JP3465797B2 - カラーフィルタのスパッタ用治具 - Google Patents

カラーフィルタのスパッタ用治具

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JP3465797B2
JP3465797B2 JP28106691A JP28106691A JP3465797B2 JP 3465797 B2 JP3465797 B2 JP 3465797B2 JP 28106691 A JP28106691 A JP 28106691A JP 28106691 A JP28106691 A JP 28106691A JP 3465797 B2 JP3465797 B2 JP 3465797B2
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正徳 河上
和也 前川
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置用等のカ
ラーフィルタを製造する工程に用いられ、カラーフィル
タ上に所定形状の透明電極膜を形成するためのスパッタ
用治具に関する。
【0002】
【従来の技術】カラーフィルタの製造工程は、ガラス等
の透明矩形基板上に真空成膜法等を用いてクロムを成膜
した後、フォトレジストを塗布し、フォトマスクを配置
して露光、現像、クロムエッチング、フォトレジスト剥
離を行いパターン状のブラック遮光層を形成し、次にブ
ラック遮光層の上から、1色目の着色用感材を塗布した
後、フォトマスクを配置し露光した後、現像を行い1色
目のカラーパターンを形成し、同様にして2色目以降の
カラーパターンを形成し、次に、カラーパターンの上に
保護膜層を形成し、さらに、保護膜層の上に真空成膜法
により酸化インジウム錫(ITO)を成膜した後、エッ
チング法等により電極パターン加工を行い、透明電極層
を形成する工程からなる。
【0003】前記工程のうち透明電極層を形成する方法
には、蒸着、イオンプレーティング、スパッタ等の各種
の方法があるが、カラーフィルタの透明電極の基体とな
る保護膜は合成樹脂で形成されているので、保護膜の耐
熱性の面から比較的低温での成膜が可能なスパッタ法が
広く用いられている。自動化ラインにおいては、治具内
に基板とマスクを所定位置に固定し、数10個程度の治
具をスパッタ装置内に収納しスパッタを行っている。従
来のスパッタ用治具は、上下2枚のプレート間に、ガラ
ス製基板と、この基板のカラーパターン領域以外を覆う
ステンレス製マスクとを挟んでスプリング等の手段によ
り機械的に固定している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のスパッタ用治具は、基板とマスクとをスプリング等
の手段により機械的に固定しているために、押し付け過
ぎると基板に傷が生じ、押し付け力が弱すぎると基板と
マスクとの間にうきが生じ、透明電極層が基板のカラー
パターンのエッジに回り込んでしまうという問題を有し
ている。とくに、一つの基板に複数のカラーパターンを
形成して量産化を図る方式を採用する場合には、カラー
パターンの間とマスクとを押し付けるための専用の治具
が必要になる。また、スパッタ装置内は200℃程度の
高温になり、ガラス製基板とステンレス製マスクとの熱
膨張率が相違するため、スパッタ中に両者の間に熱歪が
生じカラーパターンに傷を付けてしまうという問題を有
している。
【0005】本発明は、上記問題を解決するものであっ
て、カラーパターンに傷を生じさせることなく、かつ、
透明電極層のパターンの精度を向上させることができる
スパッタ用治具を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】そのために、本発明のカ
ラーフィルタのスパッタ用治具は、開口部が形成され且
つ開口部の周囲に複数のガイドピンが設けられた主プレ
ートと、該主プレートに蝶番により回転自在に設けられ
た副プレートと、該副プレートの内部に多数埋め込まれ
たサマリウムコバルト系磁石と、カラーパターンが形成
されたガラス基板と、前記カラーパターンに対向するよ
うに開口部が形成されたマスクとを備え、前記主プレー
トと副プレートとの間に、前記ガラス基板およびマスク
を前記ガイドピンに突き当てて固定する治具であって、
マスクの材質は、ニッケル42%、鉄58%合金からな
ることを特徴とする。
【0007】また、本発明をカラーパターンが複数形成
されるガラス基板9と、カラーパターンに対向するよう
に複数の開口部が形成されるマスク8に適用すればさら
に効果が大となる。さらに、ガラス基板9とマスク8と
の間にポリイミドからなるスペーサを挟着するようにす
れば、ガラス基板の傷の発生を防止できる。なお、上記
構成に付加した番号は、理解を容易にするために図面と
対比させるためのもので、これにより本発明の構成が何
ら限定されるものではない。
【0008】
【作用】本発明においては、例えば図2に示すように、
スパッタ用治具1内にガラス基板9とマスク8をセット
すると、マスク8は副プレート5内の多数の磁石6によ
り引きつけられ、ガラス基板9は副プレート5およびマ
スク8間に均一な力で固定されることになる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図1及び図2は本発明のスパッタ用治具の1実
施例を示し、図1は斜視図、図2は治具内にガラス基板
とマスクをセットした状態を示す断面図である。
【0010】本発明のスパッタ用治具1は、開口部2a
が形成された主プレート2と、主プレート2に蝶番3に
より回転自在に設けられる副プレート5からなり、副プ
レート5内には多数の磁石6が埋め込まれている。磁石
6の材質は、耐熱性に優れたSm−Co(サマリウムコ
バルト)系の磁石からなる。
【0011】主プレート2の開口部2aの周囲には、複
数のガイドピン7が設けられ、このガイドピン7に突き
当てるように、マスク8およびガラス基板9を主プレー
ト2と副プレート5の間にセットし、副プレート5を回
転させて主プレート2に固定する構造となっている。ガ
ラス基板9には、2つのカラーパターン10a、10b
が形成されていて、マスク8にはカラーパターン10
a、10bに対向するように開口部8a、8bが形成さ
れている。
【0012】図2に示すように、スパッタ用治具1内に
ガラス基板9とマスク8をセットすると、マスク8は副
プレート5内の多数の磁石6により引きつけられ、ガラ
ス基板9は副プレート5およびマスク8間に均一な力で
固定されることになる。従って、ガラス基板9とマスク
8との間に浮きが生じることがなく、ガラス基板9のカ
ラーパターン10a、10bのエッジに透明電極層が回
り込んでしまうということがなくなる。とくに、本実施
例のように一つのガラス基板9に複数のカラーパターン
10a、10bを形成する場合には、カラーパターン1
0a、10bの間も、マスク8が副プレート5内の磁石
6により引きつけられるため、確実にガラス基板9を固
定することができ、このための専用の治具が不要とな
る。
【0013】マスク8の材質は、42合金(ニッケル4
2%、鉄58%)からなり、200℃の高温に耐える耐
熱性に優れた強磁性材料でかつガラスと熱膨張率がほぼ
等しいので、スパッタ中にガラス基板9とマスク8の間
に熱歪が生じることがなく、カラーパターンに10a、
10bに傷を付けてしまうことがない。
【0014】次に、本発明の他の実施例について説明す
る。本実施例においては、ガラス基板9とマスク8との
間にポリイミドからなるスペーサを挟着する。ポリイミ
ドは、200℃の高温に耐える耐熱性材料であり、か
つ、ガスを発生することがないため、カラーパターンに
悪影響を与えることがない。本実施例によれば、ガラス
基板9がマスク8に直接接触することがないため、ガラ
ス基板9に傷を付けることがなく、従来これを防止する
ために行っていたマスク8の研磨工程を省略することが
できる。
【0015】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、開口部の周囲に複数のガイドピンが設けられた
主プレートと、該主プレートに蝶番により回転自在に設
けられた副プレートとを備え、主プレートと副プレート
との間にガラス基板およびマスクを前記ガイドピンに突
き当てて固定するため、主プレートにマスクとカラーパ
ターン面を下にしたガラス基板を装着して、上から副プ
レートを閉じる場合にカラーパターン面に傷を生じさせ
ることがない。また、副プレートの内部には多数のサマ
リウムコバルト系磁石が埋め込まれており、かつマスク
の材質は42合金からなっているため、スパッタ中にマ
スクが磁石の適切な力で固定されるので、カラーパター
ンに傷を生じさせることなく、また、マスクの材質がガ
ラス基板と熱膨張率がほぼ等しい42合金であるため、
スパッタ中にマスクの熱膨張によりカラーパターン面が
傷付くことがなく、また、マスクとガラス基板の間に浮
きを生じることがなく透明電極層のパターンの精度を向
上させることができる。
【0016】また、磁石の材質として高温時においても
減磁が小さいサマリウムコバルト系のものを使用してい
るため、加熱として透明電極を成膜する場合でも、マス
クとガラス基板の間に浮きを生じることがなく保持する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のスパッタ用治具の1実施例を示す斜視
【図2】治具内にガラス基板とマスクをセットした状態
を示す断面図
【符号の説明】
2…主プレート、2a…開口部、5…副プレート、6…
磁石、8…マスク 8a、8b…開口部、9…ガラス基板、10a、10b
…カラーパターン
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭51−61782(JP,A) 特開 昭62−127461(JP,A) 特開 平1−159911(JP,A) 特開 昭61−84366(JP,A) 特開 昭62−164865(JP,A) 実開 昭63−42155(JP,U) 実開 昭57−158760(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 14/00 - 14/58

