JP3423147B2 - 光学多層膜フィルタの製造方法 - Google Patents
光学多層膜フィルタの製造方法Info
- Publication number
- JP3423147B2 JP3423147B2 JP09249496A JP9249496A JP3423147B2 JP 3423147 B2 JP3423147 B2 JP 3423147B2 JP 09249496 A JP09249496 A JP 09249496A JP 9249496 A JP9249496 A JP 9249496A JP 3423147 B2 JP3423147 B2 JP 3423147B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- filter
- optical
- carrier
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信において特
定の波長の光を合波または分波する光学多層膜フィルタ
の製造方法に関し、特に、多層膜を形成するための基板
が多層膜形成後に除去される、基板レスと称せられる光
学多層膜フィルタの製造方法に関する。
定の波長の光を合波または分波する光学多層膜フィルタ
の製造方法に関し、特に、多層膜を形成するための基板
が多層膜形成後に除去される、基板レスと称せられる光
学多層膜フィルタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板レスと称せられる光学多層膜フィル
タの製造方法として、従来より特開平３−２７４５０６
号公報に示されたものが知られている。図４は同公報に
記載された光学多層膜フィルタの製造工程を示す説明図
であり、まず、図４（ａ）に示すように、可溶性基板１
の表面に複数の溝１ａを形成する。次いで、図４（ｂ）
に示すように、この基板１上に高屈折率の光学物質と低
屈折率の光学物質を交互に堆積し、基板の表面と各溝１
ａの内部に多層膜２を形成する。しかる後、可溶性の基
板１を特定の溶媒に浸漬して溶解すると、図４（ｃ）に
示すように、多層膜２が各溝１ａに沿って剥離され、細
分化された複数のフィルタ素子チップ１０が得られる。
したがって、フィルタ素子チップ１０には基板１が無
く、多層膜２のみにより構成される。
タの製造方法として、従来より特開平３−２７４５０６
号公報に示されたものが知られている。図４は同公報に
記載された光学多層膜フィルタの製造工程を示す説明図
であり、まず、図４（ａ）に示すように、可溶性基板１
の表面に複数の溝１ａを形成する。次いで、図４（ｂ）
に示すように、この基板１上に高屈折率の光学物質と低
屈折率の光学物質を交互に堆積し、基板の表面と各溝１
ａの内部に多層膜２を形成する。しかる後、可溶性の基
板１を特定の溶媒に浸漬して溶解すると、図４（ｃ）に
示すように、多層膜２が各溝１ａに沿って剥離され、細
分化された複数のフィルタ素子チップ１０が得られる。
したがって、フィルタ素子チップ１０には基板１が無
く、多層膜２のみにより構成される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述した従
来の光学多層膜フィルタの製造方法では、多層膜２の成
膜時に、該多層膜２が基板１の表面のみならず溝１ａの
内壁にも形成されるため、多層膜２が各溝１ａ間で繋が
ってしまい、特に、この現象は多層膜２の緻密性を高め
るために成膜をプラズマ中で行うと顕著になる。その結
果、多層膜２の成膜後に基板１全体が反り、細分化され
たフィルタ素子チップ１０のうち、特に基板１の端部に
形成されたフィルタ素子チップ１０では、所望の光学特
性を得ることができなくなり、歩留りが悪化するという
問題点があった。
来の光学多層膜フィルタの製造方法では、多層膜２の成
膜時に、該多層膜２が基板１の表面のみならず溝１ａの
内壁にも形成されるため、多層膜２が各溝１ａ間で繋が
ってしまい、特に、この現象は多層膜２の緻密性を高め
るために成膜をプラズマ中で行うと顕著になる。その結
果、多層膜２の成膜後に基板１全体が反り、細分化され
たフィルタ素子チップ１０のうち、特に基板１の端部に
形成されたフィルタ素子チップ１０では、所望の光学特
性を得ることができなくなり、歩留りが悪化するという
問題点があった。
【０００４】また、前述した従来の光学多層膜フィルタ
の製造方法では、図４（ｃ）に示すように、フィルタ素
子チップ１０が完成した状態では、多数のフィルタ素子
チップ１０がバラバラに分離されて基板１の溶媒に浮い
た状態となるため、フィルタ素子チップ１０を回収する
作業者や、フィルタ素子チップ１０の単体を合波フィル
タや分波フィルタとして用いるユーザにとって、フィル
タ素子チップ１０の取り扱いが非常に面倒であるという
問題点もあった。
の製造方法では、図４（ｃ）に示すように、フィルタ素
子チップ１０が完成した状態では、多数のフィルタ素子
チップ１０がバラバラに分離されて基板１の溶媒に浮い
た状態となるため、フィルタ素子チップ１０を回収する
作業者や、フィルタ素子チップ１０の単体を合波フィル
タや分波フィルタとして用いるユーザにとって、フィル
タ素子チップ１０の取り扱いが非常に面倒であるという
問題点もあった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、溶解可能な基
板に予め形成した溝内にマスク材料を充填した状態で多
層膜を成膜し、この多層膜をキャリヤに接着した後、基
板を溶解して多層膜のみをキャリヤに担持するようにし
た。このように、多層膜の成膜時に溝内にマスク材料を
充填することにより、多層膜が溝内で繋がることに起因
する基板の反りを防止できると共に、基板が溶解した後
の複数の基板レスの光学多層膜フィルタがチップ毎にキ
ャリヤに担持されるため、光学多層膜フィルタの取り扱
いを便利なものにすることができる。
板に予め形成した溝内にマスク材料を充填した状態で多
層膜を成膜し、この多層膜をキャリヤに接着した後、基
板を溶解して多層膜のみをキャリヤに担持するようにし
た。このように、多層膜の成膜時に溝内にマスク材料を
充填することにより、多層膜が溝内で繋がることに起因
する基板の反りを防止できると共に、基板が溶解した後
の複数の基板レスの光学多層膜フィルタがチップ毎にキ
ャリヤに担持されるため、光学多層膜フィルタの取り扱
いを便利なものにすることができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の光学多層膜フィルタの製
造方法では、溶解可能な基板上に複数の溝を形成する工
程と、前記溝内にマスク材料を充填する工程と、前記基
板上に多層膜を形成する工程と、前記多層膜をキャリヤ
に接着する接着工程と、前記基板のみを溶解する溶解工
程とを有している。
造方法では、溶解可能な基板上に複数の溝を形成する工
程と、前記溝内にマスク材料を充填する工程と、前記基
板上に多層膜を形成する工程と、前記多層膜をキャリヤ
に接着する接着工程と、前記基板のみを溶解する溶解工
程とを有している。
【０００７】前記キャリヤは前記基板を溶解する溶媒で
は溶解しない材料であれば何でも良いが、特定の溶媒に
よって溶解可能なフィルムが好ましい。
は溶解しない材料であれば何でも良いが、特定の溶媒に
よって溶解可能なフィルムが好ましい。
【０００８】また、前記接着工程と溶解工程との間に、
前記多層膜を前記溝に沿って切断する工程を有すると、
所定形状の光学多層膜フィルタをチップ毎にキャリヤに
担持させることができる。
前記多層膜を前記溝に沿って切断する工程を有すると、
所定形状の光学多層膜フィルタをチップ毎にキャリヤに
担持させることができる。
【０００９】
【実施例】実施例について図面を参照して説明すると、
図１は本発明の一実施例に係る光学多層膜フィルタの製
造工程を示す説明図、図２は図１の製造工程で用いられ
る溝とマスク材料を示す平面図である。
図１は本発明の一実施例に係る光学多層膜フィルタの製
造工程を示す説明図、図２は図１の製造工程で用いられ
る溝とマスク材料を示す平面図である。
【００１０】図１（ａ）に示す基板１は溶解可能な材
料、例えば、水を溶媒として溶解するＮａＣｌやＫＢｒ
等が用いられ、図１（ｂ）に示すように、この基板１の
表面には複数の溝１ａが形成される。この溝１ａは公知
のフォトリソグラフィやダイシングカッタ等により形成
することができ、図２（ａ）に示すように、本実施例の
場合、溝１ａはマトリクス状に形成されている。
料、例えば、水を溶媒として溶解するＮａＣｌやＫＢｒ
等が用いられ、図１（ｂ）に示すように、この基板１の
表面には複数の溝１ａが形成される。この溝１ａは公知
のフォトリソグラフィやダイシングカッタ等により形成
することができ、図２（ａ）に示すように、本実施例の
場合、溝１ａはマトリクス状に形成されている。
【００１１】次いで、図１（ｃ）に示すように、各溝１
ａ内にマスク材料としてのワイヤ３を嵌め込む。図２
（ｂ）に示すように、このワイヤ３は複数本を重ねたも
のからなり、溝１ａの形状に対応してマトリクス状に形
成されている。
ａ内にマスク材料としてのワイヤ３を嵌め込む。図２
（ｂ）に示すように、このワイヤ３は複数本を重ねたも
のからなり、溝１ａの形状に対応してマトリクス状に形
成されている。
【００１２】次いで、図１（ｄ）に示すように、基板１
上に高屈折率の光学物質と低屈折率の光学物質を交互に
堆積することにより、多層膜２を形成する。高屈折率の
光学物質としては例えばＴｉＯ2、低屈折率の光学物質
としては例えばＳｉＯ2が用いられ、これらはスパッタ
リングや蒸着あるいはイオンプレーティング等によって
成膜することができる。この場合、溝１ａ内にはワイヤ
３が嵌め込まれているので、溝１ａ内に成膜されない部
分が生じ、多層膜２はワイヤ３によって溝１ａ毎に分離
される。
上に高屈折率の光学物質と低屈折率の光学物質を交互に
堆積することにより、多層膜２を形成する。高屈折率の
光学物質としては例えばＴｉＯ2、低屈折率の光学物質
としては例えばＳｉＯ2が用いられ、これらはスパッタ
リングや蒸着あるいはイオンプレーティング等によって
成膜することができる。この場合、溝１ａ内にはワイヤ
３が嵌め込まれているので、溝１ａ内に成膜されない部
分が生じ、多層膜２はワイヤ３によって溝１ａ毎に分離
される。
【００１３】次いで、図１（ｅ）に示すように、ワイヤ
３を溝１ａから除去した後、図１（ｆ）に示すように、
多層膜２の上面をキャリヤ４に接着する。なお、図１
（ｆ）〜（ｈ）は基板１の上下が逆に示されている。こ
のキャリヤ４としては、基板１を溶融する溶媒（例えば
水）では溶融せず、且つ、特定の有機溶媒（例えばアセ
トン）で溶融する材料、例えば、エポキシ系フィルム等
が用いられる。
３を溝１ａから除去した後、図１（ｆ）に示すように、
多層膜２の上面をキャリヤ４に接着する。なお、図１
（ｆ）〜（ｈ）は基板１の上下が逆に示されている。こ
のキャリヤ４としては、基板１を溶融する溶媒（例えば
水）では溶融せず、且つ、特定の有機溶媒（例えばアセ
トン）で溶融する材料、例えば、エポキシ系フィルム等
が用いられる。
【００１４】次いで、図１（ｇ）に示すように、カッタ
５により基板１を各溝１ａに沿って切断し、溝１ａの内
壁にはみ出した多層膜２の部分（バリ）を切断する。そ
の際、キャリヤ４が切断しなければ、カッタ５の先端が
キャリヤ４の内部に多少入り込んでも問題はない。
５により基板１を各溝１ａに沿って切断し、溝１ａの内
壁にはみ出した多層膜２の部分（バリ）を切断する。そ
の際、キャリヤ４が切断しなければ、カッタ５の先端が
キャリヤ４の内部に多少入り込んでも問題はない。
【００１５】次いで、基板１を溶媒としての水に浸漬し
て溶解すると、図１（ｈ）に示すように、キャリヤ４上
に多数のフィルタチップ１０が基板レスの状態で残り、
この状態で製造工程が完了する。したがって、基板１の
溶媒からフィルタチップ１０を回収する作業者のみなら
ず、その後にフィルタ素子チップ１０の単体を合波フィ
ルタや分波フィルタとして用いるユーザにとっても、複
数のフィルタチップ１０がフィルム状のキャリヤ４上に
担持されているため、取り扱い性を向上することができ
る。
て溶解すると、図１（ｈ）に示すように、キャリヤ４上
に多数のフィルタチップ１０が基板レスの状態で残り、
この状態で製造工程が完了する。したがって、基板１の
溶媒からフィルタチップ１０を回収する作業者のみなら
ず、その後にフィルタ素子チップ１０の単体を合波フィ
ルタや分波フィルタとして用いるユーザにとっても、複
数のフィルタチップ１０がフィルム状のキャリヤ４上に
担持されているため、取り扱い性を向上することができ
る。
【００１６】図３はこのようなキャリヤ４付きのフィル
タチップ１０を一対の光ファイバ１１ａ，１１ｂ間に取
り付ける方法を示している。まず、図３（ａ）に示すよ
うに、キャリヤ４付きのフィルタチップ１０をチップ毎
にキャリヤ４と共に切断する。次いで、図３（ｂ）に示
すように、このフィルタチップ１０をキャリヤ４付きで
フェルール１２ａ，１２ｂによりそれぞれ支持された光
ファイバ１１ａ，１１ｂの各コアの端面の間に配置し、
しかる後、図３（ｃ）に示すように、フェルール１２
ａ，１２ｂを対向させて加圧すると共に、キャリヤ４を
有機溶媒１３としての例えばアセトン内に浸漬して溶解
させる。すると、図３（ｄ）に示すように、フィルタチ
ップ１０のみが光ファイバ１１ａ，１１ｂ間に取り付け
られる。ここで、キャリヤ４を溶解させる場合、超音波
等の振動を加えると効果的である。
タチップ１０を一対の光ファイバ１１ａ，１１ｂ間に取
り付ける方法を示している。まず、図３（ａ）に示すよ
うに、キャリヤ４付きのフィルタチップ１０をチップ毎
にキャリヤ４と共に切断する。次いで、図３（ｂ）に示
すように、このフィルタチップ１０をキャリヤ４付きで
フェルール１２ａ，１２ｂによりそれぞれ支持された光
ファイバ１１ａ，１１ｂの各コアの端面の間に配置し、
しかる後、図３（ｃ）に示すように、フェルール１２
ａ，１２ｂを対向させて加圧すると共に、キャリヤ４を
有機溶媒１３としての例えばアセトン内に浸漬して溶解
させる。すると、図３（ｄ）に示すように、フィルタチ
ップ１０のみが光ファイバ１１ａ，１１ｂ間に取り付け
られる。ここで、キャリヤ４を溶解させる場合、超音波
等の振動を加えると効果的である。
【００１７】なお、上記実施例では、マスク材料として
のワイヤ３を基板１の溝１ａ内に嵌め込む場合について
説明したが、ワイヤ３以外の他のマスク材料、例えば磁
性粉を溝１ａ内に充填し、この磁性粉を磁石の吸引力を
利用して溝１ａ内に固定した状態で多層膜２を成膜して
も良い。
のワイヤ３を基板１の溝１ａ内に嵌め込む場合について
説明したが、ワイヤ３以外の他のマスク材料、例えば磁
性粉を溝１ａ内に充填し、この磁性粉を磁石の吸引力を
利用して溝１ａ内に固定した状態で多層膜２を成膜して
も良い。
【００１８】
【発明の効果】本発明は以上説明したような形態で実施
され、以下に記載されるような効果を奏する。
され、以下に記載されるような効果を奏する。
【００１９】溶解可能な基板上に複数の溝を形成する工
程と、前記溝内にマスク材料を充填する工程と、前記基
板上に多層膜を形成する工程と、前記多層膜をキャリヤ
に接着する接着工程と、前記基板のみを溶解する溶解工
程とを有する光学多層膜フィルタの製造方法によれば、
多層膜が溝内で繋がることに起因する基板の反りを防止
できると共に、基板が溶解した後の複数の基板レスの光
学多層膜フィルタがチップ毎にキャリヤに担持されるた
め、光学多層膜フィルタの取り扱いを便利なものにする
ことができる。
程と、前記溝内にマスク材料を充填する工程と、前記基
板上に多層膜を形成する工程と、前記多層膜をキャリヤ
に接着する接着工程と、前記基板のみを溶解する溶解工
程とを有する光学多層膜フィルタの製造方法によれば、
多層膜が溝内で繋がることに起因する基板の反りを防止
できると共に、基板が溶解した後の複数の基板レスの光
学多層膜フィルタがチップ毎にキャリヤに担持されるた
め、光学多層膜フィルタの取り扱いを便利なものにする
ことができる。
【００２０】また、前記キャリヤとして特定の溶媒によ
って溶解可能なフィルムを用い、このフィルムが前記基
板を溶解する溶媒では溶解しないようにすると、光学多
層膜フィルタを光学系に取り付ける際、キャリヤのみを
特定の溶媒によって溶解させることができるため、取り
付け作業の向上を図ることができる。
って溶解可能なフィルムを用い、このフィルムが前記基
板を溶解する溶媒では溶解しないようにすると、光学多
層膜フィルタを光学系に取り付ける際、キャリヤのみを
特定の溶媒によって溶解させることができるため、取り
付け作業の向上を図ることができる。
【００２１】また、前記接着工程と溶解工程との間に、
前記多層膜を前記溝に沿って切断する工程を付加する
と、所定形状の光学多層膜フィルタをチップ毎にキャリ
ヤに担持させることができる。
前記多層膜を前記溝に沿って切断する工程を付加する
と、所定形状の光学多層膜フィルタをチップ毎にキャリ
ヤに担持させることができる。
【図１】本発明の一実施例に係る光学多層膜フィルタの
製造工程を示す説明図である。
製造工程を示す説明図である。
【図２】図１の製造工程に用いられる溝とマスク材料を
示す平面図である。
示す平面図である。
【図３】図１の光学多層膜フィルタを光ファイバ間に取
り付ける方法を示す説明図である。
り付ける方法を示す説明図である。
【図４】従来の光学多層膜フィルタの製造工程を示す説
明図である。
明図である。
１ 基板
１ａ 溝
２ 多層膜
３ ワイヤ（マスク材料）
４ キャリヤ
１０ フィルタチップ
１１ａ，１１ｂ 光ファイバ
１２ａ，１２ｂ フェルール
１３ 有機溶媒
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平３−274506（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−7505（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−60401（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−262102（ＪＰ，Ａ)
特開 昭55−115004（ＪＰ，Ａ)
実開 昭61−2450（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 5/28
G02B 1/11
C23C 14/00 - 14/02
Claims (3)
- 【請求項１】 溶解可能な基板上に複数の溝を形成する
工程と、前記溝内にマスク材料を充填する工程と、前記
基板上に多層膜を形成する工程と、前記多層膜をキャリ
ヤに接着する接着工程と、前記基板のみを溶解する溶解
工程とを有する光学多層膜フィルタの製造方法。 - 【請求項２】 前記キャリヤは溶解可能なフィルムであ
り、このフィルムは前記基板を溶解する溶媒では溶解し
ない材料であることを特徴とする請求項１記載の光学多
層膜フィルタの製造方法。 - 【請求項３】 前記接着工程と溶解工程との間に、前記
多層膜を前記溝に沿って切断する工程を有することを特
徴とする請求項１または２に記載の光学多層膜フィルタ
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09249496A JP3423147B2 (ja) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 光学多層膜フィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09249496A JP3423147B2 (ja) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 光学多層膜フィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09277396A JPH09277396A (ja) | 1997-10-28 |
| JP3423147B2 true JP3423147B2 (ja) | 2003-07-07 |
Family
ID=14055861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09249496A Expired - Fee Related JP3423147B2 (ja) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 光学多層膜フィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3423147B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005001526A1 (ja) | 2003-06-26 | 2005-01-06 | Nikon Corporation | 多層膜光学素子の製造方法 |
| FR2925767B1 (fr) * | 2007-12-20 | 2010-05-28 | Centre Nat Rech Scient | Procede de fabrication d'une pile a combustible en couches minces a oxyde solide dite sofc. |
| JP5634836B2 (ja) * | 2010-11-22 | 2014-12-03 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光センサの製造方法 |
| JP5707107B2 (ja) | 2010-11-22 | 2015-04-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 分光センサ |
-
1996
- 1996-04-15 JP JP09249496A patent/JP3423147B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09277396A (ja) | 1997-10-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3774598B2 (ja) | ポリマ導波路基板の製造方法およびポリマ導波路基板 | |
| CA2587431C (fr) | Procede de fabrication collective de microstructures a elements superposes | |
| JPH04318503A (ja) | 光ファイバの加工方法 | |
| JP4764373B2 (ja) | 光導波回路およびその作製方法 | |
| US5100219A (en) | Optical fiber multiplexing/demultiplexing device for multiple-fiber ribbon of optical fibers and their fabrication method | |
| JP3423147B2 (ja) | 光学多層膜フィルタの製造方法 | |
| JP3031385B2 (ja) | フレキシブル光導波路基板及びその製造方法 | |
| US7269322B2 (en) | Optical filter, manufacturing method thereof, and planar lightwave circuit using the same | |
| JP3423146B2 (ja) | 光学多層膜フィルタの製造方法 | |
| JP3379862B2 (ja) | 光伝達部材における反射防止膜の形成方法 | |
| US7224870B2 (en) | Method of coupling fiber to waveguide | |
| JPH08297214A (ja) | 光フィルタおよびその製造方法 | |
| FR2552236A1 (fr) | Procede de fabrication simultanee de plusieurs coupleurs de meme type pour fibres optiques | |
| JP4215764B2 (ja) | 光導波路及び光導波路の製造方法 | |
| EP0124485A2 (fr) | Procédé pour abraser longitudinalement des fibres optiques et produits obtenus par ce procédé | |
| JPH0212110A (ja) | 光集積回路製造法 | |
| JP3852349B2 (ja) | マイクロレンズアレイ結合系及びマイクロレンズアレイとその製法 | |
| JP3354337B2 (ja) | 光モジュール及びその製造方法 | |
| EP1426794A1 (en) | Thin film filter on end-face of a fiber segment, method of production and integrated optical device | |
| JPS63249114A (ja) | 光回路素子およびその製造方法 | |
| CA2155280A1 (en) | Monolithic laser-mirror substrate | |
| JPH0312608A (ja) | 誘電体多層膜付き光ファイバおよびその製造方法 | |
| JP2002189153A (ja) | 光ファイバテープ心線およびその分割方法 | |
| JP2004077872A (ja) | 光合分波フィルタ素子の製造方法 | |
| JP2003084164A (ja) | 光ファイバアレイおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030408 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080425 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090425 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090425 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100425 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100425 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110425 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120425 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |