JP3398338B2 - 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 - Google Patents
4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法Info
- Publication number
- JP3398338B2 JP3398338B2 JP12332899A JP12332899A JP3398338B2 JP 3398338 B2 JP3398338 B2 JP 3398338B2 JP 12332899 A JP12332899 A JP 12332899A JP 12332899 A JP12332899 A JP 12332899A JP 3398338 B2 JP3398338 B2 JP 3398338B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dinitroresorcin
- resorcinol
- producing
- acid
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
ゾルシンの新規な製造方法に関する。4,6−ジニトロ
レゾルシンは耐熱性・強度・弾性率などの性質に優れた
ポリベンゾビスオキサゾール(PBO)樹脂の原料モノ
マーである4,6−ジアミノレゾルシンの前駆体として
利用される。 【0002】 【従来の技術】従来の4,6−ジニトロレゾルシンの製
造方法および4,6−ジニトロレゾルシン誘導体を経由
して4,6−ジアミノベンゼンを製造する方法としては
レゾルシンをアセチル化してニトロ化する方法(Be
r.Dtch.Chem.,16,552,188
3)、1,3−ビス(アルキルカーボネート)ベンゼン
をニトロ化する方法(特開平2−136号公報)などが
知られている。 【0003】しかしこれらの方法においてはレゾルシン
の水酸基に対して保護基を導入するため工程が煩雑で高
コストとなり、また加水分解工程において脱離した保護
基が回収不可能な副生成物となるなど工業的には問題が
あった。 【0004】また保護基を使用しない方法としてはハロ
ベンゼンを原料として用いる方法が提案されており、ト
リクロロベンゼンをニトロ化する方法(特開平2−50
0743号公報)、ジハロベンゼンをニトロ化してアル
カリで加水分解する方法(特開平1−238561号公
報、特開平7−233127号公報、特開平7−316
102号公報、特開平8−73417号公報)等が知ら
れている。 【0005】しかしこれらの方法においては4,6−ジ
ニトロレゾルシンは加水分解を行なうアルカリ条件下で
不安定であるため、生成した4,6−ジニトロレゾルシ
ンの分解を避けるために工程が煩雑になりがちであっ
た。またトリクロロベンゼンおよびそのニトロ化物は毒
性が強く皮膚のかぶれを引き起こすなどの問題があり、
作業者の安全上ハロベンゼンのニトロ化物を経由する事
は好ましくない。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は4,6
−ジニトロレゾルシンを工業的に有利に製造する新規な
方法を提供することにある。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するため鋭意検討を行なった結果、レゾルシンをス
ルホン化して2,4,6−トリスルホン酸レゾルシンと
なし、さらに2,4,6−トリスルホン酸レゾルシンを
ニトロ化すると高い位置選択性で2−スルホン酸−4,
6−ジニトロレゾルシンが得られ、該化合物を加水分解
することで4,6−ジニトロレゾルシンが高収率で得ら
れることを見出し、本発明を完成するに到った。 【0008】即ち、本発明は以下のものである。次の各
工程からなる4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法。 (1)レゾルシンをスルホン化剤と接触させて2,4,
6−トリスルホン酸レゾルシンを製造する第一工程、
(2)2,4,6−トリスルホン酸レゾルシンをニトロ
化剤と接触させて2−スルホン酸−4,6−ジニトロレ
ゾルシンを製造する第二工程、(3)2−スルホン酸−
4,6−ジニトロレゾルシンを加水分解して4,6−ジ
ニトロレゾルシンを製造する第三工程。 【0009】 【発明の実施の形態】本発明における第一工程はレゾル
シンをスルホン化して2,4,6−トリスルホン酸レゾ
ルシンを得る工程である。ここでは該物質を製造し得る
ような公知のスルホン化剤が使用でき、例えば濃硫酸、
発煙硫酸、三酸化イオウ等が用いられる。適当な溶媒中
で反応を行なってもよいが溶媒を用いず過剰の濃硫酸ま
たは発煙硫酸中で反応を行なうのが工業上有利であり、
加水分解による脱スルホン化を防ぐために80〜100
%濃度の濃硫酸または発煙硫酸を使用するのが好まし
い。反応中に生成する水によって硫酸濃度が低下するた
め、濃硫酸または発煙硫酸の量は反応終了時に硫酸濃度
が60%以上となるような量を使用する。その値は使用
する硫酸濃度によっても異なるが、容積効率などを考慮
するとレゾルシンに対して5〜50重量倍程度が好まし
い。反応は所望の物質が得られるあらゆる温度範囲で行
なう事ができるが、硫酸中のSO3濃度が高くなるほど
低くする事ができ、逆に硫酸濃度が低くなると高い反応
温度が必要となる。好ましい反応温度は0℃〜200℃
程度、さらに好ましくは20〜100℃程度である。 【0010】本発明における第二工程は2,4,6−ト
リスルホン酸レゾルシンのニトロ化により2−スルホン
酸−4,6−ジニトロレゾルシンを得る工程である。こ
こでは該化合物を製造し得るような公知のニトロ化剤が
使用でき、例えば硝酸、発煙硝酸、硝酸ナトリウム、硝
酸カリウムなどの硝酸塩等が用いられる。2,4,6−
トリスルホン酸レゾルシンを単離してニトロ化してもよ
いが、該化合物の単離は困難であるためスルホン化マス
にニトロ化剤を装入してワンポットでニトロ化を行なう
のが工業的に有利である。使用するニトロ化剤の量はレ
ゾルシンに対して1〜10モル倍程度であればよく、反
応を十分に進行させかつ過剰なニトロ化を抑制するため
には2〜4モル倍程度が好ましい。 【0011】反応は所望の物質が得られるあらゆる温度
範囲で行なう事ができるが、反応温度が高すぎる場合は
反応の進行が早く望ましくない副反応が起こるため、通
常は冷却により反応温度を制御しながら行なわれる。好
ましい反応温度は0〜80℃程度、さらに好ましくは0
〜50℃程度である。 【0012】本発明における第三工程は2−スルホン酸
−4,6−ジニトロレゾルシンを鉱酸中で加熱、加水分
解して4,6−ジニトロレゾルシンを得る工程である。
使用される鉱酸は硫酸、塩酸、りん酸等であり脱離した
スルホン基が再結合することを防ぐために水で十分に稀
釈する必要がある。好ましい鉱酸濃度範囲は5〜70%
程度であり、必要に応じて硫酸結合剤を添加してもよ
い。使用する鉱酸水溶液の量は特に制限されるものでは
ないが、攪拌効率および容積効率の観点より2−スルホ
ン酸−4,6−ジニトロレゾルシンに対して2〜50重
量倍程度が好ましい。反応温度は50℃〜還流温度程度
である。 【0013】この工程は2−スルホン酸−4,6−ジニ
トロレゾルシンを単離して行ってもよいし第二工程より
単離することなく引き続き行なうこともできる。第二工
程のニトロ化の条件によっては2,4,6−トリニトロ
レゾルシンが副生する事があるが、これは反応マスを水
で稀釈して2−スルホン酸−4,6−ジニトロレゾルシ
ンを溶解させ、2,4,6−トリニトロレゾルシンをろ
別する事で除去できる。必要に応じてろ液を更に有機溶
媒で抽出してもよい。ここで使用できる有機溶媒は水と
混和せずに2,4,6−トリニトロレゾルシンを溶解し
得るようなものであればよくヘキサン、ベンゼン等の炭
化水素類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類などが挙げられ
る。 【0014】2−スルホン酸−4,6−ジニトロレゾル
シンの単離は反応マスをそのままろ過するか、あるいは
中和してアルカリ塩として得られる。第二工程より引き
続き加水分解を行なう場合は反応マスを所定条件の鉱酸
水溶液になるように稀釈すればよい。 【0015】加水分解反応が進行すると4,6−ジニト
ロレゾルシンの結晶が徐々に析出するため、反応終了後
に結晶をろ過する事で目的の4,6−ジニトロレゾルシ
ンが得られる。得られた4,6−ジニトロレゾルシンは
必要に応じてエタノールなどの溶媒で再結晶して精製す
る事ができる。 【0016】 【実施例】以下実施例をあげて本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 【0017】実施例1 30%発煙硫酸50gにレゾルシン5.5g(0.05
モル)をゆっくり装入した後に90℃に昇温したところ
反応マスは暗赤色の溶液となり、液体クロマトグラフィ
ー(HPLC)による分析で2,4,6−トリスルホン
酸レゾルシンの生成が確認された。スルホン化マスを氷
冷し、60%硝酸10.5g(0.1モル)を滴下した
ところ激しい発熱があり、反応マスは黄褐色のスラリー
となった。このニトロ化マスを氷100g中に装入、ろ
過して副生した2,4,6−トリニトロレゾルシンを除
去した後、ろ液を100℃に加熱して加水分解を行なっ
たところ徐々に結晶の析出が見られた。これをろ別して
窒素下で風乾し、4,6−ジニトロレゾルシン8.03
g(収率80.3%)を得た。 HPLC分析条件 カラム:YMC−312A(ODS) 移動相:アセトニトリル:水:PIC=1000:20
00:10 PIC=10%テトラ−n−ブチルアンモニウムヒドロ
キシドメタノール溶液 流速 :1ml/min 検出波長:254nm 恒温層:40℃ 【0018】実施例2 30%発煙硫酸80gを氷冷し、レゾルシン5.5g
(0.05モル)をゆっくり装入した後に140℃に昇
温したところ反応マスは暗赤色の溶液となり、液体クロ
マトグラフィーによる分析で2,4,6−トリスルホン
酸レゾルシンの生成が確認された。スルホン化マスを氷
冷し、60%硝酸21.0g(0.2モル)を滴下した
ところ激しい発熱があり、反応マスは褐色となった。こ
のニトロ化マスを氷200g中に装入、ろ過して副生し
た2,4,6−トリニトロレゾルシンを除去し、さらに
クロロホルム200mlで残存している2,4,6−ト
リニトロレゾルシンを抽出した後、水層に49%NaO
Hを滴下したところ黄白色結晶が析出してスラリーとな
った。91g滴下したところでこれをろ過、窒素下で風
乾して2−スルホン酸−4,6−ジニトロレゾルシンナ
トリウム塩の黄白色結晶8.47gを得た。得られた黄
白色結晶のうち2.49gを20%硫酸50g中に溶解
し、100℃で加水分解を行なったところ徐々に結晶の
析出が見られた。これをろ別して窒素下で風乾し、4,
6−ジニトロレゾルシン1.34g(収率45.8%)
を得た。 【0019】 【発明の効果】本発明においてはレゾルシンに対し高い
位置選択性を有して4,6−位のニトロ化を行なうこと
ができる。即ち本発明によれば4,6−ジニトロレゾル
シンを工業的に有利に製造することができる。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 次の各工程からなる4,6−ジニトロレ
ゾルシンの製造方法。 (1) レゾルシンをスルホン化剤と接触させて2,
4,6−トリスルホン酸レゾルシンを製造する第一工
程、(2) 2,4,6−トリスルホン酸レゾルシンを
ニトロ化剤と接触させて2−スルホン酸−4,6−ジニ
トロレゾルシンを製造する第二工程、(3) 2−スル
ホン酸−4,6−ジニトロレゾルシンを加水分解して
4,6−ジニトロレゾルシンを製造する第三工程。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12332899A JP3398338B2 (ja) | 1999-04-30 | 1999-04-30 | 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 |
US09/556,814 US6359180B1 (en) | 1999-04-30 | 2000-04-21 | Production method of 4,6-diaminoresorcin |
KR1020000021959A KR100361998B1 (ko) | 1999-04-30 | 2000-04-25 | 4,6-디아미노레조르신의 제조방법 |
TW89108108A TWI240719B (en) | 1999-04-30 | 2000-04-28 | Production method of 4,6-diaminoresorcin |
CNB00117956XA CN1165521C (zh) | 1999-04-30 | 2000-04-30 | 4,6-二氨基间苯二酚的制备方法 |
EP00303678A EP1048644B1 (en) | 1999-04-30 | 2000-05-02 | Process for the preparation of 4,6-diaminoresorcin |
DE60002254T DE60002254T2 (de) | 1999-04-30 | 2000-05-02 | Verfahren zur Herstellung von 4,6-diaminoresorcin |
US10/058,415 US6974881B2 (en) | 1999-04-30 | 2002-01-30 | Production method of 4,6-diaminoresorcin |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12332899A JP3398338B2 (ja) | 1999-04-30 | 1999-04-30 | 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000319231A JP2000319231A (ja) | 2000-11-21 |
JP3398338B2 true JP3398338B2 (ja) | 2003-04-21 |
Family
ID=14857847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12332899A Expired - Lifetime JP3398338B2 (ja) | 1999-04-30 | 1999-04-30 | 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3398338B2 (ja) |
-
1999
