JP3392259B2 - エッチング廃液の再利用方法 - Google Patents

エッチング廃液の再利用方法

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JP3392259B2 JP11483095A JP11483095A JP3392259B2 JP 3392259 B2 JP3392259 B2 JP 3392259B2 JP 11483095 A JP11483095 A JP 11483095A JP 11483095 A JP11483095 A JP 11483095A JP 3392259 B2 JP3392259 B2 JP 3392259B2
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアンモニアアルカリ性の
塩化第二銅エッチャントを使用して銅物体のエッチング
を行い、その際に生ずる廃液を、選択的に銅を抽出する
抽出溶媒を使用して連続的に抽出することによって、エ
ッチング液の再利用を行う方法に関する。
【0002】プリント配線基板の製造におけるエッチン
グ液は、使用されるレジストの種類により、アルカリタ
イプと酸性タイプが選択的に使用されている。最近の厳
しい経済環境の中、ランニングコストの安価な酸性タイ
プのエッチング液の比率が増加してきているのが現状で
ある。しかし、プリント配線基板の高密度化とともにパ
ターンメッキ法によってプリント配線基板を製造するの
が有利となり、また金属レジストを使用しなくては出来
ないプリント配線基板もあり、すべてを酸性タイプのエ
ッチング液に切り替えることはできないという事情もあ
る。
【0003】本発明は、アルカリエッチング液を抽出溶
媒によって抽出再生することにより、酸性タイプのエッ
チング液よりも安価なランニングコストで操業できるよ
うにするものである。
【0004】
【従来の技術】アンモニアアルカリ性のエッチング液
は、プリント配線基板の製造工程において、主として必
要回路(銅パターン)上にアンモニアアルカリに対して
耐食性のある金属、例えばハンダメッキ皮膜、ニッケル
メッキ皮膜などを防食皮膜(エッチングレジスト)とし
て不要個所の銅を腐食除去するのに使用される。
【0005】エッチング液はアンモニア錯体を形成した
塩化第二銅(銅アンミンクロライド)とアンモニア水、
塩化アンモニウムを主成分とする建浴液と、塩化アンモ
ニウムとアンモニア水を主成分とする補充液からなり、
その他ハンダの防食、錯化力の増強、エッチング精度の
向上、エッチング速度の促進および安定などのための各
種添加剤を加えている。エッチングは(1)式のように
二価の銅の酸化力を利用して行われる。 Cu+Cu(NH3 4 Cl2 →2Cu(NH3 2 Cl …(1) 通常の補充液による再生システムでは(1)式のように
エッチングにより第一銅に還元された銅を(2)式のよ
うに第二銅に戻し、同時に希釈により銅濃度を下げて使
用している。 4Cu(NH3 4 Cl+4NH4 Cl+4NH4 OH+O2 → 4Cu(NH3 4 Cl2 +6H2 O …(2) 水に溶解、混和しない有機溶媒を利用した抽出による金
属の回収方法は、従来、鉱山業ではごく一般的に行なわ
れている。エッチング液中の銅を回収する場合を考える
と、(3)式のようになる。具体的な操作上は、エッチ
ング廃液と抽出溶媒を良く混合することで達成される。 Cu(NH3 4 Cl2 +2(EX)H+2H2 O→ Cu(EX)2 +2NH4 Cl+2NH4 OH …(3) 抽出溶媒からの銅の回収に関しては、硫酸水溶液と良く
混合することで(4)式のように硫酸銅として回収で
き、電気分解により(5)式のように容易に回収できる
形となる。 Cu(EX)2 +H2 SO4 →CuSO4 +2(EX)H …(4) 2CuSO4 +2H2 O−(電気分解)→ 2Cu0 +2H2 SO4 +O2 …(5) 米国特許4,083,758号明細書又は特開昭62−
53592号公報には、アルカリ性エッチング液の廃液
を抽出溶媒を用いて再生する技術が開示されている。
【0006】前者は銅イオンの抽出時に塩素イオンを同
時に抽出してしまうことに鑑み、塩素イオン除去のため
にこの洗浄除去工程を追加していることを特徴とし、後
者はエッチング後の水洗水中に含有する銅の回収を目的
として、そのための抽出工程を追加することを特徴とし
ている。前者は抽出溶媒を選定することにより塩素イオ
ンの取り込み量を減らすことができるようになり、かつ
逆抽出後の電気分解による回収に対する影響を無視でき
る程度となったので、塩素イオン除去工程は、特に必要
ないと考えられる。
【0007】後者に関しては水洗水中の銅の回収自体に
は有利であるが、同じサイクル内を通すと大量の水酸化
銅を発生し全体のバランスを大きく崩す原因となる。具
体的な問題としては、水洗水の抽出装置を含む配管経路
の詰まりやエッチング液の水洗ポンプの破損等が挙げら
れる。この問題を解決する方法としては、アンモニア水
を相当量添加すればある程度解決できるが、水洗水の総
量が多いためにアンモニア濃度を維持するのが困難なう
え、エッチング製造の周囲にアンモニア臭が強まり、作
業性および健康上問題が生じることになる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述のような
問題点を解決し、より安全に、より安定した溶媒抽出サ
イクルにより円滑なエッチング作業が行なえる、エッチ
ング廃液の再利用方法を提供することを目的とする。即
ち、アルカリ性エッチング液の廃液を抽出再生するにあ
たり、長期間にわたって、エッチング工程で再度の使用
に堪えるような薬液状態を維持することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1によると、アン
モニアアルカリ性の塩化第二銅エッチャントを使用して
銅物体のエッチングを行い、その際に生ずる廃液を、選
択的に銅を抽出する抽出溶媒を使用して連続的に抽出す
ることにより、再生エッチング液として再利用する方法
において、(a)廃液と抽出溶媒を連続的に攪拌混合し
た後、銅を含んだ抽出溶液と銅濃度を下げた再生液とに
分離し、該銅濃度を下げた再生液をエッチングの再利用
に供する工程と、(b)廃液より抽出した銅を含んだ抽
出溶媒を、銅濃度及び硫酸濃度をある一定の範囲に調製
した硫酸−硫酸銅水溶液と攪拌混合した後分離して、抽
出溶媒中の銅を該硫酸−硫酸銅水溶液に移行させる逆抽
出工程と、(c)逆抽出を行った後の抽出溶媒から硫酸
を除去するべく、水、温水、又は希塩酸等の洗浄液を用
いて該逆抽出後の抽出溶媒を洗浄する工程と、(d)洗
浄を終了した抽出溶媒を再度、エッチング廃液の抽出再
生に利用する工程と、(e)逆抽出により銅濃度の上昇
した硫酸−硫酸銅水溶液を、電解を行って金属銅として
回収する工程と、を含んでなることを特徴とするエッチ
ング廃液の再利用方法が提供される。
【0010】請求項2によると、抽出溶媒により再生さ
れたエッチング液は、抽出溶媒の該再生液への持ち出し
分を除去するために油吸着材、または油水分離膜を通過
させることを特徴とする請求項1に記載のエッチング廃
液の再利用方法が提供される。請求項3によると、逆抽
出した硫酸−硫酸銅水溶液は、抽出溶媒の該再生液への
持ち出し分を除去するために油吸着材、または油水分離
膜を通過させた後に電解槽にて金属銅として回収される
ことを特徴とする請求項1に記載のエッチング廃液の再
利用方法が提供される。
【0011】請求項4によると、逆抽出した硫酸−硫酸
銅水溶液は、抽出溶媒の該再生液への持ち出し分を除去
するために、油吸着材を設置した中間槽を経由して電解
槽に循環され、該電解槽内で金属銅として回収されるこ
とを特徴とする請求項3に記載のエッチング廃液の再利
用方法が提供される。請求項5によると、エッチング廃
液と抽出媒体を連続的に攪拌混合した後分離させる工程
で、分離を確実にかつ短時間で終了させるために、混合
液を、分離槽の出口に近づくほど径の小さくなる穴の開
いた複数の隔壁を通過させることを特徴とする請求項1
に記載のエッチング廃液の再利用方法が提供される。
【0012】
【作用】逆抽出後の抽出溶媒中には、微量ではあるが抽
出溶媒がアルカリエッチング液と長期にわたり接触を繰
り返すことにより、生成されるケン化層等を経由して硫
酸根が含有しており、この抽出溶媒をそのまま再使用す
ることにより容易にアルカリエッチング液中にこの硫酸
根が移動してしまう。問題は、この硫酸根がエッチング
液中に持ち込まれると、直接にはエッチング速度が不安
定になったり、長期的には温度が下がった場合にエッチ
ング液中に結晶が析出したりする場合がある。また、硫
酸根自体比重が重いので、比重で新液の補充タイミング
を指示している通常のアルカリエッチング装置において
は、混入した硫酸根により見掛け上の比重が上昇し、銅
濃度が低下する事になり、これもエッチング速度の低下
を招いたり、エッチング精度の低下の要因となる。
【0013】そこで本発明においては、逆抽出時に混入
してくるこの硫酸根を、逆抽出後に抽出溶媒を洗浄する
ことにより、硫酸根を除去した後再度アルカリエッチン
グ液の抽出に使用し、長期にわたって安定してアルカリ
エッチング液を使用できるようにしたものである。従っ
て、請求項1に記載した本発明の最も重要な特徴は、逆
抽出後の抽出溶媒を、水、温水、好ましくは希塩酸によ
って洗浄することである。ただし抽出溶媒は、種類によ
っては水系との親和性の問題、比重差の問題により分離
が悪くなる場合があり、必要に応じてエッチング液に混
入しても影響のでないエッチング液中の組成物の水溶液
を使用するなどにより洗浄は円滑に行なわれる。
【0014】請求項2によると、抽出溶媒により再生さ
れたエッチング液は油吸着材、または油水分離膜を通過
する際、持ち込み分の抽出溶媒が除去されるので、再生
エッチング液を精度良く再使用することが出来る。請求
項3又は4によると、逆抽出した硫酸−硫酸銅水溶液
は、油吸着材、または油水分離膜を通過する際、持ち込
み分の抽出溶媒が除去されるので、電解による金属銅の
回収を円滑に行うことが出来る。
【0015】請求項5によると、混合液を、分離槽の出
口に近づくほど径の小さくなる穴の開いた複数の隔壁を
通過させることにより、細かな抽出溶媒の粒子どおしを
衝突させ、分離作用を短時間に行なわせることが出来
る。
【0016】
【実施例】図1は本発明のシステム全体の構成を液の循
環経路を基準として示したものである。各物質の流れは
管理された中で連続的に行なわれる。まず、エッチング
工程より出た廃液と、銅を選択的かつ効率よく抽出でき
る抽出溶媒とを、ミキサー・セトラー(MS−1)に一
定流量比を保ちながら添加し、ミキサー部分で攪拌混合
後、セトラー部分で混合液を低速で移送する間に銅濃度
を下げた再生エッチング液と、銅を含んだ抽出溶液に分
離する。銅を選択的に抽出できる抽出溶媒としては、β
−ジケトン系、オキシム系等の溶媒試薬に例えば沸点2
00℃程度のケロシンから成る希釈溶液とを含んだもの
を使用するのが好適である。
【0017】図2はここで使用するミキサーセトラー
(MS−1)を写したものである。ミキサー部分Mにお
いて、攪拌混合された混合液はフィルタ31を通過して
分離槽であるセトラー部分Sへ流入する。セトラー部分
Sには出口に近づく程径の小さくなった多数の穴を有す
る隔壁32が所定間隔おきに複数配列されている。確認
試験の結果、このような隔壁32を通過させることによ
り、分離している細かな抽出溶媒の粒子どうしが衝突し
て短時間に分離されることが確認された。このセトラー
部分Sでは分離により下側に銅濃度を下げたエッチング
再生液の層が、上側に銅を含んだ抽出溶媒の層が出来、
出口側でそれぞれ回収される。
【0018】銅の抽出を終了した再生エッチング液は、
油吸着材を通過させることにより微量残留した抽出溶液
を回収除去した後再びエッチング工程に戻し、エッチン
グに使用される。他方銅を含んだ抽出後の溶媒は、MS
−2に移送される。抽出後の銅を含んだ抽出溶媒のMS
−2への移送量に対し、一定量の比率の硫酸水溶液(硫
酸・硫酸銅水溶液)をMS−2へ供給し、両者をミキサ
ー部分で混合の後、ミキサーと連続するセトラー部分で
低速で移送中に分離される。
【0019】硫酸中に硫酸銅の形で溶け込んだ銅は、硫
酸−硫酸銅水溶液の形で油吸着材を通過させ抽出溶媒の
持ち出し分を除去後、電解槽に移送され、電気分解によ
り金属銅として有価物の形で回収される。金属銅の回収
された希硫酸(濃度10〜15%の硫酸銅として銅が残
っている)は再度MS−2において使用される。再生さ
れたエッチング液と、逆抽出に使用した硫酸・硫酸銅水
溶液はいずれも油吸着材を通過後にエッチングと電気分
解の工程に移行しているが、エッチング液に抽出溶媒が
多く混入するとエッチング速度の低下が起き、電気分解
の電析槽に抽出溶媒が混入すると電極の不導体化が起こ
り電解が進まなくなる弊害が起こる。
【0020】これを事前に防ぐために活性炭を使用して
抽出溶媒の混入を防ぐことも出来るが、活性炭は非常に
高価なうえ吸着量が本目的にとっては低く、また吸着速
度も遅いため、油吸着剤のほうが優れている。あるい
は、油水分離膜を通過させてもよい。当然のことなが
ら、予め油吸着材で混入した抽出溶媒を除去しておき、
その後活性炭濾過を行なうことでより確実に、活性炭の
負荷を減らしながら操業することも可能である。
【0021】ちなみに確認試験では、川崎三興化成
(株)製の油吸着材オイロック100のみの使用にても
良好な抽出溶媒の除去結果が得られた。銅の除去された
抽出溶媒は、MS−3に移送される。このMS−3によ
る抽出溶媒の洗浄工程がこのシステムを長期にわたって
安定して作動させるうえで非常に重要な工程で、水、温
水望ましくは希塩酸、また必要に応じエッチャント組成
物を所定量溶解した水溶液にて洗浄される。この工程に
より溶媒中に取り込まれた硫酸根はきれいに洗浄され元
の抽出溶媒に完全に復元することができる。また、この
洗浄工程は抽出溶媒が平面または立体的な構造の表面を
流れているところに水を噴務することにより行なっても
良く、設置面積を少なくすることができ、有利となる。
【0022】図3は逆抽出を行うミキサーセトラー(M
S−2)とこのような水噴務式の洗浄装置(MS−3)
を示したものである。MS−2においては、上記のよう
にミキサー部分Mで抽出溶媒と希硫酸(硫酸−硫酸銅水
溶液)が攪拌混合され、MS−1と同様、混合物はフィ
ルタ41を通過して分離槽であるセトラー部分Sに流入
する。セトラー部分SはMS−1と同様に出口に近づく
程径の小さくなった多数の穴を有する隔壁42が所定間
隔おきに複数配列され、分離が促進される。セトラー部
分Sでは分離により下側に硫酸−硫酸銅水溶液の層が、
上側に抽出溶媒の層が出来、出口43において溢流した
抽出溶媒がMS−3のミキサー部分である傾斜面44を
通過する間に上方から洗浄水が噴務され抽出溶媒と混合
される。
【0023】MS−3の分離槽であるセトラー部分にも
前述と同様の出口側に近いほど径が小さくなった穴を有
する隔壁46が複数配列されている。下層の洗浄水はポ
ンプ47により汲み上げられ再度洗浄水として使用さ
れ、元の状態に復元された上層の抽出溶媒は、回収さ
れ、再びMS−1での銅の抽出に使用される。図4及び
図5は本発明によるエッチング廃液の再利用方法を用い
た装置の実施例を示す。1は再生エッチング液貯槽であ
り、再生エッチング液は、一担、再生液中間タンク14
に貯溜されて、エッチング槽Eに適用される。エッチン
グ処理後の廃液は廃液中間タンク15(一部は建浴液保
管タンク16)を経てエッチング廃液貯槽3に貯溜され
る。
【0024】エッチング廃液は、一担、廃液中間槽5に
貯溜され、エッチャント抽出再生槽6(MS−1)にお
いて前述のように混合・分離される。分離された再生エ
ッチング液は再生エッチャント回収槽7に一担貯溜され
た後再生エッチング液貯槽1に戻される。抽出溶媒は回
収槽8に一担貯溜された後逆抽出槽9(MS−2)にお
いて、前述のように混合・分離が行なわれ、逆抽出され
た溶媒は回収槽10にて回収され、更に抽出溶媒洗浄槽
11において洗浄が行なわれる。回収された洗浄水は循
環槽12を経て再使用される。洗浄済の抽出溶媒は回収
槽13に一担貯溜された後エッチャント抽出再生槽6
(MS−1)において再利用される。
【0025】逆抽出槽9(MA−2)において分離され
た硫酸・硫酸銅水溶液は油吸着剤19を経て電析槽2
0,21に送られ、整流器24,25により電圧調整さ
れて電解が行なわれ、金属銅が回収される。電析槽2
0,21から戻された水溶液は電析槽中継タンク18を
経て逆抽出槽9(MS−2)にて再使用される。アンモ
ニア水貯槽2にはアンモニア水を含むエッチング新液が
貯溜されており、必要に応じアンモニア水中間タンク1
7を経てエッチング槽Eに補給され、あるいは新液調合
槽4を経て再生エッチング液貯槽1に補給される。
【0026】これらの液の流れはすべてポンプPにより
制御され、連続的かつ自動的に行なわれる。本発明の確
認試験として、図4及び図5に示す、実働中の抽出再生
装置を用いて試験を行った。表1にその結果を示す。 <表1>抽出溶液洗浄工程の有無によるエッチングの連続稼動可能な期間 項 目 エッチング液交換に至るまでの期間 洗浄工程なし 3か月 抽出後の洗浄のみ実施(比較例) 3か月 逆抽出後の洗浄のみ実施(実施例) 1年経過後全く異常なし この確認試験において、「洗浄工程なし」とは、図1の
破線で示すように、MS−2において逆抽出した抽出溶
媒をMS−3で洗浄せずにMS−1にて再使用する場合
である。また、「抽出後の洗浄のみ実施」とは、図6に
おいて比較例として示すように、MS−1において抽出
を行なった後、抽出溶媒を洗浄し、その後逆抽出を行う
場合である。
【0027】洗浄工程のない場合、またエッチング液よ
りの銅の抽出後のみに洗浄した場合では、いずれも3か
月と短い期間の内にエッチング速度の低下、精度の低下
が起こり高価なエッチング液の全量交換に至っている。
そこで組成中で何が変化しているかを調査した結果、図
7に示すように、逆抽出時の硫酸が抽出溶媒を経由して
エッチング液に移送していることが分かった。
【0028】即ち、図7からも分かる様に洗浄工程を使
用しない場合は、使用日数と共に硫酸濃度が上昇してお
り、逆抽出に使用された硫酸のエッチング液への持込み
が確認された。また、再生エッチング液中に硫酸根が持
ち込まれることにより、図8に示すように、使用日数と
共にエッチング速度(エッチレイト)が低下してくる。
【0029】本発明の実施例のように、逆抽出後に洗浄
工程を導入することでエッチング液に硫酸根が混入しな
いために、図7のように、硫酸濃度は上昇しておらず、
また図8のように、エッチング速度(エッチレイト)が
低下していないため、連続して安定したエッチングと溶
媒抽出による再生を繰り返すことができるようになっ
た。
【0030】なお、これらの確認試験において、エッチ
ング液の持ち出し量を補充するために、エッチング新液
を適宜補給した。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
逆抽出時に抽出溶媒に混入してくる硫酸根を、逆抽出後
に洗浄することにより除去しているので、エッチング液
への硫酸根の持ち込みがなく、従って長期にわたって安
定してエッチング液を使用することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のシステム全体の構成を液の循環経路を
基準として示す。
【図2】抽出工程において使用されるミキサーセトラー
(MS−1)を示す。
【図3】逆抽出工程及び洗浄工程で使用されるミキサー
セトラー(MS−2,MS−3)を示す。
【図4】実施例の装置(その1)を示す。
【図5】実施例の装置(その2)を示す。
【図6】比較例の液循環経路を示す。
【図7】稼働月数に伴うエッチング液の硫酸濃度の変化
を示す。
【図8】稼働月数に伴うエッチング速度(エッチレー
ト)の変化を示す。
【符号の説明】
1…再生エッチング液貯槽 2…アンモニア水貯槽 3…エッチング廃液貯槽 4…新液調合槽 5…廃液中間槽 6…エッチャント抽出再生槽 7…再生エッチャント回収槽 8…抽出溶媒回収槽 9…逆抽出槽 10…逆抽出溶媒回収槽 11…抽出溶媒洗浄槽 12…洗浄水回収循環槽 13…洗浄済抽出溶媒回収槽 14…再生液中間タンク 15…廃液中間タンク 16…建浴液保管タンク 17…アンモニア水中間タンク 18…電析槽中継タンク 19…油吸着材 20…電析槽(1) 21…電析槽(2) 22…電極洗浄槽 23…電解液回収槽 24…整流器(1) 25…整流器(2)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 糟谷 豊 長野県茅野市豊平374−2 株式会社ア イン内 (72)発明者 長尾 稔 長野県茅野市豊平374−2 株式会社ア イン内 (56)参考文献 特開 昭52−123903(JP,A) 特公 昭62−53592(JP,B2) 特公 昭58−36677(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23F 1/46 B01D 11/00 - 11/04 C23G 1/36

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アンモニアアルカリ性の塩化第二銅エッ
    チャントを使用して銅物体のエッチングを行い、その際
    に生ずる廃液を、選択的に銅を抽出する抽出溶媒を使用
    して連続的に抽出することにより、再生エッチング液と
    して再利用する方法において、 (a)廃液と抽出溶媒を連続的に攪拌混合した後、銅を
    含んだ抽出溶液と銅濃度を下げた再生液とに分離し、該
    銅濃度を下げた再生液をエッチングの再利用に供する工
    程と、 (b)廃液より抽出した銅を含んだ抽出溶媒を、銅濃度
    及び硫酸濃度をある一定の範囲に調製した硫酸−硫酸銅
    水溶液と攪拌混合した後分離して、抽出溶媒中の銅を該
    硫酸−硫酸銅水溶液に移行させる逆抽出工程と、 (c)逆抽出を行った後の抽出溶媒から硫酸を除去する
    べく、水、温水、又は希塩酸等の洗浄液を用いて該逆抽
    出後の抽出溶媒を洗浄する工程と、 (d)洗浄を終了した抽出溶媒を再度、エッチング廃液
    の抽出再生に利用する工程と、 (e)逆抽出により銅濃度の上昇した硫酸−硫酸銅水溶
    液を、電解を行って金属銅として回収する工程と、を含
    んでなることを特徴とするエッチング廃液の再利用方
    法。
  2. 【請求項2】 抽出溶媒により再生されたエッチング液
    は、抽出溶媒の該再生液への持ち出し分を除去するため
    に油吸着材、または油水分離膜を通過させることを特徴
    とする請求項1に記載のエッチング廃液の再利用方法。
  3. 【請求項3】 逆抽出した硫酸−硫酸銅水溶液は、抽出
    溶媒の該水溶液への持ち出し分を除去するために油吸着
    材、または油水分離膜を通過させた後に電解槽にて金属
    銅として回収されることを特徴とする請求項1に記載の
    エッチング廃液の再利用方法。
  4. 【請求項4】 逆抽出した硫酸−硫酸銅水溶液は、抽出
    溶媒の該水溶液への持ち出し分を除去するために、油吸
    着材を設置した中間槽を経由して電解槽に循環され、該
    電解槽内で金属銅として回収されることを特徴とする請
    求項3に記載のエッチング廃液の再利用方法。
  5. 【請求項5】 エッチング廃液と抽出溶媒を連続的に攪
    拌混合した後分離させる工程で、分離を確実にかつ短時
    間で終了させるために、該混合液を、分離槽の出口に近
    づくほど径の小さくなる穴の開いた複数の隔壁を通過さ
    せることを特徴とする請求項1に記載のエッチング廃液
    の再利用方法。
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US7175819B2 (en) * 2005-03-04 2007-02-13 Phibro-Tech, Inc. Regeneration of cupric etchants and recovery of copper sulfate
KR100944039B1 (ko) * 2008-02-20 2010-02-24 (주)광양합금철 몰리브덴 제조 공정에서 발생된 폐수에 잔류하는몰리브덴과 구리의 회수 방법
CN102074491B (zh) * 2010-11-30 2012-06-27 沈阳芯源微电子设备有限公司 带有可旋转底盘的化学液分类回收装置
CN103789769A (zh) * 2014-01-14 2014-05-14 无锡市瑞思科环保科技有限公司 一种将pcb酸碱性蚀刻废液资源回收及再生的方法
CN104083902A (zh) * 2014-07-24 2014-10-08 广西新天德能源有限公司 一种蚀刻废液萃取智能搅拌装置
CN104611703A (zh) * 2014-12-26 2015-05-13 锦州清源嘉华环保科技有限公司 Pcb蚀刻废液再生及重金属回收装置及回收方法
CN105506636A (zh) * 2016-02-02 2016-04-20 深圳中能润德环保有限公司 一种萃取含铜废液的循环再生系统及方法
CN108786178A (zh) * 2018-07-18 2018-11-13 浙江格蕾斯生物科技有限公司 一种萃取液循环利用系统
CN110144590A (zh) * 2019-05-31 2019-08-20 深圳市泓达环境科技有限公司 碱性含铜蚀刻废液再生及氨氮废水循环系统
CN110408937A (zh) * 2019-08-13 2019-11-05 安徽绿洲危险废物综合利用有限公司 一种碱性蚀刻氨回收利用系统
CN111270239A (zh) * 2020-03-27 2020-06-12 Tcl华星光电技术有限公司 含铜酸性蚀刻液循环再生的方法
CN112080748A (zh) * 2020-09-14 2020-12-15 深圳市祺鑫环保科技有限公司 酸性蚀刻废液的回收利用方法

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JPS5836677B2 (ja) * 1976-01-16 1983-08-10 日本ソレックス株式会社 硫酸鉄溶液から硫酸及び含有金属を回収する方法
DE2615287C2 (de) * 1976-04-08 1978-06-08 Duisburger Kupferhuette, 4100 Duisburg Verfahren zur Aufarbeitung komplexer NE-metallhaltiger Lösungen durch Solventextraktion und Gewinnung der darin enthaltenen Wertträger
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