JP3400423B2 - 進行する材料ストリップの厚さ横断面と厚さ縦断面を規定するための方法および装置 - Google Patents

進行する材料ストリップの厚さ横断面と厚さ縦断面を規定するための方法および装置

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、進行する材料スト
リップの厚さ横断面と厚さ縦断面を規定するための方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術からすでに多数の測定法が公
知である。それぞれの測定法の主たる課題は、厚さ横断
面、すなわちストリップ進行方向に対して横断方向にお
けるストリップ幅にわたるストリップ厚さの測定、およ
び厚さ縦断面、すなわちストリップ中央またはストリッ
プ進行方向に沿った他の縦方向位置におけるストリップ
厚さの測定を正確に把握することである。この目標は従
来、測定過程の間、ストリップ中央におけるストリップ
厚さと、ストリップに対して横断方向でのそれぞれのス
トリップ位置におけるストリップ厚さとを把捉すること
によってしか達成できなかった。
【０００３】このことは、たとえばマルチチャネル断面
測定によって実現される。一方では材料ストリップの中
央で少なくとも１つの放射線源と少なくとも１つの検知
器とからなる測定ユニットがストリップ厚さを直接測定
し、それによって厚さ縦断面を規定する。他方では厚さ
横断面を規定するための独立の測定ユニットが設けられ
ていて、材料ストリップのエッジの範囲を把捉する。
【０００４】公知の装置は、測定すべき大きさの範囲と
測定精度とに対する上記の要求に相応して高価である。
たとえば測定ヘッド当たり放射線源と少なくとも１つの
検知器とから構成された少なくとも２つの独立の測定ユ
ニットか、または複数の測定ヘッドを有する１つの測定
ユニットが必要である。
【０００５】上記の方法および装置は、主として連続鋳
造、分塊ラインもしくは製造段階の入口用に考案されて
いる。なぜならば、後続の製造段階の金属ストリップの
圧延プロセスを最適化することは、入口における状態の
正確な知識なくしては効果的に達成できないからであ
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】それゆえ本発明の課題
は、進行する材料ストリップの厚さ横断面と厚さ縦断面
の正確な規定を守りながら測定装置の技術的コストを低
減することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明の方法は、 ａ）測定ユニットによって少なくとも２つの測定ポイン
トでストリップ厚さＤを測定し、１つの測定ユニットが
少なくとも１つの放射線源８と、少なくとも２つの検知
器１０とを有しており、測定ポイント２２が材料ストリ
ップ２の、対応する検知器２２により測定された放射線
によって通過された容積範囲であり、これらの測定ポイ
ントがストリップ進行方向に対して横断方向で互いに間
隔を置いて配置されており、 ｂ）規定すべき厚さ縦断面の縦方向位置をストリップ進
行方向に沿って確定し、 ｃ）縦方向位置におけるストリップ厚さＤoを測定ユニ
ットによって直接測定して、修正値ΔＫの値をゼロに設
定し、 ｄ）測定ユニットをストリップ進行方向に対して横断方
向に移動させ、縦方向位置を基準にして移動量ΔＰを規
定し、 ｅ）測定ポイントで測定されたストリップ厚さＤに基づ
いてストリップ進行方向に対して横断方向におけるスト
リップ厚さＤの勾配ｋを計算し、 ｆ）修正値ΔＫを従来の修正値ΔＫと、勾配ｋと移動量
ΔＰの積との合計として新たに計算し、 ｇ）測定ポイントで測定されたストリップ厚さＤから平
均ストリップ厚さＤmを計算し、 ｈ）縦方向位置における修正ストリップ厚さＤokを、ス
トリップ厚さＤmと新しい修正値ΔＫとの合計として計
算し、 ｉ）測定ユニットが縦方向位置に対して横断方向に最大
限移動し、再び縦方向位置におけるストリップ厚さＤo
が測定ユニットによって直接測定される位置に戻される
まで、ステップｄ）からｈ）を１つの移動周期内で反復
的に繰り返し、 ｊ）厚さ横断面を反復的に測定されたストリップ厚さＤ
mから規定し、厚さ縦断面を反復的に修正されたストリ
ップ厚さＤokから規定する。
【０００８】上述した方法手順は、移動式マルチチャネ
ル断面測定と呼ぶこともでき、本発明の基礎をなす課題
を解決するための測定ユニットに適用できる。
【０００９】厚さ横断面を把捉する間に測定ユニットが
縦断面の外部にある場合は、縦方向位置におけるストリ
ップ厚さが同様に規定される。なぜならば、厚さ横断面
に基づいて生じる厚さ変化は、数学的方法によって後か
ら付加できるからである。この場合、ストリップ縦方向
でストリップ厚さが変化するので、縦方向位置における
ストリップ厚さに対する厚さの差を介して厚さ横断面が
把捉される。総じてこの方法の精度に対して、ストリッ
プ中央と外側エッジとのストリップ厚さの差が、たとえ
ば５％未満の範囲となるように考慮される。
【００１０】本発明の方法のこの手順によって、進行す
る材料ストリップの厚さ横断面と厚さ縦断面との正確な
規定を維持しながら、測定装置の技術的コストが低減さ
れる。本発明による方法は、特に圧延ラインの入口範囲
で適用されるため、ストリップ進行速度は非常に小さ
く、５〜１５ｍ／ｍｉｎの移動速度で材料ストリップの
十分緻密な測定が行われる。
【００１１】本発明の別の教示に従い、上述した技術的
問題を解決するために、進行する材料ストリップの厚さ
横断面と厚さ縦断面とを規定するための装置はハウジン
グと、ハウジング内に配置されている少なくとも１つの
放射線源と、ハウジング内に配置されている少なくとも
２つの検知器とを有しており、これらの検知器がストリ
ップ進行方向に対して横断方向で互いに間隔を置いて配
置されていて、種々異なる角度で少なくとも１つの放射
線源に向けて位置調整されており、材料ストリップが放
射線源と検知器との間に配置されており、検知器が材料
ストリップをストリップ進行方向に対して横断方向で区
分毎に把捉し、放射線源と検知器とを材料ストリップに
対して相対的に同期移動させるための移動手段が設けら
れている。
【００１２】さらにこの技術的問題は、上記の方法を実
施するために上述した装置を使用することによって解決
される。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に、本発明のその他の特徴お
よび長所を、添付の図面を参照しながら実施例に基づい
て詳細に説明する。図１および図２には、進行する材料
ストリップ２の厚さ横断面と厚さ縦断面を規定するため
の本発明による装置の第１の実施例が示されている。こ
の装置はハウジング４と、ハウジング４内に配置されて
いる少なくとも１つの測定ユニット６を有しており、こ
の測定ユニット６は放射線源８と７つの検知器１０ａ〜
１０ｇとを具備している。検知器１０ａ〜１０ｇはスト
リップ進行方向に対して横断方向で互いに間隔を置いて
配置されていて、種々異なる角度で放射線源８に向けて
位置調整されている。さらに装置の外部に配置されて材
料ストリップ２を案内する案内装置１２が設けられてい
て、材料ストリップ２を放射線源８と検知器１０ａ〜１
０ｇとの間に配置する。これにより検知器１０ａ〜１０
ｇは材料ストリップ２をストリップ進行方向に対して横
断方向で区分毎に把捉する。さらに、放射線源８と検知
器１０ａ〜１０ｇとを材料ストリップに対して相対的に
同期移動させるための移動手段１３が設けられている。
【００１４】ハウジング４はＣ字形に形成されていて、
放射線源８も検知器１０ａ〜１０ｇも支持し、同時に材
料ストリップ２を取り囲むようになっていることが合理
的である。放射線源８は典型的に高エネルギーの電磁放
射線、特にガンマ線またはＸ線を放出する。
【００１５】外側の検知器１０ａおよび１０ｇは、測定
ユニット６が移動する間に材料ストリップ２の外側エッ
ジに到達したことを検出する。これについて図４に、材
料ストリップ２の表面に沿った測定ポイントの移動が示
されている。
【００１６】検知器１０ａ〜１０ｇは、たとえば電離
箱、シンチレーション計数器、計数管または半導体検知
器として形成されている。検知器タイプの選定は、使用
する放射線源８とその強度に基づいて行われる。
【００１７】ここに記載する測定ユニット６は７つの検
知器１０ａ〜１０ｇを備えているが、これよりも多い、
または少ない検知器を有する測定ユニットも考えられ
る。検知器１０の数の選定は、所望の測定精度および統
計的ノイズを考慮して、使用する放射線源の種類、活動
度もしくは線量率と、使用する検知器の種類に応じて行
われる。
【００１８】必ずしも装置に付属していない案内装置１
２は、機枠１６に支持される２つのローラ１４ａおよび
１４ｂを有している。この場合、両ローラ１４ａおよび
１４ｂは測定ユニット６によって把捉される範囲の両側
に配置されていて、材料ストリップ２は装置の内部で規
定の位置を占める。
【００１９】移動手段１３は材料ストリップ２の全幅の
周期的把捉を可能にする。このためこれらの移動手段１
３は、放射線源８と検知器１０ａ〜１０ｇとからなる測
定ユニット６を材料ストリップ２に向かって移動させる
ように形成されている。
【００２０】図１および図２に示すように、移動手段１
３はハウジング４を放射線源８と検知器１０ａ〜１０ｇ
と一緒に材料ストリップ２に対して相対的に動かす。こ
のことは、移動手段１３が直線ガイド１８と、当該直線
ガイド１８と係合する案内スキッド２０とを有している
ことによって保証されている。さらにこの移動のため
に、直線駆動装置（詳しく図示しない）が設けられてい
る。全ハウジング４を動かすことによって、移動の間は
放射線源８と検知器１０ａ〜１０ｇとがあらかじめ調整
した位置に常に互いに配置されていることが保証されて
いる。しかし短所は、移動時に比較的大きい重量を動か
さなければならないことである。
【００２１】これに対して図３に示した実施例では、移
動手段１３は放射線源８と検知器１０ａ〜１０ｇとをハ
ウジング４に対して相対的に移動させるので、より小さ
い重量を動かせばよい。しかしこのように別個に移動さ
せる間に、放射線源８と検知器１０ａ〜１０ｇとが互い
に位置調整された状態にとどまることが保証されなけれ
ばならない。
【００２２】さらに、移動手段１３は、測定ユニット６
の材料ストリップ２に対して相対的な位置を規定するた
めの測定装置（図示しない）を有している。これによ
り、測定ユニットの位置データを把捉でき、以下に述べ
る測定データの評価に提供できる。
【００２３】以下に、図４および図５に基づいて、本発
明による方法を詳しく説明する。進行する材料ストリッ
プ２の厚さ横断面と厚さ縦断面を規定するための本発明
による方法は、次のステップを有している。
【００２４】ａ）測定ユニット６を用いて７つの測定ポ
イント２２でストリップ厚さＤを測定し、これらの測定
ポイント２２がストリップ進行方向に対して横断方向で
互いに間隔を置いて配置されている。各測定ポイントの
測定値を、所定の測定周期の継続時間にわたって処理す
る。１測定周期に対する典型的な値は、たとえば約１０
ｍｓである。検知器１０によって測定された強度からス
トリップ厚さＤを規定することは、材料ストリップ２に
対する検知器のそれ自体公知の角度で行われる。
【００２５】ｂ）規定すべき厚さ縦断面の縦方向位置２
４をストリップ進行方向に沿って確定する。図４および
図５に示すように、縦方向位置２４を材料ストリップ２
の中央に配置する。
【００２６】ｃ）ストリップ厚さＤoを縦方向位置２４
の出発位置Ａにおいて測定ユニット６で直接測定し、修
正値ΔＫの値をゼロに設定する。このために縦方向位置
２４が材料ストリップ２の、測定ポイント２２ａ〜２２
ｇによって把捉される範囲の内部に配置され、かつスト
リップ厚さＤoが測定ポイント２２により、好ましくは
中央測定ポイント２２ｄにより直接把捉されるように、
測定ユニット６を配置する。同様に、ストリップ厚さＤ
oは測定ポイント２２のストリップ厚さＤの補間によっ
て計算できる。
【００２７】ｄ）測定ユニット６を所定の継続時間ｔ0
〜ｔ1、ストリップ進行方向に対して横断方向に、図４
および図５では左方向に移動させる。図５は、時点ｔ0
〜ｔ1における厚さ横断面と測定ユニット６の位置を表
している。縦方向位置を基準とした移動量ΔＰは、ΔＰ
＝Ｐ（ｔ1）−Ｐ（ｔ0）で規定される。この場合、移動
量ΔＰは、図５でも見て取れるように、それぞれ２つの
測定ポイント２２の間隔のオーダーであることが好まし
い。
【００２８】測定ユニット６を、所定の移動速度でスト
リップ進行方向に対して横断方向に移動させる。この場
合、材料ストリップ２のエッジの範囲で移動速度を減少
させる。移動速度の典型的な値は、たとえば約５〜１５
ｍ／ｍｉｎであるが、他の値も可能であり、技術的に実
現可能である。移動量ΔＰは所定の修正周期の継続時間
と移動速度とから得られる。
【００２９】ｅ）測定ポイント２２で測定されたストリ
ップ厚さＤから、ストリップ進行方向に対して横断方向
にストリップ厚さＤの勾配ｋを計算する。この勾配は、
好ましくはそれぞれ修正周期の経過後に実施する。修正
周期のこの継続時間は、たとえば求められたストリップ
厚さ内に示される放射線源の統計的ノイズに依存してお
り、平均値形成によりノイズを低減するように働く。
【００３０】修正周期の継続時間を、少なくとも測定周
期の継続時間に等しい長さに調節する。この場合、好ま
しくは修正周期の継続時間を測定周期の継続時間の数倍
に調節する。修正周期の継続時間は、その都度技術的な
前提に応じて選択されるが、その典型的な値は、たとえ
ば約１００ｍｓである。勾配ｋを計算するために、修正
周期にわたって求めたそれぞれの測定ポイントにおける
ストリップ厚さＤの平均値を使用する。
【００３１】直線回帰を用いて、ストリップ厚さＤと、
ストリップ進行方向に対して横断方向の測定ポイントの
絶対的位置とから勾配ｋを計算する。言い換えれば、１
次多項式をストリップ厚さの推移に適合させる。この回
帰計算は、たとえばガウス・ジョルダン法、すなわち最
小の誤差平方の合計法によって実施する。この場合、直
線的修正は良好な結果を生む。なぜならば、それぞれ２
つの測定ポイント２２の間の範囲における測定ユニット
の移動ΔＰにわたる厚さ横断面の変化が小さく、直線的
適合を可能にするからである。
【００３２】一般に、２より大きいｎ個の測定ポイント
２２とｎ−１次の多項式の回帰計算を用いて、ストリッ
プ厚さＤと、ストリップ進行方向に対して横断方向の測
定ポイント２２の絶対的位置とから勾配ｋを計算する。
これによって、より高い計算精度が達成される。
【００３３】ｆ）修正値ΔＫを式ΔＫ＝ΔＫ＋ｋ×ΔＰ
で新たに計算する。これは直線的な適合に対応してい
る。しかし、ステップｅ）で２より大きい次数の多項式
が適合された場合には、修正値ΔＫは２次、場合によっ
てはより高次の修正項で計算することもできる。
【００３４】ｇ）測定ポイント２２ｂ〜２２ｆで測定さ
れたストリップ厚さＤ（ｉ）、ｉ＝１〜５から、平均ス
トリップ厚さＤmを、好ましくは算術平均として計算す
る。この場合、特に材料ストリップ２の、測定ポイント
によって囲まれた範囲の中央における平均バンド厚さ
（Ｄm）を計算する。
【００３５】ｈ）次に、縦方向位置２４における修正さ
れたストリップ厚さＤokを、次式により計算する。
【数１】 この場合、両外側の測定ポイント２２ａと２２ｇのスト
リップ厚さＤ（０）およびＤ（６）は考慮されないまま
である。その他の数の測定ポイント２２を用いる方法に
おいて、相応に異なる指数ｉの式を使用しなければなら
ない。
【００３６】ｉ）ステップｄ）からｈ）を１移動周期内
で反復的に繰り返す。１つの移動周期の継続時間は、測
定ユニット６が縦方向位置に対して横断方向に最大限移
動し、再び縦方向位置２４におけるストリップ厚さＤo
が測定ユニット６によって直接測定される位置に戻され
るまで継続する。
【００３７】この最大移動は、図４に示された実施例に
おいて、長手方向位置に対して相対的に材料ストリップ
２の縁部によって指定されるので、本質的に材料ストリ
ップ２の全幅が把捉される。この目的のため、材料スト
リップ２のエッジを把捉するために両外側測定ポイント
を用いる。これにより、たとえば７つの検知器１０ａ〜
１０ｇを使用する場合、両外側検知器１０ａおよび１０
ｇを材料ストリップ２のエッジの検出手段として用い、
検知器１０ｂ〜１０ｆはストリップ厚さを規定するため
に用いる。
【００３８】ｊ）次に、厚さ横断面を反復的に測定され
たストリップ厚さＤmから規定し、厚さ縦断面を反復的
に修正されたストリップ厚さＤokから規定する。
【００３９】上記の方法の品質管理に対する尺度、すな
わち最終移動周期の修正の精度に対する尺度として、ス
テップｃ）で規定された移動周期の開始時の縦方向位置
におけるストリップ厚さＤoと、ステップｉ）で移動周
期の終了時に規定された修正ストリップ厚さＤokとの差
を使用できる。
【００４０】以上、測定ユニット６を縦方向位置から材
料ストリップ２の一方のエッジに移動させ、そして戻す
ことによって、縦方向位置２４の一方の側における厚さ
横断面を規定すると記した。これは図４では位置ＡとＢ
との間にある。それゆえ材料ストリップ２の全幅を交互
に把捉できるように、厚さ横断面を規定するために測定
ユニット６を縦方向位置２４に対して横断方向で両側に
交互に移動させる。これについては、図４の部分Ｂ〜Ｃ
を参照されたい。
【００４１】
【発明の効果】本発明による方法の特徴は、値ΔＫを反
復的に加算する際に、材料ストリップ２のエッジに達す
るまでに精度誤差が生じることである。反対方向に移動
する間、勾配値の符号が逆になるのでこの誤差がほぼ取
り除かれる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による装置の第１の実施例のストリップ
進行方向における側面図である。
【図２】図１に示した装置の、ストリップ進行方向に対
して横断方向の側面図である。
【図３】本発明による装置の第２の実施例のストリップ
進行方向における側面図である。
【図４】材料ストリップの概略的な平面図で、材料スト
リップの表面に沿った測定ポイントの移動を示してい
る。
【図５】測定過程の間の種々異なる時点における厚さ横
断面と測定ポイントの位置を示す概略的な平面図であ
る。
【符号の説明】
２…材料ストリップ ６…測定ユニット ８…放射線源 １０ａ〜１０ｇ…検知器 １２…案内装置 １３…移動手段 １４ａ，１４ｂ…ローラ １６…機枠 １８…直線ガイド ２２ａ〜２２ｇ…測定ポイント ２４…縦方向位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−201512（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−10211（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−2730（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−331308（ＪＰ，Ａ) 特表 平４−501005（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 21/08 B21C 51/00 G01B 15/02

Claims (37)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 進行する材料ストリップ（２）の厚さ横
    断面と厚さ縦断面を規定するための方法であって、 ａ）測定ユニット（６）を用いて少なくとも２つの測定
    ポイント（２２）でストリップ厚さ（Ｄ）を測定し、こ
    れらの測定ポイント（２２）がストリップ進行方向に対
    して横断方向で互いに間隔を置いて配置されており、 ｂ）規定すべき厚さ縦断面の縦方向位置（２４）をスト
    リップ進行方向に沿って確定し、 ｃ）縦方向位置（２４）におけるストリップ厚さ（Ｄ
    o）を測定ユニット（６）によって直接測定して、修正
    値（ΔＫ）の値をゼロに設定し、 ｄ）測定ユニット（６）をストリップ進行方向に対して
    横断方向に移動させ、縦方向位置を基準にして移動量
    （ΔＰ）を規定し、 ｅ）測定ポイント（２２）で測定されたストリップ厚さ
    （Ｄ）に基づいてストリップ進行方向に対して横断方向
    におけるストリップ厚さ（Ｄ）の勾配（ｋ）を計算し、 ｆ）修正値（ΔＫ）を従来の修正値（ΔＫ）と、勾配
    （ｋ）と移動量（ΔＰ）の積との合計として計算し、 ｇ）測定ポイント（２２）で測定されたストリップ厚さ
    （Ｄ）から平均ストリップ厚さ（Ｄm）を計算し、 ｈ）縦方向位置（２４）における修正ストリップ厚さ
    （Ｄok）をストリップ厚さ（Ｄm）と新しい修正値（Δ
    Ｋ）との合計として新たに計算し、 ｉ）測定ユニット（６）が縦方向位置に対して横断方向
    に最大限移動し、再び縦方向位置（２４）におけるスト
    リップ厚さ（Ｄo）が測定ユニット（６）によって直接
    測定される位置に戻されるまで、ステップｄ）〜ｈ）を
    １移動周期内で反復的に繰り返し、 ｊ）厚さ横断面を反復的に測定されたストリップ厚さ
    （Ｄm）から規定し、厚さ縦断面を反復的に修正された
    ストリップ厚さ（Ｄok）から規定する方法。
  2. 【請求項２】 測定ユニット（６）を測定ポイント（２
    ２）当たり少なくとも１つの検知器（１０）と、少なく
    とも１つの放射線源（８）とから形成する、請求項１記
    載の方法。
  3. 【請求項３】 検知器（１０）を用いて材料ストリップ
    （２）によって減衰された放射線の強さを測定する、請
    求項１または２記載の方法。
  4. 【請求項４】 測定ユニット（６）において複数の測定
    ポイント（２２）、特に５つの測定ポイント（２２）、
    好ましくは７つの測定ポイント（２２）を使用する、請
    求項１から３のいずれか１項記載の方法。
  5. 【請求項５】 所定の測定周期の継続時間にわたって各
    測定ポイントの測定値を処理する、請求項１から４のい
    ずれか１項記載の方法。
  6. 【請求項６】 ステップｂ）において、縦方向位置（２
    ４）を材料ストリップ（２）の中央に配置する、請求項
    １から５のいずれか１項記載の方法。
  7. 【請求項７】 ステップｃ）において、測定ポイント
    （２２）によって把捉された材料ストリップ（２）の範
    囲の内部に縦方向位置（２４）が配置されていて、スト
    リップ厚さ（Ｄo）が測定ポイント（２２）で測定され
    たストリップ厚さ（Ｄ）の補間によって計算されるよう
    に、測定ユニット（６）を配置する、請求項１から６の
    いずれか１項記載の方法。
  8. 【請求項８】 縦方向位置（２４）を測定ポイント（２
    ２）によって直接把捉する、請求項１から７のいずれか
    １項記載の方法。
  9. 【請求項９】 縦方向位置（２４）を奇数の測定位置の
    平均数によって直接把捉する、請求項８記載の方法。
  10. 【請求項１０】 ステップｄ）において、測定ユニット
    （６）を所定の移動速度でストリップ進行方向に対して
    横断方向に移動させる、請求項１から９のいずれか１項
    記載の方法。
  11. 【請求項１１】 材料ストリップ（２）のエッジの範囲
    で移動速度を減少させる、請求項１０記載の方法。
  12. 【請求項１２】 移動量（ΔＰ）を所定の修正周期の継
    続時間と移動速度とから計算する、請求項１０または１
    １記載の方法。
  13. 【請求項１３】 ステップｅ）において、修正周期の経
    過後にストリップ厚さ（Ｄ）の勾配（Ｋ）を実施する、
    請求項１から１２のいずれか１項記載の方法。
  14. 【請求項１４】 修正周期の継続時間を少なくとも測定
    周期の継続時間に等しい長さに調節する、請求項１３記
    載の方法。
  15. 【請求項１５】 修正周期の継続時間を測定周期の継続
    時間の数倍として調節し、勾配（ｋ）を計算するために
    修正周期にわたって求めた各測定ポイント（２２）のス
    トリップ厚さ（Ｄ）の平均値を使用する、請求項１４記
    載の方法。
  16. 【請求項１６】 直線回帰を用いて、ストリップ厚さ
    （Ｄ）と、ストリップ進行方向に対して横断方向の測定
    ポイント（２２）の絶対的位置とから勾配（ｋ）を計算
    することを特徴とする請求項１から１５のいずれか１項
    記載の方法。
  17. 【請求項１７】 ２より大きいｎ個の測定ポイントと、
    ｎ−１次の多項式の回帰計算とを用いて、ストリップ厚
    さ（Ｄ）と、ストリップ進行方向に対して横断方向の測
    定ポイント（２２）の絶対的位置とから勾配（ｋ）を計
    算する、請求項１から１６のいずれか１項記載の方法。
  18. 【請求項１８】 ステップｆ）において、２次、場合に
    よってはより高次の修正項で修正値（ΔＫ）を計算す
    る、請求項１から１７のいずれか１項記載の方法。
  19. 【請求項１９】 ステップｇ）において、平均ストリッ
    プ厚さ（Ｄm）を測定ポイント（２２）のストリップ厚
    さ（Ｄ）の算術平均として計算する、請求項１から１８
    のいずれか１項記載の方法。
  20. 【請求項２０】 測定ポイント（２２）によって包囲さ
    れた材料ストリップ（２）の範囲の中央で平均ストリッ
    プ厚さ（Ｄm）を計算する、請求項１から１９のいずれ
    か１項記載の方法。
  21. 【請求項２１】 ステップｉ）において、縦方向位置
    （２４）に対して相対的な最大移動を材料ストリップ
    （２）の縁部によって設定する、請求項１から２０のい
    ずれか１項記載の方法。
  22. 【請求項２２】 材料ストリップ（２）のエッジを把捉
    するために両外側測定ポイント（２２ａ、２２ｇ）を用
    いる、請求項１から２１のいずれか１項記載の方法。
  23. 【請求項２３】 ステップｃ）で測定された移動周期の
    開始時の縦方向位置におけるストリップ厚さ（Ｄo）
    と、ステップｉ）で移動周期の終了時に測定された修正
    ストリップ厚さ（Ｄok）との差を、最後の移動周期の修
    正の精度の尺度として使用する、請求項１から２２のい
    ずれか１項記載の方法。
  24. 【請求項２４】 厚さ横断面を規定するために測定ユニ
    ット（６）を縦方向位置（２４）に対して横断方向で両
    側に交互に移動させる、請求項１から２３のいずれか１
    項記載の方法。
  25. 【請求項２５】 進行する材料ストリップ（２）の厚さ
    横断面と厚さ縦断面を規定するための、特に請求項１か
    ら２４のいずれか１項記載の方法を実施するための装置
    であって、 ハウジング（４）を有しており、 ハウジング（４）内に配置されている少なくとも１つの
    放射線源（８）を有しており、 ハウジング（４）内に
    配置されている少なくとも２つの検知器（１０）を有し
    ており、これらの検知器がストリップ進行方向に対して
    横断方向で互いに間隔を置いて配置されていて、種々異
    なる角度で少なくとも１つの放射線源（８）に向けて位
    置調整されており、 材料ストリップ（２）が放射線源
    （８）と検知器（１０）との間に配置されており、 検知器（１０）が材料ストリップ（２）をストリップ進
    行方向に対して横断方向で区分毎に把捉するようにした
    装置において、 放射線源（８）と検知器（１０）とを材料ストリップ
    （２）に対して相対的に同期移動させるための移動手段
    （１３）が設けられていることを特徴とする装置。
  26. 【請求項２６】 ハウジング（４）がＣ字形に形成され
    ていることを特徴とする請求項２５記載の装置。
  27. 【請求項２７】 放射線源（８）が高エネルギーの電磁
    放射線、特にガンマ線またはＸ線を放出することを特徴
    とする請求項２５または２６記載の装置。
  28. 【請求項２８】 複数の検知器（１０ａ〜１０ｇ）が設
    けられていることを特徴とする請求項２５から２７のい
    ずれか１項記載の装置。
  29. 【請求項２９】 外側の検知器（１０ａ、１０ｇ）が、
    材料ストリップ（２）の外側エッジに到達したことを検
    出することを特徴とする請求項２８記載の装置。
  30. 【請求項３０】 検知器（１０）が電離箱、シンチレー
    ション計数器、計数管または半導体検知器として形成さ
    れていることを特徴とする請求項２５から２９のいずれ
    か１項記載の装置。
  31. 【請求項３１】 移動手段（１３）が材料ストリップ
    （２）の全幅の周期的把捉を可能にすることを特徴とす
    る請求項２５から３０のいずれか１項記載の装置。
  32. 【請求項３２】 移動手段（１３）が放射線源（８）と
    検知器（１０）とからなる測定ユニット（６）を材料ス
    トリップ（２）に向かって移動させることを特徴とする
    請求項２５から３１のいずれか１項記載の装置。
  33. 【請求項３３】 移動手段（１３）がハウジング（４）
    を放射線源（８）と検知器（１０）と一緒に材料ストリ
    ップ（２）に対して相対的に移動させることを特徴とす
    る請求項３２記載の装置。
  34. 【請求項３４】 移動手段（１３）が放射線源（８）と
    検知器（１０）とをハウジング（４）に対して相対的に
    移動させることを特徴とする請求項３２記載の装置。
  35. 【請求項３５】 移動手段（１３）が少なくとも１つの
    直線ガイド（１８）と直線駆動装置とを有していること
    を特徴とする請求項２５から３４のいずれか１項記載の
    装置。
  36. 【請求項３６】 移動手段（１３）が材料ストリップ
    （２）に対して測定ユニット（６）の位置を規定するた
    めの測定装置を有していることを特徴とする請求項２５
    から３５のいずれか１項記載の装置。
  37. 【請求項３７】 請求項１から２４のいずれか１項記載
    の方法を実施するために請求項２５から３６のいずれか
    １項記載の装置を使用。
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