JP3464470B2 - 多層スリップフィルムをもつレーザーで像処理した印刷板 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はネガを用いずにつく
ることのできる印刷板に関する。より詳しくは本発明は
レーザーでイメージ処理可能な印刷板に関する。これら
の印刷板は特にフレキソ印刷に有用だがオフセット印刷
や平版印刷にも用いうる。

【０００２】

【従来の技術とその課題】フレキソ印刷は一般に高容量
の処理に用いられる印刷法である。フレキソ印刷は紙、
ペーパーボード、波板、フィルム、箔、積層体等の種々
の基材上への印刷に用いられる。新聞紙や食品雑貨類用
バッグはその典型例である。粗い表面や伸縮フィルムは
フレキソ印刷でしか経済的な印刷はできない。フレキソ
印刷板はオープン領域上に像要素をもつレリーフ板であ
る。一般にこの板は幾分軟らかく、印刷シリンダのまわ
りに巻きつくに十分な可撓性と数１００万回のコピーを
印刷するに十分な耐久性をもつ。

【０００３】これらの板はその耐久性や製造の容易性か
ら、印刷機に多くの利点をもたらしている。解像度（細
かさ）の改良やコストの低減がこれらの板の有用性をさ
らに高める。本発明はレーザー処理を用いることによる
解像度の向上と印刷板をつくる際のネガの使用を排除す
ることによるコスト低減の両方を可能にするものであ
る。

【０００４】典型的なフレキソ印刷板は裏打ち層又は支
持層、１以上の末露光光硬化性層、保護層又はスリップ
フィルム、及びカバーシートをこの順でもつ多層物品で
ある。裏打ち層は板を支持する。これは典型的には約５
ミル程度の厚さをもつ透明又は不透明のプラスチックフ
ィルム又はシートである。ポリエチレンテレフタレート
フィルム等のポリエステルは裏打ち層として用いるに適
する材料の一例である。単一の光硬化性層だけが存在す
る場合には、それはどこに配しても約２５〜２７５ミル
の厚さをもちうると共に、種々の公知の感光性ポリマ
ー、開始剤、反応性希釈剤、フィラー等から形成されう
る。板によっては、第２の光硬化性層（「オーバーコー
ト」層又は「印刷」層と称する）を、光硬化性材料の上
記の第１のベース層の上に配する。この第２層は通常第
１層と同じ組成をもつが、一般的にはより薄く、１０ミ
ル以下のオーダーの厚さである。スリップフィルムは薄
く（約０．１〜１．０ミル）、ＵＶ光に透明なシートで
あり、感光性ポリマーをダスト類から保護しまた取り扱
いを容易にする。カバーシートは重い保護層であり、典
型的にはポリエステル等のプラスチック又は紙からな
る。

【０００５】通常の使用では、印刷機が印刷板からカバ
ーシートをはがし、スリップフィルムの上にネガを配す
る。次いで印刷板とネガを、ネガを介してＵＶ光に露光
する。露光した領域が硬化し、末露光領域が除去（現
像）される。典型的な現像法には種々の溶媒又はその洗
浄やブラシ処理がある。他の現像法としてはエアナイフ
の使用や熱のプラス吸取り紙の使用もある。

【０００６】印刷板の露光は通常はネガと板との間の接
触をよくするために真空を付与して行われる。空気ギャ
ップがあると像欠陥をもたらしうる。同様に、ネガと板
の間にほこりやごみ等の部外物があると像品質を損な
う。

【０００７】スリップフィルムは薄く且つ透明材料でつ
くられているが、依然光散乱を起こしまた所定の像から
得られうる解像度も制約しうる。スリップフィルムがな
ければ、より細かく且つ複雑な像をうることができるは
ずである。高い解像度は特に漢字等の場合のむずかしい
書体の再製や写真画像にとって望ましいものである。

【０００８】ネガはコスト的に問題である。第１に印刷
に用いるネガは完全でなければならない。わずかな欠点
でもそれぞれの印刷物にでてしまう。またネガは通常ハ
ロゲン化銀を用いてつくられているが、これでは高価で
あると共に廃棄すると環境汚染源となる。これらのこと
から考え、ネガの使用を排除したり、スリップフィルム
の光散乱作用や他の露光制限を減少させる方法が、従来
の方法に比し、コスト、環境問題、利便性及び像品質の
点で優れていることは明らかである。

【０００９】本発明者等は電子データファイルに保存し
た像によってガイドされるレーザーを用いて変性スリッ
プフィルム上にその場でネガをつくり、次いで印刷板を
通常の方法で露光し、現像することにより上記の利点を
得る方法を見出した。その結果、印刷機はネガとすべて
のその支持機材の使用に依存する必要がなくなり、それ
に代わりスキャンし保存した像に依存できることにな
る。これらの像は異なる目的用にかえることが容易であ
り、従ってプリンターの利便性を高めうる。またこの方
法は従来の現像及び印刷機器に適用可能であり、他の機
器を必要としない点でもコスト的に有利である。

【００１０】木や金属等の種々の材料をレーザー食刻す
ることは周知である。硬化した堅いゴム又は平版をレー
ザー食刻することも知られている。この方法をフレキソ
印刷板に適用するとすると、板をまずＵＶ光に、像なし
で、さらし、次いで硬化した板上に像を食刻するために
レーザーを用いることになる。この方法を試してみた
が、遅すぎて工業的に競争しえないものであった。フレ
キソ印刷板は高いレリーフ（一般に３０〜４０ミル高の
レター）を要し、これは食刻に長時間を要する。

【００１１】レーザー光を用いる感光性ポリマーの直接
露光も知られている。この方法は板の露光に通常用いら
れるＵＶ投光ランプを置きかえるために正確にガイドさ
れたレーザーを用いる。１９８１年２月３日発行の米国
特許第４，２４８，９５９号はコンピューターでつくっ
た像によってガイドされたレーザーを用いる感光性ポリ
マー板の直接露光に関するものである。この方法は、板
の厚さが硬化を抑えることから、フレキソ印刷板の現像
には適していない。またこの方法は遅すぎて工業的な競
争力がない。

【００１２】光硬化性層と直接接触して像をつくること
についての他の公知例もある。１９９１年５月１４日発
行の米国特許第５，０１５，５５３号は下のＵＶ感光性
フォトレジストへの影響なしに写真像形成層を選択的に
露光するコンピューター・アシスト・デザイン（ＣＡ
Ｄ）駆動光プロッターを用いる印刷回路版用のＵＶフォ
トレジストを製造する方法に関する。上記の像層は次い
で版上で化学的に現像され、ＵＶ光露光の間下層のＵＶ
レジスト用のその場でのマスクとして用いられる。露光
した後、像展をはがし、レジストの通常の処理に供す
る。この方法は板全体に少なくとも２回の現像工程を要
し、また像層と光硬化性層の間に挟持させた剥離性カバ
ーシートの使用を要する。

【００１３】相対的に非感応性の基材からのポリマーの
レーザー切削も知られている。１９７７年５月３日発行
の米国特許第４，０２０，７６２号はオフセットリトグ
ラフ用の感光化したアルミニウム印刷板の製造法に関す
る。アルミニウムシートに、微細炭素、ニトロセルロー
ス、非酸化性アルキッド樹脂ジアゾ感光剤、酢酸セルロ
ース、ブチルアセテート、キシレン及びエチルセロソル
ブの混合物を塗布する。この被膜をＹＡＧレーザーで少
なくとも部分的にエッチング除去する。アルミニウム基
材からすべての被膜が除かれるかどうか明らかでない。
そこには、エッチングされた領域はＵＶ光官能性になる
こと、ＵＶ光に露光し現像した後にインク受容性とな
り、エッチングされなかった領域は水受容性になること
が開示されている。定量的な結果は記載されていない。
液体被膜がフレキソ印刷板として用いうることも示され
ていない。レーザー切削がポリマー層を除去してその直
下の感光性ポリマー層を現すに十分であることは示され
ていない。

【００１４】官能性基材からのポリマーのレーザー切削
も知られている。１９９９年７月２０日発行の米国特許
第５，９２５，５００号は紫外線吸収層を用いるレーザ
ー像化処理印刷板の製造法に関する。ここではＵＶ吸収
剤を加えたスリップフィルムでネガを置きかえている。
このスリップフィルムを感光性ポリマー層に積層し、Ｕ
Ｖ領域即ち３００〜４００ｎｍの波長で作用するレーザ
ーを用いて感光性ポリマー層から切削している。得られ
た像化ＵＶ吸収剤含有層は効果的にネガになり、典型的
なＵＶ投与露光にさらし、現像する。しかしこの方法は
ＵＶ領域で作用するレーザーの光切削に限られており工
業的には用い得ない。このタイプのレーザーは高価であ
り、保守が困難であり、またこれらのレーザーに用いる
光学系は不安定で損傷を受けやすい。

【００１５】レーザーはまた多層物品の一層から少量の
ポリマーを別の層に物理的に移動するためにも用いられ
ている。

【００１６】１９９２年１０月３０日発行の米国特許第
５，１５６，９３８号はグラフィックアート及び印刷回
路工業用のマスク（ネガ）の製造に適するレーザー誘導
切削性移動像化法に関する。この方法ではレーザー感応
性材料を多層構造物のドナー層からレセプター層に物理
的に置きかえている。ドナー層からの物質を切削し別の
物質をレセプター層上に付与していることから切削移動
と称している。

【００１７】本発明者等は、多層スリップフィルムが、
少なくとも１層が強ＵＶ吸収剤を含有し少なくとも１の
他層が高吸光率をもつＩＲ吸収剤を含有するという少な
くとも２層からなる場合には、たとえば１０６４ｎｍで
働くＮａ−ＹＡＧレーザー及び８３０ｎｍで働くダイオ
ードアレイレーザー等の入手容易なより安定なＩＲレー
ザーを同スリップフィルムの食刻に用いうることを見出
した。このＩＲ吸収剤層はスリップフィルムをよりきれ
いに且つより容易に切削するための被覆を可能とし、一
方ＵＶ吸収剤層はスリップフィルムをより効果的にその
場でつくられるネガにすることを可能とする。ネガを別
途につくる必要がなく、あるいはハロゲン化銀を用いる
必要がない。またネガの下の別途の通常のスリップフィ
ルムの存在によってもたらされる光散乱作用もなくその
結果像の解像度が改良される。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明は、一の態様にお
いて、裏打ち層、該裏打ち層上に配した、３００〜４０
０ｎｍの範囲の選択された波長で低い照射吸収性をもつ
光硬化性層、及び多層光切削性スリップフィルムからな
るレーザー像化性で光硬化性の物品を提供する。多層ス
リップフィルムはフィルム形成性ポリマー及び自己酸化
性バインダーからなる。特に、多層光切削性スリップフ
ィルムの少なくとも１層は３００〜４００ｎｍの波長範
囲に高い吸光率をもつＵＶ吸収剤をもち、そして多層光
切削性スリップフィルムの少なくとも１の他層は８３０
ｎｍの波長又は１０６４ｎｍの波長のいずれかに高い吸
光率をもつＩＲ吸収剤をもつ。この多層光切削性スリッ
プフィルムはＩＲ又は近ＩＲ波長においてエネルギーレ
ベルで働くレーザーによって光切削されることができ、
その際多層スリップフィルムの非切削領域は紫外光源か
らの実質上すべての照射光を吸収することができ、その
結果同物品を化学照射線源にさらしたとき多層光切削性
スリップフィルムの切削された領域の下の光硬化性層の
領域が硬化され、そして多層光切削性スリップフィルム
の切削されていない領域の下の光硬化性層の領域が未硬
化のまま残る。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明の多くの目的及び効果は添
付の図面（寸法なし）を参照することにより当業者によ
り容易に理解されよう。図１は本発明の複合印刷要素の
断面図であり、図２は図１の複合印刷要素のレーザー切
削後の断面図である露光及び現像プロセス：本発明はレ
ーザー像化法印刷板の製造法を包含する。まず、固体の
非硬化印刷板をＵＶ吸収剤及びＩＲ吸収剤の両者で変性
する。これは少なくとも２層をもちその少なくとも１層
が強ＵＶ吸収剤をもち他の少なくとも１層がＩＲ吸収剤
をもつ多層スリップフィルムをつくることによって最も
好都合に行われる。好ましくは、ＵＶ吸収剤とＩＲ吸収
剤の両方共それぞれの波長に高い吸光率をもつ。多層ス
リップフィルムは使用のために印刷板に適用されてお
り、未硬化の印刷板の表面に通常の手法で付着される。
多層スリップフィルムをもつ印刷板は印刷要請に応じし
ばらくの間保存することもまた直ちに使用することもで
きる。

【００２０】印刷板を用いるとき、多層スリップフィル
ムを選択的に切削し又は除去するためにＩＲ領域で働く
レーザーを用いる。次いでこの未硬化板を通常の手法で
ＵＶ光の投光に露出させる。ＵＶ光に露出すると、多層
スリップフィルムの切削された領域が硬化する。次いで
未硬化領域を通常の現像法で洗い去ることができる。

【００２１】ここでは本発明を最初に適用した態様即ち
フレキソ印刷板について具体的に記載するが、本発明が
この態様に限定されないことは当業者が容易に認めるこ
とであろう。たとえば、本発明では多層スリップフィル
ムをＵＶ及びＩＲ吸収剤用のキャリアとして用いる。こ
れはスリップフィルムが実用されている板で既に用いら
れたことから便宜上のものである。同様に、ＵＶ吸収剤
及びＩＲ吸収剤を加えそして選択されたＩＲ又は近ＩＲ
波長で働くレーザーで切削したＵＶ及びＩＲ透過性フィ
ルムはグラビア印刷用の印刷スリーブとして、又はフォ
トレジスト製造用のその場のマスクとして用いうる。

【００２２】ＵＶ吸収剤： 本発明の１つの重要な点は多層スリップフィルム（これ
は像化処理プロセスを促進するため通常はＵＶ光に対し
透過性である）がＵＶ吸収剤をもつ層で変性されている
ということである。ＵＶ吸収剤の存在は通常はＵＶ透過
性のスリップフィルムを高度にＵＶ不透過性のバリアに
する。ＵＶ吸収は、ＵＶ投光ランプからの実質上すべて
の照射をブロックするために、ＵＶ吸収はほぼ完全、少
なくとも９５％、好ましくは９７％以上、より好ましく
は９９．９％以上、最も好ましくは９９．９９％以上で
あるべきである。ほとんどの利用に用いる投光照射ラン
プの波長範囲は３００〜４００ｎｍである。それ故ＵＶ
吸収剤は典型的にはこの範囲で活性であるべきである。
換言すれば、ＵＶ吸収剤は現像剤ランプの上記の特定の
出力範囲に高い吸収性をもつべきである。

【００２３】フレキソ印刷板の硬化に用いる投光ランプ
の強度は典型的には約５〜２５ミリワット／ｃｍ² の範
囲にあるが、５０ミリワット／ｃｍ² といった高い強度
のものも用いうる。それ故スリップフィルムは、全非切
削領域で、ＵＶランプからのこのような強度の全照射光
を実質的に吸収することができるべきである。これらと
してベンゾフェノン誘導体及び強吸収性染料は好ましい
ものである。現像ランプの上記の典型的特定範囲に高吸
光率をもつ物質を次表に示す。

【００２４】

【表１】

【００２５】ＵＶ吸収剤はまたスリップフィルムと相溶
性がある必要がありまたスリップフィルムから光硬化性
組成物に顕著な移行を示さない必要がある。好ましく
は、ＵＶ吸収剤はスリップフィルムを形成するポリマー
材料に可溶性のものである。これらの特性をもつＵＶ吸
収剤の例としてはＵＶＩＮＵＬ ３０５０（ＢＡＳ
Ｆ）、ジメチルアミノベンゼンとヒドロキシビフェニル
とのカップリング生成物（フロリダ州サラソタのエスプ
リット・ケミカル・Ｃｏから市販）及びスチルベンゼン
（フロリダ州、フォートラウダーデールのラムダクロ
ム、Ｉｎｃから市販）がある。ＵＶ吸収剤は典型的には
約１〜約５０重量％、より好ましくは約６〜約３０重量
％、最も好ましくは約１０〜約２０重量％の量でフィル
ム中に存在させる。ＵＶ吸収剤層は約０．２５〜５０．
８μｍ、好ましくは約０．５１〜２５．４μｍ、より好
ましくは約０．７６〜１２．７μｍ、最も好ましくは約
０．８９〜７．６μｍの厚さをもつ。

【００２６】ＩＲ吸収剤： 本発明のさらなる重要な点は多層スリップフィルムがＩ
Ｒ吸収性化合物で変性した層をもつことである。好まし
くは、この層はＵＶ吸収層とは別にそれと共に存在す
る。ＩＲ吸収剤層の存在は多層スリップフィルムをＩＲ
レーザーに対しより感応性にする。ＩＲ吸収剤は適切な
波長でレーザーによる励起に対し応答を示すもの即ちス
リップフィルムの切削を可能とするものである必要があ
る。好ましくは、ＩＲ吸収剤は用いたＩＲプレート・セ
ッターの波長で最大吸光率をもつ。それは典型的には近
ＩＲ範囲の約８３０ｎｍ又はＩＲ範囲の約１０６４ｎｍ
のいずれかであり、両方でではない。それ故、ＩＲ吸収
剤は典型的にはこれらの波長で活性であるべきである。
換言すればＩＲ吸収剤はレーザーのスペクトル出力範囲
に高吸光率をもつ必要がある。好ましくは、ＩＲ吸収剤
はＩＲ吸収性染料である。より好ましくは、次表に示す
染料があげられる。

【００２７】

【表２】

【００２８】ＩＲ吸収剤は典型的には約１〜約２５重量
％、好ましくは約５〜約２０重量％、より好ましくは約
７〜約１８重量％、最も好ましくは約７〜約１５重量％
の量でフィルム中に存在する。ＩＲ吸収剤層は約０．０
２５〜約１２．７μｍ、好ましくは約０．２５〜約１
０．２μｍ、より好ましくは約０．３８〜約７．６μ
ｍ、最も好ましくは約０．５１〜約５．１μｍの厚さを
もつ。

【００２９】多層スリップフィルム： 前記したように本発明のある態様におけるＵＶ及びＩＲ
吸収剤用の好ましいビヒクルは多層スリップフィルム層
である。多層スリップフィルムは像を付与すべき印刷板
で用いられる薄い多層保護フィルムである。本発明によ
れば、ＵＶ及びＩＲ吸収剤をそれぞれ添加する典型的な
多層スリップフィルムは自己酸化性バインダー、フィル
ム形成性ポリマー及び／又は低分子量可塑剤からなる層
をもつ。自己酸化性バインダーは典型的にはスリップフ
ィルムに高められた切削感応性を付与する。好ましく
は、フィルム形成性ポリマーと自己酸化性バインダーは
得られるフィルム又はその層が不透明ではないように、
互にまたＵＶ及びＩＲ吸収剤と相溶性のものである。

【００３０】自己酸化性バインダーは典型的には多層ス
リップフィルムの主要成分である。好ましい自己酸化性
エラストマー状バインダーの例としては、ニトロセルロ
ース、ポリカーボネート、ポリビニルピロリドン、ポリ
（ビニルピロリドン−コ−酢酸ビニル）、ポリエステ
ル、ポリオルソエステル、ポリアセタール、エチルセル
ロース及びカルボキシメチルセルロースがある。ニトロ
セルロースが特に好ましい。

【００３１】自己酸化性バインダーの使用は最終の多層
スリップフィルムが亀裂やまだら状の外観を生じない限
り好ましい。層の最終組成物中に多量すぎる自己酸化性
バインダーを用いるともろい層が生じやすい。従って、
たとえばポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリオレフ
ィン及び低分子量ポリアミド等の低分子量可塑剤を加え
て層により弾性を付与することが好ましい。この場合、
多層スリップフィルムの層に含ませる自己酸化性バイン
ダーの最適量は約２０％といった少量から約８５％とい
った多量まで変わりうる。フィルム形成性ポリマーと共
に用いる場合、自己酸化性バインダーの好ましい濃度は
約３０〜約５０重量％である。低分子量可塑剤と共に用
いる場合、自己酸化性バインダーの好ましい濃度は約５
０〜約８５重量％である。

【００３２】フィルム形成性ポリマー成分は多層スリッ
プフィルムの各層中に好ましくは約１〜約５０重量％、
より好ましくは約１．５〜約３０重量％、最も好ましく
は約２〜約２５重量％存在させうる。フィルム形成性ポ
リマー成分としては下層の感光性ポリマーと相溶性があ
り且つ現像（洗浄）工程中に容易に除去できる公知の適
宜のフィルム形成性ポリマーを用いうる。このようなフ
ィルム形成性ポリマーは光処理分野で周知である。これ
らの例としては、ポリアセタール、ポリアクリル樹脂、
ポリアミド、ポリイミド、ポリブチレン、ポリカーボネ
ート、ポリエステル、ポリエチレン、セルロース系ポリ
マー、ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンオキシ
ド、共役ジオレフィン炭化水素の天然又は合成ポリマー
（たとえばポリイソプレン、１，２−ポリブタジエン、
１，４−ポリブタジエン、ブタジエン／アクリロニトリ
ル）、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ヒドロ
キシプロピルセルロース、ブタジエン／スチレン熱可塑
性エラストマー状ブロックコポリマー及びその他のコポ
リマーがある。セルロース系及びポリアミドが切削の容
易性の点で好ましい。低分子量ポリアミドは特に好まし
い。

【００３３】原則的には、これらのフィルム形成性ポリ
マーに本発明のＵＶ及びＩＲ吸収剤を加えて変性しう
る。多層スリップフィルムは像領域と非像領域の間のコ
ントラストをつくるためにコントラスト染料も含有させ
うる。コントラスト染料の例は、たとえば米国特許第
５，３８７，４９６号、同第５，４２９，９０９号、同
第５，３５４，６３３号に開示されている。

【００３４】前記したように、ＩＲ吸収剤層の添加は、
本発明で用いるレーザーに対するスリップフィルムの応
答を変化させうる。たとえば、米国特許第５，９２５，
５００号に開示されているようなＵＶ吸収剤だけを含有
させた単層フィルムは通常８３０ｎｍ又は１０６４ｎｍ
でのレーザー照射にさらしても影響を受けないがＩＲ吸
収性染料をもつ少なくとも１の追加の層を加えて多層フ
ィルムにすると、フィルムはＩＲレーザー切削を受けや
すくなり本発明方法にとって有用となる。

【００３５】本発明に従えば、ＵＶ吸収剤とＩＲ吸収剤
はスリップフィルムの単一層中に含有させてもよい。し
かしながら、ＵＶ吸収剤とＩＲ吸収剤を共にスリップフ
ィルムの単一層に含有させるとフィルムが不透明になり
やすいことが判明した。従ってＵＶ吸収剤とＩＲ吸収剤
を別々の層に含有させることにより顕著な効果が得られ
ることが判明した。

【００３６】好ましくは、多層スリップフィルムの厚さ
は約０．０２５〜約２０μｍ、最も好ましくは約０．５
０〜約５．０μｍ、より特には２．０μｍ以下である。
多層スリップフィルムは公知の適宜の方法で多層構造
を形成しうる。たとえば押出しダイコーティング、タン
デムロッドコーティング、タンデムリングコーティン
グ、タンダムグラビアコーティング等を用いうる。

【００３７】光硬化性層： 光硬化性層は、通常約０．０２〜０．３５インチ（０．
０１〜０．８８９ｃｍ）の厚さをもち、光硬化性組成物
からなる。原則として公知の光硬化性組成物を用いう
る。典型的には、これらの光硬化性組成物は光硬化性物
質と開始剤を含む。またこれらの光硬化性組成物は種々
の公知の添加剤、たとえば反応性希釈剤、フィラー及び
染料を含有しうる。好ましくは、光硬化性組成物の光硬
化性物質、開始剤及び他の種々の添加剤はレーザーの操
作波長で低い吸光度をもつ、つまりＩＲ又は近ＩＲ波長
での照射吸収性が低い。もし光硬化性物質がＩＲ又は近
ＩＲ波長で高い照射吸収性をもつと、ポリマーが熱破損
するおそれがある。

【００３８】好ましい光硬化性組成物はエラストマー化
合物、少なくとも１の末端エチレン性基をもつエチレン
性不飽和化合物及び光開始剤を含む。光硬化性組成物の
例はヨーロッパ特許出願０４５６３３６Ａ２（Ｇｏｓｓ
等）及び０６４０８７８Ａ１（Ｇｏｓｓ等）、英国特許
第１，３６６，７６９号及び米国特許第５，２２３，３
７５号（Ｂｅｒｒｉｅｒ等）、３，８６７，１５３号
（ＭａｃＬａｈａｎ）、４，２６４，７０５号（Ａｌｌ
ｅｎ）、４，２６５，９８６号（Ａｌｌｅｎ）、４，３
２３，６３６号（Ｃｈｅｎ等）、４，３２３，６３７号
（Ｃｈｅｎ等）、４，３６９，２４６号（Ｃｈｅｎ
等）、４，４２３，１３５号（Ｃｈｅｎ等）、３，２６
５，７６５号（Ｈｏｌｄｅｎ等）、４，３２０，１８８
号（Ｈｅｉｎｚ等）、４，４２７，７５９号（Ｇｒｕｅ
ｔｚｍａｃｈｅｒ等）、４，４６０，６７５号（Ｇｒｕ
ｅｔｚｍａｃｈｅｒ等）、４，６２２，０８８号（Ｍｉ
ｎ）及び５，１３５，８２７号（Ｂｏｈｍ）に開示され
ている。もし第２の光硬化性層を用いる場合即ちオーバ
ーコート層を用いる場合には、典型的にはそれは第１の
光硬化性層の上に配され且つ組成はそれと同様であるが
かなり薄いことが望ましく通常０．０１インチ（０．０
２５ｃｍ）以下である。

【００３９】本発明の光硬化性材料は架橋されて少なく
ともある化学線波長領域で硬化されるべきである。ここ
で化学（線）照射とは、たとえば増幅した光（たとえば
レーザー）及び増幅しない光であって、特にＵＶ及び赤
外波長領域にあるものを包含する。好ましい化学線の波
長領域は約２５０〜約４５０ｎｍ、より好ましくは約３
００〜約４００ｎｍ、さらに好ましくは約３２０〜約３
８０ｎｍである。

【００４０】光硬化性組成物用に適した開始剤の例とし
てはベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル及びベンゾイン
イソブチルエーテル等のベンゾインアルキルエーテルが
ある。別の種類の光開始剤としては２，２−ジメトキシ
−２−フェニルアセトフェノン、即ちイルガキュア７６
５１（ニューヨーク州ハウゾーンのチバ−ガイギー社か
ら市販）及び２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセト
フェノン等のジアルコキシアセトフェノンがある。さら
に別の種類の光開始剤としてはカルボニル基に直接結合
した少なくとも１の芳香核をもつアルデヒドカルボニル
化合物及びケトンカルボニル化合物がある。これらの光
開始剤の非限定的な例としては、ベンゾフェノン、アセ
トフェノン、ｏ−メトキシベンゾフェノン、アセナフテ
ンキノン、メチルエチルケトン、バレロフェノン、ヘキ
サフェノン、アルファフェニルブチロフェノン、ｐ−モ
ルホリノプロピオフェノン、ジベンゾスベロン、４−モ
ルホリノベンゾフェノン、４−モルホリノデオキシベン
ゾイン、ｐ−ジアセトキシベンゼン、４−アミノベンゾ
フェノン、４’−メトキシアセトフェノン、ベンズアル
デヒド、アルファテトラロン、９−アセチルフェナンス
レン、２−アセチルフェナンスレン、１０−チオキサン
セノン、３−アセチルフェナンスレン、３−アセチルイ
ンドン、９−フルオレソン、１−インダノン、１，３，
５−トリアセチルベンゼン、チオキサンテン−９−オ
ン、キサンテン−９−オン、７−Ｈ−ベンズ［デ］−ア
ンスラセン−７−オン、１−ナフタルデヒド、４，４’
−ビス（ジメチルアミノ）−ベンゾフェノン、フルオレ
ン−９−オン、１’−アセトナフトン、２’−アセトナ
フトン、２，３−ブタンジオン、アセトナフテン、ベン
ズ［ア］アンスラセン−７，１２−ジオン等があげられ
る。トリフェニルホスフィン及びトリ−ｏ−トリルホス
フィン等のホスフィンも光開始剤として用いうる。

【００４１】ベンゾフェノン系開始剤が特に好ましい。
市販の好ましいベンゾフェノン系開始剤の例としてはイ
ルガキュア６５１（ニューヨーク州タリタウンのチバ・
スペシアルティ・ケミカルス）がある。

【００４２】オーバーコート層： 光硬化性層と多層スリップフィルムの間に最終のフレキ
ソ印刷板を位置させるように、第２の光硬化性層を前記
の光硬化性層の上に配することがしばしば好ましい。用
いる場合、オーバーコート層は最終的に露光された板の
実際の印刷層となる。オーバーコート層の組成はベース
の光硬化性層の組成と同じでも異なっていてもよい。好
ましくは、オーバーコート層は、第１の光硬化性組成物
と同様、レーザー操作波長で低い吸光率をもち、従っ
て、レーザーによって悪影響を受けない、即ち用いた波
長でレーザーに非感応性である。オーバーコート層の厚
さは一般にベース層の厚さより薄く、約１〜１０ミルの
オーダーにあり、好ましくは約２〜８ミルである。オー
バーコート層は一般にベースとなる光硬化層と共押出し
され、これら２層がそれらの界面で直接接するようにす
る。印刷板を用いる場合、これら２層が同時に露光され
そして現像される。即ち単一の像形露光を用い、すべて
の層を共通の現像溶媒処理で同時に現像できる。オーバ
ーコート層の使用とその多層フレキソ印刷板への組み込
みはたとえば米国特許第５，３７０，９６８号及び４，
４６０，６７５号に開示されている。

【００４３】レーザー： スリップフィルムの選択された領域を正確に除去し、そ
れによって次のＵＶランプによる投光照射にその下感光
性ポリマーをさらして光ポリマーを硬化させることを可
能にするためにレーザーが用いられる。レーザーの波長
と強さは、レーザー処理によってその直下の感光性ポリ
マーに損傷を与えることなしにスリップフィルムを切削
できるようなものであるべきである。好ましくは、レー
ザーはＩＲ型レーザーであり、たとえば典型的に約１０
６４ｎｍの波長で働くＮｄ−ＹＡＧレーザー及び典型的
に約８３０ｎｍの波長で働くダイオードアレイレーザー
がある。好ましいレーザーシステムの例としては、クレ
オ・サーモフレックス（ブリティッシュコロンビア州、
バーナビーのクレオプロダクツ）又はバルコＣＤＩ（オ
ハイオ州バンダリアのバルコグラフィックス）がある。

【００４４】本発明の操作によれば、レーザーの操作波
長で高い吸光率をもつようにＩＲ吸収性染料が選ばれ
る。スリップフィルムにレーザーの操作波長で高い吸光
率をもつＩＲ吸収性染料を加えた場合には、これらの染
料なしの場合に比し、被膜がより明瞭に（スモークなし
に）且つより速かに切削される。次の例は本発明を例証
するものであり、本発明を制限するものではない。

【００４５】例１： 一般的に用いられているスリップフィルムをＵＶ吸収剤
で変性して化学線照射が非透過性のフィルムをつくっ
た。自己酸化性バインダーであるニトロセルロースも加
えてレーザー切削に対するマスクの感応性を増加させ
た。用いたマスクはドライフィルムとして表３に示す組
成をもっていた。

【００４６】

【表３】

【００４７】上記の調合物を、バージニア州ホープウエ
ルのデュポンＰＥＴから市販されているＭｅｌｉｎｅｘ
４５３のような透明ＰＥＴカバーシート上にハンドキ
ャストして厚さを約２〜４μｍ（乾燥）のフィルムを得
た。次に市販のＦｌｅｘ−Ｌｉｇｈｔ ＫＯＲ ０．０
６７″板（ジョージア州アトランタのポリフィブロン・
テクノロジーズ）のスリップフィルムをイソプロパノー
ルで慎重に除去することによって変性した。次いでこの
板を乾燥しそこに上記のＵＶマスクを積層した。この処
理したスリップフィルムは、マサチューセッツ州ニュー
バリーポートのインターナショナル・ライトから市販さ
れているモデルＩＬ １４００Ａ光測定機で測定して化
学的照射の９９．９％を吸収した。さらにこのマスクに
コントラスト染料を加えて、レーザー像化処理板の像の
コントラストを高めるようにした。

【００４８】積層の後、カバーシートを除去し廃棄し
て、感光性ポリマー表面上にＵＶマスクを残した。この
板をミソメックス社のＯｍｎｉ Ｓｅｔｔｅｒ ４００
０又はクレオ社のＴｈｅｒｍｏｆｌｅｘ ５２８０のよ
うな市販のフレキソ板−セッターに取りつけた。コンピ
ューターからのデジタルファイルをこのＵＶマスク上に
移した。レーザーは上記の操作の間ＵＶマスク上には影
響を与えず（切削は起こらなかった）また像も示されな
かった。

【００４９】例２： フレキソ板用のＵＶ吸収剤及びＩＲ吸収剤変性ポリアミ
ドスリップフィルムの製造 カナダ国モントリオールのアメリカン・ダイ・ソースか
ら市販されているＩＲ吸収性染料であるＡＤＳ ８３０
Ａを例１のＵＶ吸収剤−変性マスクに加えた。このマス
クは化学線照射の９９．９％を吸収した。ＩＲ吸収剤を
添加したマスクはフレキソ板−セッターで典型的に用い
られている波長である約８３０ｎｍで操作するＩＲレー
ザーに感応性になった。用いたマスクはドライフィルム
で表４に示す組成をもっていた。

【００５０】

【表４】

【００５１】バージニア州ホープウエルのデュポンＰＥ
Ｔから市販されているＭｅｌｉｎｅｘ ４５３のような
透明ＰＥＴ上に表４の溶液をハンドキャストして乾燥厚
さ約２〜４μｍのフィルムを得た。Ｆｌｅｘ−Ｌｉｇｈ
ｔ ＫＯＲ ０．０６７″板（ジョージア州アトランタ
のポリフィブロン・テクノロジーズ）のスリップフィル
ムをイソプロパノールで慎重に除去することによって変
性し、次いで上記のＵＶ／ＩＲマスクを積層した。

【００５２】積層の後、カバーシートを除去し、廃棄し
て感光性ポリマー上にマスクを残した。ミソメックス社
のＯｍｎｉ Ｓｅｔｔｅｒ ４０００又はクレオ社のＴ
ｈｅｒｍｏｆｌｅｘ ５２８０のような市販のフレキソ
板−セッター上に上記の板を取りつけた。レーザーが
「オン」の領域のマスクを除去し、板表面上にその場
（ｉｎ ｓｉｔｕ）の光部材を残した。次いでこの板を
１７秒間裏露光し９分間表露光して１３３ＬＰＩで１％
のドットを保持した。ＵＶ／ＩＲはＤＴＰ板をつくるの
に有効だが、この手法にはいくつかの欠点がみられた。
即ちＵＶ吸収剤とＩＲ吸収性染料の両方を単一層に存在
させると、曇りと不均一フィルムによって裏付けられる
相溶性の問題が生じた。

【００５３】例３： フレキソ印刷板用の多層マスク被膜の製造 例２に記載した欠点を解消するために、スリップフィル
ムとして多層被膜を用いた。図１及び２において、多層
スリップフィルム１２は紫外線吸収性層１４及び赤外線
吸収性層１６からなる。紫外線吸収性層１４は化学的紫
外線照射の９９．９％を吸収する。紫外線吸収性層１４
はドライフィルムで表５に示した組成をもち、また１〜
１．５μｍの厚さをもつ。赤外線吸収性層１６は紫外線
吸収性層１４の下にあり且つ光硬化性層１８に隣接して
いる。赤外線吸収性層１６はフレキソ印刷板−セッター
で典型的に用いられる波長である８３０ｎｍで操作され
るＩＲレーザーに感応するようにデザインした。ＵＶ吸
収性層１４中にコントラスト染料を存在させることによ
り最終のレーザー像化処理板の像のコントラストが増加
した。赤外線吸収層１６はドライフィルムで表６の組成
をもちまた０．５〜０．７５μｍの厚さをもっていた。

【００５４】

【表５】

【００５５】

【表６】

【００５６】赤外線吸収性層１４をバージニア州ホープ
ウエルのデュポンＰＥＴから市販されているＭｅｌｉｎ
ｅｘ ４５３のような透明ＰＥＴカバーシート２０上に
ハンドキャストした。上記の被膜を乾燥後、上記の組成
と厚さをもつ赤外線吸収性層１６をその上に被覆して多
層スリップフィルム１２をつくった。次に市販のＦｌｅ
ｘ−Ｌｉｇｈｔ ＫＯＲ ０．０６７″板（ジョージア
州アトランタのポリフィブロン・テクノロジーズ）のス
リップフィルムをイソプロパノールで慎重に除去するこ
とによって変性した。次いでこの板を乾燥しそこに上記
の多層スリップフィルム１２を積層した。

【００５７】積層の後、カバーシート２０を除去し廃棄
して、光硬化性層１８の上に多層スリップフィルム１２
を残した。この板をミソメックス社のＯｍｎｉ Ｓｅｔ
ｔｅｒ ４０００又はクレオ社のＴｈｅｒｍｏｆｌｅｘ
５２８０のような市販のフレキソ板−セッターに取り
つけた。コンピューターからのデジタルファイル切削性
のオン／オフ機構を介して多層スリップフィルム上に移
した。レーザーが「オン」２２の領域で、ＩＲ吸収性層
１６とその上のＵＶ吸収性層１４の両方を除去した。つ
まり板表面上にその場の光ツールをつくった。次いでこ
の板を１７秒裏露光し、９分表露光して１３３ＬＰＩで
１％のドットを保持した。

【００５８】ＵＶ吸収機能をＩＲ吸収機能と分離するこ
とによって顕著に優れたシステムが得られた。それぞれ
の個々の被膜は透明にして被覆の容易なものであった。
意外にも、感光性ポリマーに最も近い層であるＩＲ吸収
性層の切削がＵＶ吸収性層の完全除去をも促進させた。
その結果クリーン除去の問題が解決し且つ低いＤｍｉｎ
を与えるという効果を示した。またＵＶ吸収性層と光硬
化性層の間に位置するＩＲ吸収性層がＵＶ吸収剤の光硬
化性層への移行を防ぐことも判明した。本発明の好まし
い態様について説明したが、当業者はそれらの種々の変
更を本発明の技術思想を離れることなくなしうるであろ
う。 ［図面の簡単な説明］

【図１】本発明の複合印刷要素の断面図。

【図２】レーザー切削後の図１の複合印刷要素の断面
図。

【符号の説明】

１２ 多層スリップフィルム １４ ＵＶ吸収性層 １６ ＩＲ吸収性層 １８ 光硬化性層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/20 ５１１ Ｇ０３Ｆ 7/20 ５１１ (56)参考文献 特開 平９−104182（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−305007（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−149162（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−17151（ＪＰ，Ａ) 特表 平10−509254（ＪＰ，Ａ) 特表 平７−506201（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 7/00 - 7/42

Claims (17)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）裏打ち層；（ｂ）該裏打ち層上に
   配した光硬化性層、ここで該光硬化性層は３００〜４０
   ０ｎｍの範囲の選択された波長での照射の吸光率が低く
   そしてその選択された波長で活性化させうる開始剤を含
   む；及び（ｃ）フィルム形成性ポリマーと自己酸化性バ
   インダーからなる複数の層をもつ多層光切削性スリップ
   フィルム；からなり、且つ該多層光切削性スリップフィ
   ルムの少なくとも第１層が３００〜４００ｎｍの波長範
   囲に高い吸光率をもつＵＶ吸収剤を含み、該多層光切削
   性フィルムの少なくとも第２層が８３０ｎｍの波長又は
   １０６４ｎｍの波長のいずれかで高い吸光率をもつＩＲ
   吸収剤を含み、そして該多層光切削性スリップフィルム
   がＩＲ波長又は近ＩＲ波長で働くレーザーによって光切
   削されることができ、そして該多層光切削性フィルムの
   切削されていない領域で紫外光源からの実質上すべての
   照射光を吸収することができ、それにより照射光源に露
   出したときに該多層光切削性スリップフィルムの光切削
   されていない領域が硬化され、該多層光切削性スリップ
   フィルムの光切削されていない領域が硬化され、該多層
   光切削性スリップフィルムの切削されていない領域の下
   の該光硬化性層の領域が未硬化のまま残ることを特徴と
   するレーザーで像化でき且つ光硬化性のある物品。
2. 【請求項２】 該多層光切削性スリップフィルムの切削
   されていない領域が３００〜４００ｎｍの範囲の照射紫
   外光の少なくとも９７％を吸収することができる請求項
   １の物品。
3. 【請求項３】 フィルム形成性ポリマーがポリアセター
   ル、ポリアクリル樹脂、ポリアミド、ポリイミド、セル
   ロース系ポリマー、ポリブチレン、ポリカーボネート、
   ポリエステル、ポリエチレン、ポリフェニレンエーテ
   ル、ポリフェニレンオキシド、イソプレン、１，２−ポ
   リブタジエン、１，４−ポリブタジエン、ブタジエン／
   アクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビ
   ニル及びブタジエン／スチレン熱可塑性−エラストマー
   状ブロックコポリマーからなる群から選ばれる請求項１
   の物品。
4. 【請求項４】 該光硬化性層と該多層光切削性スリップ
   フィルムの間に配された光硬化性オーバーコート層をも
   ち、該オーバーコート層が該選択された波長で低い吸光
   率をもち且つ該選択された波長で活性化させうる開始剤
   をもつ請求項１の物品。
5. 【請求項５】 該ＩＲ吸収剤が染料である請求項１の物
   品。
6. 【請求項６】 該多層光切削性スリップフィルムが低分
   子量可塑剤を含有する請求項５の物品。
7. 【請求項７】 該低分子量可塑剤がポリイソプレン、ポ
   リブタジエン及び低分子量ポリアミドからなる群から選
   ばれる請求項６の物品。
8. 【請求項８】 該可塑剤が低分子量ポリアミドである請
   求項７の物品。
9. 【請求項９】 該自己酸化性バインダーがニトロセルロ
   ース、ポリカーボネート、ポリビニルピロリドン、ポリ
   （ビニルピロリドン−コ−酢酸ビニル）、ポリエステ
   ル、ポリオルソエステル、ポリアセタール、エチルセル
   ロース及びカルボキシメチルセルロースからなる群から
   選ばれる請求項１の物品。
10. 【請求項１０】 該光切削性スリップフィルムがコント
    ラスト染料を含有する請求項１の物品。
11. 【請求項１１】 請求項１の物品を用意し、ＩＲ又は近
    ＩＲ波長にて働くレーザーを用いて該多層光切削性スリ
    ップフィルムを光切削して切削された領域と切削されな
    い領域を付与してその場でつくったネガ像をつくり；該
    物品を３００〜４００ｎｍの波長範囲のＵＶ光に、ネガ
    なしで露出して多層光切削性スリップフィルムの切削さ
    れた領域の下の領域における光硬化性層を硬化してレー
    ザーで像化した印刷板をつくり；そして該多層光切削性
    スリップフィルムの切削されていない領域の下から未硬
    化のポリマーを除くことを特徴とするレーザーで像化処
    理した印刷板の製造方法。
12. 【請求項１２】 該多層光切削性スリップフィルムの切
    削されていない領域が３００〜４００ｎｍの範囲の照射
    紫外光の少なくとも９７％を吸収することができる請求
    項１１の方法。
13. 【請求項１３】 フィルム形成性ポリマーがポリアセタ
    ール、ポリアクリル樹脂、ポリアミド、ポリイミド、セ
    ルロース系ポリマー、ポリブチレン、ポリカーボネー
    ト、ポリエステル、ポリエチレン、ポリフェニレンエー
    テル、ポリフェニレンオキシド、イソプレン、１，２−
    ポリブタジエン、１，４−ポリブタジエン、ブタジエン
    ／アクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸
    ビニル及びブタジエン／スチレン熱可塑性−エラストマ
    ー状ブロックコポリマーからなる群から選ばれる請求項
    １１の方法。
14. 【請求項１４】 該光硬化性物品が該光硬化性層と該多
    層光切削性スリップフィルムの間に配された光硬化性オ
    ーバーコート層をもち、該オーバーコート層が該選択さ
    れた波長で低い吸光率をもち且つ該選択された波長で活
    性化させうる開始剤をもつ請求項１１の方法。
15. 【請求項１５】 該ＩＲ吸収剤が染料である請求項１１
    の方法。
16. 【請求項１６】 該オーバーコート層がコントラスト染
    料を含有する請求項１４の方法。
17. 【請求項１７】 該ＵＶ吸収剤がベンゾフェノン誘導体
    である請求項１１の方法。