JP3455564B2 - エナメル線の製造方法及び製造装置 - Google Patents

エナメル線の製造方法及び製造装置

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JP3455564B2
JP3455564B2 JP11451393A JP11451393A JP3455564B2 JP 3455564 B2 JP3455564 B2 JP 3455564B2 JP 11451393 A JP11451393 A JP 11451393A JP 11451393 A JP11451393 A JP 11451393A JP 3455564 B2 JP3455564 B2 JP 3455564B2
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淳稔 川嶋
英幸 橋本
秋美 伊藤
五三男 洞戸
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エナメル線を設備の稼
働率を高めて生産性良く製造できる製造方法と製造装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】エナメル線の製造では、図6に示すよう
に塗布槽20で走行中の線材Aにワニスを塗布した後、
焼付炉21で溶剤を蒸発させる作業を4〜15回程度繰
り返して徐々に皮膜を成長させ、規定の膜厚に仕上げて
いる。
【0003】図7及び図8は、この際に用いられるワニ
ス塗布槽である。図7の塗布槽は、溝ローラ方式と呼ば
れるもので、線材Aをワニス中に浸したローラ22の外
周の溝に通し、ここでワニスを付着させた後、エナメル
ダイスで塗布量を調整して焼付炉に送り込む。
【0004】一方、図8の塗布槽は、涌き出し方式と呼
ばれるもので、ワニスタンク1からポンプ2で汲み上げ
たワニスをフィルタ3に通して供給管4に流し、供給管
4に連通している塗布ヘッド5のワニス涌き出し口6か
ら上向きに涌き出させて線材Aに直接塗布する。そし
て、エナメルダイス7で塗布量を調節し、焼付炉に送り
込む。8は涌き出したワニスの回収皿であり、回収した
ワニスはタンク1に戻される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】涌き出し方式によるワ
ニス塗布は、溝ローラ方式に比べて ワニス塗布部とエナメル線の接触抵抗が小さいので
高速化に対応できる。 フィルタ通過後のフレッシュワニスを塗布するので
不純物による粒の発生を防止できるなどの長所がある。
【0006】しかし、その一方で、作業仕かかり時(線
の口出し時)のワニス塗布作業が非常に難しく、断線に
よる設備の稼働率低下を招く欠点を有している。
【0007】即ち、作業の仕かかり時には、線材を順次
ターンさせて全部のパスラインにセットし、その後、塗
布槽からワニスを涌き出させ、線材を走行させて塗布、
乾燥を始める。このとき、全部のパスラインにおいて線
材にワニスが塗布されると、塗布量を調整するエナメル
ダイスの口径が老番側ダイスほど大きくなっているた
め、最終パスラインに近いものほどワニスの塗りが厚く
なる。この厚塗りされたワニスは、高速乾燥時に内側が
乾く前に表面が乾燥するので発泡等を起こし、これが次
のダイスにひっかかって断線を招く。
【0008】このため、初めのうちは全パス数のうち何
回かだけ塗布を行うようにしている。例えば、図8では
線材の引き回数(パス回数)が9回になっている。この
うち、先ず最初は、1パス目から3パス目までワニスを
塗布し、その後、1パス目にあった線材が5〜6パス目
のラインを通る頃に1パス目から5パス目まで塗布する
と言う具合に塗布回数を段々に増やしていくと、厚塗り
が防止されて膜の乾燥が無理なく進み、発泡等が生じ難
い。従って、このような方法でワニスを少しずつ塗り重
ねているが、この場合には、仮に3パス目までワニスを
塗るとしたら、3パス目以降の線材はワニス塗布が行わ
れないようにしなければならない。そのための方法とし
て従来は線材をガイドローラで上方に持ち上げていた
が、涌き出し方式では走行中の線材をワニスの盛り上り
点よりもさらに上方に持ち上げる必要があるのでエナメ
ルダイスと線材の接触抵抗が大きくなって線振れが大き
くなり、これに起因した断線が多くなる。
【0009】本発明は、涌き出し方式に見られる前述の
不具合を無くして製造設備の稼働率低下を少なくするこ
とを課題としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明のエナメル線製造方法ではワニスの涌き出し
領域を若番パスライン側から老番パスライン側に向かっ
て段階的に広げていくようにしたのである。
【0011】また、本発明のエナメル線製造装置は、上
記の方法を安定して実施するために、ワニス涌き出し方
式の塗布槽に、ワニス涌き出し口を数区間に分けて開閉
する切換弁と、涌き出し口が開いている領域から閉じて
いる領域へのワニス移動を止める仕切り壁と、開度調整
手段を有する過剰供給ワニスの逃がし口を設けたのであ
る。
【0012】
【作用】本発明の方法では、ワニス塗布領域でのみワニ
スを涌き出させるので、作業の仕かかり時に非塗布領域
の線材を持ち上げる必要がない。従って、線材とエナメ
ルダイスの接触抵抗が変化せず、線振れを無くして断線
を防ぐことができる。
【0013】また、本発明の装置は、仕切り壁がワニス
の非涌き出し領域への移動を止めるので、不要な位置で
線材にワニスが付着することがない。さらに、涌き出し
口の一部が閉じて本来そこから涌き出すべき流量分が過
剰になったとき、その過剰分を排出する開度調整の可能
な逃がし口を有しているので、涌き出し圧(=涌き出し
高さ)を常時一定に保って安定した塗布を行うことがで
きる。
【0014】
【実施例】図1に、本発明の製造方法及び製造装置の一
例を示す。
【0015】例示の装置は、焼付炉は従来と同じである
のでこれを省いて涌き出し方式の塗布槽のみを示してい
る。図中1〜8は図8で述べたものと同じ要素である。
【0016】この塗布槽は、塗布ヘッド5に、ワニスの
涌き出し領域を複数に区画する仕切り壁9を設けたこ
と、塗布ヘッド5内にドラム型の切換弁10を組込んだ
こと、及び塗布ヘッド5に過剰供給ワニスの逃がし口1
1を設けたことが従来の塗布槽と異なっている。
【0017】仕切り壁9は、ここでは塗布ヘッド5の両
端部、3パス目と4パス目の間、5パス目と6パス目の
間及び7パス目と8パス目の間に設けている。
【0018】切換弁10には、1パス目〜3パス目の涌
き出し口を開放する孔12-1、1パス目〜5パス目の涌
き出し口を開放する孔12-2、1パス目〜7パス目の涌
き出し口を開放する孔12-3、1パス目〜9パス目まで
の全涌き出し口を開放する孔12-4(図5参照)を周方
向に位置を変えて設けてある。また、この切換弁10に
は、孔12-1〜12-4がそれぞれ対応した涌き出し口6
と連通した位置で内部空洞を供給管4に連通させるワニ
ス導入口13(図2〜図5参照)と逃がし口11の開度
を変化させるシャッタ14を設けてある。
【0019】このように構成した塗布槽は、切換弁10
をある角度回転させて孔位置を切換えていくことによ
り、図2〜図5に示すように、涌き出し口6が開放して
いる領域を段階的に広げていくことができる。また、シ
ャッタ14は、図2〜図5の(b)に示すように、涌き
出し口6の開放領域が広がるにつれて逃がし口11を段
々と絞り、ワニス噴出し圧の変動を抑えるので、ワニス
の涌出し高さが常にほぼ一定し、塗布の安定性が崩れな
い。
【0020】以下に、例示の塗布槽を用いた塗布作業の
一例について記す。ここでは、作業仕かかり時の塗布領
域の切換えを4回に分けて行う。
【0021】先ず、1回目は、図2に示すように、3パ
ス目までの涌き出し口を開放させて全9パスのうち1〜
3パス目までの線材Aにワニスを塗布する。このとき、
3パス目以降の線材Aもパスライン中心に保つ。これに
よりワニスの塗布厚みは3パス目のダイス7の口径によ
って決まる厚みが最大となり、塗膜の乾燥が無理なく進
む。
【0022】次に、最初に3パス目にあった線材が、何
パスか移動したら、図3に示すように5パス目までの涌
き出し口6を開いて5パス目までの塗布を行う。同様に
してワニスの塗布領域を線材の進み具合を見ながら3回
目には図4に示すように7パス目まで、また、4回目に
は図5に示すように9パス目まで広げる。
【0023】このようにすれば、線材を持ち上げずに塗
布、乾燥をスムーズに確実に進行させることができる。
【0024】例えば、最初に3パス目にあった線材が5
パス目を通過したころで5パス目までワニスを涌き出さ
せ、その後、最初の3パス目の線材が7パス目を通過し
たところで7パス目まで、また最初の3パス目の線材が
9パス目を通過したところで9パス目まで涌き出し領域
を広げたとしたら、最初に4〜9パス目にあった線材に
はワニスが全く塗布されない。また、最初に3パス目に
あった線材は4パス目からの塗布が行われず、最初に2
パス目にあった線材も4、6、8の各パスラインでの塗
布が省かれ、厚塗りが起こらない。
【0025】一方、最初に1パス目にあった線材は、1
〜9の全パスラインにおいてワニスが1層ずつ塗布さ
れ、さらに、1層塗布するごとに焼付炉で乾燥され、こ
れ以降、製品となり得るものが1ロットの終了時まで続
く。
【0026】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のエナメル線
製造方法及び製造装置によれば、涌き出し方式の塗布槽
を用いて走行中の線材を持ち上げずに一部のパスライン
上の線材にのみワニスを塗布することができるので、線
材の振れに起因した作業仕かかり時の断線を無くすこと
ができ、ワニス塗布部との接触抵抗が小さいと言う涌き
出し方式の長所を充分に生かしながら設備の稼働率を高
めて生産性を向上させることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a):本発明の製造方法及び製造装置の一例
を示す斜視図 (b):切換弁の斜視図
【図2】(a):ワニス涌き出し口を3パス目まで開い
た塗布ヘッドの断面図 (b):同上の塗布ヘッドの逃がし口の開き状態を示す
【図3】(a):ワニス涌き出し口を5パス目まで開い
た塗布ヘッドの断面図 (b):同上の塗布ヘッドの逃がし口の開き状態を示す
【図4】(a):ワニス涌き出し口を7パス目まで開い
た塗布ヘッドの断面図 (b):同上の塗布ヘッドの逃がし口の開き状態を示す
【図5】(a):ワニス涌き出し口を9パス目まで開い
た塗布ヘッドの断面図 (b):同上の塗布ヘッドの逃がし口の開き状態を示す
【図6】エナメル線製造装置の概要を示す図
【図7】溝ローラ方式のワニス塗布槽を示す図
【図8】従来の涌き出し方式のワニス塗布槽を示す図
【符号の説明】
1 ワニスタンク 2 ポンプ 3 フィルタ 4 供給管 5 塗布ヘッド 6 涌き出し口 7 エナメルダイス 8 回収皿 9 仕切り壁 10 切換弁 11 逃がし口 12-1〜12-4 孔 13 ワニス導入口 14 シャッタ A 線材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 洞戸 五三男 名古屋市南区菊住一丁目7番10号 住友 電気工業株式会社名古屋製作所内 (56)参考文献 実開 平3−103522(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 13/16

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 塗布槽の涌き出し口から上向きに涌き出
    させたワニスを走行中の線材に塗布し、エナメルダイス
    で塗布量を調整した後、焼付炉で乾燥させる工程を繰り
    返して規定膜厚の皮膜に仕上げるエナメル線の製造方法
    において、ワニスの涌き出し領域を若番パスライン側か
    ら老番パスライン側に向かって段階的に広げていくこと
    を特徴とするエナメル線の製造方法。
  2. 【請求項2】 塗布槽の涌き出し口から上向きに涌き出
    させたワニスを走行中の線材に塗布し、エナメルダイス
    で塗布量を調整した後、焼付炉で乾燥させる工程を線材
    を順次ターンさせて繰り返すことにより規定膜厚の皮膜
    に仕上げるエナメル線の製造装置において、前記塗布槽
    に、ワニス涌き出し口を数区間に分けて開閉する切換弁
    と、ワニスの湧き出し領域を複数に区画して涌き出し口
    が開いている領域から閉じている領域へのワニス移動を
    止める仕切り壁と、開度調整手段を有する過剰供給ワニ
    スの逃がし口を設け、前記切換弁によりワニスの涌き出
    し領域を若番パスライン側から老番パスライン側に向か
    って段階的に広げていくようにしたことを特徴するエナ
    メル線の製造装置。
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