- 1999-04-30 JP JP12332899A patent/JP3398338B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000319231A (ja) | 2000-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001518904A (ja) | 4−ブロモメチルジフェニル化合物の調製方法 | |
JP3398338B2 (ja) | 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 | |
JPH0329780B2 (ja) | ||
JP2647177B2 (ja) | 4,6‐ジニトロレゾルシノールの調製方法 | |
JP2804605B2 (ja) | 1,3―ジ―アリールメトキシ―4,6―ジニトロ―ベンゼン類、それらの製造方法、および4,6―ジアミノレソルシノールの製造方法 | |
JP3398347B2 (ja) | 2−スルホン酸−4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 | |
US6359180B1 (en) | Production method of 4,6-diaminoresorcin | |
JP3398340B2 (ja) | 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 | |
EP0274194B1 (en) | Process for the preparation of 2-nitro-5-phenoxy-n-alkylsulfonyl benzamides by nitration | |
US7999112B2 (en) | Reusable transition metal complex catalyst useful for the preparation of high pure quality 3,3′-diaminobenzidine and its analogues and a process thereof | |
JP3398342B2 (ja) | 4,6−ジアミノレゾルシンの製造方法 | |
JPH07242604A (ja) | 4,6−ジアミノレゾルシノールおよびその前駆体の製造方法 | |
JP3398339B2 (ja) | 2−スルホン酸−4,6−ジニトロレゾルシン及びその塩とそれらの製造方法 | |
JP2004285004A (ja) | 4,6−ジアミノレゾルシノールの製造方法 | |
JPH0354930B2 (ja) | ||
JPH0841047A (ja) | 新規なフルオル化されたo−ジアミノベンゾ−1,4−ジオキセン | |
JP2859791B2 (ja) | 4−ブロモメチルビフェニル化合物の製造法 | |
KR100234626B1 (ko) | 2-(2,6-디클로로페닐)아미노)페닐아세톡시아세트산의제조방법 | |
JP3380502B2 (ja) | ポリベンゾビスオキサゾールの製造方法 | |
JP2004115403A (ja) | 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法 | |
KR100276974B1 (ko) | 아세클로페낙의 제조방법 | |
KR970005377B1 (ko) | 2,6-디니트로파라크레졸의 제조방법 | |
JP2001288151A (ja) | 4,6−ジアミノレゾルシン2塩酸塩の製造方法 | |
JP2001316340A (ja) | アミノヒドロキシ芳香族カルボン酸及び/又はその誘導体の製造方法 | |
JP2003277331A (ja) | 4,6−ジニトロレゾルシンの製造方法及び新規なジヒドロキシ安息香酸類のスルホン化物及びその塩 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090214 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100214 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110214 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120214 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120214 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130214 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130214 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140214 Year of fee payment: 11 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |