JP3462062B2 - 高周波用伝送線路の接続構造および配線基板 - Google Patents

高周波用伝送線路の接続構造および配線基板

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子、受動
部品、接続用端子間を相互に接続することが可能であっ
て、高周波信号の特性劣化を低減して特定周波数のみを
透過させることができる高周波用伝送線路の接続構造、
およびかかる接続構造を具備した配線基板に関するもの
である。
【0002】
【従来技術】従来より、半導体素子を気密に封止するた
めの半導体素子用パッケージにおいては、誘電体材料か
らなる誘電体基板と蓋により形成かれたキャビティ内に
半導体素子を搭載して気密に封止した構造が知られてい
る。また、このようなパッケージにおいて周波数が1G
Hz以上のマイクロ波の信号を取り扱う場合、半導体素
子への高周波信号の入出力は、図5(a)に示されるよ
うに、誘電体基板31の半導体素子32搭載面にマイク
ロストリップ線路等の高周波用伝送線路33を形成し、
その一端がワイヤボンディングリボン等で半導体素子3
2と接続し、その伝送線路33を壁体34を通過してキ
ャビティ35外に引き出したフィードスルー型の半導体
用パッケージが考案されている。
【0003】また、高周波信号を垂直方向に伝送する手
法としては、図5(b)に示すように、誘電体基板31
の底面に同様に高周波用伝送線路36を形成し、キャビ
ティ35内の高周波用伝送線路33と、スルーホール導
体37を介して接続した半導体素子用パッケージが多く
用いられている。
【0004】さらに、誘電体基板31としては、その配
線の形成の信頼性、価格などの点からアルミナセラミッ
クスが最も多く用いられている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5
(a)のように、伝送線路33が壁体34を通過する場
合、壁体通過部がマイクロストリップ線路からストリッ
プ線路への変換されるために、信号線路幅を狭くする必
要がある。その結果、この通過部で反射損、放射損が発
生しやすいため高周波信号の特性劣化が起こりやすくな
るという問題がある。
【0006】これに対して、図5(b)のパッケージで
は、伝送線路が壁体34を通過しないために、信号特性
劣化が小さいが、誘電体基板31として、従来から用い
られるアルミナセラミックスを用いる場合等において、
伝送する信号の使用周波数が10GHz以上になるとス
ルーホール導体での透過損失が急激に大きくなるため
に、高周波領域の信号を特性劣化なく伝送することが困
難であった。
【0007】従って、本発明は、誘電体基板の両面に形
成された高周波用伝送線路を伝送損失が小さく、且つ簡
略した構造からなり小型化が可能な高信頼性の高周波用
伝送線路の接続構造と、かかる高周波用伝送線路の接続
構造を利用した配線基板を提供することを目的とするも
のである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的に対して検討を行った結果、誘電体基板の両面に、中
心導体と、グランド層からなるコプレーナ線路をそれぞ
れ形成するとともに、それらを特定位置に配置すること
により、両線路を電磁的に結合せしめることにより、伝
送損失の小さい接続構造となることを見いだし、本発明
に至った。
【0009】即ち、本発明の高周波用伝送線路の接続構
造は、誘電体基板の一方の表面に形成され、終端部を有
する第1の中心導体と、その両側に形成された第1のグ
ランド層とからなる第1のコプレーナ線路と、前記誘電
体基板の他方の表面に形成され、終端部を有する第2の
中心導体と、その両側に形成された第2のグランド層と
からなる第2のコプレーナ線路との接続構造であって、
前記第1のコプレーナ線路および前記第2のコプレーナ
線路における各中心導体の終端部付近両側の前記グラン
ド層との離間距離を他の線路部分よりも大きくなるよう
に形成するとともに、前記第1の中心導体と前記第2の
中心導体とを平面的にみて互いの終端部が平行且つ一部
