JP3441975B2 - 高周波パッケージ - Google Patents
高周波パッケージInfo
- Publication number
- JP3441975B2 JP3441975B2 JP21496098A JP21496098A JP3441975B2 JP 3441975 B2 JP3441975 B2 JP 3441975B2 JP 21496098 A JP21496098 A JP 21496098A JP 21496098 A JP21496098 A JP 21496098A JP 3441975 B2 JP3441975 B2 JP 3441975B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- package
- wall
- substrate
- line
- semiconductor element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/30107—Inductance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
Landscapes
- Waveguide Connection Structure (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子を囲っ
て保護するためのパッケージに関し、特にマイクロ波帯
〜ミリ波帯の高い周波数帯で使用されるパッケージに関
する。
て保護するためのパッケージに関し、特にマイクロ波帯
〜ミリ波帯の高い周波数帯で使用されるパッケージに関
する。
【0002】
【従来の技術】一般的な高周波パッケージの構造の一例
を図5に示す。図に於いて、3は誘電体材料から成る絶
縁基板、4は同じく誘電体材料から成る絶縁壁であり、
これら絶縁部材はキャビティを構成する。5は絶縁壁4
を貫通して高周波(RF)電気信号をキャビティ外部か
ら内部へ伝えるための金属配線(以下RF入力線と呼
ぶ)であり、6は絶縁壁4を貫通して高周波(RF)電
気信号をキャビティ内部から外部へ伝えるための金属配
線(以下RF出力線と呼ぶ)であり、7は絶縁壁4を貫
通して直流(DC)電力をキャビティ外部から内部へ伝
えるための金属配線(以下DC給電線と呼ぶ)である。
1は半導体素子であり、キャビティの内部に実装され、
ボンディング・ワイヤ2などによって、RF入力線5、
RF出力線6、およびDC給電線7と、電気的に接続さ
れる。キャビティは、半導体素子1を実装した後に、金
属板材などを用いて気密封止される。以上により、半導
体素子1は安全に保護された状態で、RF電気信号とD
C電力を得て動作することができる。
を図5に示す。図に於いて、3は誘電体材料から成る絶
縁基板、4は同じく誘電体材料から成る絶縁壁であり、
これら絶縁部材はキャビティを構成する。5は絶縁壁4
を貫通して高周波(RF)電気信号をキャビティ外部か
ら内部へ伝えるための金属配線(以下RF入力線と呼
ぶ)であり、6は絶縁壁4を貫通して高周波(RF)電
気信号をキャビティ内部から外部へ伝えるための金属配
線(以下RF出力線と呼ぶ)であり、7は絶縁壁4を貫
通して直流(DC)電力をキャビティ外部から内部へ伝
えるための金属配線(以下DC給電線と呼ぶ)である。
1は半導体素子であり、キャビティの内部に実装され、
ボンディング・ワイヤ2などによって、RF入力線5、
RF出力線6、およびDC給電線7と、電気的に接続さ
れる。キャビティは、半導体素子1を実装した後に、金
属板材などを用いて気密封止される。以上により、半導
体素子1は安全に保護された状態で、RF電気信号とD
C電力を得て動作することができる。
【0003】このようなパッケージに於いて、内部の半
導体素子1の動作周波数が高くなるにつれて、しばしば
次のような問題が起こることが知られている。
導体素子1の動作周波数が高くなるにつれて、しばしば
次のような問題が起こることが知られている。
【0004】即ち、本来はRF入力線5とRF出力線6
の上にしか流れてはならない高周波電気信号が、DC給
電線7に漏れ出してしまう。この漏れ出た高周波電気信
号が、図6に示すように、パッケージの外で閉ループを
形成し、その結果、半導体素子1が発振などの不安定動
作を起こす。
の上にしか流れてはならない高周波電気信号が、DC給
電線7に漏れ出してしまう。この漏れ出た高周波電気信
号が、図6に示すように、パッケージの外で閉ループを
形成し、その結果、半導体素子1が発振などの不安定動
作を起こす。
【0005】上記のような問題を回避するために、従来
は、DC給電線にRF阻止フィルタを付加する方法が取
られている。RF阻止フィルタは、半導体素子1の内部
のDC給電回路に設けられるのが普通であるが、更なる
