JP3411885B2 - プラズマ分解処理装置及び排ガス処理システム - Google Patents
プラズマ分解処理装置及び排ガス処理システムInfo
- Publication number
- JP3411885B2 JP3411885B2 JP2000119270A JP2000119270A JP3411885B2 JP 3411885 B2 JP3411885 B2 JP 3411885B2 JP 2000119270 A JP2000119270 A JP 2000119270A JP 2000119270 A JP2000119270 A JP 2000119270A JP 3411885 B2 JP3411885 B2 JP 3411885B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- plasma decomposition
- plasma
- processing apparatus
- dioxins
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電界集中がなく、
反応容器をコンパクト化するプラズマ分解処理装置に関
する。
反応容器をコンパクト化するプラズマ分解処理装置に関
する。
【０００２】
【背景技術】従来より、プラズマを用いた排ガス処理技
術は超短パルス高電圧化により、省エネ化，高分解率化
が進み、実用化に近いレベルまで到達されている。この
プラズマを用いた排気ガス中のＮＯX （窒素酸化物）の
分解において、プラズマ分解と該プラズマ中の紫外線
（ＵＶ光）を利用することが提案されている（特開平６
−１５１４３号公報）。
術は超短パルス高電圧化により、省エネ化，高分解率化
が進み、実用化に近いレベルまで到達されている。この
プラズマを用いた排気ガス中のＮＯX （窒素酸化物）の
分解において、プラズマ分解と該プラズマ中の紫外線
（ＵＶ光）を利用することが提案されている（特開平６
−１５１４３号公報）。
【０００３】従来のプラズマ分解処理装置を図１６に示
す。図１６に示すように、従来のプラズマ分解処理装置
は、線電極０１と、その線電極０１の周囲に配置した円
筒電極０２と、上記線電極０１と円筒状電極０２との間
に電位差を付与する高電圧電源（超短パルス）０３とか
ら構成されてなり、排ガス０４をプラズマ分解処理して
いる。
す。図１６に示すように、従来のプラズマ分解処理装置
は、線電極０１と、その線電極０１の周囲に配置した円
筒電極０２と、上記線電極０１と円筒状電極０２との間
に電位差を付与する高電圧電源（超短パルス）０３とか
ら構成されてなり、排ガス０４をプラズマ分解処理して
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記提
案のプラズマ分解処理装置では、効率的なプラズマ分解
がなされるものの、長時間に亙って例えば焼却炉から排
出される排ガス０４等を分解すると、円筒状電極０２の
内表面に灰等が付着し、その箇所の絶縁が低下（電界集
中）する。この結果、アーク放電が発生し、該アーク放
電が発生すると、排ガスへのエネルギー注入効率が大幅
に下がり、アーク放電による局所的高熱（約７０００℃
以上）により、電極損傷や電極破損等を招くという問題
がある。
案のプラズマ分解処理装置では、効率的なプラズマ分解
がなされるものの、長時間に亙って例えば焼却炉から排
出される排ガス０４等を分解すると、円筒状電極０２の
内表面に灰等が付着し、その箇所の絶縁が低下（電界集
中）する。この結果、アーク放電が発生し、該アーク放
電が発生すると、排ガスへのエネルギー注入効率が大幅
に下がり、アーク放電による局所的高熱（約７０００℃
以上）により、電極損傷や電極破損等を招くという問題
がある。
【０００５】また、プラズマは線電極に沿って均一に生
成されるため、反応容器の軸方向に同一のエネルギー付
加であり、効率を挙げるためには、容器の長さを長くし
なければならない、という問題がある。さらに、薄いプ
ラズマを長時間に亙って与えることが理想的であるが、
この場合には、反応容器の長さが非常に長くなり、コス
ト的に問題になる。よって反応効率の向上や、容器のコ
ンパクト化を図ったプラズマ分解処理装置の出現が望ま
れている。
成されるため、反応容器の軸方向に同一のエネルギー付
加であり、効率を挙げるためには、容器の長さを長くし
なければならない、という問題がある。さらに、薄いプ
ラズマを長時間に亙って与えることが理想的であるが、
この場合には、反応容器の長さが非常に長くなり、コス
ト的に問題になる。よって反応効率の向上や、容器のコ
ンパクト化を図ったプラズマ分解処理装置の出現が望ま
れている。
【０００６】本発明は上記問題に鑑み、電界集中がな
く、反応容器をコンパクト化するプラズマ分解処理装置
を提供することを課題とする。
く、反応容器をコンパクト化するプラズマ分解処理装置
を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する［請
求項１］の発明は、線電極と、その周囲に配置した円筒
状電極と、上記線電極と円筒状電極との間に電位差を付
与する電位差付与手段とから構成されるプラズマ分解処
理装置であって、上記円筒電極の内側に軸方向に亙って
配される誘電体内筒と、該誘電体内筒と上記円筒電極と
の間に軸方向に亙って所定間隔をもって複数個配される
強誘電体リングとを設けてなることを特徴とする。
求項１］の発明は、線電極と、その周囲に配置した円筒
状電極と、上記線電極と円筒状電極との間に電位差を付
与する電位差付与手段とから構成されるプラズマ分解処
理装置であって、上記円筒電極の内側に軸方向に亙って
配される誘電体内筒と、該誘電体内筒と上記円筒電極と
の間に軸方向に亙って所定間隔をもって複数個配される
強誘電体リングとを設けてなることを特徴とする。
【０００８】［請求項２］の発明は、請求項１におい
て、上記強誘電体リングがガス流れ後流側に亙って漸次
間隔を広くすることを特徴とする。
て、上記強誘電体リングがガス流れ後流側に亙って漸次
間隔を広くすることを特徴とする。
【０００９】［請求項３］の発明は、請求項１におい
て、上記強誘電体リングが密状態で配されてなることを
特徴とする。
て、上記強誘電体リングが密状態で配されてなることを
特徴とする。
【００１０】［請求項４］の発明は、請求項１におい
て、上記強誘電体リングがガス流れ前流側において密状
態で配され、ガス流れ後流側において疎状態で配されて
なることを特徴とする。