が重なるように配置して、前記第1のコプレーナ線路と
前記第2のコプレーナ線路とを電磁結合せしめ、且つ前
記終端部の周囲のグランド層に伝送信号の波長λの1/
4波長未満の間隔で複数のスルーホール導体を形成し
て、前記電磁結合部を電磁的に囲んだことを特徴とする
ものである。
【0010】また、本発明の配線基板は、[請求項3]
誘電体基板と、該誘電体基板の一方の表面に設けられた
電気素子と、前記誘電体基板の一方の表面に形成され一
端が前記電気素子と電気的に接続された、終端部を有す
る第1の中心導体と、その両側に形成された第1のグラ
ンド層とからなる第1のコプレーナ線路と、前記誘電体
基板の他方の表面に形成され、終端部を有する第2の中
心導体と、その両側に形成された第2のグランド層とか
らなる第2のコプレーナ線路とを具備してなり、前記第
1のコプレーナ線路および前記第2のコプレーナ線路に
おける各中心導体の終端部付近両側の前記グランド層と
の離間距離を他の線路部分よりも大きくなるように形成
するとするとともに、前記第1の中心導体と前記第2の
中心導体とを平面的にみて互いの終端部が平行且つ一部
が重なるように配置して、前記第1のコプレーナ線路と
前記第2のコプレーナ線路とを電磁結合せしめ、且つ前
記終端部の周囲のグランド層に伝送信号の波長λの1/
4波長未満の間隔で複数のスルーホール導体を形成し
て、前記電磁結合部を電磁的に囲んだことを特徴とする
ものである。
【0011】なお、上記においてコプレーナ線路に対し
ては、周波数が1GHz以上の信号が伝送されるもので
あることが望ましい。
【0012】
【作用】本発明によれば、誘電体基板の一方の表面に第
1のコプレーナ線路と、他方の表面に第2のコプレーナ
線路を形成し、両者を特定条件にて誘電体基板を介して
対峙させて電磁結合することにより、スルーホール導体
やビアホール導体等による透過損失の影響を受けること
なく、良好な伝送特性で信号の伝達を行うことができ
る。
【0013】従って、例えば、半導体素子用パッケージ
等の配線基板において、半導体素子搭載面に第1のコプ
レーナ線路を形成し、底面に第2のコプレーナ線路を形
成し、両者を電磁結合することにより、高周波信号の伝
送損失の発生を抑制し、高信頼性の配線基板を提供でき
る。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の高周波用伝送線路の接続
構造を図1をもとに説明する。図1において、(a)は
誘電体基板の表面の導体パターンを示す図、(b)は、
(a)におけるA−A断面図、(c)は誘電体基板の裏
面の導体パターンを示す図である。図1によれば、誘電
体基板1の一方の表面には、終端部2aを有する第1の
中心導体2と、その両側および終端部2aの周囲に形成
された第1のグランド層3とからなる第1のコプレーナ
線路Aが形成される。一方、誘電体基板1の他方の表面
にも、同様に終端部4aを有する第2の中心導体4と、
その両側およびその周囲に形成された第2のグランド層
5とからなる第2のコプレーナ線路Bが被着形成されて
いる。
【0015】コプレーナ線路Aにおいては、中心導体2
の両側には、線路部分においては離間間隔xをもって、
また中心導体2の終端部2a付近の両側においては離間
距離yをもって、且つ離間距離yが、前記線路部分の間
隔xよりも大きくなるようにグランド層3が形成されて
いる。この中心導体2のグランド層3との離間距離は、
特性インピーダンスの整合を図る上で必要であり、例え
ば、誘電率5.5からなる誘電体基板を用いた場合、x
は0.05mm、yは0.15mmに設計される。この
時のx、yの関係が、x=y、あるいはx>yの関係で
は、終端部における急激な特性インピーダンス不整合が
生じるため反射が生じ、伝送特性が劣化する原因となっ
てしまう。
【0016】一方、コプレーナ線路Bにおいても、中心
導体4、終端部4aおよびグランド層5もコプレーナ線
路Aと全く同様な終端構造からなる。
【0017】そして、コプレーナ線路A,Bとは、誘電
体基板1を介して、図1(a)(b)(c)に示される
