JP3492704B2 - 表面処理鋼板およびその製造法 - Google Patents
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Description
めっきを鋼板中に拡散させる処理を施した鋼板を製造す
る際に起こりやすい鋼板同士の密着防止を図った表面処
理鋼板およびその製造法に関するものである。
施した後に、タイトなコイル状に巻き取り、次いで加工
特性を付与させるために、箱型焼鈍炉中で500〜700℃前
後で熱処理される。しかし、この熱処理に際しては、鋼
板表面のニッケルの拡散が促進されるために、巻き取ら
れて重なった鋼板同士の密着が生じるという問題があ
る。このため、従来はワイヤーなどをスペーサーとして
鋼板とともにコイル状に巻き込み、巻き取られた鋼板間
に間隙を設けてオープンコイルとした状態で熱処理する
か、あるいは高温で安定な酸化物、炭化物、窒化物など
の離型剤を予め鋼板表面に塗布し、鋼板同士の直接接触
を防止した状態で熱処理する、という方法が採られてい
た。
する方法は鋼板表面に疵が付きやすいこと、およびワイ
ヤーの巻き込み、巻き解きを必要とするための余分な作
業を必要とし、能率的ではない。さらに、離型剤を鋼板
表面に塗布して焼鈍する方法は、離型剤の使用によるコ
スト上昇を招来すること、および離型剤の除去が困難で
あること、さらに鋼板表面の外観が変化する、などの問
題を有しており、いずれの方法も工業的には実用性に乏
しいものである。
着防止処理においは、鋼板表面にチタン、アルミニウム
などの酸化物質を離型剤を付着させることにより、焼鈍
時の密着を防止することも行われている(特開昭63−23
5427公報など)。
し、鋼板表面の色調が変化し、外観が損なわれるという
欠点を有していた。これらの理由から、ニッケルめっき
鋼板の熱処理においては、前記したワイヤーが用いら
れ、酸化物質の使用は行われていなかった。
る際のめっき鋼板同士の密着を抑えるための、密着防止
処理をした表面処理鋼板を提供することを技術的課題と
する。
ルめっきを施し、その後片面のみに錫めっきを施し、さ
らにオルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中に浸漬する
か又はオルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中で電解処
理をして表面にシリコン水和物を析出させ、その後熱処
理を行い、前記めっきを拡散させたことを特徴とする。
0.5〜10μmの厚みのニッケルめっきを施し、その後片
面のみに0.05〜5μmの厚みの錫めっきを施し、さらに
オルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中に浸漬するか又
はオルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中で電解処理を
して表面にシリコン量として0.1〜3mg/m2のシリコン水
和物を析出させ、その後熱処理を行い、前記めっきを拡
散させたことを特徴とする。
にニッケルめっき及び錫めっきを順次施し、さらにオル
ソケイ酸ソーダを主成分とする浴中に浸漬するか又はオ
ルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中で電解処理をして
表面にシリコン水和物を析出させ、その後熱処理を行
い、前記ニッケルめっき及び錫めっきを拡散させたこと
を特徴とする。
に0.5〜10μmの厚みのニッケルめっきを施し、その後
両面に0.05〜5μmの厚みの錫めっきを順次施し、さら
にオルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中に浸漬するか
又はオルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中で電解処理
をして表面にシリコン量として0.1〜3mg/m2のシリコン
水和物を析出させ、その後熱処理を行い、前記ニッケル
めっき及び錫めっきを拡散させたことを特徴とする。
ルめっきを施し、その後片面のみに錫めっきを施し、さ
らにオルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中に浸漬する
か又はオルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中で電解処
理をして表面にシリコン水和物を析出させ、その後熱処
理を行い、前記ニッケルめっきを冷延鋼板中に拡散させ
るとともに、前記錫めっきとニッケルめっきとの拡散層