て、上記強誘電体リングがガス流れ前流側において密状
態で配され、ガス流れ後流側において疎状態で配されて
なることを特徴とする。
【００１１】［請求項５］の発明は、請求項１乃至４の
いずれか一項において、上記強誘電体リングの比誘電率
が１００以上であることを特徴とする。
いずれか一項において、上記強誘電体リングの比誘電率
が１００以上であることを特徴とする。
【００１２】［請求項６］の発明は、請求項１乃至４の
いずれか一項において、上記内筒の誘電体円筒の比誘電
率が２〜１０以上であることを特徴とする。
いずれか一項において、上記内筒の誘電体円筒の比誘電
率が２〜１０以上であることを特徴とする。
【００１３】［請求項７］の発明は、請求項１乃至４の
いずれか一項において、上記強誘電体リングがチタン酸
バリウムであることを特徴とする。
いずれか一項において、上記強誘電体リングがチタン酸
バリウムであることを特徴とする。
【００１４】［請求項８］の発明は、請求項１乃至４の
いずれか一項において、上記内筒の誘電体内筒がアルミ
ナであることを特徴とする。
いずれか一項において、上記内筒の誘電体内筒がアルミ
ナであることを特徴とする。
【００１５】［請求項９］の発明は、焼却炉，熱分解
炉，溶融炉等から排出される排ガスを浄化する排ガス処
理システムであって、冷却後の排ガス中の有害物質をプ
ラズマ分解する請求項１乃至８のいずれか一項のプラズ
マ分解処理装置を設けてなると共に、該プラズマ分解処
理装置の前後のいずれかに排ガス中の煤塵を除塵する除
塵装置を設けてなることを特徴とする。
炉，溶融炉等から排出される排ガスを浄化する排ガス処
理システムであって、冷却後の排ガス中の有害物質をプ
ラズマ分解する請求項１乃至８のいずれか一項のプラズ
マ分解処理装置を設けてなると共に、該プラズマ分解処
理装置の前後のいずれかに排ガス中の煤塵を除塵する除
塵装置を設けてなることを特徴とする。
【００１６】［請求項１０］の発明は、請求項９におい
て、上記排ガス中の有害物質がダイオキシン類，ポリハ
ロゲン化ビフェニル類，ハロゲン化ベンゼン類，ハロゲ
ン化フェノール類及びハロゲン化トルエン類から選ばれ
る少なくとも一種のハロゲン化芳香族化合物並びに高縮
合度芳香族炭化水素，環境ホルモンのいずれかであるこ
とを特徴とする。
て、上記排ガス中の有害物質がダイオキシン類，ポリハ
ロゲン化ビフェニル類，ハロゲン化ベンゼン類，ハロゲ
ン化フェノール類及びハロゲン化トルエン類から選ばれ
る少なくとも一種のハロゲン化芳香族化合物並びに高縮
合度芳香族炭化水素，環境ホルモンのいずれかであるこ
とを特徴とする。
【００１７】［請求項１１］の発明は、請求項１０にお
いて、上記ダイオキシン類が、ポリ塩化ジベンゾ−ｐ−
ダイオキシン類（ＰＣＤＤｓ）、ポリ塩化ジベンゾフラ
ン類（ＰＣＤＦｓ）、ポリ臭化ジベンゾ−ｐ−ダイオキ
シン類（ＰＢＤＤｓ）、ポリ臭化ジベンゾフラン類（Ｐ
ＢＤＦｓ）、ポリ弗化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類
（ＰＦＤＤｓ）、ポリ弗化ジベンゾフラン類（ＰＦＤＦ
ｓ）、ポリ沃素化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類（ＰＩ
ＤＤｓ）、ポリ沃素化ジベンゾフラン類（ＰＩＤＦｓ）
のいずれかであることを特徴とする。
いて、上記ダイオキシン類が、ポリ塩化ジベンゾ−ｐ−
ダイオキシン類（ＰＣＤＤｓ）、ポリ塩化ジベンゾフラ
ン類（ＰＣＤＦｓ）、ポリ臭化ジベンゾ−ｐ−ダイオキ
シン類（ＰＢＤＤｓ）、ポリ臭化ジベンゾフラン類（Ｐ
ＢＤＦｓ）、ポリ弗化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類
（ＰＦＤＤｓ）、ポリ弗化ジベンゾフラン類（ＰＦＤＦ
ｓ）、ポリ沃素化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類（ＰＩ
ＤＤｓ）、ポリ沃素化ジベンゾフラン類（ＰＩＤＦｓ）
のいずれかであることを特徴とする。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１９】［第１の実施の形態］図１は本発明の第１
の実施の形態にかかるプラズマ分解処理装置の概略図で
あり、図２はその軸方向断面図である。図１に示すよう
に、本実施の形態にかかるプラズマ分解処理装置１０
は、線電極１１と、該線電極１１の周囲に配置した円筒
電極１２と、上記線電極１１と円筒状電極１２との間に
電位差を付与する電位差付与手段（超短パルス）１３と
から構成されるプラズマ分解処理装置であって、上記円
筒電極１２の内側に軸方向に亙って配される誘電体内筒
２１と、該誘電体内筒２１と上記円筒電極１２との間に
軸方向に亙って配される複数の強誘電体リング２２とを
設けてなるものであり、導入する排ガス等の処理ガス２
３をプラズマ分解処理してなるものである。
の実施の形態にかかるプラズマ分解処理装置の概略図で
あり、図２はその軸方向断面図である。図１に示すよう
に、本実施の形態にかかるプラズマ分解処理装置１０
は、線電極１１と、該線電極１１の周囲に配置した円筒
電極１２と、上記線電極１１と円筒状電極１２との間に
電位差を付与する電位差付与手段（超短パルス）１３と
から構成されるプラズマ分解処理装置であって、上記円
筒電極１２の内側に軸方向に亙って配される誘電体内筒
２１と、該誘電体内筒２１と上記円筒電極１２との間に
軸方向に亙って配される複数の強誘電体リング２２とを
設けてなるものであり、導入する排ガス等の処理ガス２
３をプラズマ分解処理してなるものである。
【００２０】ここで、上記強誘電体リング２２は絶縁体
であり、その比誘電率を１００以上としており、好まし
くは１０００〜２０００と大きいものがよい。これは、
図２のＡ部分拡大を示す図３に示すように、この静電容
量が大きいところに正の電荷が多くたまり、電流が沢山
流れることになる。
であり、その比誘電率を１００以上としており、好まし
くは１０００〜２０００と大きいものがよい。これは、
図２のＡ部分拡大を示す図３に示すように、この静電容
量が大きいところに正の電荷が多くたまり、電流が沢山
流れることになる。
【００２１】図３では強誘電体リング２２が配置されて
いるところが、それがない場所と較べて、分極が大き
く、プラズマ密度が大きいことを示している。このよう
に、強誘電体リング２２の配設位置を変えることで、プ
ラズマの発生場所を任意にコントロールすることができ
る。