通り、前記第1の中心導体2の終端部2aと、第2の中
心導体4の終端部4aとを平面的にみて互いに平行に,
且つ互いの終端部が重なるように配置されている。この
時の重なり部分の長さzは、伝送信号波長λの1/4波
長相当長さとなるように設計することにより、コプレー
ナ線路Aと、コプレーナ線路Bとを透過周波数領域で電
磁的に結合することができる。
【0018】なお、本発明の接続構造においては、第1
のコプレーナ線路Aおよび第2のコプレーナ線路Bは、
誘電体基板1が介在した構造からなる結果、第1のコプ
レーナ線路Aおよび第2のコプレーナ線路Bは、いずれ
もグランド付きコプレーナ線路となる。また、第1のコ
プレーナ線路Aにおけるグランド層3と、第2のコプレ
ーナ線路Bにおけるグランド層5とは、例えば、スルー
ホール導体6によって電気的に接続して等電位とするこ
とが望ましい。また、終端部の周囲のグランド層には、
伝送信号の波長λの1/4波長未満の間隔で複数のスル
ーホール導体7を形成して、電磁結合部を電磁的に囲む
ことが望ましい。
【0019】また、本発明における接続構造において、
誘電体基板を構成する誘電体材料としては誘電率が15
以下のセラミックス、ガラスセラミックス、セラミック
金属複合材料、ガラス有機樹脂系複合材料等などが望ま
しく、このうち誘電率が10以下のセラミックス、ガラ
スセラミックス、セラミック金属複合材料、ガラス有機
樹脂系複合材料等が特に望ましい。
【0020】さらに、コプレーナ線路A,Bを形成する
導体としては、W、Mo等の高融点金属、金、銀、銅、
アルミニウム等の従来から用いられている種々の導体材
料によって形成することができるが、これらの中でも低
抵抗の導体である、金、銀、銅、アルミニウム等が好適
に用いられる。
【0021】次に、上記の高周波用伝送線路の接続構造
を適用した配線基板に係る例として、半導体素子用パッ
ケージを例として説明する。図2(a)に、その構造を
説明するための断面図を、(b)に半導体素子搭載面の
導体パターン、(c)に底面の導体パターンを示した。
図2によれば、半導体素子用パッケージ10は、誘電体
基板11と蓋体12によりキャビティ13が形成されて
おり、そのキャビティ13内には、MMIC、MIC等
の半導体素子14が搭載されている。
【0022】本発明によれば、上記の半導体素子用パッ
ケージのキャビティ13内の誘電体基板11の表面に
は、半導体素子に信号を伝送するための線路として、中
心導体15とグランド層16からなる第1のコプレーナ
線路Aが形成されている。そして、この第1のコプレー
ナ線路Aの一端は、半導体素子14とリボン、ワイヤ、
TAB(Tape Automated Bonding)等によって電気的に
接続されている。また、第1のコプレーナ線路Aの他端
は、キャビティ13内の誘電体基板11の表面にて終端
部15aを形成している。
【0023】また、誘電体基板のキャビティ13外の誘
電体基板11の底面にも同様に、中心導体17とグラン
ド層18からなる第2のコプレーナ線路Bが形成されて
いる。第2のコプレーナ線路Bの一端は、パッケージの
外部電気回路基板への接続部を形成しており、他端は終
端部17aを形成し、第1のコプレーナ線路Aにおける
中心導体15の終端部15aと図1に示したような構造
にて配設することにより、第1のコプレーナ線路Aと第
2のコプレーナ線路Bとを電磁結合されている。
【0024】その結果、半導体素子14から第1のコプ
レーナ線路Aを経由して第2のコプレーナ線路Bまでの
一連を接続できるとともに、この接続間において従来の
ようなスルーホール導体や壁体を通過することがないた
めに、伝送信号の伝送損失を低減することができる。
【0025】なお、蓋体12は、キャビティからの電磁
波が外部に漏洩するのを防止できる材料から構成され、
セラミックス、セラミック金属複合材料、ガラスセラミ
ックス等が使用できる。
【0026】また、図2の半導体素子用パッケージにお
いては、キャビティ13内には、半第1のコプレーナ線
路Aの他に、半導体素子14に電力を供給するための電
