JP3463953B2 - レーザーで像を生成する印刷板 - Google Patents

レーザーで像を生成する印刷板

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JP3463953B2
JP3463953B2 JP16289994A JP16289994A JP3463953B2 JP 3463953 B2 JP3463953 B2 JP 3463953B2 JP 16289994 A JP16289994 A JP 16289994A JP 16289994 A JP16289994 A JP 16289994A JP 3463953 B2 JP3463953 B2 JP 3463953B2
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/202Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の分野】本発明は、ネガを用いずに製造できる印
刷板に関する。特に、本発明はレーザーで像を生成可能
な印刷板(laser-imageable printing plate)に関す
る。そのような板はフレキソグラフィー印刷用に特に有
用であるが、オフセットおよびリトグラフ印刷用に使用
することもできる。
【0002】
【発明の背景】フレキソグラフィーは大量操作用に一般
的に使用されている印刷方法である。フレキソグラフィ
ーは例えば紙、ボール紙原料、波形ボール紙、フィル
ム、箔およびラミネートの如き種々の基質上の印刷用に
使用されている。新聞紙および食品袋が顕著な例であ
る。粗い表面および延伸フィルムはフレキソグラフィー
によってのみ経済的に印刷することができる。フレキソ
グラフィー印刷板は覆われていない部分上に浮き上がっ
ている像要素を有するレリーフ板である。1種のフレキ
ソグラフィー印刷板の型は、それが使用前の時点では、
透明または半透明のプラスチックドアマットに似てい
る。板は幾らか軟らかく、そして印刷シリンダーの周り
を包むのに充分なほど柔軟性であり且つ100万枚以上
のコピーを印刷するのに充分なほど耐性がある。
【0003】そのような板は、主としてそれらの耐性お
よびそれらの製造し易さのために、印刷者に多くの利点
を供する。得られる解像度(デテールの微細性)並びに
価格減少に関するさらなる改良により、これらの板の有
用性は拡大するであろう。本発明は、レーザー処理の使
用による解像力増加並びに印刷板を製造するためのネガ
の非使用による価格減少の両者を可能にする。
【0004】製造業者により配達されたままの典型的な
フレキソグラフィー印刷板は、裏層、露光されていない
光硬化可能な層、保護層またはスリップフィルム、およ
び被覆シートから製造されている多層製品である。裏層
が基質を板に添えるのを助けている。それは典型的には
厚さが約5ミル程度のプラスチックシートであり、それ
は透明であっても不透明であってもよい。光硬化可能な
層はどこでも厚さは約25−275ミルであることがで
き、そして種々の既知の光重合体、開始剤、反応性希釈
剤、充填剤などから調合することができる。スリップフ
ィルムは、光重合体を塵から保護しそしてそれの取り扱
い易さを増加させる紫外線透過性の薄い(約0.1−1.
0ミル)シートである。被覆シートは重い保護層、典型
的にはポリエステル、プラスチックまたは紙、である。
【0005】通常の使用では、印刷者は被覆シートを印
刷板から剥がし、そしてネガをスリップフィルムの上に
置く。板およびネガを次にネガを通る紫外線による照射
露光にかける。光に露光された部分は硬化しすなわち硬
くなり、そして露光されていない部分は除去される(現
像される)。典型的な現像方法は、しばしばブラシを用
いる種々の溶媒または水を用いる洗浄を含んでいる。他
の可能な現像法は、エアーナイフまたは熱および吸光紙
の使用を含んでいる。
【0006】印刷板の露光は一般的には、ネガおよび板
の間で確実に良好に接触させるため、真空を適用して行
われる。空気間隙は像の劣化を生じるであろう。同様
に、例えばネガおよび板の間のごみおよび塵の如き異物
は像性質の損傷をもたらす。
【0007】スリップフィルムが薄く且つ透明物質から
製造されていても、それらは幾分かの光拡散を生じそし
て一定の像から得られる解像力を幾らか限定する。スリ
ップフィルムが省略されると、比較的微細で且つ複雑な
像が得られる。
【0008】日本文字の場合にようにこみいった筆記の
再現用および写真像用には、比較的微細な解像が特に望
ましいであろう。
【0009】ネガは価格的に高い項目となる可能性があ
る。まず、印刷用に使用されるネガは完全でなけらばな
らない。鏡きずはそれぞれの印刷項目に及ぶであろう。
その結果、確実にネガを正確に製造することに努力を傾
けなければならない。さらに、ネガは一般的には高価で
あり且つ廃棄時に環境問題源となるハロゲン化銀化合物
を用いて製造されている。
【0010】これらのことを考慮すると、ネガの使用を