動作安定化を目的として、パッケージ上のDC給電線7
の上にも設けられることがある。
は、DC給電線にRF阻止フィルタを付加する方法が取
られている。RF阻止フィルタは、半導体素子1の内部
のDC給電回路に設けられるのが普通であるが、更なる
動作安定化を目的として、パッケージ上のDC給電線7
の上にも設けられることがある。
【0006】パッケージ上のDC給電線7の上にRF阻
止フィルタを設けた例が、例えば、特開昭60―225
449号公報、特開平4―162557号公報などに開
示されている。特開昭60―225449号公報に於い
ては、パッケージ上に印刷などの手段で形成された金属
配線パターンのみによってスパイラル・インダクタを形
成し、これを高域阻止フィルタとして用いている。特開
平4―162557号公報に於いては、パッケージにフ
ェライトコアを付加することによって、高域阻止フィル
タを実現している。
止フィルタを設けた例が、例えば、特開昭60―225
449号公報、特開平4―162557号公報などに開
示されている。特開昭60―225449号公報に於い
ては、パッケージ上に印刷などの手段で形成された金属
配線パターンのみによってスパイラル・インダクタを形
成し、これを高域阻止フィルタとして用いている。特開
平4―162557号公報に於いては、パッケージにフ
ェライトコアを付加することによって、高域阻止フィル
タを実現している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
特開昭60―225449号公報のような、金属配線で
スパイラル・インダクタを形成する方法では、パッケー
ジのサイズが大型化してしまうという問題がある。ま
た、スパイラル・インダクタは、波長が非常に短いマイ
クロ波帯〜ミリ波帯に於いては、もはやインダクタとし
て正常に機能しなくなるという問題もある。
特開昭60―225449号公報のような、金属配線で
スパイラル・インダクタを形成する方法では、パッケー
ジのサイズが大型化してしまうという問題がある。ま
た、スパイラル・インダクタは、波長が非常に短いマイ
クロ波帯〜ミリ波帯に於いては、もはやインダクタとし
て正常に機能しなくなるという問題もある。
【0008】また、特開平4―162557号公報のよ
うな、フェライトコアなどを付加する方法では、やはり
パッケージのサイズが大型化し、コストも上昇してしま
う問題がある。パッケージ製造の工程数も増えてしま
う。
うな、フェライトコアなどを付加する方法では、やはり
パッケージのサイズが大型化し、コストも上昇してしま
う問題がある。パッケージ製造の工程数も増えてしま
う。
【0009】本発明は上記問題点を解決するために成さ
れたものであり、その目的は、サイズやコストを上昇さ
せることなく、パッケージのDC給電線にRF阻止フィ
ルタを組み込むことである。それによって、パッケージ
内部の半導体素子の動作を安定化させることを目的とし
ている。またその際には、RF阻止フィルタとして、と
くにマイクロ波帯〜ミリ波帯の高い周波数帯に適したフ
ィルタ構造を用いて実現することを目的とする。
れたものであり、その目的は、サイズやコストを上昇さ
せることなく、パッケージのDC給電線にRF阻止フィ
ルタを組み込むことである。それによって、パッケージ
内部の半導体素子の動作を安定化させることを目的とし
ている。またその際には、RF阻止フィルタとして、と
くにマイクロ波帯〜ミリ波帯の高い周波数帯に適したフ
ィルタ構造を用いて実現することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の高周波パッケー
ジは、基板、壁、および蓋より成るキャビティ内部に半
導体素子を搭載し保護するパッケージにおいて、前記半
導体素子にDC電力を供給するための配線が基板または
壁を貫通する部分に、キャパシタンス成分C、およびイ
ンダクタンス成分Lを並列に形成したことを特徴とす
る。
ジは、基板、壁、および蓋より成るキャビティ内部に半
導体素子を搭載し保護するパッケージにおいて、前記半
導体素子にDC電力を供給するための配線が基板または
壁を貫通する部分に、キャパシタンス成分C、およびイ
ンダクタンス成分Lを並列に形成したことを特徴とす
る。
【0011】また本発明の高周波パッケージは、基板あ
るいは壁が誘電体材料から成り、基板または壁を挟んで
キャビティ外側とキャビティ内側に互いに対向する金属
平面電極を設けることによってキャパシタンスC成分を
構成し、また前記配線が基板または壁を貫通する部分に
於ける配線を細くすることによってインダクタンス成分
Lを構成したことを特徴とする。
るいは壁が誘電体材料から成り、基板または壁を挟んで
キャビティ外側とキャビティ内側に互いに対向する金属
平面電極を設けることによってキャパシタンスC成分を