を形成させることを特徴とする。
ケルめっき及び錫めっきを順次施し、さらにオルソケイ
酸ソーダを主成分とする浴中に浸漬するか又はオルソケ
イ酸ソーダを主成分とする浴中で電解処理をして表面に
シリコン水和物を析出させ、その後この鋼板をコイル状
に巻き取った状態にして熱処理を行い、前記ニッケルめ
っきを冷延鋼板中に拡散させるとともに、前記錫めっき
とニッケルめっきとの拡散層を形成させることを特徴と
する。
の電流密度で、トータル電気量0.1〜1000クーロン/dm2
のシリコン水和物を析出させるものであることが望まし
く、シリコン水和物の層を形成させる工程において、鋼
板側を陽極とした電解処理と鋼板側を陰極とした電解処
理とを交互に行うことが望ましい。
させる場合の概略製造工程図である。図2は、表面処理
鋼板を、一定の圧力を負荷して固縛する状態を示す斜視
図である。図3は、接着した2枚の試験片を強制的に剥
離する状態を示す斜視図である。
ソーダ浴中で浸漬処理、あるいは特定の条件下で電解処
理することにより、熱処理後も優れた外観を保持し、熱
処理時の鋼板同士の密着防止に優れたニッケルめっき鋼
板が得られる。
ッケル−鉄拡散層、さらにその上にシリコン酸化物の層
が形成されている。あるいは熱処理温度が低い場合には
ニッケルめっき層が最上層(ニッケル−鉄拡散層の上)
に形成されている場合もある。
から最低0.5μmの厚みがあることが好ましいが、10μ
mを超えた厚みは経済上好ましくない。
ッケル−鉄拡散層のみでは十分でない耐食性をさらに向
上させる観点から最低0.5μmの厚みがあることが好ま
しいが、10μmを超えた厚みは経済上好ましくない。
存在させるのが好ましいが、その理由は、下限が0.1mg/
m2未満である場合には、熱処理時に十分な密着防止が図
れないからである。一方、3mg/m2を超える量は、シリコ
ン酸化物が表面処理鋼板の外観色調を白くさせてしまう
ので好ましくない。
イ酸ソーダから析出させるので、極めて微細であり金属
色特有の色調はそのまま維持できる。
和物は、その後に行われる熱処理工程で、水分がとばさ
れてシリコン酸化物となる。
リコン量として」と規定している理由は、シリコン酸化
物の分析上の都合からである。すなわち蛍光X線分析法
によって、シリコン酸化物中のシリコン量を特定したか
らである。
後、オルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中に浸漬する
か、あるいはオルソケイ酸ソーダを主成分とする浴中で
電解した後、熱処理することにより形成される。ただ
し、浸漬方式よりも電解方式の方が付着効率がよい。
−鉄拡散層が形成され、その上にニッケル−錫拡散層が
形成され、さらにその上にシリコン酸化物の層が形成さ
れている。
ことが好ましく、その上のニッケル−錫拡散層は0.05〜
5μmの厚みのものが好ましい。さらにその上のシリコ
ン酸化物の層はシリコン量として0.1〜3mg/m2のものが
好ましい。
片面で記載した理由と同様であるが、ニッケル−錫拡散
層を形成させる理由は、ニッケル−錫拡散層が極めて耐
食性が優れているからである。すなわち、硫酸、硝酸、
塩酸などの強酸に対しても十分な耐食性を有する。ニッ
ケル−錫拡散層の厚みが0.05未満であるとこの耐食性は
十分に保持できず、一方5μmを超えると経済的観点か
ら好ましくない。シリコン酸化物の層を形成させる理由
は上記と同様である。
と異なる点は、両面にニッケル−錫拡散層が形成されて
いることである。このニッケル−錫拡散層の厚みは、0.
05〜5μmであることが好ましい。このことにより両面
とも優れた耐食性を有する表面処理鋼板とすることがで
きる。すなわち両面にわたって上記強酸などと接触する
環境に耐えることができる。
された表面処理層は、必ずしも明確に分離区別できない
層を形成している場合もある。すなわち、請求項1又は
2の表面処理鋼板の表面部に形成された拡散層は、めっ
き後熱処理によって形成されるのであるが、この拡散層
は処理温度、処理時間によってその境界がだんだん不明
確となり、母材である鉄、ニッケルめっき(錫めっきを
施した場合には錫めっきも含む)が相互に入り交じり、
各成分が濃度勾配を有した拡散層を形成することがあ
る。
ッケルの2成分からなり、母材(鉄)に近い側には、鉄
の成分濃度が高く、上層(表面)ではニッケル濃度が高
い勾配を持った層となっている。
ケル−錫−鉄の3成分の拡散層を形成する場合もある
が、この場合には、母材(鉄)に近い側には、鉄の成分
濃度が高く、中間ではニッケル濃度が高く、上層(表
面)では錫濃度が高い勾配を持った拡散層となってい
る。
にニッケルめっきと錫めっきを重ねて施し、その後熱処
理する方法がある。
ては、基板にニッケルめっきと錫めっきを重ねて施し、
その後の熱処理を高温で処理したり、長時間におよぶ処
理をする方法がある。
にニッケルめっき後錫めっきを施し2層めっき層とした
後に熱処理する以外に、ニッケル−錫の合金めっきを基
板に施してその後熱処理することによっても形成でき
る。
の鋼板が好適に用いられる。さらにニオブ、ボロン、チ
タンを添加し、非時効性低炭素鋼から製造された冷延鋼
板も用いられる。通常、冷延後、電解洗浄、焼鈍、調質
圧延した鋼板をめっき原板とするが、冷延後の鋼板をめ
っき原板とする場合もある。この場合は、冷延後にニッ
ケルめっきを施した後、引き続いて鋼素地の再結晶焼鈍
とニッケルめっき層の熱拡散処理を同時に行うことがで
きる。
塩化物浴など公知のめっき浴のいずれも本発明に用いる
ことができる。さらに、めっきの種類としては、無光
沢、半光沢、および光沢めっきがあるが、硫黄を含有す
る有機物を添加した光沢めっき以外の無光沢、または半
光沢めっきが本発明において好適に用いられる。
るが、硫酸第1錫浴あるいはフェノールスルフォン酸浴
が好適に用いられる。
フロー(錫溶融処理)、ケミカル処理の工程で製造され
る場合が一般的である。
ソーダ溶液中で浸漬処理、または電解処理を施す。オル
ソケイ酸ソーダ溶液は1〜7%の濃度であることが好ま
しく、2〜4%であることがより好ましい。
上への析出量が少なく、後の熱処理工程において、必要
とされる0.1g/m2以上の量のシリコン酸化物が得られ
ず、熱処理を施す際にめっき鋼板同士の密着が生じやす
くなる。
題もある。
ーダ溶液が鋼板の移動に伴って処理槽から持ち出される
量も増加するので不経済である。また処理浴の取扱いも
危険になり、好ましくない。
ータル電気量は、0.1〜1000クーロン/dm2であることが
好ましい。
コン水和物のめっき鋼板上への付着効率が悪く、必要と
されるシリコン量として0.1g/m2以上の量のシリコン酸
化物が得られず、熱処理を施す際に鋼板同士の密着が生
じやすくなる。
させても、それ以上のシリコン水和物が鋼板上に析出し
ないため経済的な無駄が生ずる。
コイル状に巻き取られたニッケルめっき鋼板を、箱型焼
鈍法を用いて500〜700℃程度の温度以下で数時間以上加
熱することにより、種々の厚みの拡散層を形成させるこ
とができる。この厚みは熱処理温度や時間を変えること
により加減することができる。
主成分とする浴中で電解処理して、その表面にシリコン
水和物を析出形成させる場合の概略製造工程図である。
処理槽、又は同図(c)や(d)に示す垂直型処理槽の
いずれの処理槽を用いてもよい。
を形成させる方法としては、図1(a)又は(c)に示
すように、初めにC処理(鋼板側を陰極にする)を施し
た後、次の工程でA処理(鋼板側を陽極)する方法があ
る。
理を施した後次にC処理する方法も用いることもでき
る。
板の表面を清浄化させることができるので、ニッケルめ
っき鋼板の表面にシリコン水和物を多量析出層させる方
法として有効である。
程は、ニッケルめっき鋼板の表面にシリコン水和物を析
出させる効率の点で優れている。
A処理、あるいはA処理→C処理を複数回繰り返す処理
を施してもよい。
C処理−A処理−C処理、あるいはA処理−C処理−A
処理のように、初めと終わりの極性を同一としてもよ
い。
元性保護ガス雰囲気(例えば水素6.5%,残部窒素ガ
ス、露点−60℃の保護ガス)下で行うことが表面の酸化
膜形成を防止するために好ましい。熱処理温度は300℃
以上が必要である。
るが、本発明ではそのいずれの方法によってもよく、連
続焼鈍法では高温、短時間処理、即ち600〜850℃×30秒
〜5分が好ましく、箱型焼鈍法では450〜650℃×5〜15
時間の熱処理条件が好ましい。
g/l,5A/dm2(陽極処理)×10秒,5A/dm2(陰極処理)×1
0秒、浴温70℃)、硫酸酸洗(硫酸50g/l,浴温30℃,20秒
浸漬)を行った後、下記の条件で基板両面にニッケルめ
っきを行った。
厚みが異なったものを幾種類か作成した。上記ニッケル
めっきに引き続いて、下記条件で片面に錫めっきを施し
た。
るいはアルカリ浴のいずれでも良いが、本発明では硫酸
第一錫浴あるいはフェノールスルフォン酸浴が好適に用
いられる。めっき厚みは電解時間を変えて制御した。
処理、または電解処理を施した。
出処理] ・処理浴 オルソケイ酸ソーダ 30g/l ・温 浴 50±5℃ ・付着量の調整は、浸漬処理の場合は、浸漬時間を種々
変化させた。電解処理の場合は、電流密度を5A/dm2と
し、電気量および極性を種々変化させ、シリコン水和物
の付着量の異なる処理鋼板を作製した。
を施した後、片面に下記条件でニッケル−錫合金めっき
を施したことである。その他の点は実施例1と同様であ
る。
物浴の他ピロリン酸浴等でもよい。この結果を表1にま
とめた。
の大きさの試料を切り出し、図2に示すように同一条件
で処理した2枚の試料の処理面が接するように重ね合わ
せて積層体1とし、その上下に接するように配設した受
圧板2、および固縛板3を介して、4組のボルト4とナ
ット5をトルクレンチを用いて各試験片に常に3kgf/mm2
の同一の固縛力が作用するように締め付け、固定した。
このように固縛した試験片を、6.5%の水素と残部が窒
素からなる保護ガス雰囲気中で温度を変化させ(550〜7
00℃)の温度で、時間を変えて(1〜10時間)熱処理し
た。
着面の一端を強制的に剥離し、剥離した両端を引張試験
機の両チャック部に固着するためにT字状となるように
折曲げ、引張試験片とした。この引張試験片を引張試験
機にて剥離し、剥離が開始する密着強度を測定し、試験
片が熱処理によって密着した程度(密着防止性)を下記
の基準に基づいて評価した。
時の鋼板同士の密着が起きにくい。
シリコン酸化物の層を形成させないで熱処理したが、鋼
板同士の密着が起こった。
際の密着防止性にも優れている。すなわち、表面処理鋼
板をコイル状に巻き取った状態で、めっきを拡散させる
処理を施す際にも、鋼板同士の密着を生じることがな
い。
Claims (8)
- 【請求項1】冷延鋼板の両面にニッケルめっきを施し、
その後片面のみに錫めっきを施し、さらにオルソケイ酸
ソーダを主成分とする浴中に浸漬するか又はオルソケイ
酸ソーダを主成分とする浴中で電解処理をして表面にシ
リコン水和物を析出させ、その後熱処理を行い、前記め
っきを拡散させたことを特徴とする表面処理鋼板。 - 【請求項2】冷延鋼板の両面に0.5〜10μmの厚みのニ
ッケルめっきを施し、その後片面のみに0.05〜5μmの
厚みの錫めっきを施し、さらにオルソケイ酸ソーダを主
成分とする浴中に浸漬するか又はオルソケイ酸ソーダを
主成分とする浴中で電解処理をして表面にシリコン量と
して0.1〜3mg/m2のシリコン水和物を析出させ、その後
熱処理を行い、前記めっきを拡散させたことを特徴とす
る表面処理鋼板。 - 【請求項3】冷延鋼板の両面にニッケルめっき及び錫め
っきを順次施し、さらにオルソケイ酸ソーダを主成分と
する浴中に浸漬するか又はオルソケイ酸ソーダを主成分
とする浴中で電解処理をして表面にシリコン水和物を析
出させ、その後熱処理を行い、前記ニッケルめっき及び
錫めっきを拡散させたことを特徴とする表面処理鋼板。 - 【請求項4】冷延鋼板の両面に0.5〜10μmの厚みのニ
ッケルめっきを施し、その後両面に0.05〜5μmの厚み
の錫めっきを順次施し、さらにオルソケイ酸ソーダを主
成分とする浴中に浸漬するか又はオルソケイ酸ソーダを
主成分とする浴中で電解処理をして表面にシリコン量と
して0.1〜3mg/m2のシリコン水和物を析出させ、その後
熱処理を行い、前記ニッケルめっき及び錫めっきを拡散
させたことを特徴とする表面処理鋼板。 - 【請求項5】冷延鋼板の両面にニッケルめっきを施し、
その後片面のみに錫めっきを施し、さらにオルソケイ酸
ソーダを主成分とする浴中に浸漬するか又はオルソケイ
酸ソーダを主成分とする浴中で電解処理をして表面にシ
リコン水和物を析出させ、その後熱処理を行い、前記ニ
ッケルめっきを冷延鋼板中に拡散させるとともに、前記
錫めっきとニッケルめっきとの拡散層を形成させること
を特徴とする、表面処理鋼板の製造法。 - 【請求項6】冷延鋼板の両面にニッケルめっき及び錫め
っきを順次施し、さらにオルソケイ酸ソーダを主成分と
する浴中に浸漬するか又はオルソケイ酸ソーダを主成分
とする浴中で電解処理をして表面にシリコン水和物を析
出させ、その後この鋼板をコイル状に巻き取った状態に
して熱処理を行い、前記ニッケルめっきを冷延鋼板中に
拡散させるとともに、前記錫めっきとニッケルめっきと
の拡散層を形成させることを特徴とする、表面処理鋼板
の製造法。 - 【請求項7】前記電解処理が、0.1〜20A/dm2の電流密度
で、トータル電気量0.1〜1000クーロン/dm2のシリコン
水和物を析出させる請求項5又は6記載の製造法。 - 【請求項8】前記シリコン水和物の層を形成させる工程
において、鋼板側を陽極とした電解処理と鋼板側を陰極
とした電解処理とを交互に行う請求項5〜7のいずれか
記載の製造法。
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