源用信号線路(図示せず)が形成され、その電源用信号
線路の他端は、スルーホール導体を通じて誘電体基板1
1の下面まで導出される。
【0027】なお、図2において半導体素子用パッケー
ジによれば、誘電体基板11と蓋体12によるキャビテ
ィ13の形成に代えて、誘電体基板11の表面に実装さ
れた半導体素子14を封止用樹脂によって封止すること
も可能である。
【0028】また、配線基板の一例として、第1のコプ
レーナ線路に対して半導体素子が接続された半導体素子
用パッケージを例示したが、その他、誘電体基板の表面
および裏面に半導体素子を実装し、それらを第1のコプ
レーナ線路および第2のコプレーナ線路の電磁結合によ
って接続して、モジュール化を図ることもできる。
【0029】また、コプレーナ線路に接続される素子と
しては半導体素子に限られることなく、光導波路、超伝
導素子、アンテナ素子などと接続することができる。
【0030】図3は、図1の高周波用伝送線路の接続構
造の特性を評価するための1手段として、半導体素子用
パッケージとしての伝送特性を評価するためのものであ
って、(a)は誘電体基板表面(半導体素子搭載面)の
パターン図、(b)は裏面のパターン図である。このパ
ターン図から示すように、表面側に2つの終端部19
a、19bを有する中心導体19と、グランド層20か
らなる第1のコプレーナ線路Aを形成し、裏面側に第1
のコプレーナ線路Aにおける中心導体19の終端部19
a、19bとそれぞれ電磁結合された中心導体21、2
1’、グランド層22を具備する2つの第2のコプレー
ナ線路B、B’を形成し、裏面側の2つの第2コプレー
ナ線路B、B’の伝送特性を評価した。
【0031】この評価にあたっては、誘電体基板を誘電
率5.6、誘電損失30.0×10-4(測定周波数60
GHz)の誘電体材料によって形成し、中心導体および
グランド層を銅メタライズによって形成し、さらにその
表面に金メッキを施した。
【0032】なお、図3における各コプレーナ線路の各
寸法は、信号線路幅aが110μm、終端部長さbが
1.0mm、線路部分の中心導体とグランド層との離間
距離xが90μm、中心導体の終端部付近のグランド層
との離間距離yが400μm、重なり部長さzが0.8
mmとした。
【0033】また、電磁結合部周辺及び信号線路の両脇
のグランド層20、22に0.5mm間隔でスルーホー
ル導体(図示せず)を形成して、第1および第2のグラ
ンド層間を電気的に接続した。この測定用配線基板に対
して、ネットワークアナライザーによって伝送特性を測
定した。このときの結果を図4に示す。
【0034】このとき40GHzで伝送特性はS11が
−19.5dB、S21が−0.9dBと優れた伝送特
性を示し優れたものであった。
【0035】次に、図5に示した従来の半導体素子用パ
ッケージに対して同様に評価を行った。この評価では、
誘電体基板として、誘電率9.8、誘電損失18.0×
10-4(測定周波数60GHz)の誘電体材料を用い、
表面および底面に形成された伝送線路間を径200μm
のタングステン導体からなるスルーホール導体で接続し
た半導体装置をネットワークアナライザーで同様に測定
し、その結果を図6に示した。図6の結果から、スルー
ホール導体にて伝送線路を接続した場合、周波数が20
GHz以上でS11:−10dB以上、S21:−30
dB以下となることから、高周波信号を半導体素子に伝
送することは不可能であることがわかった。
【0036】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の高周波用伝
送線路の接続構造によれば、誘電体基板の表裏に設けら
れた高周波用伝送線路を特性劣化の小さくして接続する
ことが可能となり、半導体素子用パッケージやモジュー
ル基板などの配線基板において、1GHz以上の高周波
信号を扱う配線基板における信号伝達の信頼性を高める
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高周波用伝送線路の接続構造を説明す