構成し、また前記配線が基板または壁を貫通する部分に
於ける配線を細くすることによってインダクタンス成分
Lを構成したことを特徴とする。
【0012】また本発明の高周波パッケージは、前記半
導体素子にDC電力を供給するための配線がピンによっ
て形成され、前記基板を貫通する部分が同軸構造である
ことを特徴とする。
導体素子にDC電力を供給するための配線がピンによっ
て形成され、前記基板を貫通する部分が同軸構造である
ことを特徴とする。
【0013】さらに本発明の高周波パッケージは、前記
キャパシタンス成分Cと前記インダクタンス成分Lの並
列共振から成る帯域阻止フィルタ効果の阻止周波数帯
を、前記半導体素子の動作が不安定になる周波数帯に合
わせたことを特徴とする。
キャパシタンス成分Cと前記インダクタンス成分Lの並
列共振から成る帯域阻止フィルタ効果の阻止周波数帯
を、前記半導体素子の動作が不安定になる周波数帯に合
わせたことを特徴とする。
【0014】キャパシタンス成分Cとインダクタンス成
分Lの並列共振から成る帯域阻止フィルタ効果の阻止周
波数帯を、前記半導体素子の動作が不安定になる周波数
帯に合わせることによって、半導体素子の発振などの不
安定動作を抑圧できる。
分Lの並列共振から成る帯域阻止フィルタ効果の阻止周
波数帯を、前記半導体素子の動作が不安定になる周波数
帯に合わせることによって、半導体素子の発振などの不
安定動作を抑圧できる。
【0015】キャパシタンス成分Cとしては、パッケー
ジを構成する誘電体壁をDC給電線が貫通する部分に於
いて、その誘電体壁を挟んでキャビティの内側と外側に
互いに対向する金属平面電極を設けることで、キャパシ
タンス成分Cを実現でき、また、インダクタンス成分L
としては、パッケージを構成する誘電体基板または壁を
DC給電線が貫通する部分の金属配線を細くして高イン
ピーダンスにすることによって、高周波帯に於いてイン
ダクタンス成分Lを実現できる。
ジを構成する誘電体壁をDC給電線が貫通する部分に於
いて、その誘電体壁を挟んでキャビティの内側と外側に
互いに対向する金属平面電極を設けることで、キャパシ
タンス成分Cを実現でき、また、インダクタンス成分L
としては、パッケージを構成する誘電体基板または壁を
DC給電線が貫通する部分の金属配線を細くして高イン
ピーダンスにすることによって、高周波帯に於いてイン
ダクタンス成分Lを実現できる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を用いて具体的に説明する。
面を用いて具体的に説明する。
【0017】(実施の形態1)図1は、本発明の第1の
実施の形態である。図1(a)はパッケージ全体の俯瞰
図であり、図1(b)はDC給電線が誘電体壁4を貫通
する部分の拡大図である。図に於いて、8は、誘電体壁
4を挟んで両面に形成された、互いに対向する金属平面
電極である。図から明らかなように、8は、キャパシタ
ンス成分Cを形成する。また、9は、DC給電線が誘電
体壁4を貫通する部分に於いて、配線パターンを細くし
た部分である。配線パターンが細くなったことにより、
この部分の線路は、高インピーダンスになる。このよう
な高インピーダンス線路は、本発明が狙いとするマイク
ロ波帯〜ミリ波帯では、インダクタンスLと同等の電気
的効果が得られる。
実施の形態である。図1(a)はパッケージ全体の俯瞰
図であり、図1(b)はDC給電線が誘電体壁4を貫通
する部分の拡大図である。図に於いて、8は、誘電体壁
4を挟んで両面に形成された、互いに対向する金属平面
電極である。図から明らかなように、8は、キャパシタ
ンス成分Cを形成する。また、9は、DC給電線が誘電
体壁4を貫通する部分に於いて、配線パターンを細くし
た部分である。配線パターンが細くなったことにより、
この部分の線路は、高インピーダンスになる。このよう
な高インピーダンス線路は、本発明が狙いとするマイク
ロ波帯〜ミリ波帯では、インダクタンスLと同等の電気
的効果が得られる。
【0018】以上のように形成されたキャパシタンスC
とインダクタンスLは、図3の等価回路に示すように、
LC並列共振回路を形成している。そのため、下記式1
で計算される周波数の近傍に於いて、高周波信号を阻止
するフィルタとして働く。
とインダクタンスLは、図3の等価回路に示すように、
LC並列共振回路を形成している。そのため、下記式1
で計算される周波数の近傍に於いて、高周波信号を阻止
するフィルタとして働く。
【0019】
【数1】
【0020】図4は、図1の実施例におけるRF阻止フ
ィルタの性能を表すグラフの一例である。グラフにおい
て横軸は周波数、縦軸はS21パラメータのdB表示で
ある。20GHz付近の周波数において、約2dBの減
衰特性が確認できる。この時の設計は、図1(b)にお
いて、誘電体材料は比誘電率10弱のセラミック材、
A、Bは金属平面電極8の寸法を表しそれぞれ、1.8
mm、0.7mm、Cは誘電体壁4の厚さで、0.4m
m、Dは誘電体基板3の厚さで0.3mm、インダクタ
ンスLを作るための高インピーダンス線路部分の線幅は
80μmであった。
ィルタの性能を表すグラフの一例である。グラフにおい
て横軸は周波数、縦軸はS21パラメータのdB表示で
ある。20GHz付近の周波数において、約2dBの減
衰特性が確認できる。この時の設計は、図1(b)にお
いて、誘電体材料は比誘電率10弱のセラミック材、
A、Bは金属平面電極8の寸法を表しそれぞれ、1.8
mm、0.7mm、Cは誘電体壁4の厚さで、0.4m
m、Dは誘電体基板3の厚さで0.3mm、インダクタ
ンスLを作るための高インピーダンス線路部分の線幅は
80μmであった。
【0021】(実施の形態2)図2は、本発明の第2の
実施の形態である。図2(a)はパッケージ全体の俯瞰
図であり、図2(b)はDC給電線が誘電体基板3を貫
通する部分の拡大図である。この実施例では、DC給電
線は、パッケージの下部にピン10によって形成されて
いる。DC給電線は、パッケージ下面の誘電体基板3を
貫通する部分に於いて、スルーホール11による同軸構
造を通して、パッケージのキャビティ内部へ導通してい
る。本実施例では、スルーホール11を細くすることで
インダクタンスLを形成し、またスルーホール11のパ
ッド12を広くすることでキャパシタンスCを形成して
いる。等価回路は、図1の実施の形態1と同じく、図3
のようになる。
実施の形態である。図2(a)はパッケージ全体の俯瞰
図であり、図2(b)はDC給電線が誘電体基板3を貫
通する部分の拡大図である。この実施例では、DC給電
線は、パッケージの下部にピン10によって形成されて
いる。DC給電線は、パッケージ下面の誘電体基板3を
貫通する部分に於いて、スルーホール11による同軸構
造を通して、パッケージのキャビティ内部へ導通してい
る。本実施例では、スルーホール11を細くすることで
インダクタンスLを形成し、またスルーホール11のパ
ッド12を広くすることでキャパシタンスCを形成して
いる。等価回路は、図1の実施の形態1と同じく、図3
のようになる。
【0022】
【発明の効果】本発明によれば、サイズやコストを上昇
することなく、パッケージのDC給電線にRF阻止フィ
ルタを組み込むことができる。また、RF阻止フィルタ
の構成としては、マイクロ波帯〜ミリ波帯の高い周波数
帯に適した構成になっている。その結果、パケージ内部
に実装された半導体素子の発振などの不安定性を抑制す
ることができる。
することなく、パッケージのDC給電線にRF阻止フィ
ルタを組み込むことができる。また、RF阻止フィルタ
の構成としては、マイクロ波帯〜ミリ波帯の高い周波数
帯に適した構成になっている。その結果、パケージ内部
に実装された半導体素子の発振などの不安定性を抑制す
ることができる。
【図1】本発明によるパッケージの構造の俯瞰図、およ
びそのRF阻止フィルタ部の拡大図である。
びそのRF阻止フィルタ部の拡大図である。
【図2】本発明の別の実施の形態である、パッケージの
構造の俯瞰図、およびそのRF阻止フィルタ部の拡大図
である。
構造の俯瞰図、およびそのRF阻止フィルタ部の拡大図
である。
【図3】本発明のRF阻止フィルタの等価回路図であ
る。
る。
【図4】本発明のRF阻止フィルタの性能を表すグラフ
の一例である。
の一例である。
【図5】従来の一般的なパッケージの構造の俯瞰図であ
る。
る。
【図6】半導体素子がDC給電線を通じて不安定動作を
する仕組みを説明する模式図である。
する仕組みを説明する模式図である。
1 半導体素子
2 ボンディング・ワイヤ
3 誘電体基板
4 誘電体壁
5 RF入力線
6 RF出力線
7 DC給電線
8 対向金属平面電極
9 高インピーダンス線路
10 DC給電ピン
11 スルーホール
12 スルーホール・パッド
Claims (4)
- 【請求項1】 基板、壁、および蓋より成るキャビティ
内部に半導体素子を搭載し保護するパッケージにおい
て、前記半導体素子にDC電力を供給するための配線が
基板または壁を貫通する部分に、キャパシタンス成分
C、およびインダクタンス成分Lを並列に形成したこと
を特徴とする高周波パッケージ。 - 【請求項2】 前記基板あるいは壁が誘電体材料から成
り、前記基板または壁を挟んでキャビティ外側とキャビ
ティ内側に互いに対向する金属平面電極を設けることに
よってキャパシタンスC成分を構成し、また前記配線が
基板または壁を貫通する部分に於ける配線を細くするこ
とによってインダクタンス成分Lを構成したことを特徴
とする請求項1記載の高周波パッケージ。 - 【請求項3】 前記半導体素子にDC電力を供給するた
めの配線がピンによって形成され、前記基板を貫通する
部分が同軸構造であることを特徴とする請求項1記載の
高周波パッケージ。 - 【請求項4】 前記キャパシタンス成分Cと前記インダ
クタンス成分Lの並列共振から成る帯域阻止フィルタ効
果の阻止周波数帯を、前記半導体素子の動作が不安定に
なる周波数帯に合わせたことを特徴とする請求項1ない
し3のいずれかに記載の高周波パッケージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21496098A JP3441975B2 (ja) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | 高周波パッケージ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21496098A JP3441975B2 (ja) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | 高周波パッケージ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000049255A JP2000049255A (ja) | 2000-02-18 |
JP3441975B2 true JP3441975B2 (ja) | 2003-09-02 |
Family
ID=16664426
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21496098A Expired - Fee Related JP3441975B2 (ja) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | 高周波パッケージ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3441975B2 (ja) |
-
1998
- 1998-07-30 JP JP21496098A patent/JP3441975B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000049255A (ja) | 2000-02-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6162800B2 (ja) | 素子収納用パッケージおよび実装構造体 | |
US6204739B1 (en) | Dielectric resonant apparatus | |
JP3087664B2 (ja) | 誘電体共振器装置及び高周波モジュール | |
JP3663898B2 (ja) | 高周波モジュール | |
JP2005150345A (ja) | 高周波パッケージ | |
JP3161340B2 (ja) | 表面実装型アンテナおよびアンテナ装置 | |
EP3098842B1 (en) | Package for an electronic element | |
JPH09321501A (ja) | 多層高周波回路基板 | |
CN112544015B (zh) | 波导管缝隙天线 | |
JP3441975B2 (ja) | 高周波パッケージ | |
TWI815365B (zh) | 槽孔天線 | |
JPH05206730A (ja) | 電圧制御発振器およびその発振周波数の調整方法 | |
EP0841714B1 (en) | Dielectric resonator apparatus and high-frequency module | |
JP2002124592A (ja) | 高周波装置 | |
EP1670091A1 (en) | Dielectric resonator, oscillator and transmitter/receiver | |
JP2800323B2 (ja) | 高周波用共振器 | |
JP2000100992A (ja) | 高周波パッケージ | |
US20070057738A1 (en) | Oscillator device and transmission and reception device | |
JPWO2005062415A1 (ja) | 誘電体共振器およびこれを用いた通信機装置 | |
JP3848860B2 (ja) | 空胴共振器を有する平面回路 | |
JP2974195B2 (ja) | マイクロ波ic用パッケージ | |
JP3916988B2 (ja) | 高周波モジュール | |
JPS60227448A (ja) | 半導体装置 | |
JP2003273605A (ja) | 導波管型フィルタ | |
JP2001102821A (ja) | 高周波パッケージ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |