JP3436435B2 - 紫外線硬化型シリコーン組成物の硬化方法 - Google Patents

紫外線硬化型シリコーン組成物の硬化方法

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JP3436435B2 JP05816695A JP5816695A JP3436435B2 JP 3436435 B2 JP3436435 B2 JP 3436435B2 JP 05816695 A JP05816695 A JP 05816695A JP 5816695 A JP5816695 A JP 5816695A JP 3436435 B2 JP3436435 B2 JP 3436435B2
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は紫外線硬化型シリコーン
組成物の硬化方法に関し、詳しくは、紫外線硬化型シリ
コーン組成物に特定の紫外線を照射して、表面が内部よ
り硬質であり、表面の粘着性が少ないシリコーン硬化物
を形成することを特徴とする紫外線硬化型シリコーン組
成物の硬化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】紫外線の照射により速やかに硬化してシ
リコーン硬化物を形成する紫外線硬化型シリコーン組成
物は産業上幅広く利用されている。この紫外線硬化型シ
リコーン組成物としては、例えば、アクリルアミド基を
含有するオルガノポリシロキサンを主剤とする紫外線硬
化型シリコーン組成物（特公昭５７−５２３７１号公報
および特開平２−２９４３１４号公報参照）、一分子中
に少なくとも２個のメルカプトアルキル基を含有するオ
ルガノポリシロキサンと一分子中に少なくとも２個のア
ルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンからなる
組成物を主剤とする紫外線硬化型シリコーン組成物（特
公昭６１−１７８６３号公報参照）が挙げられる。これ
らの紫外線硬化型シリコーン組成物に紫外線を照射する
ためには、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀
ランプ、水素放電管、キセノン放電管、メタルハライド
ランプ等の従来公知の光源が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、紫外線硬化型
シリコーン組成物に、これらの光源から発生する紫外線
を直接照射して得られたシリコーン硬化物の表面は非常
に粘着性であるために、この表面にちりやほこりが付着
しやすく、外観が著しく悪化したり、また、取扱作業性
が著しく困難であるという問題があった。これらの問題
はシリコーン硬化物の硬度が低くなれば特に顕著とな
り、例えば、紫外線硬化型シリコーン組成物を用いて光
半導体素子の表面にシリコーンゲルを形成した場合に
は、この表面に付着したちりやほこりにより、この素子
の特性が著しく低下するという問題があった。
【０００４】本発明者らは、上記の問題を解決するため
に鋭意検討した結果、紫外線硬化型シリコーン組成物の
表面の硬化には短波長領域の紫外線が大きく関与してお
り、この長波長領域の照射量に対する短波長領域の照射
量の比が特定の範囲にある紫外線を照射することによ
り、表面が内部より硬質であり、表面の粘着性が少ない
シリコーン硬化物を形成できることを見いだして本発明
に到達した。すなわち、本発明の目的は、紫外線硬化型
シリコーン組成物に特定の紫外線を照射して、表面が内
部より硬質であり、表面の粘着性が少ないシリコーン硬
化物を形成することを特徴とする紫外線硬化型シリコー
ン組成物の硬化方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段およびその作用】本発明の
紫外線硬化型シリコーン組成物の硬化方法は、紫外線硬
化型シリコーン組成物に、波長２８０〜４００ｎｍの照
射量に対する波長２００〜２８０ｎｍ（但し、２８０ｎ
ｍは含まない。）の照射量の比が０．５〜１０．０であ
る紫外線を照射してシリコーン硬化物を形成することを
特徴とする。
【０００６】以下、本発明の硬化方法について詳細に説
明する。本発明に用いられる紫外線硬化型シリコーン組
成物は特に限定されず、例えば、アクリルアミド基を含
有するオルガノポリシロキサンを主剤とする紫外線硬化
型シリコーン組成物（特公昭５７−５２３７１号公報お
よび特開平２−２９４３１４号公報参照）、一分子中に
少なくとも２個のメルカプトアルキル基を含有するオル
ガノポリシロキサンと一分子中に少なくとも２個のアル
ケニル基を含有するオルガノポリシロキサンを主剤とす
る紫外線硬化型シリコーン組成物（特公昭６１−１７８
６３号公報参照）、アルケニル基を含有するオルガノポ
リシロキサンを主剤とする紫外線硬化型シリコーン組成
物、アクリル基またはメタクリル基を含有するオルガノ
ポリシロキサンを主剤とする紫外線硬化型シリコーン組
成物、一分子中に少なくとも２個のアルケニル基を含有
するオルガノポリシロキサンと一分子中に少なくとも２
個のケイ素原子結合水素原子を含有するオルガノポリシ
ロキサンを主剤とする紫外線硬化型シリコーン組成物が
挙げられ、特にアクリルアミド基を含有するオルガノポ
リシロキサンを主剤とする紫外線硬化型シリコーン組成
物、一分子中に少なくとも２個のメルカプトアルキル基
を含有するオルガノポリシロキサンと一分子中に少なく
とも２個のアルケニル基を含有するオルガノポリシロキ
サンを主剤とする紫外線硬化型シリコーン組成物である
ことが好ましい。
【０００７】このアクリルアミド基を含有するオルガノ
ポリシロキサンは特に限定されず、例えば、分子鎖両末
端がアクリルアミドプロピルジメチルシロキシ基で封鎖
されたジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端がＮ−メ
チルアクリルアミドプロピルジメチルシロキシ基で封鎖
されたジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端がアクリ
ルアミドイソブチルジメチルシロキシ基で封鎖されたジ
メチルポリシロキサン、分子鎖両末端がＮ−メチルアク
リルアミドイソブチルジメチルシロキシ基で封鎖された
ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端がアクリルアミ
ドプロピルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルシ
ロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖
両末端がＮ−メチルアクリルアミドプロピルジメチルシ
ロキシ基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチルフェ
ニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端がアクリルアミ
ドイソブチルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチル
シロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子
鎖両末端がＮ−メチルアクリルアミドイソブチルジメチ
ルシロキシ基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチル
フェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端がアクリル
アミドプロピルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチ
ルシロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、分子鎖
両末端がアクリルアミドイソブチルジメチルシロキシ基
で封鎖されたジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサ
ン共重合体、分子鎖両末端がアクリルアミドプロピルジ
メチルシロキシ基で封鎖されたジメチルシロキサン・メ
チルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端がアクリ
ルアミドイソブチルジメチルシロキシ基で封鎖されたジ
メチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、
分子鎖両末端がアクリルアミドプロピルジフェニルシロ
キシ基で封鎖されたジフェニルシロキサン・メチルフェ
ニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端がアクリルアミ
ドプロピルメチルフェニルシロキシ基で封鎖されたメチ
ルフェニルポリシロキサン、分子鎖両末端がアクリルア
ミドプロピルジフェニルシロキシ基で封鎖されたジフェ
ニルポリシロキサン、分子鎖片末端のみがアクリルアミ
ドプロピルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルポ
リシロキサン、分子鎖片末端のみがＮ−メチルアクリル
アミドプロピルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチ
ルポリシロキサン、分子鎖片末端のみがアクリルアミド
イソブチルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルポ
リシロキサン、分子鎖片末端のみがＮ−メチルアクリル
アミドイソブチルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメ
チルポリシロキサン、分子鎖片末端のみがアクリルアミ
ドプロピルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルシ
ロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖
片末端のみがアクリルアミドイソブチルジメチルシロキ
シ基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチルフェニル
シロキサン共重合体、分子鎖片末端のみがアクリルアミ
ドプロピルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルシ
ロキサン・ジフェニルシロキサン共重合体、分子鎖片末
端のみがアクリルアミドイソブチルジメチルシロキシ基
で封鎖されたジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサ
ン共重合体、分子鎖片末端のみがアクリルアミドプロピ
ルジメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルシロキサン
・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖片末端のみ
がアクリルアミドイソブチルジメチルシロキシ基で封鎖
されたジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共
重合体、分子鎖片末端のみがアクリルアミドプロピルジ
フェニルシロキシ基で封鎖されたジフェニルシロキサン
・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖片末端の
みがアクリルアミドプロピルジフェニルシロキシ基で封
鎖されたメチルフェニルポリシロキサン、分子鎖片末端
のみがアクリルアミドプロピルジフェニルシロキシ基で
封鎖されたジフェニルポリシロキサン、分子鎖側鎖にア
クリルアミドプロピル基を有するジメチルポリシロキサ
ン、分子鎖側鎖にＮ−メチルアクリルアミドプロピル基
を有するジメチルポリシロキサン、分子鎖側鎖にアクリ
ルアミドイソブチル基を有するジメチルポリシロキサ
ン、分子鎖側鎖にＮ−メチルアクリルアミドイソブチル
基を有するジメチルポリシロキサン、分子鎖側鎖にアク
リルアミドプロピル基を有するジメチルシロキサン・メ
チルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖側鎖にアクリ
ルアミドイソブチル基を有するジメチルシロキサン・メ
チルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖側鎖にアクリ
ルアミドプロピル基を有するジメチルシロキサン・メチ
ルビニルシロキサン共重合体、分子鎖側鎖にアクリルア
ミドイソブチル基を有するジメチルシロキサン・メチル
ビニルシロキサン共重合体が挙げられる。これらのオル
ガノポリシロキサンを単独もしくは二種以上の混合物と
して用いることができる。
【０００８】また、このメルカプトアルキル基を含有す
るオルガノポリシロキサンは特に限定されず、例えば、
分子鎖両末端がジメチル（３−メルカプトプロピル）シ
ロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサン、分子鎖
両末端がジメチル（３−メルカプトプロピル）シロキシ
基で封鎖されたジメチルシロキサン・メチルフェニルシ
ロキサン共重合体、分子鎖両末端がジメチル（３−メル
カプトプロピル）シロキシ基で封鎖されたジメチルシロ
キサン・ジフェニルシロキサン共重合体、メチル（３−
メルカプトプロピル）シロキサン・ジメチルシロキサン
共重合体、メチル（３−メルカプトプロピル）シロキサ
ン・メチルフェニルシロキサン共重合体、メチル（３−
メルカプトプロピル）シロキサン・ジフェニルシロキサ
ン共重合体、３−メルカプトプロピル（フェニル）シロ
キサン・ジメチルシロキサン共重合体、３−メルカプト
プロピル（フェニル）シロキサン・ジフェニルシロキサ
ン共重合体が挙げられる。これらのオルガノポリシロキ
サンを単独もしくは二種以上の混合物として用いること
ができる。
【０００９】また、このアルケニル基を含有するオルガ
ノポリシロキサンとしては、例えば、分子鎖両末端がジ
メチルビニルシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロ
キサン、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封
鎖されたジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサ
ン共重合体、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基
で封鎖されたジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサ
ン共重合体、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基
で封鎖されたジメチルシロキサン・メチルビニルシロキ
サン共重合体、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ
基で封鎖されたジメチルシロキサン・フェニルビニルシ