るための図であり、(a)は、その表面の導体パターン
を示す図、(b)は(a)におけるA−A断面図、
(c)は底面の導体パターンを示す図である。
【図2】本発明の高周波用伝送線路の接続構造を用いた
配線基板の一例として半導体素子用パッケージの構造を
説明するためのもので、(a)は断面図、(b)は半導
体素子搭載面の導体パターン図、(c)は底面の導体パ
ターン図である。
【図3】図1の高周波用伝送線路の接続構造の特性を評
価するための配線基板を説明するためのものであり、
(a)は誘電体基板表面(半導体素子搭載面)のパター
ン図、(b)は裏面のパターン図である。
【図4】図3に基づく本発明における配線基板の伝送特
性を示す図である。
【図5】(a)および(b)はいずれも従来の半導体素
子用パッケージの構造を説明するための断面図である。
【図6】図5(b)のパッケージにおける伝送特性を示
す図である。
【符号の説明】
1・・・誘電体基板 2・・・第1の中心導体 2a,4a・・終端部 3・・・第1のグランド層 4・・・第2の中心導体 5・・・第2のグランド層 A・・・第1のコプレーナ線路 B・・・第2のコプレーナ線路

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】誘電体基板の一方の表面に形成され、終端
    部を有する第1の中心導体と、その両側に形成された第
    1のグランド層とからなる第1のコプレーナ線路と、前
    記誘電体基板の他方の表面に形成され、終端部を有する
    第2の中心導体と、その両側に形成された第2のグラン
    ド層とからなる第2のコプレーナ線路との接続構造であ
    って、前記第1のコプレーナ線路および前記第2のコプ
    レーナ線路における各中心導体の終端部付近両側の前記
    グランド層との離間距離を他の線路部分よりも大きくな
    るように形成するとともに、前記第1の中心導体と前記
    第2の中心導体とを平面的にみて互いの終端部が平行且
    つ一部が重なるように配置して、前記第1のコプレーナ
    線路と前記第2のコプレーナ線路とを電磁結合せしめ
    且つ前記終端部の周囲のグランド層に伝送信号の波長λ
    の1/4波長未満の間隔で複数のスルーホール導体を形
    成して、前記電磁結合部を電磁的に囲んだことを特徴と
    する高周波用伝送線路の接続構造。
  2. 【請求項2】前記コプレーナ線路に、周波数が1GHz
    以上の信号が伝送される請求項1記載の高周波用伝送線
    路の接続構造。
  3. 【請求項3】誘電体基板と、該誘電体基板の一方の表面
    に設けられた電気素子と、前記誘電体基板の一方の表面
    に形成され一端が前記電気素子と電気的に接続された、
    終端部を有する第1の中心導体と、その両側に形成され
    た第1のグランド層とからなる第1のコプレーナ線路
    と、前記誘電体基板の他方の表面に形成され、終端部を
    有する第2の中心導体と、その両側に形成された第2の
    グランド層とからなる第2のコプレーナ線路とを具備し
    てなり、前記第1のコプレーナ線路および前記第2のコ
    プレーナ線路における各中心導体の終端部付近両側の前
    記グランド層との離間距離を他の線路部分よりも大きく
    なるように形成するとするとともに、前記第1の中心導
    体と前記第2の中心導体とを平面的にみて互いの終端部
    が平行且つ一部が重なるように配置して、前記第1のコ
    プレーナ線路と前記第2のコプレーナ線路とを電磁結合
    せしめ、且つ前記終端部の周囲のグランド層に伝送信号
    の波長λの1/4波長未満の間隔で複数のスルーホール
    導体を形成して、前記電磁結合部を電磁的に囲んだこと
    を特徴とする配線基板。
  4. 【請求項4】前記コプレーナ線路に、周波数が1GHz
    以上の信号が伝送される請求項3記載の配線基板。
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