ティング剤ST-K03を塗布し150℃で乾燥させて、厚み
0.8μmのコート層3を成膜した。さらに、このコート層
3表面に、東芝シリコーン製のオクタデシルトリメトキ
シシラン(商品名TSL8185)をエタノールにて3wt%濃
度に希釈して5分間ゆっくり撹拌し、さらにこの溶液に
対して酢酸を2000ppm添加し再度5分間ゆっくり撹拌し
て疎水化処理液としたものを、ロールコーティングによ
り塗布した。そしてこれを120℃で乾燥させて、上記ま
でに何度か説明した「版作製時の初期状態」を現出させ
た。
【0044】上記疎水化処理液(すなわち、オクタデシ
ルトリメトキシシラン)を塗布した版材について、その
版材表面のほぼ中央部を一辺が2cmの正方形の黒い紙で
マスキングし、マスキングしていない部分に照度40mW/c
m2の紫外線を「2分間」照射した後、マスキング部分と
紫外線照射部分について直ちに協和界面化学製のCA−
W型接触角計を用いて水の接触角を測定したところ、こ
れら両部分の接触角はそれぞれ80゜以上、0〜2゜と
なり、マスキング部分は画線部としての十分な疎水性、
紫外線照射部分は非画線部としての十分な親水性を示し
た。
ルトリメトキシシラン)を塗布した版材について、その
版材表面のほぼ中央部を一辺が2cmの正方形の黒い紙で
マスキングし、マスキングしていない部分に照度40mW/c
m2の紫外線を「2分間」照射した後、マスキング部分と
紫外線照射部分について直ちに協和界面化学製のCA−
W型接触角計を用いて水の接触角を測定したところ、こ
れら両部分の接触角はそれぞれ80゜以上、0〜2゜と
なり、マスキング部分は画線部としての十分な疎水性、
紫外線照射部分は非画線部としての十分な親水性を示し
た。
【0045】この版材をSAN PRINTING MACHINRS社製のS
AN OFF-SET 220E DX型カード印刷機に取り付け、東洋イ
ンキ製のインキHYECOO B紅MZと三菱重工業製の湿し水
リソフェロー1%溶液を用いて、アイベスト紙に印刷速
度2500枚/時にて印刷を行った。その結果、紫外線を照
射した部分の版面にはインキが付着せず、マスキングし
た版材部分に相当する一辺が2cmの正方形の紅色画像を
紙面上に印刷できた。
AN OFF-SET 220E DX型カード印刷機に取り付け、東洋イ
ンキ製のインキHYECOO B紅MZと三菱重工業製の湿し水
リソフェロー1%溶液を用いて、アイベスト紙に印刷速
度2500枚/時にて印刷を行った。その結果、紫外線を照
射した部分の版面にはインキが付着せず、マスキングし
た版材部分に相当する一辺が2cmの正方形の紅色画像を
紙面上に印刷できた。
【0046】また、これに続いて、印刷を終了した上記
印刷用版材に対して、上述したと同様な方法により疎水
化処理液を塗布しこれを乾燥させ、さらに版材表面中央
部に直径が2cmの円形の黒いマスキングをして照度40mW
/cm2の紫外線を2分間照射したものを試作した。これは
すなわち、印刷用版材の再利用を図る際に実施される処
理となる。これによっても、紫外線照射部分における水
の接触角は0〜2゜となり、非画線部として十分な親水
性を示すと共に、実際の印刷においてもマスキングした
版材部分に相当する直径が2cmの円形の紅色画像を紙面
上に印刷することができた。
印刷用版材に対して、上述したと同様な方法により疎水
化処理液を塗布しこれを乾燥させ、さらに版材表面中央
部に直径が2cmの円形の黒いマスキングをして照度40mW
/cm2の紫外線を2分間照射したものを試作した。これは
すなわち、印刷用版材の再利用を図る際に実施される処
理となる。これによっても、紫外線照射部分における水
の接触角は0〜2゜となり、非画線部として十分な親水
性を示すと共に、実際の印刷においてもマスキングした
版材部分に相当する直径が2cmの円形の紅色画像を紙面
上に印刷することができた。
【0047】次に、カード印刷機に版を取り付けた状態
で、版面上に付着したインキと湿し水をふき取り、ロー
ルコーティングにより前記疎水化処理液を塗布した後、
120℃の熱風で乾燥させて、版材表面を疎水化した。こ
の疎水化処理した版のほぼ中央部を一辺が2cmの正三角
形の黒い紙でマスキングし、マスキングしていない部分
に照度40mW/cm2の紫外線を10分間照射した。この版材
を上述したのと同様にして印刷をおこなったところ、紫
外線を照射した部分の版面にはインキが付着せず、マス
キングした版材部分に相当する一辺が2cmの正三角形の
紅色画像が紙面上に印刷できた。
で、版面上に付着したインキと湿し水をふき取り、ロー
ルコーティングにより前記疎水化処理液を塗布した後、
120℃の熱風で乾燥させて、版材表面を疎水化した。こ
の疎水化処理した版のほぼ中央部を一辺が2cmの正三角
形の黒い紙でマスキングし、マスキングしていない部分
に照度40mW/cm2の紫外線を10分間照射した。この版材
を上述したのと同様にして印刷をおこなったところ、紫
外線を照射した部分の版面にはインキが付着せず、マス
キングした版材部分に相当する一辺が2cmの正三角形の
紅色画像が紙面上に印刷できた。
【0048】なお、上記印刷は、図6に示すような印刷
機10を用いて行った。すなわち、この印刷機10は、
版胴11を中心として、その周囲にコーティング装置1
2、ブラン胴13、版クリーニング装置14、書き込み
装置15、インキングローラ16、及び乾燥装置17を
備えたものとなっている。印刷用版材は、版胴11に巻
き付けられて設置されている。
機10を用いて行った。すなわち、この印刷機10は、
版胴11を中心として、その周囲にコーティング装置1
2、ブラン胴13、版クリーニング装置14、書き込み
装置15、インキングローラ16、及び乾燥装置17を
備えたものとなっている。印刷用版材は、版胴11に巻
き付けられて設置されている。
【0049】この印刷機10において、上記したように
印刷を終了した版を再利用に供する実際の工程は、次の
ように行われる。まず、版クリーニング装置14を版胴
11に対して接した状態とし、版材の最外表面、すなわ
ち版面上に付着したインキと湿し水をふき取る。その
後、版クリーニング装置14を版胴11から離脱させ、
コーティング装置12を版胴11に接した状態とする。
このことによって、前記疎水化処理液が版材上に塗布さ
れていく。この後、コーティング装置12を版胴11か
ら離脱させて乾燥装置17を稼働させ、疎水化処理液の
乾燥を行う。次に、予め用意された画像のデジタルデー
タに基づき、書き込み装置15の発する紫外線によって
その疎水化された版材表面に画像を書き込む。以上の工
程が終了したら、インキングローラ16、ブラン胴13
を版胴11に対して接する状態とする。そして、紙18
がブラン胴13に接するよう、かつ図6に示す矢印の方
向に流れていくことによって、連続的な印刷が行われる
ようになっている。
印刷を終了した版を再利用に供する実際の工程は、次の
ように行われる。まず、版クリーニング装置14を版胴
11に対して接した状態とし、版材の最外表面、すなわ
ち版面上に付着したインキと湿し水をふき取る。その
後、版クリーニング装置14を版胴11から離脱させ、
コーティング装置12を版胴11に接した状態とする。
このことによって、前記疎水化処理液が版材上に塗布さ
れていく。この後、コーティング装置12を版胴11か
ら離脱させて乾燥装置17を稼働させ、疎水化処理液の
乾燥を行う。次に、予め用意された画像のデジタルデー
タに基づき、書き込み装置15の発する紫外線によって
その疎水化された版材表面に画像を書き込む。以上の工
程が終了したら、インキングローラ16、ブラン胴13
を版胴11に対して接する状態とする。そして、紙18
がブラン胴13に接するよう、かつ図6に示す矢印の方
向に流れていくことによって、連続的な印刷が行われる
ようになっている。
【0050】以上説明したように、本実施形態における
印刷用版材は、酸化チタン光触媒のもつ性質、すなわち
疎水性から親水性への変換性質を利用することにより、
その再利用を可能とし、使用後に廃棄される版材の量を
著しく減少させることができる。したがって、その分、
版材に関わるコストを大幅に低減することができる。ま
た、画像に係るデジタルデータから、版材への画像書き
込みは、光(紫外線)によって直接実施することが可能
であることから、印刷工程のデジタル化対応が成されて
おり、その相応分の大幅な時間短縮、またコスト削減を
図ることができる。
印刷用版材は、酸化チタン光触媒のもつ性質、すなわち
疎水性から親水性への変換性質を利用することにより、
その再利用を可能とし、使用後に廃棄される版材の量を
著しく減少させることができる。したがって、その分、
版材に関わるコストを大幅に低減することができる。ま
た、画像に係るデジタルデータから、版材への画像書き
込みは、光(紫外線)によって直接実施することが可能
であることから、印刷工程のデジタル化対応が成されて
おり、その相応分の大幅な時間短縮、またコスト削減を
図ることができる。
【0051】また、上でも触れたように、化合物からな
る塗布層4を形成して、印刷用版材を再利用を図る本実
施形態の場合においては、印刷工程全体の迅速化が図れ
ることになる。このことには、当該化合物の分解が、酸
化チタン光「触媒」の本来的な作用により促進されて速
やかに完了する事実が大きく寄与する。さらに、そもそ
も疎水性から親水性への変換速度が大きい酸化チタン光
触媒を利用すれば、なお一層の迅速化に大きく貢献する
こととなる。
る塗布層4を形成して、印刷用版材を再利用を図る本実
施形態の場合においては、印刷工程全体の迅速化が図れ
ることになる。このことには、当該化合物の分解が、酸
化チタン光「触媒」の本来的な作用により促進されて速
やかに完了する事実が大きく寄与する。さらに、そもそ
も疎水性から親水性への変換速度が大きい酸化チタン光
触媒を利用すれば、なお一層の迅速化に大きく貢献する
こととなる。
【0052】さらに、印刷用版材の再利用を図る処理
は、これを印刷機上で行うことが可能となっているか
ら、印刷作業の迅速化を実現することができる。なお、
上記の例では、塗布層4面に対する画像書き込みも印刷
機上で行われていたから、より迅速な作業を実施するこ
とができる。
は、これを印刷機上で行うことが可能となっているか
ら、印刷作業の迅速化を実現することができる。なお、
上記の例では、塗布層4面に対する画像書き込みも印刷
機上で行われていたから、より迅速な作業を実施するこ
とができる。
【0053】なお、本実施形態においては、基材1とコ
ート層3との間に中間層2を設けることとしていたが、
本発明はこのことに限定されるものではない。すなわ
ち、中間層2は必ずしも設ける必要はない。なお、この
ように言えるのは、仮に中間層2を設けないとしても、
上までの説明から明らかなように、本発明の主要な本質
が損なわれることにならないからである。
ート層3との間に中間層2を設けることとしていたが、
本発明はこのことに限定されるものではない。すなわ
ち、中間層2は必ずしも設ける必要はない。なお、この
ように言えるのは、仮に中間層2を設けないとしても、
上までの説明から明らかなように、本発明の主要な本質
が損なわれることにならないからである。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の印
刷用版材は、基材の表面に酸化チタン光触媒を含むコー
ト層及び該コート層上に塗布層とを形成することによ
り、その表面において、酸化チタン光触媒のバンドギャ
ップエネルギよりも高いエネルギをもつ波長の光を照射
することにより、疎水性から親水性への変換を行うこと
が可能となっている。したがって、疎水性部分を画線
部、親水性部分を非画線部として利用することにより、
印刷用版材としての機能を発揮することが可能となるも
のである。なお、このとき基材とコート層との間に、中
間層を設けることにより両者の付着強度を十分とするこ
とができる。また前記化合物は、前記コート層に疎水性
を付与するものとしては適した化合物であるとともに、
前記光の照射によって比較的容易に酸化分解反応が進行
する物質である。したがって、上記した疎水性表面から
親水性表面への変換を速やかに完了することができる。
刷用版材は、基材の表面に酸化チタン光触媒を含むコー
ト層及び該コート層上に塗布層とを形成することによ
り、その表面において、酸化チタン光触媒のバンドギャ
ップエネルギよりも高いエネルギをもつ波長の光を照射
することにより、疎水性から親水性への変換を行うこと
が可能となっている。したがって、疎水性部分を画線
部、親水性部分を非画線部として利用することにより、
印刷用版材としての機能を発揮することが可能となるも
のである。なお、このとき基材とコート層との間に、中
間層を設けることにより両者の付着強度を十分とするこ
とができる。また前記化合物は、前記コート層に疎水性
を付与するものとしては適した化合物であるとともに、
前記光の照射によって比較的容易に酸化分解反応が進行
する物質である。したがって、上記した疎水性表面から
親水性表面への変換を速やかに完了することができる。
【0055】また、請求項2記載の印刷用版材は、前記
塗布層表面が、版作製時の初期状態において、水の接触
角が少なくとも50゜以上の疎水性を示すことから、当該
初期状態では、版全面が画線部となり得る状態となって
いると言える。逆に言えば、この塗布層表面に対して画
像を倣うような紫外線照射を行えば、当該画像を浮かび
上がらせることが可能となり、これを親版として利用す
ることができる。
塗布層表面が、版作製時の初期状態において、水の接触
角が少なくとも50゜以上の疎水性を示すことから、当該
初期状態では、版全面が画線部となり得る状態となって
いると言える。逆に言えば、この塗布層表面に対して画
像を倣うような紫外線照射を行えば、当該画像を浮かび
上がらせることが可能となり、これを親版として利用す
ることができる。
【0056】また、請求項3記載の印刷用版材は、前記
塗布層表面に前記光を照射することにより、その部分を
非画線部として利用することが可能となる。なおこのと
き、前記塗布層は、この親水化処理時において、酸化チ
タン光触媒の本来的な「触媒」作用を受けて速やかに分
解されることになる。したがって、本発明によれば、印
刷用版材の作製工程の迅速化、ひいては印刷工程の迅速
化を図ることができるものであるといえる。また、前記
光の照射は、印刷用しようとする画像に準拠したデジタ
ルデータに基づいて行われるようにすることが可能であ
る。したがって、本発明による印刷用版材は印刷工程の
デジタル化に対応したものであるといえ、それ故、印刷
時間の大幅な短縮、そしてコスト削減を図ることができ
る。
塗布層表面に前記光を照射することにより、その部分を
非画線部として利用することが可能となる。なおこのと
き、前記塗布層は、この親水化処理時において、酸化チ
タン光触媒の本来的な「触媒」作用を受けて速やかに分
解されることになる。したがって、本発明によれば、印
刷用版材の作製工程の迅速化、ひいては印刷工程の迅速
化を図ることができるものであるといえる。また、前記
光の照射は、印刷用しようとする画像に準拠したデジタ
ルデータに基づいて行われるようにすることが可能であ
る。したがって、本発明による印刷用版材は印刷工程の
デジタル化に対応したものであるといえ、それ故、印刷
時間の大幅な短縮、そしてコスト削減を図ることができ
る。
【0057】また、請求項4記載の印刷用版材は、上述
した請求項2及び請求項3に記載した発明の組み合わせ
的な作用を有すると言える。したがって、この印刷用版
材は、親水化処理において酸化チタン光「触媒」の本来
的作用を生かすことが可能で、作業の迅速化が図れると
共に、印刷工程のデジタル化に対応することが可能なも
のとなっており上記と同様印刷時間の大幅な短縮及びコ
スト削減を図ることができる。
した請求項2及び請求項3に記載した発明の組み合わせ
的な作用を有すると言える。したがって、この印刷用版
材は、親水化処理において酸化チタン光「触媒」の本来
的作用を生かすことが可能で、作業の迅速化が図れると
共に、印刷工程のデジタル化に対応することが可能なも
のとなっており上記と同様印刷時間の大幅な短縮及びコ
スト削減を図ることができる。
【0058】また、請求項5記載の印刷用版材の再生方
法は、その面内において少なくとも一部が親水性を示す
前記コート層表面に、化合物を塗布することにより、当
該表面を疎水性に変換することから、印刷用版材の再利
用が可能なものとなる。したがって、従来の印刷用版材
のように、印刷終了と共に廃棄処分とする必要がなく、
その相応分コスト削減を図ることができる。また、上記
事実、すなわち疎水性への変換作業は実質的に化合物の
塗布作業のみによるということから、当該作業は速やか
に完了させることができる。
法は、その面内において少なくとも一部が親水性を示す
前記コート層表面に、化合物を塗布することにより、当
該表面を疎水性に変換することから、印刷用版材の再利
用が可能なものとなる。したがって、従来の印刷用版材
のように、印刷終了と共に廃棄処分とする必要がなく、
その相応分コスト削減を図ることができる。また、上記
事実、すなわち疎水性への変換作業は実質的に化合物の
塗布作業のみによるということから、当該作業は速やか
に完了させることができる。
【0059】また、請求項6記載の印刷用版材の再生方
法は、前記疎水性への変換に係る作業を印刷機上で行う
ことから、その作業時に一般に伴うと考えられる印刷作
業の中断を挟むことがない。したがって、連続的な印刷
作業を実施することができ、印刷作業の迅速化が図れる
ことになる。なお、本発明においては、版の再利用に係
るメリットも同時に享受できることは言うまでもない。
法は、前記疎水性への変換に係る作業を印刷機上で行う
ことから、その作業時に一般に伴うと考えられる印刷作
業の中断を挟むことがない。したがって、連続的な印刷
作業を実施することができ、印刷作業の迅速化が図れる
ことになる。なお、本発明においては、版の再利用に係
るメリットも同時に享受できることは言うまでもない。
【図1】 印刷用版材の構成を示す断面図である。ま
た、この図は、コート層表面が疎水性を示している状態
をも同時に示している。
た、この図は、コート層表面が疎水性を示している状態
をも同時に示している。
【図2】 コート層表面が親水性を示している状態を示
す印刷用版材の断面図である。
す印刷用版材の断面図である。
【図3】 酸化チタン光触媒における疎水性から親水性
への変換を説明する説明図である。
への変換を説明する説明図である。
【図4】 コート層表面に描かれた画像(画線部)とそ
の白地(非画線部)の一例を示す斜視図である。
の白地(非画線部)の一例を示す斜視図である。
【図5】 コート層表面の疎水性から親水性への変換の
様子を時間に沿って示したグラフである。
様子を時間に沿って示したグラフである。
【図6】 印刷機の構成の一例を示す説明図である。
1 基材
2 中間層
3 コート層
10 印刷機
Claims (8)
- 【請求項1】 基材の表面に直接又は中間層を介し、酸
化チタン光触媒のバンドギャップエネルギよりも高いエ
ネルギをもつ波長の光、すなわち活性光を照射すること
により水酸基が予め形成されている酸化チタン光触媒を
含むコート層と、該コート層上に前記活性光を照射する
ことで分解可能な化合物からなる塗布層とを備えている
ことを特徴とする印刷用版材。 - 【請求項2】 前記塗布層が、前記水酸基と反応する化
合物からなることを特徴とする請求項1に記載の印刷用
版材。 - 【請求項3】 前記塗布層表面は、版作製時の初期状態
において、水の接触角が少なくとも50゜以上の疎水性を
示すことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の印
刷用版材。 - 【請求項4】 前記塗布層表面に前記活性光を照射する
ことにより、前記コート層表面を現出させると共に該コ
ート層表面を水の接触角が10゜以下となる親水性表面に
変換することを特徴とする請求項1から請求項3のいず
れか1項に記載の印刷用版材。 - 【請求項5】 版作製時の初期状態において、水の接触
角が少なくとも50゜以上の疎水性を示す前記塗布層表面
に前記活性光を照射することにより、当該活性光の照射
された領域において前記コート層表面を現出させるとと
もに該コート層表面を水の接触角が10゜以下の親水性表
面に変換し、当該親水性となる表面を非画線部、残る疎
水性表面を画線部として利用することを特徴とする請求
項1又は請求項2に記載の印刷用版材。 - 【請求項6】 酸化チタン光触媒を含むコート層を少な
くとも有する印刷用版材を備えた版胴と、 酸化チタン光触媒のバンドギャップエネルギよりも高い
エネルギをもつ波長の光、すなわち活性光を照射するこ
とで分解可能な化合物を含む疎水化処理液を前記印刷用
版材に塗布するコーティング装置と、 前記印刷用版材表面に塗布された前記疎水化処理液から
なる塗布層を乾燥させる乾燥装置と、 前記印刷用版材、および前記印刷用版材上に形成された
前記塗布層に向けて前記活性光を発して画像を書き込む
書き込み装置と、 前記塗布層表面に印刷用のインキを塗布するインキング
ローラと、 印刷終了後に前記印刷用版材に付着した前記インキを主
体とする付着物をふき取る版クリーニング装置とを備え
ることを特徴とする印刷機。 - 【請求項7】 基材の表面に直接又は中間層を介し、酸
化チタン光触媒のバンドギャップエネルギよりも高いエ
ネルギをもつ波長の光、すなわち活性光を照射すること
により水酸基が予め形成されている酸化チタン光触媒を
含むコート層と、該コート層上に前記活性光を照射する
ことで分解可能な化合物からなる塗布層とを備えている
印刷用版材にあって、 印刷終了後、その面内において少なくとも一部が親水性
を示す前記コート層表面を含む印刷用版材表面に付着し
たインキを主体とする付着物をふき取る工程と、前記活
性光を照射して少なくとも版材表面の一部に存在する前
記塗布層を構成する化合物を分解すると共に、前記コー
ト層表面に前記水酸基を形成する工程と、その後前記塗
布層を再形成し水の接触角が50゜以上となる疎水性表面
を現出させる工程と、さらにその後当該塗布層表面に前
記活性光を照射し画像書き込みする工程とを少なくとも
含むことを特徴とする印刷用版材の再生方法。 - 【請求項8】 請求項7 記載の印刷用版材の再生方法
を、印刷機上で行うことを特徴とする印刷用版材の再生
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22911098A JP3495605B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | 印刷用版材及びその再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22911098A JP3495605B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | 印刷用版材及びその再生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000062335A JP2000062335A (ja) | 2000-02-29 |
JP3495605B2 true JP3495605B2 (ja) | 2004-02-09 |
Family
ID=16886908
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22911098A Expired - Fee Related JP3495605B2 (ja) | 1998-08-13 | 1998-08-13 | 印刷用版材及びその再生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3495605B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000046037A1 (fr) * | 1999-02-05 | 2000-08-10 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Materiau de plaque d'impression et ses procedes de fabrication et de regeneration |
JP3422754B2 (ja) | 2000-05-31 | 2003-06-30 | 三菱重工業株式会社 | 印刷用版材の作製方法、再生方法及び印刷機 |
JP2002079774A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-03-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷方法、印刷用原板及び印刷装置 |
US7070903B2 (en) | 2001-04-27 | 2006-07-04 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Coating formulation for printing plate precursor, printing plate precursor, printing press, fabrication process of printing plate, and regeneration process of printing plate |
JP2003222972A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | パターン形成材料及び画像形成材料 |
DE60308248T2 (de) * | 2002-03-22 | 2007-04-12 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Druckmaschine, Vorrichtung und Verfahren zum Regenerieren einer Druckplatte |
US6938546B2 (en) | 2002-04-26 | 2005-09-06 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Printing press, layered formation and making method thereof, and printing plate and making method thereof |
-
1998
- 1998-08-13 JP JP22911098A patent/JP3495605B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000062335A (ja) | 2000-02-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3422754B2 (ja) | 印刷用版材の作製方法、再生方法及び印刷機 | |
US6851364B1 (en) | Printing plate material and production and regenerating methods thereof | |
JP3534697B2 (ja) | 印刷用版材の作製方法、再生方法及び印刷機 | |
JP3495605B2 (ja) | 印刷用版材及びその再生方法 | |
JP3486361B2 (ja) | 印刷用版材及びその再生方法 | |
JP3482170B2 (ja) | 印刷用版材、その再生方法および印刷装置 | |
JP3686361B2 (ja) | 印刷版材用塗布液および印刷用版材の作製方法 | |
JP2000062334A (ja) | 印刷用版材及びその再生方法 | |
US20050139110A1 (en) | Method for regenerating lithographic printing plate, regenerating device, printer, lithographic printing plate and its production method, and layered structure body and its production method | |
WO2003072368A1 (fr) | Film process d'impression, procede de fabrication correspondant, procede de recyclage de film process et imprimante | |
WO2003068524A1 (fr) | Matiere de plaque pour impression et procede de regeneration/reutilisation de ladite matiere et machine d'impression | |
JP3897635B2 (ja) | 平版印刷用版材及びその作製方法並びに印刷機 | |
JP3868319B2 (ja) | 印刷用版材の再生方法及び再生装置並びに印刷機 | |
JP3124264B2 (ja) | 印刷用版材の再生方法及び印刷機 | |
JP3897625B2 (ja) | 印刷用版材の再生方法及び再生装置並びに印刷機 | |
JP3572279B2 (ja) | 印刷用版材、印刷用版材の製造方法及び印刷用版材の再生方法 | |
JP3848849B2 (ja) | 印刷用版材の作製方法,再生方法及び印刷機及び印刷用版材 | |
JP3706563B2 (ja) | 印刷用版材 | |
JP2003207900A (ja) | 印刷用版材 | |
JP2000225778A (ja) | 印刷用版材及びその再生方法 | |
JP2004066548A (ja) | 層状構成物及びその製造方法、平版印刷用版材及びその製造方法並びに印刷機 | |
JP2003048298A (ja) | 印刷機上製版方法および印刷機 | |
JP2002362050A (ja) | 印刷用版材用塗布液、印刷用版材、印刷用版材の作製方法及び再生方法 | |
JP2002326469A (ja) | 印刷用版材用塗布液、印刷用版材、印刷用版材の作製方法及び再生方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20031021 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |