JP3395149B2 - 光触媒の製造方法 - Google Patents
光触媒の製造方法Info
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
- B01J35/39—Photocatalytic properties
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- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/02—Sulfur, selenium or tellurium; Compounds thereof
- B01J27/04—Sulfides
- B01J27/043—Sulfides with iron group metals or platinum group metals
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Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は，一般に，新規な光触媒に関し，さらに，光
触媒を用いて水から効率的にかつ経済的に水素を製造可
能な光反応に関する。また，本発明は，該光触媒を製造
する方法および水素を製造する方法に関する。
触媒を用いて水から効率的にかつ経済的に水素を製造可
能な光反応に関する。また，本発明は，該光触媒を製造
する方法および水素を製造する方法に関する。
背景技術
水素は，化学産業において非常に重要な材料である。
例えば，水素は，アンモニアを製造する場合や塩化水素
を合成する場合に使用される。また，水素は，不飽和化
合物を飽和化合物に変換する水素化反応にとって不可欠
の材料である。さらに，水素は，石油製品の品質を改良
する際，すなわち，水素添加処理，水素化脱硫，脱窒処
理，脱金属処理などにおいて中心的に役割を演ずる。水
素使用の他の例としては，地球温暖化の原因物質である
炭酸ガスを回収，固定化，再利用する場合の接触水素化
反応が挙げられる。さらに，水素は，現存の化石燃料に
代わる，汚染の無いクリアなエネルギ源としても注目さ
れている。
例えば，水素は，アンモニアを製造する場合や塩化水素
を合成する場合に使用される。また，水素は，不飽和化
合物を飽和化合物に変換する水素化反応にとって不可欠
の材料である。さらに，水素は，石油製品の品質を改良
する際，すなわち，水素添加処理，水素化脱硫，脱窒処
理，脱金属処理などにおいて中心的に役割を演ずる。水
素使用の他の例としては，地球温暖化の原因物質である
炭酸ガスを回収，固定化，再利用する場合の接触水素化
反応が挙げられる。さらに，水素は，現存の化石燃料に
代わる，汚染の無いクリアなエネルギ源としても注目さ
れている。
水素を得るための従来の技法は，ナフサや天然ガス変
成品などの化石燃料からの抽出，鉄と蒸気との反応，金
属と水との反応，水の電気分解などを含んでいる。これ
らの技法は，莫大な熱や電気的エネルギが必要であるた
め，経済的には好ましくない。さらに，従来の技法に
は，大量の副生成物，二酸化炭素や酸素（電気分解時）
を発生させるという，別の不都合もある。すでに説明し
たように，二酸化炭素は地球の温室効果を引き起こす重
大な空気汚染物質である。また，酸素が発生すると，プ
ロセスが複雑になるため，酸素から水素を分離すること
が困難となる。いずれにせよ，かかる副生成物のために
高収率で高純度の水素を得ることが困難になり得る。か
かる従来の技法を用いた水素製造は，通常，比較的高温
で行われるため，大部分の関連機器，例えば，反応装置
や純化装置などは，耐熱的に設計されており，その結
果，非常に高価となり，経済的に好ましくない要因の一
つとなりうる。
成品などの化石燃料からの抽出，鉄と蒸気との反応，金
属と水との反応，水の電気分解などを含んでいる。これ
らの技法は，莫大な熱や電気的エネルギが必要であるた
め，経済的には好ましくない。さらに，従来の技法に
は，大量の副生成物，二酸化炭素や酸素（電気分解時）
を発生させるという，別の不都合もある。すでに説明し
たように，二酸化炭素は地球の温室効果を引き起こす重
大な空気汚染物質である。また，酸素が発生すると，プ
ロセスが複雑になるため，酸素から水素を分離すること
が困難となる。いずれにせよ，かかる副生成物のために
高収率で高純度の水素を得ることが困難になり得る。か
かる従来の技法を用いた水素製造は，通常，比較的高温
で行われるため，大部分の関連機器，例えば，反応装置
や純化装置などは，耐熱的に設計されており，その結
果，非常に高価となり，経済的に好ましくない要因の一
つとなりうる。
水素ガスは，非常に軽量であり，また水や無機物に含
まれて存在しているため，容易に地球の重力から離脱し
得る。これらの理由のため，大気中には少量の水素のみ
が存在する。したがって，水から効果的に高純度の水素
を得ることができる技法の開発は，代替エネルギ源の開
発という緊急問題を解決可能であり，化学産業のための
材料を保証するという意味で，非常に重量である。
まれて存在しているため，容易に地球の重力から離脱し
得る。これらの理由のため，大気中には少量の水素のみ
が存在する。したがって，水から効果的に高純度の水素
を得ることができる技法の開発は，代替エネルギ源の開
発という緊急問題を解決可能であり，化学産業のための
材料を保証するという意味で，非常に重量である。
最近，水を水素と酸素に分解するために光触媒を使用
する水素製造技法が開発された。しかしながら，水素製
造用光触媒に関する従来技術は，例えば，日本国特開昭
62−191045号，日本国特開昭63−107815号などに代表さ
れるように，わずかに公表されているに過ぎない。
する水素製造技法が開発された。しかしながら，水素製
造用光触媒に関する従来技術は，例えば，日本国特開昭
62−191045号，日本国特開昭63−107815号などに代表さ
れるように，わずかに公表されているに過ぎない。
日本国特開昭62−191045号は，希土類元素化合物の存
在下において水性Na2S溶液から光分解反応により水素を
生成する技法を開示している。希土類化合物には，可視
光の範囲内において光触媒活性を有するという利点を有
している。
在下において水性Na2S溶液から光分解反応により水素を
生成する技法を開示している。希土類化合物には，可視
光の範囲内において光触媒活性を有するという利点を有
している。
日本国特開昭63−107815号は，ニオビウムとアルカリ
土類金属の複合酸化物が光触媒として使用されて，メタ
ノール水溶液から水素を生成する方法が開示されてい
る。先の場合と同様に，この光触媒は可視光の範囲内に
おいて活性であるという利点を有している。
土類金属の複合酸化物が光触媒として使用されて，メタ
ノール水溶液から水素を生成する方法が開示されてい
る。先の場合と同様に，この光触媒は可視光の範囲内に
おいて活性であるという利点を有している。
しかしながら，これらの従来技術は，発生する水素の
量が非常に少ないという欠点を有している。
量が非常に少ないという欠点を有している。
本発明者にかかる韓国特許出願第65−7721号は，上記
問題をある程度解決するものとして，下記の一般式Ｉで
示される光触媒が開示されている。
問題をある程度解決するものとして，下記の一般式Ｉで
示される光触媒が開示されている。
Cs（ａ）/K4Nb6O17 …（Ｉ）
この光触媒の存在下において，紫外光が，ホルムアルデ
ヒドやアルコールなどの酸素含有有機系化合物が混入さ
れた水溶液に照射されると，水素生成促進剤として作用
して，水素が製造される。
ヒドやアルコールなどの酸素含有有機系化合物が混入さ
れた水溶液に照射されると，水素生成促進剤として作用
して，水素が製造される。
この技法は環境に対する影響が少なく，低温，例えば
室温で水素を発生させることができる。しかしながら，
水素生成促進剤としての酸素含有有機化合物は，反応物
を再利用することが不可能である。
室温で水素を発生させることができる。しかしながら，
水素生成促進剤としての酸素含有有機化合物は，反応物
を再利用することが不可能である。
発明の開示
したがって，本発明の目的は，従来技術が直面する上
記問題点を克服し，可視光の範囲内で活性であり，低
温，例えば室温で大量の水素を効率的に製造することが
可能であり，酸素含有有機系化合物を使用せずに水素を
製造することが可能な新規な光触媒の製造方法を提供す
ることである。
記問題点を克服し，可視光の範囲内で活性であり，低
温，例えば室温で大量の水素を効率的に製造することが
可能であり，酸素含有有機系化合物を使用せずに水素を
製造することが可能な新規な光触媒の製造方法を提供す
ることである。
本発明によれば，以下の一般式IIにより表される光触
媒の製造方法が提供される。
媒の製造方法が提供される。
Pt（ａ）/Zn［Ｍ（ｂ）］Ｓ …（II）
ここで，「ａ」は，光触媒中のPtの重量パーセント（好
ましくは,0.1〜3.5の範囲内）を表し，「Ｍ」は促進剤
として機能し,Co,Fe,NiおよびＰから成る群から選択さ
れた任意の元素であり，「ｂ」は,M/Znのモルパーセン
ト（好ましくは,0.05〜30の範囲内）を表す。
ましくは,0.1〜3.5の範囲内）を表し，「Ｍ」は促進剤
として機能し,Co,Fe,NiおよびＰから成る群から選択さ
れた任意の元素であり，「ｂ」は,M/Znのモルパーセン
ト（好ましくは,0.05〜30の範囲内）を表す。
本発明の製造方法によれば,M/Znのモルパーセントが
0.05〜30の範囲になるようにZn含有化合物およびＭ含有
化合物を水中に溶解し;H2SまたはNa2Sを得られた溶液中
に反応体として添加し撹拌して沈殿物Zn［Ｍ］Ｓを生成
し;pH7に到達するまで前記沈殿物を水で洗浄し，前記沈
殿物を乾燥し；得られた物質を250〜350℃で１〜３時間
にわたり焼結し；得られた物質を酸によりエッチング
し；得られた物質に，光触媒中のPtの重量パーセントが
0.1〜3.5の範囲になるように水溶液状の白金（Pt）含有
化合物を添加し，紫外線を照射し；得られた物質をpH7
に到達するまで水で洗浄し；得られた物質を乾燥させて
焼結させて光触媒を製造する方法が提供される。
0.05〜30の範囲になるようにZn含有化合物およびＭ含有
化合物を水中に溶解し;H2SまたはNa2Sを得られた溶液中
に反応体として添加し撹拌して沈殿物Zn［Ｍ］Ｓを生成
し;pH7に到達するまで前記沈殿物を水で洗浄し，前記沈
殿物を乾燥し；得られた物質を250〜350℃で１〜３時間
にわたり焼結し；得られた物質を酸によりエッチング
し；得られた物質に，光触媒中のPtの重量パーセントが
0.1〜3.5の範囲になるように水溶液状の白金（Pt）含有
化合物を添加し，紫外線を照射し；得られた物質をpH7
に到達するまで水で洗浄し；得られた物質を乾燥させて
焼結させて光触媒を製造する方法が提供される。
本発明のさらに別の観点によれば,Na2Sが電子ドナー
として添加され,NaH2PO2が還元剤として添加された前記
光触媒の懸濁液に紫外光または可視光を照射することに
より水素を製造する方法が提供される。
として添加され,NaH2PO2が還元剤として添加された前記
光触媒の懸濁液に紫外光または可視光を照射することに
より水素を製造する方法が提供される。
発明を実施するための最良の形態
促進剤として機能する，本発明にかかる光触媒中のＭ
成分は,Co,Fe,NiおよびＰから成る群から選択された任
意の元素であり，好ましくは,M/Znのモルパーセントが
0.05〜30約0.05〜30の範囲にある量が使用される。例え
ば,M成分が少な過ぎる場合には，光触媒中のZn2+イオン
が減じて濃灰色のZnが生じ触媒の活性を損じることにな
る。これに対して,M成分が多すぎる場合には，光触媒は
水素を生成する能力を大幅に減じることになる。
成分は,Co,Fe,NiおよびＰから成る群から選択された任
意の元素であり，好ましくは,M/Znのモルパーセントが
0.05〜30約0.05〜30の範囲にある量が使用される。例え
ば,M成分が少な過ぎる場合には，光触媒中のZn2+イオン
が減じて濃灰色のZnが生じ触媒の活性を損じることにな
る。これに対して,M成分が多すぎる場合には，光触媒は
水素を生成する能力を大幅に減じることになる。
本発明の光触媒において,Ptは電子アクセプタとして
機能し，好ましくは,0.1〜3.5重量パーセントの量が使
用される。Ptの量が限界値以下の場合には，光触媒の水
素生産率が低減するとともに寿命が短縮する。他方,PT
が限界値以上の場合には，水素の発生量が添加量に応じ
ては増加せず，触媒の製造コストの増加を鑑みれば経済
的に好ましくない。
機能し，好ましくは,0.1〜3.5重量パーセントの量が使
用される。Ptの量が限界値以下の場合には，光触媒の水
素生産率が低減するとともに寿命が短縮する。他方,PT
が限界値以上の場合には，水素の発生量が添加量に応じ
ては増加せず，触媒の製造コストの増加を鑑みれば経済
的に好ましくない。
亜鉛の硫黄の量に関しては，硫黄に対する亜鉛のモル
比が,1:0.1〜1:2.8の範囲内，さらに好ましくは,1:0.6
〜1:1.4の範囲内にあることが好ましい。例えば，モル
比がこれらの範囲から外れると，光触媒の効率は著しく
低減する。
比が,1:0.1〜1:2.8の範囲内，さらに好ましくは,1:0.6
〜1:1.4の範囲内にあることが好ましい。例えば，モル
比がこれらの範囲から外れると，光触媒の効率は著しく
低減する。
Zn含有化合物としては，例えば,ZnSO4・7H2O,Zn（N
O3）２・6H2Oなどがあり,M含有化合物は，例えば,Co（N
O3）２・6H2O,NiCl2・6H2O,Fe（NO3）２・9H2O,H3PO2お
よびH3PO4などから得ることができる。本発明の光触媒
の製造方法において,pH7に制御した後の乾燥および焼結
の工程は，沈殿物その他の残留酸性溶液中の酸性金属塩
溶液を除去するために行われる。
O3）２・6H2Oなどがあり,M含有化合物は，例えば,Co（N
O3）２・6H2O,NiCl2・6H2O,Fe（NO3）２・9H2O,H3PO2お
よびH3PO4などから得ることができる。本発明の光触媒
の製造方法において,pH7に制御した後の乾燥および焼結
の工程は，沈殿物その他の残留酸性溶液中の酸性金属塩
溶液を除去するために行われる。
一次焼結後の酸によるエッチングは,Zn［Ｍ］Ｓの表
面に形成されうる酸化物を除去するために行われるもの
である。好ましい酸の例は，硝酸，塩酸および硫酸であ
り，処理の便利さを考慮すれば，最も好ましくは硝酸で
ある。
面に形成されうる酸化物を除去するために行われるもの
である。好ましい酸の例は，硝酸，塩酸および硫酸であ
り，処理の便利さを考慮すれば，最も好ましくは硝酸で
ある。
好ましくは,Zn［Ｍ］Ｓは，水素化ヘキサクロロ白金
（H2PtCl6）を水中に溶解することによりPtが注入さ
れ，水中にZn［Ｍ］Ｓを添加して，その水に紫外光を照
射する。このようにして得られたPtが注入されたZn
［Ｍ］ＳはpH7になるまで水で洗浄され100〜120℃で乾
燥された焼結されて本発明にかかる光触媒が製造され
る。焼結時に，温度は好ましくは250〜350℃である。例
えば，上記範囲よりも低い温度で焼結を実行した場合に
は，得られた光触媒の寿命が短縮する。これに対して，
上記範囲よりも高い温度で焼結を行った場合には，得ら
れた光触媒の水素生産率は低くなってしまう。
（H2PtCl6）を水中に溶解することによりPtが注入さ
れ，水中にZn［Ｍ］Ｓを添加して，その水に紫外光を照
射する。このようにして得られたPtが注入されたZn
［Ｍ］ＳはpH7になるまで水で洗浄され100〜120℃で乾
燥された焼結されて本発明にかかる光触媒が製造され
る。焼結時に，温度は好ましくは250〜350℃である。例
えば，上記範囲よりも低い温度で焼結を実行した場合に
は，得られた光触媒の寿命が短縮する。これに対して，
上記範囲よりも高い温度で焼結を行った場合には，得ら
れた光触媒の水素生産率は低くなってしまう。
水素を製造するために，例えば，電子ドナーとしての
0.15〜0.40モルのNa2S,および0.2〜0.5モルのNaH2PO2が
最初に水に溶解され，次いで本発明にかかる光触媒が添
加される。次いで，かかる懸濁液を撹拌しながら可視光
または紫外光が照射される。使用されるNa2SおよびNaH2
PO2の0.15〜0.40モル，あるいは0.2〜0.5より少ない場
合には，水素の生産量が減少する。これに対して,Na2S
およびNaH2PO2の量が上記上限を超過した場合には，水
素の生産量が添加量に応じてそれ以上増加しなくなる。
0.15〜0.40モルのNa2S,および0.2〜0.5モルのNaH2PO2が
最初に水に溶解され，次いで本発明にかかる光触媒が添
加される。次いで，かかる懸濁液を撹拌しながら可視光
または紫外光が照射される。使用されるNa2SおよびNaH2
PO2の0.15〜0.40モル，あるいは0.2〜0.5より少ない場
合には，水素の生産量が減少する。これに対して,Na2S
およびNaH2PO2の量が上記上限を超過した場合には，水
素の生産量が添加量に応じてそれ以上増加しなくなる。
本発明にかかる光触媒を使用した水素の製造は，好ま
しくは10〜60℃で真空または２気圧以下の雰囲気で行わ
れる。
しくは10〜60℃で真空または２気圧以下の雰囲気で行わ
れる。
本発明をより良く理解するためには，下記実施例を参
照することが好ましいが，本発明にかかる例に限定され
ないことは言うまでもない。
照することが好ましいが，本発明にかかる例に限定され
ないことは言うまでもない。
製造実施例（Ｉ）
500mlの水中に143.77gのZnSO4・7H2Oおよび029gのCo
（NO3）２・6H2Oが添加されて,0.2モルパーセントのCo/
Zn懸濁液が得られた。懸濁系にH2Sが反応体として添加
され撹拌され沈殿物が得られた。得られた沈殿物はpH7
になるまで水で洗浄され,110℃で12時間乾燥された後,3
00℃で２時間焼結され，さらに硝酸で１時間エッチング
された。エッチングされた焼結体は再びpH7になるまで
水で洗浄され，さらに60℃の真空中で乾燥され,ZnCoS粉
末が製造された。
（NO3）２・6H2Oが添加されて,0.2モルパーセントのCo/
Zn懸濁液が得られた。懸濁系にH2Sが反応体として添加
され撹拌され沈殿物が得られた。得られた沈殿物はpH7
になるまで水で洗浄され,110℃で12時間乾燥された後,3
00℃で２時間焼結され，さらに硝酸で１時間エッチング
された。エッチングされた焼結体は再びpH7になるまで
水で洗浄され，さらに60℃の真空中で乾燥され,ZnCoS粉
末が製造された。
この粉末に対して，水素化ヘキサクロロ白金（H2PtCl
6）を添加し，紫外線を30分照射して,2重量パーセント
のPtがキャリアとして注入された。このようにして得ら
れたPt/ZnCoS粉末を再びpH7になるまで水で洗浄し,110
℃で12時間乾燥し，酸化焼結を300℃で２時間にわたり
行い，さらに還元焼結を300℃で２時間にわたり行い，
最終的なPt/ZnCoS光触媒を得た。
6）を添加し，紫外線を30分照射して,2重量パーセント
のPtがキャリアとして注入された。このようにして得ら
れたPt/ZnCoS粉末を再びpH7になるまで水で洗浄し,110
℃で12時間乾燥し，酸化焼結を300℃で２時間にわたり
行い，さらに還元焼結を300℃で２時間にわたり行い，
最終的なPt/ZnCoS光触媒を得た。
製造実施例（II）および（III）
実施例（Ｉ）と同様の手順を,Co/Znのモルパーセント
が0.6および1.0になるようにCo（NO3）２・6H2Oの量を
制御しながら反復した。
が0.6および1.0になるようにCo（NO3）２・6H2Oの量を
制御しながら反復した。
製造実施例（IV）〜（VI）
実施例（Ｉ）と同様の手順を,Co（NO3）２・6H2Oの代
わりに,Fe（NO3）２・9H2O,NiCl2・6H2O,H3PO2がFe/Zn,
Ni/Zn,およびP/Znがそれぞれ5.0モルパーセントになる
ように使用して反復した。
わりに,Fe（NO3）２・9H2O,NiCl2・6H2O,H3PO2がFe/Zn,
Ni/Zn,およびP/Znがそれぞれ5.0モルパーセントになる
ように使用して反復した。
実施例（Ｉ）〜（VI）
閉空気循環システムの光反応器中において，製造実施
例（Ｉ）〜（VI）により得られた0.5gの光触媒が,0.24M
のNa2Sおよび0.35MのNaH2PO2を含む500mlの水に添加さ
れて,400rpmの速度で撹拌された。高圧水銀ランプを用
いて懸濁液に対して可視光を照射すると,1気圧の室温雰
囲気で水素が製造された。製造された水素の量がガスク
ロマトグラフィにより分析され，表１に示すような結果
が得られた。
例（Ｉ）〜（VI）により得られた0.5gの光触媒が,0.24M
のNa2Sおよび0.35MのNaH2PO2を含む500mlの水に添加さ
れて,400rpmの速度で撹拌された。高圧水銀ランプを用
いて懸濁液に対して可視光を照射すると,1気圧の室温雰
囲気で水素が製造された。製造された水素の量がガスク
ロマトグラフィにより分析され，表１に示すような結果
が得られた。
比較例（Ｉ）
Co/Znの含有量が0.04モルパーセントであるように光
触媒が製造された点以外は，実施例（Ｉ）と同様の方法
により水素が製造された。表１に示すような結果が得ら
れた。
触媒が製造された点以外は，実施例（Ｉ）と同様の方法
により水素が製造された。表１に示すような結果が得ら
れた。
比較例（II）〜（Ｖ）
Co/Zn,Fe/Zn,Ni/Zn,P/Znの含有量が40モルパーセント
であるように光触媒が製造された点以外は，実施例
（Ｉ）と同様の方法で水素が製造された。表１に示すよ
うな結果が得られた。
であるように光触媒が製造された点以外は，実施例
（Ｉ）と同様の方法で水素が製造された。表１に示すよ
うな結果が得られた。
実施例（VII）
紫外光を用いて同様の手順が反復された。表１に示す
ような結果が得られた。
ような結果が得られた。
実施例（VIII）
0.15M濃度のNa2Sを用いて同様の手順が反復された。
表１に示すような結果が得られた。
表１に示すような結果が得られた。
実施例（VI）
0.1M濃度のNa2Sを用いて同様の手順が反復された。表
１に示すような結果が得られた。
１に示すような結果が得られた。
実施例（IX）
0.4M濃度のNa2Sを用いて同様の手順が反復された。表
１に示すような結果が得られた。
１に示すような結果が得られた。
比較例（VII）
0.5M濃度のNa2Sを用いて同様の手順が反復された。表
１に示すような結果が得られた。
１に示すような結果が得られた。
実施例（Ｘ）
0.2M濃度のNaH2PO2を用いて同様の手順が反復され
た。表１に示すような結果が得られた。
た。表１に示すような結果が得られた。
比較例（VIII）
0.15M濃度のNaH2PO2を用いて同様の手順が反復され
た。表１に示すような結果が得られた。
た。表１に示すような結果が得られた。
実施例（XI）
0.15M濃度のNaH2PO2を用いて同様の手順が反復され
た。表１に示すような結果が得られた。
た。表１に示すような結果が得られた。
比較例（IX）
0.55M濃度のNaH2PO2を用いて同様の手順が反復され
た。表１に示すような結果が得られた。
た。表１に示すような結果が得られた。
産業上の利用の可能性
データより明らかなように，本発明にかかる触媒は，
生産性と寿命において優れているとともに，可視光の範
囲で良好な活性を示している。
生産性と寿命において優れているとともに，可視光の範
囲で良好な活性を示している。
本発明は，上述の通りであるが，そこで使用された用
語はあくまでも説明のために選択されたのであり限定の
ために選択されたものであることを了解されたい。
語はあくまでも説明のために選択されたのであり限定の
ために選択されたものであることを了解されたい。
本発明のさまざまな変更例または修正例が上記におい
て開示された技術的範囲において可能である。したがっ
て，以下の請求項の範囲に記載された以外の方法で本発
明を実施可能であることも了解されたい。
て開示された技術的範囲において可能である。したがっ
て，以下の請求項の範囲に記載された以外の方法で本発
明を実施可能であることも了解されたい。
フロントページの続き
(72)発明者 リム，サン ヨン
大韓民国デジョン305―345，ユスン―
ク，シンソン―ドン155
(56)参考文献 特開 昭59−36545（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−313884（ＪＰ，Ａ)
特開 平７−88380（ＪＰ，Ａ)
特表 平10−512193（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B01J 21/00 - 38/74
C01B 3/04
Claims (4)
- 【請求項１】光触媒の製造方法であって:M/Znのモルパ
ーセントが0.05〜30の範囲になるようにZn含有化合物お
よびＭ含有化合物（ただし「Ｍ」はCo,Fe,NiおよびＰか
ら成る群から選択された任意の元素である）を水中に溶
解し;H2SまたはNa2Sを得られた溶液中に反応体として添
加し撹拌して沈殿物Zn［Ｍ］Ｓを生成し;pH7に到達する
まで前記沈殿物を水で洗浄し，前記沈殿物を乾燥し；得
られた物質を250〜350℃で１〜３時間にわたり焼結し；
得られた物質を酸によりエッチングし；得られた物質
に，光触媒中のPtの重量パーセントが0.1〜3.5の範囲に
なるように水溶液状の白金（Pt）含有化合物を添加し，
紫外光を照射し；得られた物質をpH7に到達するまで水
で洗浄し；得られた物質を乾燥させて焼結させる各工程
を含むことを特徴とする，光触媒の製造方法。 - 【請求項２】前記Ｍ含有化合物は,Co（NO3）２・6H2O,N
iCl2・6H2O,Fe（NO3）２・9H2O,H3PO2およびH3PO4を含
むことを特徴とする，請求項１に記載の光触媒の製造方
法。 - 【請求項３】前記焼結工程は，酸化焼結および還元焼結
を順次行う工程であることを特徴とする，請求項１に記
載の光触媒の製造方法。 - 【請求項４】前記Zn含有化合物は,ZnSO4・7H2O,Zn（N
O3）２・6H2Oを含むことを特徴とする，請求項１に記載
の光触媒の製造方法。
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