いるところが、それがない場所と較べて、分極が大き
く、プラズマ密度が大きいことを示している。このよう
に、強誘電体リング２２の配設位置を変えることで、プ
ラズマの発生場所を任意にコントロールすることができ
る。
【００２２】上記リング状の強誘電体はチタン酸バリウ
ム（ＢａＴｉＯ3 ）であることが好ましく、該チタン酸
バリウム以外のものとしては、例えばＰｂＴｉＯ3 、Ｌ
ｉＮｂＯ3 、ＬｉＴｉＯ3 、ＳｂＳｉ等の高い比誘電率
を有するものを用いることが好ましい。
ム（ＢａＴｉＯ3 ）であることが好ましく、該チタン酸
バリウム以外のものとしては、例えばＰｂＴｉＯ3 、Ｌ
ｉＮｂＯ3 、ＬｉＴｉＯ3 、ＳｂＳｉ等の高い比誘電率
を有するものを用いることが好ましい。
【００２３】また、上記内筒の誘電体の比誘電率は２〜
１０以上であることが好ましい。なお、強誘電体リング
２２と同様に比誘電率を１０００〜２０００とするよう
にしてもよい。
１０以上であることが好ましい。なお、強誘電体リング
２２と同様に比誘電率を１０００〜２０００とするよう
にしてもよい。
【００２４】上記内筒の誘電体は例えばアルミナ等の短
絡アーク放電を防止するような材料であれば特に限定さ
れるものではない。
絡アーク放電を防止するような材料であれば特に限定さ
れるものではない。
【００２５】本実施の形態では、上記強誘電体リング２
２の配置は処理ガス２３のガス流れ後流側に亙って漸次
間隔を広くするように配されている。これにより、後述
する実施例に示すように、選択的にガス中に電圧をかけ
ることができ、軸方向の長さ（Ｌ）を従来よりも短くす
ることができ、容器のコンパクト化を図ることができ
る。
２の配置は処理ガス２３のガス流れ後流側に亙って漸次
間隔を広くするように配されている。これにより、後述
する実施例に示すように、選択的にガス中に電圧をかけ
ることができ、軸方向の長さ（Ｌ）を従来よりも短くす
ることができ、容器のコンパクト化を図ることができ
る。
【００２６】例えば円筒電極の直径が約２００ｍｍφで
ある場合には、軸方向長さ（Ｌ）を従来では、５ｍであ
ったものを2.５〜３ｍと短くすることができる。
ある場合には、軸方向長さ（Ｌ）を従来では、５ｍであ
ったものを2.５〜３ｍと短くすることができる。
【００２７】なお、円筒電極の直径が大きくなるような
場合には、相対的に軸方向長さも長くなるが、その割合
は相対的なものであり、大型化すればするほど本発明の
効果は増大する。
場合には、相対的に軸方向長さも長くなるが、その割合
は相対的なものであり、大型化すればするほど本発明の
効果は増大する。
【００２８】本実施の形態のように誘電体内筒２１を挿
入すると共に、該誘電体内筒２１と円筒電極１２との間
に強誘電体リング２２を複数個配設することにより、円
筒電極１２内面に灰付着が防止されると共に、装置をコ
ンパクト化することができる。図４に示すように、誘電
体内筒２１に灰２３が付着した場合であっても、電界集
中があった場合であっても、図５に示す従来のように、
灰０５と線電極０２との間でアーク放電が発生せず、線
電極０１が損傷するということが回避される。
入すると共に、該誘電体内筒２１と円筒電極１２との間
に強誘電体リング２２を複数個配設することにより、円
筒電極１２内面に灰付着が防止されると共に、装置をコ
ンパクト化することができる。図４に示すように、誘電
体内筒２１に灰２３が付着した場合であっても、電界集
中があった場合であっても、図５に示す従来のように、
灰０５と線電極０２との間でアーク放電が発生せず、線
電極０１が損傷するということが回避される。
【００２９】すなわち、従来では、灰の先端が尖ってい
るときに、電界の集中が起こり、アーク放電０６が起き
やすくなり、線電極０１が目減りし、最悪の場合には切
断するという問題が発生したが、本発明では、短絡電流
が流れないので、アーク放電が回避されるからである。
るときに、電界の集中が起こり、アーク放電０６が起き
やすくなり、線電極０１が目減りし、最悪の場合には切
断するという問題が発生したが、本発明では、短絡電流
が流れないので、アーク放電が回避されるからである。
【００３０】［第２の実施の形態］
図６は本発明の第２の実施の形態にかかるプラズマ分解
処理装置の概略図であり、図７はその軸方向断面図であ
る。図６及び図７に示すように、本実施の形態にかかる
プラズマ分解処理装置１０Ｂは、線電極１１と、該線電
極１１の周囲に配置した円筒電極１２と、上記線電極１
１と円筒状電極１２との間に電位差を付与する電位差付
与手段１３とから構成されるプラズマ分解処理装置であ
って、上記円筒電極１２の内側に軸方向に亙って配され
る誘電体内筒２１と、該誘電体内筒２１と上記円筒電極
１２との間に軸方向に亙って配される複数の強誘電体リ
ング２２とを設けてなるものであり、軸方向にリングの
配設する部分を大きく４分割し、ガス流れ上流側の第１
〜第３番目の分割部分までは強誘電体リング２２を密状
態（例えば１分割につき、５個の強誘電体リング２２を
配する）に配設し、第４番目の分割部分は疎状態（１分
割につき、１個の強誘電体リング２２のみを配する）に
配設するようにしており、処理ガス（燃焼排ガス等）２
３をプラズマ分解処理している。これにより、第１の実
施の形態よりも軸方向の長さを短くすることができ、従
来よりも約１／２程度に短くすることができる。
処理装置の概略図であり、図７はその軸方向断面図であ
る。図６及び図７に示すように、本実施の形態にかかる
プラズマ分解処理装置１０Ｂは、線電極１１と、該線電
極１１の周囲に配置した円筒電極１２と、上記線電極１
１と円筒状電極１２との間に電位差を付与する電位差付
与手段１３とから構成されるプラズマ分解処理装置であ
って、上記円筒電極１２の内側に軸方向に亙って配され
る誘電体内筒２１と、該誘電体内筒２１と上記円筒電極
１２との間に軸方向に亙って配される複数の強誘電体リ
ング２２とを設けてなるものであり、軸方向にリングの
配設する部分を大きく４分割し、ガス流れ上流側の第１
〜第３番目の分割部分までは強誘電体リング２２を密状
態（例えば１分割につき、５個の強誘電体リング２２を
配する）に配設し、第４番目の分割部分は疎状態（１分
割につき、１個の強誘電体リング２２のみを配する）に
配設するようにしており、処理ガス（燃焼排ガス等）２
３をプラズマ分解処理している。これにより、第１の実
施の形態よりも軸方向の長さを短くすることができ、従
来よりも約１／２程度に短くすることができる。
【００３１】なお、第４の分割部分も上記強誘電体リン
グ２２を密状態で配するようにしてもよく、場合によっ