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】開口部が形成され且つ開口部の周囲に複数
    のガイドピンが設けられた主プレートと、該主プレート
    に蝶番により回転自在に設けられた副プレートと、該副
    プレートの内部に多数埋め込まれたサマリウムコバルト
    系磁石と、カラーパターンが形成されたガラス基板と、
    前記カラーパターンに対向するように開口部が形成され
    たマスクとを備え、前記主プレートと副プレートとの間
    に、前記ガラス基板およびマスクを前記ガイドピンに突
    き当てて固定する治具であって、マスクの材質は、ニッ
    ケル42%、鉄58%合金からなることを特徴とするカ
    ラーフィルタのスパッタ用治具。
  2. 【請求項2】前記ガラス基板にはカラーパターンが複数
    形成され、前記マスクには前記カラーパターンに対向す
    るように複数の開口部が形成されることを特徴とする請
    求項1記載のカラーフィルタのスパッタ用治具。
  3. 【請求項3】前記ガラス基板とマスクとの間にポリイミ
    ドからなるスペーサを挟着することを特徴とする請求項
    1または2記載のカラーフィルタのスパッタ用治具。
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JP2002350888A (ja) * 2001-05-30 2002-12-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法
CN1404345A (zh) * 2001-08-31 2003-03-19 三洋电机株式会社 电激发光显示板的制造方法及蒸镀遮罩
KR100692049B1 (ko) * 2004-12-01 2007-03-12 엘지전자 주식회사 유기 전계발광표시소자의 제조장치 및 방법
KR100644350B1 (ko) * 2005-03-15 2006-11-10 우원전자 주식회사 액체렌즈 전극 증착장치
KR102147298B1 (ko) * 2019-03-14 2020-08-24 신동기 알루미늄 증착 작업용 부품 고정 지그

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