除くかまたはスリップフィルムの光拡散効果および他の
露光制限を減少させる方法は、価格、環境的衝撃、簡便
性、および像性質に関して現在の方法より相当な利点を
与えるであろう。
【0011】本発明者は、電子データファイル中に貯蔵
されている像により導かれるレーザーを使用して改質さ
れたスリップフィルム上に本来の場所にネガを生成しそ
して次に印刷板を一般的方法で露光および現像すること
によりこれらの利点を得る方法を見いだした。その結
果、印刷者はネガおよび全てのそれらの支持装置の使用
に基づく必要がなくなりそしてその代わりに走査されそ
して貯蔵された像に基づくことができる。そのような像
は異なる目的用に容易に変更することができるため、印
刷者の簡便性および融通性が増す。さらに、この方法は
最近の現像および印刷装置と相容性があるため、費用の
かかる他の装置への変更の必要がない。
【0012】例えば木材および金属の如き種々の物質の
レーザー彫刻は良く知られている。硬化した硬質ゴムま
たはリトグラフ板のレーザー彫刻も知られている。この
工程をフレキソグラフィー印刷板に適用する場合には、
板を最初に像なしで紫外線に露光する。次にレーザーを
使用して像を硬化した板の上に彫刻する。このことは試
みられたが、商業的に競争するには速度が遅すぎるとい
うことが見いだされている。フレキソグラフィー印刷板
は高いレリーフ(30−40ミルの高さの文字)を必要
とし、そのため彫刻に長い時間を要する。
【0013】レーザーを用いる光重合体の直接露光も知
られている。この工程は、板を露光するために一般的に
使用されている紫外線照射灯の代わりに正確に導かれる
レーザーを使用する。ジェファーズ(Jeffers)他に19
81年2月3日に発行された米国特許第4,248,95
9号は、コンピューターで生じさせた像により導かれる
レーザーを使用する感光性重合体板の直接露光に関する
ものである。開示されている方法は、ここでも板の厚さ
が硬化を妨害するため、フレキソグラフィー印刷板の現
像用には適していない。また、該方法は商業的に競争す
るには速度が遅すぎる。
【0014】光硬化可能な層と直接接触させて像を生成
するための他の研究にも焦点が当てられている。グラン
ドモント(Grandmont)他に1991年5月15日に発行
された米国特許第5,015,553号は、下にある紫外
線感光性フォトレジストに影響を与えずに写真像生成層
を選択的に露光するコンピューター付きデザイン(CA
D)の駆動フォトプロッターを使用する印刷回路板用の
紫外線フォトレジストの製造方法に関するものである。
像層を次に板の上で化学的に現像しそして紫外線への露
光中に下にある紫外線レジスト用に本来の場所に遮蔽体
として使用する。露光後に、像層を剥がしてレジストの
一般的処理を可能にする。該方法は板全体のためには少
なくとも2回の現像段階を必要とし、そして像層と光硬
化可能な層との間に挟まれた剥離可能な被覆シートの使
用を必要とする。
【0015】相対的に非感光性の基質からなる重合体の
レーザー切除は知られている。ピーターソン(Peterson)
に1977年5月3日に発行された米国特許第4,02
0,762号は、オフセットリトグラフィー用の増感さ
れたアルミニウム印刷板の製造方法に関するものであ
る。アルミニウムシートを微細分割状炭素、ニトロセル
ロース、非酸化性アルキッド樹脂、ジアゾ増感剤、酢酸
セルロース、酢酸ブチル、キシレンおよびエチルセロソ
ルブの混合物でコーテイングした。コーテイングをYA
Gレーザーで少なくとも部分的にエッチングした。全て
のコーテイングがアルミニウム基質から除去されたかど
うかは不明であるが、明細書はこの結果に言及してい
る。特許権者は、エッチングされた部分は紫外線に対し
て敏感になること並びにエッチングされた部分は紫外線
に対する露光および現像後にインキを受容するがエッチ
ングされていない部分は水を受容することを開示してい
る。量的結果は示されていない。参考文献中の液体コー
テイングがフレキソグラフィー印刷板として使用可能で
あるという指摘はない。レーザー切除は重合体層を除去
してそのすぐ下にある感光層を被覆除去するのに充分な
ほど正確であるとは指摘されていない。
【0016】レーザーは少量の重合体を多層製品の一層
から他の層に物理的に移動させるためにも使用されてい
る。フォレー(Foley)他に1992年10月30日に発
行された米国特許第5,156,938号は、グラフィッ
クアートおよび印刷回路工業用のマスク(ネガ)の製造
用に適しているレーザー−誘導された切除転写像生成方
法に関するものである。この方法では、レーザー−敏感
性物質が多層構造の供与体層から受容体層に物理的に移
動される。
【0017】供与体層からの物質の一部は切除されるが
他の物質は受容体層上に配されているため、これは切除
移動と記載されている。
【0018】発明者は、フレキソグラフィー板と共にす
でに使用されている型のスリップフィルムを強い紫外線
吸収剤で改質すると、レーザーを使用して光重合体の代
わりにスリップフィルムを彫刻できるということを発見
した。するとスリップフィルムは実際に、本来の場所で
生成するネガとなる。ネガを別個に製造することまたは
ハロゲン化銀を実際に廃棄することは必要ない。また、
スリップフィルムの光拡散効果が除かれ、それにより像
の解像力が増加する。
【0019】
【発明の目的】従って、本発明の目的は写真ネガの使用
を必要としない印刷板の製造方法を提供することであ
る。
【0020】本発明の他の目的はレーザーで像生成可能
な印刷板を製造することである。
【0021】本発明のさらに他の目的は製品からレーザ
ー切除により簡便に且つ正確に除去できる光硬化可能な
物品用の保護層を供することである。
【0022】本発明の目的は、重合体状マトリックスお
よび300−400nmの範囲の高い吸光係数(extinc
tion coefficient)を有するドープ剤(dopant)を含ん
でなる光硬化可能な物品用の保護層であり、該層が重合
体状マトリックスの光切除(photoablation)および好
適にはドープ剤の光漂白(photobleaching)により選択
波長における放射線の閾線量に応答する層を供すること
により、達成される。層を感光性物品に適用し、そして
次にレーザーを使用して保護層を選択的に除去し、下に
ある光硬化可能な組成物をその後の紫外線露光にかけそ
して硬化させる。硬化した板は次に一般的方式で現像さ
せることができる。
【0023】本発明の他の目的および利点はここになさ
れている開示から明らかになるであろう。
【0024】
【発明の詳細な記述】露光および現像方法 本発明はレーザーで像生成する印刷板の製造方法を包含
する。最初に、固体の硬化されていない印刷板を紫外線
吸収剤で改質する。これは最も簡便には、紫外線吸収剤
をこれまでに印刷板を用いる使用のために採用されてい
る一般的紫外線透過性スリップフィルム(spip film)
に加えそしてそれを一般的方式で硬化されていない印刷
板の表面に適用することにより行われる。印刷者の要望
に応じて、改質されたスリップフィルム付き印刷板をあ
る時間にわたり貯蔵することもでき、または直ちに使用
することもできる。
【0025】印刷板を使用する時には、レーザーを使用
してスリップフィルムを選択的に切除または除去する。
硬化されていない板を次に一般的方式で紫外線照射露光
する。スリップフィルムが切除された部分は、紫外線露
光で、硬化すなわち硬くなるであろう。スリップフィル
ムが切除されていない部分を次に一般的現像方法で洗浄
除去することができる。
【0026】この実施法は、本発明を最初に実施した特
定態様すなわちフレキソグラフィー印刷板に関して記載
されている。当技術の専門家は、本発明はこの態様に限
定されないということを容易に認識するであろう。例え
ば、本発明ではスリップフィルムは紫外線吸収剤用の支
持体として使用される。スリップフィルムは現存する板
においてすでに使用されているため、これは簡便さによ
る。同様に、紫外線吸収剤が投与されておりそして選択
された波長でレーザー走査により切除される紫外線透過
性フィルムも彫刻印刷用の印刷スリーブとしてまたはフ
ォトレジストを製造するための本来の場所にあるマスク
として使用することができるであろう。
【0027】紫外線吸収剤 本発明の重要な一面は、像生成方法を促進させるために
一般的には紫外線透過性であるスリップフィルムを紫外
線吸収剤で改質することである。紫外線吸収剤の存在が
一般的な紫外線透過性スリップフィルムを高度に紫外線
不透過性の遮蔽体にさせる。紫外線吸収がほとんど完全
に、少なくとも97%に、好適には99.9%以上に、
そしてさらに好適には99.99%以上になされること
が必須であり、紫外線照射露光灯からの実質的に全ての
照射が遮断されるであろう。多くの用途で使用されてい
る照射露光灯の分光範囲は300−400nmである。
従って、紫外線吸収剤は典型的にはこの範囲で活性でな
ければならない。これを換言すると、紫外線吸収剤は現
像灯の分光出力範囲で高い吸光係数を有していなければ
ならないということである。
【0028】ベンゾフェノン誘導体および強力な吸収性
色素が好ましい。下記の物質が現像灯の典型的な分光範
囲内の高い吸光係数を有する: ユヴィヌル(Uvinul)D49TM ニュージャージー州パル
シパニーのBASFコーポレーションから入手可能な
(2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ−ベン
ゾフェノン) ユヴィヌル(Uvinul)D50TM ニュージャージー州パル
シパニーのBASFコーポレーションから入手可能な
(2,2′,4,4′−テ ト
ラヒドロキシベンゾフェノン) ユヴィヌル(Uvinul)N539 ニュージャージー州パル
シパニーのBASFコーポレーションから入手可能な
(ベンゾフェノンシアノアクリレート) ウィルミントン州ミルウォーキーのアルドリッヒ・ケミ
カル・カンパニーから入手可能な4−(ジメチルアミノ
ベンゾフェノン) チヌヴィン(Tinuvin)PTM ニューヨーク州ハウソル
ンのチバ・ガイギー・コーポレーションから入手可能な
(ベンゾトリアゾール) イントラワイト(Intrawite)OBTM ペンシルバニア州
リーディングのクロンプトン・アンド・ノウレス・リミ
テッドから入手可能な色素 イントラプラスト・イエロー2GLN、クロンプトン・
アンド・ノウレス・リミテッドから入手可能な色素 アルドリッヒから入手可能な4−フェニルアゾフェノー
ル(「4−PAP」)。
【0029】紫外線吸収剤は適当な波長におけるレーザ
ーによる励起に対する特別な応答も示さなければならな
い。それはスリップフィルムの切除を可能にしなければ
ならない。最後に、紫外線吸収剤はスリップフィルムと
相容性でなければならず、そしてスリップフィルムから
光硬化組成物への充分な泳動を示してはならない。
【0030】これらの特性を有することが見いだされた
好適な紫外線吸収剤は、ユヴィヌルTMD49およびD5
0(BASF)並びに4−フェニルアゾフェノールであ
る。これらの物質は351nmの選択波長における閾力
水準(流暢性)に対する露光時に典型的なスリップフィ
ルムの光切除をもたらす。さらに、それらは351nm
における光漂白という追加利点も有する。スリップフィ
ルムが0.1−1.0ミル、好適には0.3−0.5ミル、
である時には、紫外線吸収剤は典型的にはフィルム中に
約1−20PHR(100部当たりの部数、すなわち1
/101−20/120%)、好適には約4−8PHR
の量で存在する。
【0031】スリップフィルム 以上で論じられている如く、本発明の数種の態様におけ
る紫外線吸収剤用の好適な賦形剤はスリップフィルムす
なわち像を生成しようとする印刷板と共に使用される薄
い保護フィルムである。これらのフィルムはその下にあ
る光重合体と相容性でありそして現像(洗浄)段階中に
容易に除去される広範囲の重合体から製造される。ネガ
が使用される時には、スリップフィルムは硬化用に使用
される光に対して透過性でなければならない。紫外線照
射灯は一般的には硬化用の光を供するため、一般的なス
リップフィルムは300−400nmの範囲で透過性で
ある。そのようなフィルムは光処理分野において既知で
あり、そして原則的にはいずれのそのようなフィルムで
も本発明の紫外線吸収剤の添加により改質することがで
きる。例には、ポリアセタール類、ポリアクリル類、ポ
リアミド類、ポリイミド類、ポリブチレン類、ポリカー
ボネート類、ポリエステル類、ポリエチレン類、セルロ
ース系重合体、ポリフェニレンエーテル類、およびポリ
エチレンオキシド類が包含される。セルロース類および
ポリアミド類が好適である。紫外線吸収剤の添加は本発
明で使用されるレーザーに対するフィルムの応答を変化
させることができる。例えば、多くのフィルムは一般的
には351nmにおけるレーザー照射に対する露光によ
り影響を受けないが、ユヴィヌルD50を加える時には
これらのフィルムはレーザー切除により傷つき易くな
り、従って本方法において有用である。
【0032】光硬化可能な組成物 原則的には、既知の光硬化可能な調合物のいずれでも本
発明において使用することができる。しかしながら、使
用される光重合体および開始剤の型がレーザーまたは該
方法における使用のために選択波長と相容性であるな
ら、特に有利であろう。
【0033】光重合体 光重合体の中では、本発明の実施用に選択される特定波
長におけるレーザー照射により影響されないものが特に
有用である。これらの中では、アクリレートポリウレタ
ン類、酸−改質されたアクリレートポリウレタン類、ア
ミン−改質されたポリウレタン類を含むポリウレタン
類;アクリロニトリルゴムを含むゴム類;並びにスチレ
ン−イソプレンおよびスチレン−ブタジエンから製造さ
れるものの如きジ−およびトリブロック共重合体が挙げ
られる。アミン−改質されたアクリレートポリウレタン
類並びにスチレン−イソプレンまたはスチレン−ブタジ
エンジ−およびトリブロック共重合体が好適である。そ
のような光重合体から製造された硬化されていない印刷
板は熱的損傷を受けずにレーザーエネルギーに対するあ
る程度の露光に耐えることができる。従って、光重合体
および開始剤以外の種々の添加物はレーザー操作波長に
おける低い吸収率を有していなければならない。
【0034】開始剤 開始剤も本発明での使用のために選択されるレーザーの
波長において低い吸収率を有することができる。しかし
ながら、開始剤が選択される波長に応じて活性化される
なら、光重合体の硬化は、光重合体への損傷なしに、切
除段階中に紫外線灯による照射露光の前に始まるであろ
う。従って、適切な開始剤の使用は板の処理を促進させ
そして比較的迅速で比較的均一な硬化を確実にするのを
助けることができる。
【0035】光硬化可能な組成物用の光開始剤には、ベ
ンゾインアルキルエーテル類、例えばベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテ
ル、が包含される。他の種類の光開始剤は、2,2−ジ
メトキシ−2−フェニルアセトフェノンすなわちイルガ
キュア(Irgacure)R651(ニューヨーク州ハウソルン
のチバ−ガイギーから入手可能である)により例示され
るジアルコキシアセトフェノン類;および2,2−ジエ
トキシ−2−フェニルアセトフェノンである。さらに別
種の光開始剤は、カルボキシル基と直接結合されている
少なくとも1個の芳香族核を有するアルデヒドおよびケ
トンカルボニル化合物である。これらの光開始剤には下
記のものが包含されるがそれらに限定されるものではな
い:ベンゾフェノン、アセトフェノン、o−メトキシベ
ンゾフェノン、アセナフテンキノン、メチルエチルケト
ン、バレロフェノン、ヘキサノフェノン、アルファ−フ
ェニル−ブチロフェノン、p−モルホリノプロピオフェ
ノン、ジベンゾスベロン、4−モルホリノベンゾフェノ
ン、4′−モルホリノデオキシベンゾイン、p−ジアセ
チルベンゼン、4−アミノベンゾフェノン、4′−メト
キシアセトフェノン、ベンズアルデヒド、α−テトラロ
ン、9−アセチルフェナンスレン、2−アセチルフェナ
ンスレン、10−チオキサンセノン、3−アセチルフェ
ナンスレン、3−アセチルインドン、9−フルオレノ
ン、1−インダノン、1,3,5−トリアセチルベンゼ
ン、チオキサンセン−9−オン、キサンセン−9−オ
ン、7−H−ベンズ[デ]−アントラセン−7−オン、1
−ナフトアルデヒド、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)
−ベンゾフェノン、フルオレン−9−オン、1′−アセ
トナフトン、2′−アセトナフトン、2,3−ブタンジ
オン、アセトナフテン、ベンズ[a]アントラセン7.1
2ジオンなど。例えばトリフェニルホスフィンおよびト
リ−o−トリルホスフィンの如きホスフィン類もここで
は光開始剤として使用できる。
【0036】ベンゾフェノンをベースにした開始剤が好
ましい。商業的に入手可能な例はイルガキュア(Irgacur
e)651である。
【0037】レーザー レーザーはスリップフィルムを正確に除去してその下に
ある光重合体をその後の照射露光および硬化にかけるた
めに使用される。レーザーの波長および力は、レーザー
処理によりそのすぐ下にある光重合体層を損傷させずに
スリップフィルムを切除できるようなものでなければな
らない。350±50nm、好適には約351nm、の
波長を有するパルス方式で操作されるエキサイマーレー
ザーを使用することができる。好適な線量水準はcm2
当たり1−5ジュール(J/cm2)である。
【0038】
【発明の効果】本発明は、像ネガの使用を必要としない
フレキソグラフィー印刷板の使用を可能とする。他の用
途に関する本発明の有用性も同様に当技術の専門家によ
り認識されるであろう。印刷板において、本発明は印刷
方法を合理化することにより印刷者が行わなければなら
ない工程数を減少させ且つ印刷方法で使用される材料の
数および量を減少させることで像の性質を改良しそして
印刷費用を低くする。これらの処理上の利点、費用節約
および優れた像性質は、レーザーで像を生成可能な保護
層を例えば印刷板の光硬化可能な表面上で使用すること
により、得られる。これは、光硬化可能な製品上にある
通常は紫外線(「UV」)透過性スリップフィルム層を
紫外線吸収剤で改質させて紫外線吸収層を製造すること
により、行われる。この層は重合体状マトリックスおよ
び300−400nmの範囲の高い吸光率を有するドー
プ剤を含んでおり、それにより該紫外線吸収層は光切除
可能となり、そしてそれによりフレキソグラフィー印刷
板または他の像を生成できる光硬化可能な製品用の本来
の場所のネガとして作用する。
【0039】下記の実施例は本発明を説明するものであ
るが、本発明または特許請求の範囲を限定するものでは
ない。
【0040】
【実施例】実施例1 KOPフレキソグラフィー板用のユヴィヌルD50改質
ポリアミドスリップフィルムの製造 この実施例では、一般的には商業的に入手可能なフレキ
ソグラフィー印刷板と共に使用されるであろうスリップ
フィルムを紫外線吸収剤の添加により改質して、0透過
率(紫外線照明灯への露光時の硬化からの保護により示
される)を得た。
【0041】原料流し込み溶液を下記の調合で製造し
た: イソプロパノール 45.6部 ヘキサン 23.9部 VM&Pナフサ1 21.6部 マクロメルト(Macromelt)6900TM2 8.3部 ユヴィヌル(Uvinul)D50 0.664部脚注: 1 オハイオ州コロンバスのアッシュランド・ケミカル・
カンパニーから入手可能な芳香族溶媒混合物2 イリノイ州ラグランジェのヘンケル・コーポレーショ
ンから入手可能な重合体ペレット 厚さが約5−7ミルのフィルムを透明なマイラー(Myla
r)TM裏シート上に延展棒を用いて手で流し込んだ。乾燥
時に、平均フィルム厚さをオノ・ソッキ(Ono Sokki)マ
イクロメーターを用いて測定すると、約0.3−0.5ミ
ルであった。
【0042】フィルムを商業的に入手可能な光重合体組
成物の上に積層して、ジョージア州、アトランタのW.
R.グレース・アンド・カンパニー−コン(W. R. Grace
& Co.-Conn.)から入手可能なKORR印刷板と同様な紫
外線吸収剤で改質された印刷板を製造した。板を試験ネ
ガを通して商業的に入手可能な紫外線照射灯を用いて露
光した。表Iにまとめられている研究用には、3種の濃
度(百分率固体分を基にして4PHR、6PHRおよび
8PHR)、3種の厚さ水準(低、中および高)、並び
に2種の露光水準を使用した。像の存在または不存在
は、入射紫外線を遮断する紫外線吸収剤の効率を示すも
のである。4および6PHR充填量に関しては、スリッ
プ厚さが0.4ミルより薄い時には像が見られ、それは
全ての紫外線を有効遮断するためのD50の低い方の閾
濃度を示している。8PHR充填量に関しては、像の不
存在により示されているように0.3−0.4ミルが全て
の紫外線を遮断するのに充分であることが見られた。全
ての3種の濃度に関して、0.5−0.6ミルより上の厚
さは有効であった。
【0043】次に改質されたスリップフィルムを厚さが
約25−275ミルのフレックス・ライトKOR
R(「KOR」)板の上に積層した。積層板を75℃に
おいて焼きなまし、そして実施例3−6に示されている
如くレーザー切除試験用に使用した。
【0044】 表I ユヴィヌルD50の濃度対スリップフィルムの厚さに関する研究 厚さ 露光 濃度1 湿潤(ミル) 乾燥(ミル) 31/2分 7分 4 PHR 7 0.1−0.2 I2 4 PHR 10 0.2−0.3 I I 4 PHR 15 1.4−1.5 N3 6 PHR 7 0.2−0.3 I I 6 PHR 10 0.4−0.5 N N 6 PHR 15 0.7−0.8 N N 8 PHR 7 0.3−0.4 N N 8 PHR 10 0.4−0.5 N N 脚注:1 −百分率固体を基にした100当たり2 −I:像の生成。D50は紫外線遮蔽において有効
でない。
【0045】3 −N:像なし。D50は有効である。
【0046】実施例2 アミン−改質されたポリウレタン(AMPU)水性−現
像可能フレキソグラフィー板用のユヴィヌルD50改質
セルロース系ベースの水洗スリップフィルムの製造 この実施例では、水洗可能フレキソグラフィー印刷板と
共に使用するのに適しているセルロースフィルムである
他の型のスリップフィルムを紫外線吸収剤で改質した。
フィルムによる最大紫外線吸収を確実にするために前の
実施例に示されている濃度および厚さを使用した。
【0047】原料溶液を下記の調合を用いて製造した: イソプロパノール 50.2部 水 39.8部 クルセル(Klucel)L1 10.0部 ユヴィヌル(Uvinul)D50 0.8部脚注: 1 デラウェア州ウィルミントンのアクアロン・インコー
ポレーテッドから入手可能なヒドロキシプロピルセルロ
ース重合体ペレット 前記の如く、厚さが5−7ミルのフィルムを透明なマイ
ラー(Mylar)TM裏シート上に流し込み、乾燥し、そして
現像用のアミン−改質されたポリウレタンフレキソ基質
上に積層した。板の厚さは25ミル−275ミルの間で
あった。レーザー切除および像生成を実施例3−6に示
されている如く改質された板の上で行った。
【0048】実施例3 固体状態の密封されたCO2レーザー(10.6nm)を
用いるレーザー切除および像生成 実施例1の商業的に入手可能な光重合体樹脂をシートに
形成し、そして8PHRのユヴィヌルD50を含有する
厚さが0.9ミルのポリアミドスリップで積層して実験
用印刷板(KOR)を製造した。この予備研究用の板は
手による流し込みスリップフィルムを用いて製造され
た。切除研究用には2種のレーザーシステム、すなわち
10.6μmにおいて吸収性の密封されたCO2および
1.06μmにおけるYAG、を使用した。YAGレー
ザーは切除をもたらす際に本質的に無効であることが見
られた。密封されたCO2レーザー中の電力を8ワット
から15ワットの高さまで変えた。デジタル像プログラ
ム設定により長方形の輪郭(1cm×2cm)および文
字書きが可能であった。切除研究からの結果は表IIにま
とめられている。
【0049】ポリアミドスリップフィルムの存在または
不存在がATR−IR分析により試験された。切除され
た板を次に熱灯を用いて6分間にわたり照射露光し、そ
してジョージア州、アトランタのW.R.グレース・アン
ド・カンパニー−コン(W. R.Grace & Co. -Conn.)から
商業用目的のために入手可能な一般的現像溶媒であるソ
ルビット(Solvit)Rの中で現像した。表IIから、エッチ
ング深さ対流暢性(電力)が線状であることがわかる。
8−10ワットの間のエッチング深さにおける差は0.
1ミルの実験誤差よりわずかに大きい。12ワットにお
いては、0.5ミルのスリップフィルムがその下に置か
れている光重合体の一部に沿って完全に切除されてい
た。電力が12ワットから15ワットに増加した時に
は、0.7ミルから5.0ミルへのエッチング深さにおけ
るジャンプもあった。予期された如く、スリップフィル
ムのほとんど完全な切除を示す長方形の輪郭だけがその
後の照射露光および現像中に硬化した。しかしながら、
これらの輪郭に関してさえ、表面は非常に質感的であり
そして粗かった。また、解像力も文字に関しては劣って
いた。従って、レーザーで像生成する印刷板の基本的ア
イデアが示されていること並びに熱切除においてはCO
2レーザーの使用は必然的に解像力の損失が伴われて行
われることがわかった。
【0050】 表II KOR上に積層されたユヴィヌルD50で改質されたスリップフィルム に関するCO2レーザー切除像生成研究 # 電力 エッチング深さ 長方形輪郭 文字 所見 ワット ミル 2 8 − 洗浄除去 洗浄除去 充分でない切除 5 9 0.1−0.3 洗浄除去 洗浄除去 充分でない切除 6 10 0.3−0.4 洗浄除去 洗浄除去 充分でない切除 8 12 0.7 硬化、68ミル 洗浄除去 板表面不均一 12 15 5.0 硬化、64ミル 硬化 板表面不均一 実施例4 248nmにおける弗化クリプトン(KrF)エキサイ
マーレーザーを用いるレーザー切除および像生成 上記の実施例1(KOR)および2(AMPU)に従い
製造された実験用印刷板を実施例3の如くしてデジタル
像生成用プログラムにより調節されている弗化クリプト
ンエキサイマーレーザーを用いて像生成した。結果は表
IIIにまとめられている。
【0051】248nmにおける弗化クリプトンエキサ
イマーレーザーは光切除を起こす際に非常に有効である
ことが見られた。スリップフィルムのポリアミドおよび
実施例1の光重合体のクラトン(Kraton)TMゴムを含むほ
とんどの重合体は、スリップの切除により生ずる小さい
流暢性(<0.5J/cm2)でも、248nmにおける
非常に強い吸収を有する。機構は主として光切除(すな
わちポリアミドの化学結合−破壊)および熱発生による
一部の熱的切除であると考えられている。残念なこと
に、光重合体を製造するために使用されたスチレン−イ
ソプレンゴムはこの波長において非常に強吸収性でもあ
るため、特に比較的高い流暢性においては、表面に対す
る幾らかの損傷が起きた。熱的損傷が起きた場合には、
解像力は劣った。
【0052】 表III KrFエキサイマーレーザー(248nm)を用いるKOR およびAMPUのレーザー切除 型 流暢性 パルス数 像 所見 J/cm2 KOR 0.4 10 あり 熱的損傷 (実施例1) 40 あり 全てに対して劣悪な解像 70 あり 1.2 1 なし 2 なし 6 あり 不完全な硬化による膨潤 劣悪な解像 AMPU 0.4 10 あり 熱的損傷 (実施例1) 40 あり 劣悪な解像 20 あり 1.2 1 なし 不完全な切除 2 なし 不完全な切除 6 あり 熱的損傷 8 あり 劣悪な解像 実施例5 351nm弗化キセノン(XeF)エキサイマーレーザ
ーに関する流暢性の最適化 レーザー切除および像生成研究並びに切除に必要な流暢
性の最適化を前記の如くKOR(実施例1)およびAM
PU(実施例2)に対して行った。両方の型の板に対し
て同様な結果が見られた。決定した結果は表IVにまとめ
られている。
【0053】ほとんどの重合体は351nmにおいては
吸収しない。しかしながら、改質されたスリップフィル
ム(溶媒をベースにしたポリアミドおよび水をベースに
したセルロース系重合体の両者)は351nmにおける
エキサイマーレーザーに対してこの波長におけるD50
の高い吸光率のために、非常に敏感性であった。光漂白
(D50分子の破壊)および光切除(D50により吸収
されたエネルギーの重合体中の重合体起因性結合破壊へ
の移動)効果の組み合わせが見られた。
【0054】改質されたスリップは比較的低い線量(<
1J/cm2)においては部分的に切除され、硬化なし
(従って像なし)または不完全な硬化(従って劣悪な像
および解像)のいずれかを生じた。板表面に対する損傷
はなかった。その後の露光および現像で、良好な解像性
を有する切除された部分の非常に鮮鋭な像を与えた。
【0055】 表IV KORおよびAMPUに関する351nmにおける弗化キセノンエキサイマー レーザーを用いるレーザー像生成に対する流暢性の最適化 流暢性 パルス数 像 所見 J/cm2 0.14 50 なし 流暢性は閾より低く、従って 100 なし 不完全な切除 200 なし 0.4 5 なし 閾流暢性以下 10 なし 硬化しなかった 15 なし 30 なし 0.9 1 なし 不充分な切除 2 なし 不充分な切除 6 あり 不完全な硬化 10 あり 像が溶媒中で膨潤した 劣悪な解像 1.6 1 なし 不充分な切除 3 あり 良好な解像、良好な像 5 あり 表面には損傷が見られなかった 実施例6 D50改質されたスリップで積層されたKORに関する
像生成研究および像生成 板を用いる印刷試験 KOR上でのD50改質されたスリップの像生成は、3
51nmにおいてレーザー発生する弗化キセノンエキサ
イマーレーザーを用いて行われた。文字の像生成はCA
Dファイルを用いて得られた。下記の強度およびパルス
数が使用された: 切除/像生成板を熱灯の下で51/2分にわたり照射露光
し、そしてソルビットR中で6分間洗浄して、20−2
5ミルのレリーフを有する像を与えた。
【0056】顕微鏡試験で、全ての流暢性に関して像性
質が良好であり鮮鋭な輪郭を与えたことが確認された。
しかしながら、縁はこれらの部分における不充分な線量
のために丸くなっていた。全ての場合、表面の熱的損傷
は示されずそして板表面は滑らかで且つ平らであった。
【0057】実施例7 4PHRのD50および4PHRの4−フェニルアゾフ
ェノール(4−PAP)で改質されたスリップ上のレー
ザー切除および像生成 この実施例では、紫外線吸収剤の混合物を実施例1のも
のと同様なスリップフィルムと共に使用した。改質され
たスリップ用の流し込み溶液は下記の調合を用いて製造
された: イソプロパノール 45.6部 ヘキサン 23.9部 VM&Pナフサ 21.6部 マクロメルト(Macromelt)6900TM* 8.3部 ユヴィヌルD50 0.332部 4−フェニルアゾフェノール 0.332部 厚さが5−7ミルのフィルムを透明なマイラー(mylar)
裏シートに流し込んだ。乾燥時に、フィルムは0.3−
0.5ミルの平均厚さを有していた。改質されたスリッ
プフィルムを次に約67ミルの厚さのKOP板の上に積
層した。レーザー切除および像生成を実施例6の如くし
て行った。ここでも、全ての流暢性に関して像性質は優
れていた。
【0058】実施例8 実施例6および7の印刷板を青色水性インキを用いて光
沢紙上の印刷性質に関して試験した。インキののりは良
好であった。印刷された文字は鮮鋭でありそして歪みが
なかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アルビン・ブイ・ランドール アメリカ合衆国ジヨージア州30068マリ エツタ・フエアフイールドドライブ846 (56)参考文献 特開 昭50−102401(JP,A) 特開 平4−120173(JP,A) 特開 昭59−111608(JP,A) 特開 昭49−103297(JP,A) 特開 昭61−122644(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41N 1/06 B41C 1/05

Claims (16)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a) 裏層; (b) 該裏層上の、光重合体及び開始剤を含んでなる
    光重合可能な材料の少なくとも1つの層; (c) 選択された波長及び選択されたパワーにおいて
    レーザーにより切除可能な、少なくとも1つの光重合可
    能な層と直接接触しており且つレーザー切除に暴露され
    得る光重合可能な層と反対側の表面を有する少なくとも
    1つの切除層であって、 (i) 少なくとも1種の紫外線吸収性材料、及び (ii) ポリアミド類よりなる群から選ばれる少なくと
    も1種の結合剤を含んでなる切除層を含んでなり、該切
    除層が選択された波長及びパワーにおいてレーザー照射
    に暴露されたときに光重合可能な層の表面から切除され
    ることを特徴とする感光性フレキソグラフィー印刷要
    素。
  2. 【請求項2】 裏層が透明である請求項1に記載の要
    素。
  3. 【請求項3】 該光重合可能な層の該光重合体がポリウ
    レタン、アクリロニトリルゴム、スチレン−イソプレン
    又はスチレン−ブタジエンから製造されたジブロック又
    はトリブロック共重合体及びそれらの組み合わせよりな
    る群から選ばれる請求項1に記載の要素。
  4. 【請求項4】 該光重合体がアクリレートポリウレタン
    類、酸−改質されたアクリレートポリウレタン類及びア
    ミン−改質されたポリウレタン類よりなる群から選ばれ
    るポリウレタン、アクリロニトリルゴムを包含するゴ
    ム、又はスチレン−イソプレン及びスチレン−ブタジエ
    ンのジ−及びトリ−ブロック共重合体を含んでなる請求
    項1に記載の要素。
  5. 【請求項5】 少なくとも1種の結合剤がまたセルロー
    ス系重合体を含んでなる請求項1に記載の要素。
  6. 【請求項6】 少なくとも1種の結合剤がヒドロキシプ
    ロピルセルロースを含んでなる請求項5に記載の要素。
  7. 【請求項7】 紫外線吸収性材料が該切除層100重量
    部あたり約1〜20重量部を構成する請求項1に記載の
    要素。
  8. 【請求項8】 レーザーの波長及びパワーが該切除層の
    下の光重合可能な層を損傷することなく切除層を切除す
    るものである請求項1に記載の要素。
  9. 【請求項9】 レーザーの選択された波長が300〜4
    00ナノメーターである請求項8に記載の要素。
  10. 【請求項10】 レーザーの選択された波長が10.6
    μmである請求項8に記載の要素。
  11. 【請求項11】 レーザーが10.6μmの波長で発光
    するCO2レーザーである請求項8に記載の要素。
  12. 【請求項12】 紫外線吸収性材料がベンゾフェノン誘
    導体及び強吸収性色素よりなる群から選ばれる請求項1
    に記載の要素。
  13. 【請求項13】 紫外線吸収性材料が切除層と相容性で
    あり且つ切除層から光重合可能な材料の層に実質的に移
    行しないものである請求項1に記載の要素。
  14. 【請求項14】 切除層が光重合可能な層中の光重合体
    と相容性である請求項1に記載の要素。
  15. 【請求項15】 (a) 裏層; (b) 該裏層上の光重合可能な材料の少なくとも1つ
    の層; (c) 選択された波長及び選択されたパワーにおいて
    レーザーにより切除可能な、光重合可能な層と直接接触
    しており且つレーザー切除に暴露されうる光重合可能な
    層と反対側の表面を有する少なくとも1つの切除層であ
    って、 (i) 切除層から光重合可能な層に実質的に移行しな
    い少なくとも1種の紫外線吸収性材料、及び (ii) ポリアミド類よりなる群から選ばれる少なくと
    も1種の結合剤を含んでなる切除層を含んでなり、切除
    層が選択された波長及びパワーにおいてレーザー照射に
    暴露されたときに光重合可能な層の表面から切除され且
    つ切除の前に、切除可能な層が300〜400nmの波
    長において入射紫外線の少なくとも97%を吸収するこ
    とを特徴とする感光性フレキソグラフィー印刷版要素。
  16. 【請求項16】 切除層が光重合可能な層中の光重合体
    と相容性である請求項15に記載のフレキソグラフィー
    印刷版要素。
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