ては、第３の分割部分までの短いものでも、効率的な分
解をすることができる。
グ２２を密状態で配するようにしてもよく、場合によっ
ては、第３の分割部分までの短いものでも、効率的な分
解をすることができる。
【００３２】次に、第１の実施の形態と第２の実施の形
態の装置を用いた場合の窒素酸化物の分解状況を図８及
び図９に示す。なお、図１０は従来の装置の場合を示
す。図８は第１の実施の形態の装置を用いた場合であ
り、図９は第２の実施の形態の装置を用いた場合であ
る。なお、この濃度依存性は、１００ｐｐｍの窒素酸化
物（ＮＯ）の８０％分解時の場合である。これらの図面
は反応容器内部のある場所のプラズマエネルギーを規定
した際、その場所を通過したときの窒素酸化物（ＮＯ
ｘ）濃度変化を示すものである。これが繰り返されて反
応容器出口濃度が決定される。このとき、プラズマエネ
ルギーによって分解される量が異なってくることを利用
することで反応容器長さやプラズマエネルギー付加パタ
ーンを制御することができる。ここで、本例では窒素酸
化物の濃度は１００ｐｐｍとし、２０％になるまで分解
したときのプラズマ分解エネルギーの密度である。
態の装置を用いた場合の窒素酸化物の分解状況を図８及
び図９に示す。なお、図１０は従来の装置の場合を示
す。図８は第１の実施の形態の装置を用いた場合であ
り、図９は第２の実施の形態の装置を用いた場合であ
る。なお、この濃度依存性は、１００ｐｐｍの窒素酸化
物（ＮＯ）の８０％分解時の場合である。これらの図面
は反応容器内部のある場所のプラズマエネルギーを規定
した際、その場所を通過したときの窒素酸化物（ＮＯ
ｘ）濃度変化を示すものである。これが繰り返されて反
応容器出口濃度が決定される。このとき、プラズマエネ
ルギーによって分解される量が異なってくることを利用
することで反応容器長さやプラズマエネルギー付加パタ
ーンを制御することができる。ここで、本例では窒素酸
化物の濃度は１００ｐｐｍとし、２０％になるまで分解
したときのプラズマ分解エネルギーの密度である。
【００３３】図１０の従来の装置においては、プラズマ
密度が小さく、反応容器が長いものとなるが、図８及び
図９に示すように、本発明のように、疎密化することに
より、プラズマ密度が単位あたり大きくなり、消費電力
が小さくなることがわかる。これにより、プラズマ密度
をコントロールして反応容器長さを短くすることがで
き、装置の低コスト化を図ることができ、また、１０％
程度の省エネルギー効果も同時に得られることができ
る。
密度が小さく、反応容器が長いものとなるが、図８及び
図９に示すように、本発明のように、疎密化することに
より、プラズマ密度が単位あたり大きくなり、消費電力
が小さくなることがわかる。これにより、プラズマ密度
をコントロールして反応容器長さを短くすることがで
き、装置の低コスト化を図ることができ、また、１０％
程度の省エネルギー効果も同時に得られることができ
る。
【００３４】［第３の実施の形態］
図１１は本発明の第３の実施の形態にかかるプラズマ分
解による排ガス処理システムである。なお、以下の実施
の形態においては、排ガスを排出する代表的な例として
焼却炉を例にとり説明するが、本発明はこれに限定され
るものではない。図１１に示すように、焼却炉１０１か
ら排出される排ガス１０２を浄化する排ガス処理システ
ムであって、冷却手段１０３による冷却後の排ガス１０
２中の有害物質をプラズマ分解するプラズマ分解処理装
置１０４と、該プラズマ分解処理後の排ガス中の煤塵を
除塵する除塵装置１０５と、除塵処理後の清浄化された
クリーンガス１０６を外部へ排出する煙突１０７とから
なるものである。
解による排ガス処理システムである。なお、以下の実施
の形態においては、排ガスを排出する代表的な例として
焼却炉を例にとり説明するが、本発明はこれに限定され
るものではない。図１１に示すように、焼却炉１０１か
ら排出される排ガス１０２を浄化する排ガス処理システ
ムであって、冷却手段１０３による冷却後の排ガス１０
２中の有害物質をプラズマ分解するプラズマ分解処理装
置１０４と、該プラズマ分解処理後の排ガス中の煤塵を
除塵する除塵装置１０５と、除塵処理後の清浄化された
クリーンガス１０６を外部へ排出する煙突１０７とから
なるものである。
【００３５】本発明のプラズマ分解処理装置１０４の概
略を図１２に示す。図１２に示すように、本実施の形態
にかかるプラズマ分解処理装置１０４は、容器本体１１
０内に第１の実施の形態にかかる反応容器１０Ａを複数
個配設してなるり、円筒電極１２を負極（−）とし、線
電極１１を正極（＋）とすると共に、両電極１１，１２
間にパルス電圧を印加するパルス電源１１１を設けてな
り、上記パルス印加により発生するプラズマ放電により
導入される排ガス１０２中の有害物質をプラズマである
ストリーマ放電により分解して排ガス中のダイオキシン
類等の有害物質を分解するものである。図１２に示した
ものは円筒電極を横に配置しているが、本発明はこれに
限定されるものではなく、例えば縦に配置するようにし
てもよい。なお、図１２中、符号１１２は冷却塔からの
排ガス１０２を導入する排気ダクトであり、１１３は煤
塵処理を行う除塵装置へ排ガスを導く排気ダクトであ
る。
略を図１２に示す。図１２に示すように、本実施の形態
にかかるプラズマ分解処理装置１０４は、容器本体１１
０内に第１の実施の形態にかかる反応容器１０Ａを複数
個配設してなるり、円筒電極１２を負極（−）とし、線
電極１１を正極（＋）とすると共に、両電極１１，１２
間にパルス電圧を印加するパルス電源１１１を設けてな
り、上記パルス印加により発生するプラズマ放電により
導入される排ガス１０２中の有害物質をプラズマである
ストリーマ放電により分解して排ガス中のダイオキシン
類等の有害物質を分解するものである。図１２に示した
ものは円筒電極を横に配置しているが、本発明はこれに
限定されるものではなく、例えば縦に配置するようにし
てもよい。なお、図１２中、符号１１２は冷却塔からの
排ガス１０２を導入する排気ダクトであり、１１３は煤
塵処理を行う除塵装置へ排ガスを導く排気ダクトであ
る。
【００３６】本発明によれば、図１３及び図１４に示す
ように、少ない消費電力でダイオキシン類を９０％以上
分解できるので、排ガス中のガス状のダイオキシン類
や、灰に付着又は内包されているダイオキシン類を効率
よく分解できる。また、排ガス中にアンモニア等の塩基
性物質を噴霧することで同時に脱硝・脱硫することも可
能である。しかも、ダスト・フューム等の存在下でもプ