ロキサン共重合体、分子鎖両末端がジメチルビニルシロ
キシ基で封鎖されたメチルビニルポリシロキサン、メチ
ルビニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、メ
チルビニルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重
合体、メチルビニルシロキサン・ジフェニルシロキサン
共重合体、フェニルビニルシロキサン・ジメチルシロキ
サン共重合体、フェニルビニルシロキサン・ジフェニル
シロキサン共重合体が挙げられる。これらのオルガノポ
リシロキサンを単独もしくは二種以上の混合物として用
いることができる。また、このアルケニル基を含有する
オルガノポリシロキサンの配合量は特に限定されず、上
記のメルカプトアルキル基を含有するオルガノポリシロ
キサン中のメルカプトアルキル基１モルに対して、この
オルガノポリシロキサン中のアルケニル基が０．１〜５
モルとなる量であることが好ましい。
【００１０】このような紫外線硬化型シリコーン組成物
には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意の成
分として光開始剤を配合することができる。この光開始
剤としては、例えば、アセトフェノン、ジクロロアセト
フェノン、トリクロロアセトフェノン、ｔｅｒｔ−ブチ
ルトリクロロアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセ
トフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン等のア
セトフェノンおよびその誘導体；ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インブチルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル等
のベンゾインおよびその誘導体；ベンゾフェノン、２−
クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ジクロロベンゾフェ
ノン、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等
のベンゾフェノンおよびその誘導体；ｐ−ジメチルアミ
ノプロピオフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベン
ジルジメチルケタール、テトラメチルチウラムモノサル
ファイド、チオキサンソン、２−クロロチオキサンソ
ン、２−メチルチオキサンソン、アゾイソブチロニトリ
ル、ベンゾインパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル
パーオキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、メチルベ
ンゾイルフォーメート、ジフェニルスルファイド、アン
トラセン、１−クロロアントラキノン、ジフェニルジス
ルファイド、ジアセチル、ヘキサクロロブタジエン、ペ
ンタクロロブタジエン、オクタクロロブタジエン、１−
クロロメチルナフタリンが挙げられ、特にアセトフェノ
ン、ベンゾイン、ベンゾフェノン、およびこれらの誘導
体であることが好ましい。この光開始剤の配合量は特に
限定されず、紫外線硬化型シリコーン組成物中に０．１
〜１０重量％配合することが好ましい。
【００１１】さらに、この紫外線硬化型シリコーン組成
物には、本発明の目的を損なわない限り、その他任意の
成分として、例えば、ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ブチ
ルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、アリルチオ尿
素、ｓ−ベンジルイソチウロニウム−ｐ−トルエンスル
フィネート、トリエチルアミン、ジエチルアミノエチル
メタクリレート等の光増感剤；煙霧状シリカ、石英粉末
等の無機質充填剤；金属もしくは金属化合物等の導電性
または熱伝導性充填剤；顔料；染料；ヘキサン、ヘプタ
ン、トルエン、キシレン等の有機溶媒を配合することが
できる。
【００１２】また、本発明の硬化方法により得られるシ
リコーン硬化物の硬化形状は特に限定されず、例えば、
ゲル状、ゴム状、レジン状が挙げられ、本発明の効果を
十分に発揮することができることから、ゲル状であるこ
とが好ましい。また、本発明で用いられる紫外線硬化型
シリコーン組成物の粘度は特に限定されないが、取扱作
業性が良好であり、得られるシリコーン硬化物の物理特
性が良好であることから、２５℃における粘度が１０〜
１００，０００センチポイズであることが好ましい。
【００１３】本発明の硬化方法において、紫外線硬化型
シリコーン組成物に、波長２８０〜４００ｎｍの照射量
に対する波長２００〜２８０ｎｍ（但し、２８０ｎｍは
含まない。）の照射量の比が０．５〜１０．０である紫
外線を照射することが必要である。これは、波長２８０
〜４００ｎｍの照射量に対する波長２００〜２８０ｎｍ
（但し、２８０ｎｍは含まない。）の照射量の比が０．
５未満である高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水
銀ランプ、水素放電管、キセノン放電管、メタルハライ
ドランプ等の従来公知の光源から発生する紫外線を直接
照射して得られるシリコーン硬化物の表面は非常に高粘
着性であるためであり、また、波長２８０〜４００ｎｍ
の照射量に対する波長２００〜２８０ｎｍ（但し、２８
０ｎｍは含まない。）の照射量の比が１０．０をこえる
紫外線を照射して得られるシリコーン硬化物の表面は非
常に硬質となり、この表面に多数のクラックが生じるた
めである。本発明の硬化方法において、波長２８０〜４
００ｎｍの照射量に対する波長２００〜２８０ｎｍ（但
し、２８０ｎｍは含まない。）の照射量の比が０．５〜
１０．０である紫外線を照射する方法は特に限定され
ず、例えば、波長２８０〜４００ｎｍの照射量に対する
波長２００〜２８０ｎｍ（但し、２８０ｎｍは含まな
い。）の照射量の比が０．５未満である従来公知の光源
に紫外線カットフィルタを用いて、波長２８０〜４００
ｎｍの照射量に対する波長２００〜２８０ｎｍ（但し、
２８０ｎｍは含まない。）の照射量の比が０．５〜１
０．０となるよう調節する方法が挙げられる。
【００１４】本発明の硬化方法において、従来公知の光
源を用いた場合に、波長２８０〜４００ｎｍの照射量に
対する波長２００〜２８０ｎｍ（但し、２８０ｎｍは含
まない。）の照射量の比を０．５〜１０．０の範囲内に
調節するための紫外線カット用フィルタは工業上入手可
能であり、また、このフィルタを複数重ねて用いてもよ
い。さらに、従来公知の光源から発生する紫外線を直接
照射しながら、これと同時に従来公知の光源に紫外線カ
ットフィルタを介した紫外線を照射してもよく、また、
これらの紫外線を順次照射してもよい。ここで、紫外線
硬化型シリコーン組成物に照射された波長２８０〜４０
０ｎｍの照射量と波長２００〜２８０（但し、２８０ｎ
ｍは含まない。）の照射量は紫外線照度計等により求め
ることができる。
【００１５】また、本発明の硬化方法において、紫外線
硬化型シリコーン組成物に紫外線を照射する条件は特に
限定されず、例えば、空気中、窒素ガス、アルゴンガ
ス、ヘリウムガス等の不活性ガス中または真空中でこの
組成物を室温下または冷却もしくは５０〜１５０℃に加
熱しながら照射する方法が挙げられ、特に空気中で室温
下で照射することが好ましい。
【００１６】本発明の硬化方法によると、表面が内部よ
り硬質なシリコーン硬化物を形成でき、特に表面に非粘
着性のシリコーンゴム皮膜を有するシリコーンゲルを形
成することができる。このため、本発明の硬化方法は半
導体素子の表面に保護コーティング材を形成する方法、
電子回路基板の表面にコンフォマルコーティング材を形
成する方法、印刷パターンを形成する方法等として有用
であり、特に、半導体素子の表面に、ちりやほこりが付
着しにくい非粘着性のシリコーンゴム皮膜を有するシリ
コーンゲルを形成する方法として有用である。
【００１７】
【実施例】本発明の紫外線硬化型シリコーン組成物の硬
化方法について実施例により詳細に説明する。なお、実
施例中の粘度は２５℃において測定した値である。ま
た、シリコーン硬化物の表面および内部の硬化状態は、
アルミ皿中に紫外線硬化型シリコーン組成物を厚さ約５
ｍｍとなるように注入した後、この組成物に紫外線を照
射して硬化させたシリコーン硬化物をアルミ皿から取り
出して、このシリコーン硬化物の表面および内部を触感
により評価した。
【００１８】［実施例１］粘度が３，０００センチポイ
ズであり、分子鎖片末端がＮ−メチルアクリルアミドブ
チルジメチルシロキシ基で封鎖され、一方の分子鎖片末
端がトリメチルシロキシ基で封鎖されたジメチルシロキ
サン・メチルフェニルシロキサン共重合体（ジメチルシ
ロキサンとメチルフェニルシロキサンとのモル比は１
０：１である。）１００重量部および２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン２重量部
を均一に混合して紫外線硬化型シリコーン組成物を調製
した。
【００１９】この組成物に高圧水銀ランプによる紫外線
を直接照射しながら、これと同時に高圧水銀ランプに紫
外線カット用フィルタを介した紫外線を照射したとこ
ろ、表面に粘着性の少ないシリコーンゴム皮膜を有する
シリコーンゲルが形成された。このシリコーンゲルを形
成するための波長２８０〜４００ｎｍの照射量は３Ｊ／
ｃｍ2であり、波長２００〜２８０ｎｍ（但し、 ２８０
ｎｍは含まない。）の照射量は４．８Ｊ／ｃｍ2であっ
た。
【００２０】［実施例２］粘度が１００センチポイズで
あり、分子鎖両末端がトリメチルシロキシ基で封鎖され
たジメチルシロキサン・３−メルカプトプロピル（メチ
ル）シロキサン共重合体（メルカプト基含有量＝４．０
重量％）８重量部、粘度が２，０００センチポイズであ
り、分子鎖両末端がジメチルビニルシロキシ基で封鎖さ
れたジメチルポリシロキサン（ビニル基含有量＝０．２
３重量％）１００重量部および１−（４−イソプロピル
フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１
−オン１重量部を均一に混合して紫外線硬化型シリコー
ン組成物を調製した。
【００２１】この紫外線硬化型シリコーン組成物に、高
圧水銀ランプから発生する紫外線を直接照射しながら、
これと同時に高圧水銀ランプに紫外線カット用フィルタ
を介した紫外線を照射したところ、表面に粘着性の少な
いシリコーンゴム皮膜を有するシリコーンゲルが形成さ
れた。このシリコーンゲルを形成するための波長２８０
〜４００ｎｍの照射量は０．５Ｊ／ｃｍ2であり、波長
２００〜２８０ｎｍ（但し、２８０ｎｍは含まない。）
の照射量は０．８Ｊ／ｃｍ2であった。
【００２２】［比較例１］実施例１で調製した紫外線硬
化型シリコーン組成物に高圧水銀ランプから発生する紫
外線を直接照射したところ、表面に高粘着性で柔らかな
シリコーンゴム皮膜を有するシリコーンゲルが形成され
た。このシリコーンゲルを形成するための波長２８０〜
４００ｎｍの照射量は３Ｊ／ｃｍ2であり、波長２００
〜２８０ｎｍ（但し、２８０ｎｍは含まない。）の照射
量は１．２Ｊ／ｃｍ2であった。
【００２３】［比較例２］実施例１で調製した紫外線硬
化型シリコーン組成物に高圧水銀ランプから発生する紫
外線を直接照射および高圧水銀ランプに紫外線カット用
フィルタを介した紫外線を順次照射したところ、表面に
硬質なシリコーンレジン皮膜を有するシリコーンゲルが
形成された。このシリコーンゲルを形成するための波長
２８０〜４００ｎｍの照射量は３Ｊ／ｃｍ2であり、波
長２００〜２８０ｎｍ（但し、２８０ｎｍは含まな
い。）の照射量は４０Ｊ／ｃｍ2であった。また、この
シリコーンレジン皮膜には多数のクラックが確認され
た。
【００２４】［比較例３］実施例２で調製した紫外線硬
化型シリコーン組成物に高圧水銀ランプから発生する紫
外線を直接照射したところ、表面に高粘着性で柔らかな
シリコーンゴム皮膜を有するシリコーンゲルが形成され
た。このシリコーンゲルを形成するための紫外線におい
て、波長２８０〜４００ｎｍの照射量は０．５Ｊ／ｃｍ
2であり、波長２００〜２８０ｎｍ（但し、２８０ｎｍ
は含まない。）の照射量は０．２Ｊ／ｃｍ2であった。
【００２５】
【発明の効果】本発明の紫外線硬化型シリコーン組成物
の硬化方法は、紫外線硬化型シリコーン組成物に、波長
２８０〜４００ｎｍの照射量に対する波長２００〜２８
０ｎｍ（但し、２８０ｎｍは含まない。）の照射量の比
が０．５〜１０．０である紫外線を照射することによ
り、表面が内部より硬質であり、表面の粘着性が少ない
シリコーン硬化物を形成でき、特に、表面に粘着性が少
ないシリコーンゴム皮膜を有するシリコーンゲルを形成
できるという特徴がある。
フロントページの続き (72)発明者 峰 勝利 千葉県市原市千種海岸２番２ 東レ・ダ ウコーニング・シリコーン株式会社 研 究開発本部内 (56)参考文献 特開 平６−107951（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−93248（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−228431（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08J 3/28 C08L 83/04 - 83/08 C09J 183/04 - 183/08 ＷＰＩ／Ｌ（ＱＵＥＳＴＥＬ)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】紫外線硬化型シリコーン組成物に、波長２
    ８０〜４００ｎｍの照射量に対する波長２００〜２８０
    ｎｍ（但し、２８０ｎｍは含まない。）の照射量の比が
    ０．５〜１０．０である紫外線を照射してシリコーン硬
    化物を形成することを特徴とする紫外線硬化型シリコー
    ン組成物の硬化方法。
  2. 【請求項２】シリコーン硬化物が表面にシリコーンゴム
    皮膜を有するシリコーンゲルであることを特徴とする請
    求項１記載の硬化方法。
  3. 【請求項３】紫外線硬化型シリコーン組成物がアクリル
    アミド基を含有するオルガノポリシロキサンを主剤とす
    ることを特徴とする請求項１記載の硬化方法。
  4. 【請求項４】紫外線硬化型シリコーン組成物が一分子中
    に少なくとも２個のメルカプトアルキル基を含有するオ
    ルガノポリシロキサンと一分子中に少なくとも２個のア
    ルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン（メルカ
    プトアルキル基１モルに対してアルケニル基が０．１〜
    ５モルとなる量）を主剤とすることを特徴とする請求項
    １記載の硬化方法。
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