ラズマ生成が可能であるので、効率よくダイオキシン類
等の有害物質を分解処理することが可能となる。
ように、少ない消費電力でダイオキシン類を９０％以上
分解できるので、排ガス中のガス状のダイオキシン類
や、灰に付着又は内包されているダイオキシン類を効率
よく分解できる。また、排ガス中にアンモニア等の塩基
性物質を噴霧することで同時に脱硝・脱硫することも可
能である。しかも、ダスト・フューム等の存在下でもプ
ラズマ生成が可能であるので、効率よくダイオキシン類
等の有害物質を分解処理することが可能となる。
【００３７】本発明では、ガス冷却後の排ガスを中の有
害物質をプラズマ分解処理するので、排ガス中の有害物
質が低減された状態で除塵装置１０５へ送られることに
なるので、除塵装置に付着した煤塵は有害物質が極めて
少ない状態となり、そのまま溶融処理又は固化処理等の
通常の処分をすることが可能となる。また、煤塵を処理
する場合においてもダイオキシン類が多く含有している
場合と異なり、灰処理経費の節減となる。プラズマ処理
は灰中のミスト等が存在していても分解処理することが
できる。
害物質をプラズマ分解処理するので、排ガス中の有害物
質が低減された状態で除塵装置１０５へ送られることに
なるので、除塵装置に付着した煤塵は有害物質が極めて
少ない状態となり、そのまま溶融処理又は固化処理等の
通常の処分をすることが可能となる。また、煤塵を処理
する場合においてもダイオキシン類が多く含有している
場合と異なり、灰処理経費の節減となる。プラズマ処理
は灰中のミスト等が存在していても分解処理することが
できる。
【００３８】ここで、本発明で分解処理する排ガス中の
有害物質とは、例えば窒素酸化物の他、ダイオキシン類
やＰＸＢ（Ｘはハロゲンを表す。）類に代表される有害
なハロゲン化芳香族化合物、高縮合度芳香族炭化水素等
の有害物質をいうが、本発明の酸化触媒作用により分解
できる排ガス中の有害物質（又は環境ホルモン）であれ
ばこれらに限定されるものではない。本発明で分解処理
する排ガスや飛灰中に含まれる芳香族ハロゲン系化合物
としては、ダイオキシン類やＰＣＢ類に代表される有害
な物質（例えば環境ホルモン）であればこれらに限定さ
れるものではない。ここで、上記ダイオキシン類とは、
ポリハロゲン化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類（ＰＸＤ
Ｄｓ）及びポリハロゲン化ジベンゾフラン類（ＰＸＤＦ
ｓ）の総称であり（Ｘはハロゲンを示す）、ハロゲン系
化合物とある種の有機ハロゲン化合物の燃焼時に微量発
生するといわれる。すなわち、ダイオキシン類とは塩素
化ダイオキシン類のみならず、臭素化ダイオキシン類等
のハロゲン化ダイオキシン類を表す。また、ＰＸＢ類
（ポリハロゲン化ビフェニル類）はビフェニルにハロゲ
ン原子が数個付加した化合物の総称であり、ハロゲンの
置換数、置換位置により異性体があるが、ＰＣＢ（ポリ
塩化ビフェニル）の場合では、２，６−ジクロロビフェ
ニル、２，2'−ジクロロビフェニル、２，３，５−トリ
クロロビフェニル等が代表的なものであり、毒性が強
く、焼却した場合にはダイオキシン類が発生するおそれ
があるものとして知られており、排ガス中、飛灰中等か
ら除去する必要がある。なお、ＰＸＢ類には当然コプラ
ナーＰＸＢも含まれるのはいうまでもない。また、高縮
合度芳香族炭化水素は多核芳香族化合物の総称であり、
単数又は複数のＯＨ基を含んでもよく、発癌性物質とし
て認められており、排ガス中から除去する必要がある。
有害物質とは、例えば窒素酸化物の他、ダイオキシン類
やＰＸＢ（Ｘはハロゲンを表す。）類に代表される有害
なハロゲン化芳香族化合物、高縮合度芳香族炭化水素等
の有害物質をいうが、本発明の酸化触媒作用により分解
できる排ガス中の有害物質（又は環境ホルモン）であれ
ばこれらに限定されるものではない。本発明で分解処理
する排ガスや飛灰中に含まれる芳香族ハロゲン系化合物
としては、ダイオキシン類やＰＣＢ類に代表される有害
な物質（例えば環境ホルモン）であればこれらに限定さ
れるものではない。ここで、上記ダイオキシン類とは、
ポリハロゲン化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類（ＰＸＤ
Ｄｓ）及びポリハロゲン化ジベンゾフラン類（ＰＸＤＦ
ｓ）の総称であり（Ｘはハロゲンを示す）、ハロゲン系
化合物とある種の有機ハロゲン化合物の燃焼時に微量発
生するといわれる。すなわち、ダイオキシン類とは塩素
化ダイオキシン類のみならず、臭素化ダイオキシン類等
のハロゲン化ダイオキシン類を表す。また、ＰＸＢ類
（ポリハロゲン化ビフェニル類）はビフェニルにハロゲ
ン原子が数個付加した化合物の総称であり、ハロゲンの
置換数、置換位置により異性体があるが、ＰＣＢ（ポリ
塩化ビフェニル）の場合では、２，６−ジクロロビフェ
ニル、２，2'−ジクロロビフェニル、２，３，５−トリ
クロロビフェニル等が代表的なものであり、毒性が強
く、焼却した場合にはダイオキシン類が発生するおそれ
があるものとして知られており、排ガス中、飛灰中等か
ら除去する必要がある。なお、ＰＸＢ類には当然コプラ
ナーＰＸＢも含まれるのはいうまでもない。また、高縮
合度芳香族炭化水素は多核芳香族化合物の総称であり、
単数又は複数のＯＨ基を含んでもよく、発癌性物質とし
て認められており、排ガス中から除去する必要がある。
【００３９】また、多くの製造工程においては、煤塵に
加えて、例えばホルムアルデヒド，ベンゼン又はフェノ
ールのような気体状有機化合物を含む排ガスが発生する
こともある。これらの有機化合物もまた、環境汚染物質
であり、人間の健康を著しく損ねるので、排ガス中から
除去する必要がある。
加えて、例えばホルムアルデヒド，ベンゼン又はフェノ
ールのような気体状有機化合物を含む排ガスが発生する
こともある。これらの有機化合物もまた、環境汚染物質
であり、人間の健康を著しく損ねるので、排ガス中から
除去する必要がある。
【００４０】また、本発明で処理される窒素酸化物と
は、通常ＮＯ及びＮＯ2 の他、これらの混合物をいい、
ＮＯｘとも称されている。しかし、該ＮＯｘにはこれら
以外に各種酸化数の、しかも不安定な窒素酸化物も含ま
れている場合が多い。従ってｘは特に限定されるもので
はないが通常１〜２の値である。雨水等で硝酸、亜硝酸
等になり、またはＮＯは光化学スモッグの主因物質の一
つであるといわれており、人体には有害な化合物であ
る。
は、通常ＮＯ及びＮＯ2 の他、これらの混合物をいい、
ＮＯｘとも称されている。しかし、該ＮＯｘにはこれら
以外に各種酸化数の、しかも不安定な窒素酸化物も含ま
れている場合が多い。従ってｘは特に限定されるもので
はないが通常１〜２の値である。雨水等で硝酸、亜硝酸
等になり、またはＮＯは光化学スモッグの主因物質の一
つであるといわれており、人体には有害な化合物であ
る。
【００４１】本発明により、上述した有害物質である窒
素酸化物，ハロゲン化芳香族化合物，高縮合度芳香族炭
化水素等の有害物質や気体状有機化合物をプラズマ分解
して無害化処理することができる。
素酸化物，ハロゲン化芳香族化合物，高縮合度芳香族炭
化水素等の有害物質や気体状有機化合物をプラズマ分解
して無害化処理することができる。
【００４２】また窒素酸化物については本発明のプラズ
マ処理装置の前流側に塩基性物質（例えばアンモニア
等）の存在させ、還元反応により無害化処理が行われ
る。
マ処理装置の前流側に塩基性物質（例えばアンモニア
等）の存在させ、還元反応により無害化処理が行われ
る。
【００４３】［第４の実施の形態］
図１５は本発明の第２の実施の形態にかかるプラズマ分
解による排ガス処理システムである。
解による排ガス処理システムである。
【００４４】図１５に示すように、焼却炉１０１から排
出される排ガス１０２を浄化する排ガス処理システムで
あって、冷却手段１０３による冷却後の排ガス１０２中
の煤塵を除塵する除塵装置１０５と、該除塵処理後の排
ガス中の有害物質をプラズマ分解するプラズマ分解処理
装置１０４と、除塵処理後のクリーンなガスを外部へ排
出する煙突１０７とからなるものであり、第１のシステ
ムとは除塵処理の後にプラズマ処理する点が相違する。
出される排ガス１０２を浄化する排ガス処理システムで
あって、冷却手段１０３による冷却後の排ガス１０２中
の煤塵を除塵する除塵装置１０５と、該除塵処理後の排
ガス中の有害物質をプラズマ分解するプラズマ分解処理
装置１０４と、除塵処理後のクリーンなガスを外部へ排
出する煙突１０７とからなるものであり、第１のシステ
ムとは除塵処理の後にプラズマ処理する点が相違する。
【００４５】本システムでは、排ガス中のダイオキシン
類及び除塵装置１０５で除去できなかったサブミクロン
の排ガス中のダイオキシン類を分解処理することができ
る。
類及び除塵装置１０５で除去できなかったサブミクロン
の排ガス中のダイオキシン類を分解処理することができ
る。
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように本発明［請求項１］
の発明は、線電極と、その周囲に配置した円筒状電極
と、上記線電極と円筒状電極との間に電位差を付与する
電位差付与手段とから構成されるプラズマ分解処理装置
であって、上記円筒電極の内側に軸方向に亙って配され
る誘電体内筒と、該誘電体内筒と上記円筒電極との間に
軸方向に亙って所定間隔をもって複数個配される強誘電
体リングとを設けてなるので、円筒電極内面に灰付着が
防止されると共に、装置をコンパクト化することができ
る。
の発明は、線電極と、その周囲に配置した円筒状電極
と、上記線電極と円筒状電極との間に電位差を付与する
電位差付与手段とから構成されるプラズマ分解処理装置
であって、上記円筒電極の内側に軸方向に亙って配され
る誘電体内筒と、該誘電体内筒と上記円筒電極との間に
軸方向に亙って所定間隔をもって複数個配される強誘電
体リングとを設けてなるので、円筒電極内面に灰付着が
防止されると共に、装置をコンパクト化することができ
る。
【００４７】［請求項２］の発明は、請求項１におい
て、上記強誘電体リングがガス流れ後流側に亙って漸次
間隔を広くするので、軸方向の長さを短くすることがで
きる。
て、上記強誘電体リングがガス流れ後流側に亙って漸次
間隔を広くするので、軸方向の長さを短くすることがで
きる。
【００４８】［請求項３］の発明は、請求項１におい
て、上記強誘電体リングが密状態で配されてなるので、
軸方向の長さを短くすることができる。
て、上記強誘電体リングが密状態で配されてなるので、
軸方向の長さを短くすることができる。
【００４９】［請求項４］の発明は、請求項１におい
て、上記強誘電体リングがガス流れ前流側において密状
態で配され、ガス流れ後流側において疎状態で配されて
なるので、軸方向の長さを短くすることができる。
て、上記強誘電体リングがガス流れ前流側において密状
態で配され、ガス流れ後流側において疎状態で配されて
なるので、軸方向の長さを短くすることができる。
【００５０】［請求項５］の発明は、請求項１乃至４の
いずれか一項において、上記強誘電体リングの比誘電率
が１００以上であるので、分極が大きくすることがで
き、プラズマ密度が大きくなる。また、強誘電体リング
の配設位置を変えることで、プラズマの発生場所を任意
にコントロールすることができる。
いずれか一項において、上記強誘電体リングの比誘電率
が１００以上であるので、分極が大きくすることがで
き、プラズマ密度が大きくなる。また、強誘電体リング
の配設位置を変えることで、プラズマの発生場所を任意
にコントロールすることができる。
【００５１】［請求項６］の発明は、請求項１乃至４の
いずれか一項において、上記内筒の誘電体円筒の比誘電
率が２〜１０以上であるので、灰が付着した場合でも線
電極との間でアーク放電が発生せず、線電極が損傷する
ということが回避される。
いずれか一項において、上記内筒の誘電体円筒の比誘電
率が２〜１０以上であるので、灰が付着した場合でも線
電極との間でアーク放電が発生せず、線電極が損傷する
ということが回避される。
【００５２】［請求項７］の発明は、請求項１乃至４の
いずれか一項において、上記強誘電体リングがチタン酸
バリウムであるので、分極が大きくすることができ、プ
ラズマ密度が大きくなる。
いずれか一項において、上記強誘電体リングがチタン酸
バリウムであるので、分極が大きくすることができ、プ
ラズマ密度が大きくなる。
【００５３】［請求項８］の発明は、請求項１乃至４の
いずれか一項において、上記内筒の誘電体内筒がアルミ
ナであるので、灰が付着した場合でも線電極との間でア
ーク放電が発生せず、線電極が損傷するということが回
避される。
いずれか一項において、上記内筒の誘電体内筒がアルミ
ナであるので、灰が付着した場合でも線電極との間でア
ーク放電が発生せず、線電極が損傷するということが回
避される。
【００５４】また、本発明の［請求項９］の発明によれ
ば、電界集中がなく、反応容器をコンパクト化するプラ
ズマ分解処理装置を提供することができ、例えば都市ゴ
ミ焼却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却
炉、熱分解炉、溶融炉等から排出される排ガス中及び飛
灰中の有害物質を効率的に処理することができる。よっ
て、従来のような有害物質を含んだ飛灰処理が不要とな
り、付帯設備を減少することができ、処理効率が向上す
ると共に処理費用の低廉化を図ることができる。
ば、電界集中がなく、反応容器をコンパクト化するプラ
ズマ分解処理装置を提供することができ、例えば都市ゴ
ミ焼却炉，産業廃棄物焼却炉，汚泥焼却炉等の各種焼却
炉、熱分解炉、溶融炉等から排出される排ガス中及び飛
灰中の有害物質を効率的に処理することができる。よっ
て、従来のような有害物質を含んだ飛灰処理が不要とな
り、付帯設備を減少することができ、処理効率が向上す
ると共に処理費用の低廉化を図ることができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態のプラズマ分解処理
装置の構成図である。
装置の構成図である。
【図２】図１の軸方向の略断面図である。
【図３】図２のＡ部拡大図である。
【図４】第１の実施の形態のアーク放電発生の有無を示
す図面である。
す図面である。
【図５】従来技術のアーク放電発生の有無を示す図面で
ある。
ある。
【図６】本発明の第２の実施の形態のプラズマ分解処理
装置の構成図である。
装置の構成図である。
【図７】図６の軸方向の略断面図である。
【図８】第１の実施の形態の窒素酸化物の分解後の濃度
とエネルギー密度の関係図である。
とエネルギー密度の関係図である。
【図９】第２の実施の形態の窒素酸化物の分解後の濃度
とエネルギー密度の関係図である。
とエネルギー密度の関係図である。
【図１０】従来技術の窒素酸化物の分解後の濃度とエネ
ルギー密度の関係図である。
ルギー密度の関係図である。
【図１１】第３の実施の形態にかかる排ガス分解システ
ムの概略図である。
ムの概略図である。
【図１２】第３の実施の形態にかかるプラズマ分解処理
装置の構成図である。
装置の構成図である。
【図１３】ダイオキシン類の分解率と投入エネルギーと
の関係図図である。
の関係図図である。
【図１４】ダイオキシン類の毒性等量と投入エネルギー
との関係図図である。
との関係図図である。
【図１５】第３の実施の形態にかかる排ガス分解システ
ムの概略図である。
ムの概略図である。
【図１６】従来のプラズマ分解処理装置の構成図であ
る。
る。
１０ プラズマ分解処理装置
１１ 線電極
１２ 円筒電極
１３ 電位差付与手段（超短パルス）
２１ 誘電体内筒
２２ 強誘電体リング
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 川添 浩平
長崎県長崎市深堀町五丁目717番１号
三菱重工業株式会社 長崎研究所内
(56)参考文献 特開 平６−178914（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−261242（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B01J 19/08
A62D 3/00
B01D 53/32
B01D 53/70
H05H 1/24
Claims (11)
- 【請求項１】 線電極と、その周囲に配置した円筒状電
極と、上記線電極と円筒状電極との間に電位差を付与す
る電位差付与手段とから構成されるプラズマ分解処理装
置であって、 上記円筒電極の内側に軸方向に亙って配される誘電体内
筒と、 該誘電体内筒と上記円筒電極との間に軸方向に亙って所
定間隔をもって複数個配される強誘電体リングとを設け
てなることを特徴とするプラズマ分解処理装置。 - 【請求項２】 請求項１において、 上記強誘電体リングがガス流れ後流側に亙って漸次間隔
を広くすることを特徴とするプラズマ分解処理装置。 - 【請求項３】 請求項１において、 上記強誘電体リングが密状態で配されてなることを特徴
とするプラズマ分解処理装置。 - 【請求項４】 請求項１において、 上記強誘電体リングがガス流れ前流側において密状態で
配され、ガス流れ後流側において疎状態で配されてなる
ことを特徴とするプラズマ分解処理装置。 - 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれか一項におい
て、 上記強誘電体リングの比誘電率が１００以上であること
を特徴とするプラズマ分解処理装置。 - 【請求項６】 請求項１乃至４のいずれか一項におい
て、 上記内筒の誘電体円筒の比誘電率が２〜１０以上である
ことを特徴とするプラズマ分解処理装置。 - 【請求項７】 請求項１乃至４のいずれか一項におい
て、 上記強誘電体リングがチタン酸バリウムであることを特
徴とするプラズマ分解処理装置。 - 【請求項８】 請求項１乃至４のいずれか一項におい
て、 上記内筒の誘電体内筒がアルミナであることを特徴とす
るプラズマ分解処理装置。 - 【請求項９】 焼却炉，熱分解炉，溶融炉等から排出さ
れる排ガスを浄化する排ガス処理システムであって、 冷却後の排ガス中の有害物質をプラズマ分解する請求項
１乃至８のいずれか一項のプラズマ分解処理装置を設け
てなると共に、該プラズマ分解処理装置の前後のいずれ
かに排ガス中の煤塵を除塵する除塵装置を設けてなるこ
とを特徴とする排ガス処理システム。 - 【請求項１０】 請求項９において、 上記排ガス中の有害物質がダイオキシン類，ポリハロゲ
ン化ビフェニル類，ハロゲン化ベンゼン類，ハロゲン化
フェノール類及びハロゲン化トルエン類から選ばれる少
なくとも一種のハロゲン化芳香族化合物並びに高縮合度
芳香族炭化水素，環境ホルモンのいずれかであることを
特徴とする排ガス処理システム。 - 【請求項１１】 請求項１０において、 上記ダイオキシン類が、ポリ塩化ジベンゾ−ｐ−ダイオ
キシン類（ＰＣＤＤｓ）、ポリ塩化ジベンゾフラン類
（ＰＣＤＦｓ）、ポリ臭化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン
類（ＰＢＤＤｓ）、ポリ臭化ジベンゾフラン類（ＰＢＤ
Ｆｓ）、ポリ弗化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類（ＰＦ
ＤＤｓ）、ポリ弗化ジベンゾフラン類（ＰＦＤＦｓ）、
ポリ沃素化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類（ＰＩＤＤ
ｓ）、ポリ沃素化ジベンゾフラン類（ＰＩＤＦｓ）のい
ずれかであることを特徴とする排ガス処理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000119270A JP3411885B2 (ja) | 2000-04-20 | 2000-04-20 | プラズマ分解処理装置及び排ガス処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000119270A JP3411885B2 (ja) | 2000-04-20 | 2000-04-20 | プラズマ分解処理装置及び排ガス処理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001300296A JP2001300296A (ja) | 2001-10-30 |
| JP3411885B2 true JP3411885B2 (ja) | 2003-06-03 |
Family
ID=18630284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000119270A Expired - Fee Related JP3411885B2 (ja) | 2000-04-20 | 2000-04-20 | プラズマ分解処理装置及び排ガス処理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3411885B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009008519A1 (ja) | 2007-07-12 | 2009-01-15 | Imagineering, Inc. | ガス処理装置、ガス処理システム及びガス処理方法、並びにそれを用いた排気ガス処理システム及び内燃機関 |
| US8863495B2 (en) | 2007-07-12 | 2014-10-21 | Imagineering, Inc. | Ignition/chemical reaction promotion/flame holding device, speed-type internal combustion engine, and furnace |
| JP5374691B2 (ja) | 2008-03-14 | 2013-12-25 | イマジニアリング株式会社 | 複数放電のプラズマ装置 |
| JP5726692B2 (ja) * | 2011-09-16 | 2015-06-03 | 株式会社東芝 | 気流発生装置、気流発生装置モジュールおよび風車 |
| JP6260604B2 (ja) * | 2015-11-16 | 2018-01-17 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
-
2000
- 2000-04-20 JP JP2000119270A patent/JP3411885B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001300296A (ja) | 2001-10-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003251146A (ja) | 高温プラズマを用いたダイオキシンと粉塵除去方法及びその装置 | |
| JPH09329015A (ja) | コロナ放電素子およびそれを用いたガス処理装置 | |
| JP3411885B2 (ja) | プラズマ分解処理装置及び排ガス処理システム | |
| US20020111045A1 (en) | Atmospheric pressure plasma enhanced abatement of semiconductor process effluent species | |
| JPH0615143A (ja) | 窒素酸化物分解装置のプラズマ反応容器 | |
| KR101700269B1 (ko) | 오존 발생 및 오존 제거가 가능한 플라즈마 촉매 흡착 정화 장치 및 이를 이용한 정화 방법 | |
| CN1036635C (zh) | 物料的处理 | |
| JP3513463B2 (ja) | 有害成分分解装置及びそれを用いた排ガス浄化装置 | |
| JP2007296415A (ja) | ポリ塩化ビフェニル汚染物の処理方法及びその処理システム | |
| JP2001054721A (ja) | フロン類の分解方法および分解装置 | |
| JP2001327837A (ja) | 排ガス処理システム及び処理方法 | |
| JP2001300257A (ja) | プラズマ分解による排ガス処理装置及び分解方法 | |
| JP2000051648A (ja) | 排ガス処理装置及び処理方法 | |
| KR101174137B1 (ko) | 플라즈마를 이용한 대기오염물질 처리장치 | |
| JP3217173B2 (ja) | 排ガスの浄化方法及び排ガス浄化システム | |
| KR200280676Y1 (ko) | 고온 플라즈마를 이용한 다이옥신 및 분진 제거장치 | |
| JP3492260B2 (ja) | 排ガス処理装置 | |
| JPH034918A (ja) | ダイオキシン発生の抑制方法 | |
| JP3364178B2 (ja) | 有害物質の分解装置及び分解方法 | |
| JP2000325735A (ja) | プラズマ処理用吸着体、該吸着体を用いた有害物質の分解装置及び分解方法 | |
| JP2003161428A (ja) | 灰溶融炉の排ガス処理装置 | |
| JP2000262853A (ja) | 排ガス処理方法および装置 | |
| KR100220553B1 (ko) | 소각로에서 배출되는 디옥신(dioxin) 화합물 제거방법 | |
| JP3776593B2 (ja) | 排ガス処理用触媒、排ガス処理方法及び処理装置 | |
| JP3472873B2 (ja) | 気体状有機ハロゲン化合物の分解処理装置、及びこれを応用した液体状有機ハロゲン化合物の分解処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030218 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |