WO1996035827A1 - Procede permettant de recycler une solution de decapage usee - Google Patents

Procede permettant de recycler une solution de decapage usee Download PDF

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WO1996035827A1
WO1996035827A1 PCT/JP1995/001673 JP9501673W WO9635827A1 WO 1996035827 A1 WO1996035827 A1 WO 1996035827A1 JP 9501673 W JP9501673 W JP 9501673W WO 9635827 A1 WO9635827 A1 WO 9635827A1
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copper
etching
extraction
solution
extraction solvent
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PCT/JP1995/001673
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Inventor
Shyuji Hosoda
Kaoru Ono
Yutaka Kasuya
Minoru Nagao
Original Assignee
Ain Co., Ltd.
Aitech Corporation
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46Regeneration of etching compositions

Definitions

  • a copper object is etched using an ammoniacal cupric chloride etchant, and a waste liquid generated at that time is continuously extracted using an extraction solvent for selectively extracting copper. Accordingly, the present invention relates to a method for reusing an etching solution.
  • an alkaline type and an acidic type are selectively used depending on the type of a resist used.
  • the ratio of the etching solution of the cheap acid tie of running cost is increasing at present.
  • the present invention allows an alkaline etching solution to be extracted and regenerated with an extraction solvent, thereby enabling operation to be performed at a lower running cost than an acidic type etching solution.
  • a metal having a corrosion resistance to ammonia alkali is mainly used on a necessary circuit (copper pattern) in a manufacturing process of a printed wiring board, for example, a solder plating film or a solder plating film. It is used as an anticorrosion film (etching resist) with a nickel plating film etc. to corrode and remove unnecessary copper.
  • the etching solution consists of cupric chloride (copper ammonium chloride) with ammonia complex formed, ammonia water and a building bath solution mainly composed of ammonium chloride, and a replenisher mainly composed of ammonium chloride and ammonia water.
  • cupric chloride copper ammonium chloride
  • a replenisher mainly composed of ammonium chloride and ammonia water.
  • various additives are added to prevent hang corrosion, enhance complexing power, improve etching accuracy, promote etching speed, and stabilize.
  • Etching is performed using the oxidizing power of divalent copper as shown in equation (1).
  • cuprous copper is etched by etching as shown in equation (1).
  • the reduced copper is returned to cupric copper as shown in equation (2), and at the same time the copper concentration is reduced by dilution.
  • the specific operation is achieved by mixing the etching waste liquid and the extraction solvent well.
  • the former is characterized by adding this washing and removing step to remove chloride ions in view of the fact that chloride ions are extracted at the same time as the extraction of copper ions.
  • the latter is contained in the washing water after etching.
  • the purpose of this project is to add an extraction step for the purpose of recovering copper.
  • the amount of chloride ion taken up can be reduced by selecting the extraction solvent, and the effect on the recovery by electrolysis after the back extraction is negligible. It is not considered necessary.
  • the latter is advantageous for recovering copper in washing water, but passing it through the same cycle generates a large amount of copper hydroxide, which can cause a significant loss of overall balance.
  • Specific problems include clogging of the piping route including the washing water extraction device and breakage of the etching solution washing pump.
  • the present invention solves the above-mentioned problems, and provides a safer and more stable solvent extraction cycle so that a smooth etching operation can be performed. It is an object of the present invention to provide a method for reusing a waste solution of a tinting.
  • the extraction solvent after back-extraction contains a small amount of sulfate through the genated layer, etc., generated by repeated contact of the extraction solvent with the etching solution for a long time, although it is trace. If this extraction solvent is reused as it is, this sulfate group easily moves into the Alri Retting solution. The problem is that if this sulfate is introduced into the etching solution, the etching rate may become unstable directly, or crystals may precipitate in the etching solution in the long term when the temperature drops. is there.
  • this sulfate group contaminated during the back extraction is used for washing the extraction solvent after the back extraction to remove the sulfate group and then used again for extraction of the liquoring solution, which is stable for a long time.
  • an alkaline etching solution can be used.
  • a copper object is etched by using an ammoniacal cupric chloride etchant, and a waste liquid generated at that time is extracted by using an extraction solvent for selectively extracting copper.
  • an extraction solvent for selectively extracting copper.
  • the etching solution regenerated by the extraction solvent is passed through an oil adsorbent or an oil-water separation membrane to remove the carry-out of the extraction solvent to the regenerated solution. I do.
  • the etching liquid regenerated by the extraction solvent passes through the oil adsorbent or the oil-water separation membrane, the extracted extraction solvent is removed, so that the regenerated etching liquid can be accurately reused.
  • the back-extracted aqueous solution of copper monosulfate is used in an electrolytic cell after passing through an oil adsorbent or an oil-water separation membrane in order to remove the carry-out of the extraction solvent to the regenerating solution. And is recovered as metallic copper.
  • the back-extracted aqueous solution of copper monosulfate is circulated to the electrolytic cell via an intermediate tank provided with an oil absorbent in order to remove the carry-out of the extraction solvent to the regenerating solution.
  • the back-extracted aqueous copper monosulfate solution removes the carry-in extraction solvent when passing through the oil adsorbent or the oil-water separation membrane, thus facilitating the recovery of metallic copper by electrolysis. I can do it.
  • the mixed liquid in the step of continuously stirring and mixing the etching waste liquid and the extraction medium and then separating, in order to complete the separation in a short time, is brought close to the outlet of the separation tank. It is characterized in that it passes through a plurality of partition walls with holes having smaller diameters. By passing the mixed solution through a plurality of perforated partitions, the diameter of which decreases as it approaches the outlet of the separation tank, the particles of the extraction solvent collide with each other and the separation action is performed in a short time. I can do it.
  • FIG. 1 shows the configuration of the entire system of the present invention based on the liquid circulation path.
  • FIG 2 shows the mixer settler (MS-1) used in the extraction process.
  • FIG. 3 shows the mixer settler (MS-2, MS-3) used in the back extraction and washing steps.
  • FIG. 6 shows the liquid circulation path of the comparative example.
  • Figure 7 shows the change in the sulfuric acid concentration of the etching solution with the number of operating months.
  • Figure 8 shows the change in the etching speed (etch rate) with the number of operating months.
  • FIG. 1 shows the configuration of the entire system of the present invention based on the liquid circulation path. The flow of each substance is performed continuously in a controlled manner.
  • a waste liquid from the etching process and an extraction solvent that can selectively and efficiently extract copper are added to a mixer 'Settler (MS-1) while maintaining a constant flow rate ratio, and after stirring and mixing in the mixer section, In the settler section, the mixed solution is separated at low speed into a regenerated etching solution with reduced copper concentration and an extraction solution containing copper.
  • an extraction solvent that can selectively extract copper use a diketone-based or oxime-based solvent reagent that contains, for example, a dilute solution of kerosene with a boiling point of about 200 ° C. It is preferred to do so.
  • FIG 2 shows the mixer settler (MS-1) used here.
  • the mixer “M” the mixed liquid that has been agitated and mixed passes through the filter 31 and flows into the settler portion S, which is a separation tank.
  • the diameter of the settler portion S decreases as it approaches the outlet.
  • a plurality of partitions 32 having a large number of holes are arranged at predetermined intervals.As a result of the confirmation test, fine particles of the separated extraction solvent are separated by passing through such partitions 32.
  • a layer of the etching regenerating solution with a reduced copper concentration due to the separation and a layer of the extraction solvent containing copper on the upper side were confirmed. Are collected at the exit side.
  • the regenerated etching solution is passed through an oil adsorbent to recover and remove a trace amount of the extraction solution, and then returned to the etching process and used for etching.
  • the extracted solvent containing copper is transferred to MS-2.
  • a certain ratio of the amount of the extraction solvent containing copper to the MS-2 after extraction Sulfuric acid aqueous solution (sulfuric acid / copper sulfate aqueous solution) is supplied to MS-2, and both are mixed in the mixer part, and then separated at low speed in the settler part connected to the mixer.
  • Copper dissolved in sulfuric acid in the form of copper sulfate is passed through an oil adsorbent in the form of an aqueous solution of copper sulfate monosulfate to remove the extraction solvent, and then transferred to an electrolytic cell where it is electrolyzed into metallic copper. And collected in valuable form.
  • the recovered dilute sulfuric acid of metal copper (copper remaining as copper sulfate with a concentration of 10 to 15%) is used again in MS-2.
  • Both the regenerated etchant and the sulfuric acid / copper sulfate aqueous solution used for the back extraction have passed through the oil adsorbent before going to the etching and electrolysis processes. If the etching speed is reduced and the extraction solvent is mixed into the electrodeposition tank for electrolysis, the electrodes become non-conductive and the electrolysis will not proceed.
  • activated carbon can be used to prevent the extraction solvent from being mixed.However, activated carbon is very expensive, has a low adsorption amount for this purpose, and has a low adsorption rate, so oil adsorption or c towards the agent is superior, it may be passed through the oil-water separation membrane. As a matter of course, it is also possible to remove the extraction solvent mixed with the oil adsorbent in advance and then perform activated carbon filtration to operate more reliably while reducing the load of activated carbon.
  • This washing process of the extraction solvent with MS-3 is a very important step in keeping the system operating stably for a long period of time.
  • Water, hot water or dilute hydrochloric acid and, if necessary, an etchant composition are required. It is washed with a fixed amount of aqueous solution. In this process, The sulfates can be thoroughly washed and completely restored to the original extraction solvent.
  • this washing step may be performed by spraying water onto the place where the extraction solvent is flowing on the surface of the flat or three-dimensional structure, which is advantageous because the installation area can be reduced.
  • FIG 3 shows a mixer settler (MS-2) that performs back extraction and a water-jet type washing device (MS-3).
  • MS-2 the extraction solvent and dilute sulfuric acid (copper sulfate sulfate aqueous solution) are stirred and mixed in the mixer section M as described above.
  • MS-1 the mixture passes through the filter 41 and the separation tank. Flows into the settler part S.
  • a plurality of partition walls 42 each having a large number of holes having a smaller diameter as approaching the outlet are arranged at predetermined intervals, as in the case of MS-1, so that separation is promoted.
  • a layer of aqueous solution of copper sulfate monosulfate is formed on the lower side due to the separation, and a layer of the extraction solvent is formed on the upper side. While passing through 4, washing water is sprayed from above and mixed with the extraction solvent.
  • the settler portion which is the separation tank of MS-3
  • a plurality of partition walls 46 having holes whose diameters become smaller as they are closer to the outlet side as described above are also arranged.
  • the lower washing water is pumped up by the pump 47 and used again as washing water.
  • the upper extraction solvent which has been restored to its original state, is recovered and used again for the extraction of copper with MS-1.
  • FIGS. 4 and 5 show an embodiment of an apparatus using the method for recycling an etching waste liquid according to the present invention.
  • Reference numeral 1 denotes a regenerating etching solution storage tank.
  • the regenerating etching solution is stored in a regenerating solution intermediate tank 14 and applied to the etching tank E.
  • the waste liquid after the etching treatment is stored in the etching waste liquid storage tank 3 via the waste liquid intermediate tank 15 (the negative part is a construction bath liquid storage tank 16).
  • the etching waste liquid is stored in the waste liquid intermediate tank 5 and mixed and separated in the etchant extraction / regeneration tank 6 (MS-1) as described above.
  • the separated regenerated etchant is stored in the regenerated etchant recovery tank 7 and returned to the regenerated etchant storage tank 1.
  • the extraction solvent is once stored in the recovery tank 8, it is mixed and separated in the back extraction tank 9 (MS-2) as described above, and the back-extracted solvent is recovered in the recovery tank 10, Further, washing is performed in the extraction solvent washing tank 11.
  • the recovered washing water is reused through the circulation tank 12.
  • the washed extraction solvent is stored once in the recovery tank 13 and then reused in the etch extraction regeneration tank 6 (MS-1). Is done.
  • the aqueous solution of sulfuric acid and copper sulfate separated in the back extraction tank 9 (MA-2) is sent to the electrodeposition tanks 20 and 21 via the oil adsorbent 19, and the voltage is adjusted by the rectifiers 24 and 25 to perform electrolysis. Is performed, and metallic copper is recovered.
  • the aqueous solution returned from the electrodeposition tanks 20 and 21 passes through the electrodeposition tank relay tank 18 and is reused in the reverse extraction tank 9 (MS-2).
  • a new etching solution containing ammonia water is stored in the ammonia water storage tank 2 and, if necessary, is supplied to the etching tank E via the ammonia water intermediate tank 17 or the new liquid preparation tank 4. After that, it is captured in the recycled etching liquid storage tank 1.
  • no washing step means that the extraction solvent back-extracted in MS-2 is reused in MS-1 without washing with MS-3, as shown by the broken line in Figure 1. It is. Also, “only washing after extraction” refers to the case where extraction is performed in MS-1, the extraction solvent is washed, and then back extraction is performed, as shown as a comparative example in FIG. .
  • the etching rate and accuracy are reduced within a short period of three months, and the entire amount of the expensive etching solution is reduced. It has been replaced.
  • the etching rate decreases with the number of days of use, as shown in Fig. 8.
  • the introduction of the washing step after the back extraction prevents the sulfate from being mixed into the etching solution, so that the sulfuric acid concentration does not increase as shown in FIG.
  • the etching rate has not decreased, it has become possible to continuously repeat stable etching and regeneration by extracting the solvent.
  • the sulfate groups mixed in the extraction solvent during the back extraction are removed by washing after the back extraction, so that the sulfate groups are not brought into the etching solution. Therefore, the etching solution can be used stably over a long period of time.

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Description

明 細 書 エツチング廃液の再利用方法 技術分野
本発明はアンモニアアルカ リ性の塩化第二銅ェッチャ ン トを使用 して銅物体のエッチングを行い、 その際に生ずる廃液を、 選択的に 銅を抽出する抽出溶媒を使用 して連続的に抽出するこ とによって、 エッチング液の再利用を行う方法に関する。 背景技術
プリ ン ト配線基板の製造におけるエッチング液は、 使用される レ ジス トの種類により、 アルカ リ タイプと酸性タイプが選択的に使用 されている。 最近の厳しい経済環境の中、 ラ ンニングコス 卜の安価 な酸性タイブのエツチング液の比率が増加してきているのが現状で ¾ O o
しかし、 プリ ン ト配線基板の高密度化とともにパターンメ ツキ法 によってプリ ン ト配線基板を製造するのが有利となり、 また金属レ ジス トを使用 しなく ては出来ないプリ ン ト配線基板もあり、 すべて を酸性タイプのエッチング液に切り替えることはできないという事 情もある。
本発明は、 アルカ リエッチング液を抽出溶媒によって抽出再生す るこ とにより、 酸性タイプのエッチング液より も安価なラ ンニング コス トで操業できるようにする ものである。
ァンモニァアル力 リ性のェッチング液は、 プリ ン ト配線基板の製 造工程において、 主と して必要回路 (銅パターン) 上にアンモニア アルカ リ に対して耐食性のある金属、 例えばハンダメ ツキ皮膜、 二 ッケルメ ツキ皮膜などを防食皮膜 (エッチングレジス ト) と して不 要個所の銅を腐食除去するのに使用される。
エッチング液はアンモニア錯体を形成した塩化第二銅 (銅アンミ ンク ロライ ド) とアンモニア水、 塩化アンモニゥムを主成分とする 建浴液と、 塩化アンモニゥムとァンモニァ水を主成分とする補充液 からなり、 その他ハングの防食、 錯化力の増強、 エッチング精度の 向上、 エツチング速度の促進および安定などのための各種添加剤を 加えている。
エッチングは ( 1 ) 式のように二価の銅の酸化力を利用して行わ
4レる 0
C u + C u (N H 3 ) 4 C 1 2 → 2 C u (N H 3 ) 2 C 1 … ( 1 ) 通常の捕充液による再生システムでは ( 1 ) 式のようにエツチン グにより第一銅に還元された銅を ( 2 ) 式のように第二銅に戻し、 同時に希釈により銅濃度を下げて使用している。
4 C u (N H 3 ) 4 C 1 + 4 N H 4 C 1 + 4 N H 4 0 H + 02
4 C u (N H 3 ) 4 C 1 2 + 6 H 2 0 … ( 2 ) 水に溶解、 混和しない有機溶媒を利用した抽出による金属の回収 方法は、 従来、 鉱山業ではごく一般的に行なわれている。 エツチン グ液中の銅を回収する場合を考えると、 ( 3 ) 式のようになる。
具体的な操作上は、 ェッチング廃液と抽出溶媒を良く混合するこ とで達成される。
C u (N H 3 ) 4 C 1 2 + 2 ( E X) H + 2 H 2 0→
C u ( E X) 2 + 2 N H i C 1 + 2 NH 4 O H - ( 3 ) 抽出溶媒からの銅の回収に関しては、 硫酸水溶液と良く混合する ことで ( 4 ) 式のように硫酸銅と して回収でき、 電気分解により ( 5 ) 式のように容易に回収できる形となる。
C u ( E X) 2 + H 2 S 04 → C u S 04 + 2 (E X) H … ( 4 ) 2 C u S 0 4 + 2 H 2 0 — (電気分解) —
2 C u ° + 2 H 2 S 0 4 + 0 2 - ( 5 ) 米国特許 4, 0 8 3 , 7 5 8号明細書又は特開昭 6 2 — 5 3 5 9 2号公報には、 アルカ リ性エッチング液の廃液を抽出溶媒を用いて 再生する技術が開示されている。
前者は銅イオンの抽出時に塩素イオンを同時に抽出してしまう こ とに鑑み、 塩素イオン除去のためにこの洗浄除去工程を追加してい ることを特徴と し、 後者はエッチング後の水洗水中に含有する銅の 回収を目的と して、 そのための抽出工程を追加することを特徵と し ている。
前者は抽出溶媒を選定することにより塩素イオンの取り込み量を 減らすことができるようになり、 かつ逆抽出後の電気分解による回 収に対する影響を無視できる程度となったので、 塩素ィォン除去ェ 程は、 特に必要ないと考えられる。
後者に関しては水洗水中の銅の回収 体には有利であるが、 同じ サイ クル内を通すと大量の水酸化銅を発生し全体のバランスを大き く崩す原因となる。
具体的な問題と しては、 水洗水の抽出装置を含む配管経路の詰ま りやエッチング液の水洗ポンプの破損等が挙げられる。
この問題を解決する方法としては、 ァンモニァ水を相当量添加す ればある程度解決できるが、 水洗水の総量が多いためにァンモニァ 濃度を維持するのが困難なうえ、 エッチング製造の周囲にアンモニ ァ臭が強ま り、 作業性および健康上問題が生じることになる。 発明の開示
本発明は上述のような問題点を解決し、 より安全に、 より安定し た溶媒抽出サイクルにより円滑なエツチング作業が行なえる、 ェッ チング廃液の再利用方法を提供することを目的とする。
即ち、 アルカ リ性エツチング液の廃液を抽出再生するにあたり、 長期間にわたって、 エツチング工程で再度の使用に堪えるような薬 液状態を維持することである。
逆抽出後の抽出溶媒中には、 微量ではあるが抽出溶媒がアル力 リ エッチング液と長期にわたり接触を繰り返すことにより、 生成され るゲン化層等を経由して硫酸根が含有しており、 この抽出溶媒をそ のまま再使用することにより容易にアル力 リエツチング液中にこの 硫酸根が移動してしまう。 問題は、 この硫酸根がエッチング液中に 持ち込まれると、 直接にはエッチング速度が不安定になったり、 長 期的には温度が下がった場合にェッチング液中に結晶が析出したり する場合がある。 また、 硫酸根自体比重が重いので、 比重で新液の 捕充タイ ミ ングを指示している通常のアルカ リエッチング装置にお いては、 混入した硫酸根により見掛け上の比重が上昇し、 銅濃度が 低下する事になり、 これもエッチング速度の低下を招いたり、 エツ チング精度の低下の要因となる。
そこで本発明においては、 逆抽出時に混入してく るこの硫酸根を、 逆抽出後に抽出溶媒を洗浄することにより、 硫酸根を除去した後再 度アル力 リエツチング液の抽出に使用し、 長期にわたって安定して アルカ リエッチング液を使用できるようにしたものである。
即ち、 本発明によると、 アンモニアアルカ リ性の塩化第二銅エツ チャ ン トを使用して銅物体のエッチングを行い、 その際に生ずる廃 液を、 選択的に銅を抽出する抽出溶媒を使用して連続的に抽出する ことにより、 再生ェツチング液と して再利用する方法において、
( a ) 廃液と抽出溶媒を連続的に攪拌混合した後、 銅を含んだ抽出 溶液と銅濃度を下げた再生液とに分離し、 該銅濃度を下げた再生液 をエッチングの再利用に供する工程と、 ( b ) 廃液より抽出した銅 を含んだ抽出溶媒を、 銅濃度及び硫酸濃度をある一定の範囲に調製 した硫酸一硫酸銅水溶液と攪拌混合した後分離して、 抽出溶媒中の 銅を該硫酸一硫酸銅水溶液に移行させる逆抽出工程と、 ( C ) 逆抽 出を行った後の抽出溶媒から硫酸を除去するべく、 水、 温水、 又は 希塩酸等の洗浄液を用いて該逆抽出後の抽出溶媒を洗浄する工程と.
( d ) 洗浄を終了した抽出溶媒を再度、 エッチング廃液の抽出再生. に利用する工程と、 ( e ) 逆抽出により銅濃度の上昇した硫酸ー硫 酸銅水溶液を、 電解を行って金属銅と して回収する工程と、 を含ん でなることを特徵とするエツチング廃液の再利用方法が提供される < 従って、 上述した本発明の最も重要な特徴は、 逆抽出後の抽出溶 媒を、 水、 温水、 好ま しく は希塩酸によって洗浄することである。 ただし抽出溶媒は、 種類によっては水系との親和性の問題、 比重差 の問題により分離が悪く なる場合があり、 必要に応じてエッチング 液に混入しても影響のでないエッチング液中の組成物の水溶液を使 用するなどにより洗浄は円滑に行なわれる。
本発明の一実施形態によると、 抽出溶媒により再生されたエッチ ング液は、 抽出溶媒の該再生液への持ち出し分を除去するために油 吸着材、 または油水分離膜を通過させることを特徴とする。 抽出溶 媒により再生されたェッチ ング液は油吸着材、 または油水分離膜を 通過する際、 持ち込み分の抽出溶媒が除去されるので、 再生エッチ ング液を精度良く再使用することが出来る。
本発明の他の実施態様によると、 逆抽出した硫酸一硫酸銅水溶液 は、 抽出溶媒の該再生液への持ち出し分を除去するために油吸着材、 または油水分離膜を通過させた後に電解槽にて金属銅と して回収さ れることを特徴とする。 また、 逆抽出した硫酸一硫酸銅水溶液は、 抽出溶媒の該再生液への持ち出し分を除去するために、 油吸着材を 設置した中間槽を経由して電解槽に循環され、 該電解槽内で金属銅 と して回収されることを特徵とする。 これらの場合において、 逆抽 出した硫酸一硫酸銅水溶液は、 油吸着材、 または油水分離膜を通過 する際、 持ち込み分の抽出溶媒が除去されるので、 電解による金属 銅の回収を円滑に行う ことが出来る。
更に、 他の実施態様によると、 エッチング廃液と抽出媒体を連続 的に攪拌混合した後分離させる工程で、 分離を確実にかつ短時間で 終了させるために、 混合液を、 分離槽の出口に近づく ほど径の小さ く なる穴の開いた複数の隔壁を通過させることを特徴とする。 混合 液を、 分離槽の出口に近づく ほど径の小さ く なる穴の開いた複数の 隔壁を通過させることにより、 細かな抽出溶媒の粒子どおしを衝突 させ、 分離作用を短時間に行なわせることが出来る。 図面の簡単な説明
図 1 は本発明のシステム全体の構成を液の循環経路を基準と して 示す。
図 2 は抽出工程において使用される ミキサーセ トラー (M S— 1 ) を示す。
図 3 は逆抽出工程及び洗浄工程で使用される ミキサーセ トラー ( M S — 2, M S— 3 ) を示す。
図 4及び図 5 は実施例の装置を示す。
図 6 は比較例の液循環経路を示す。
図 7 は稼働月数に伴うエツチング液の硫酸濃度の変化を示す。
図 8 は稼働月数に伴うエツチング速度 (エッチレー ト) の変化を 示す。 発明を実施するための最良の形態
以下、 添付図面を参照して本発明の実施例について詳細に説明す る o
図 1 は本発明のシステム全体の構成を液の循環経路を基準と して 示したものである。 各物質の流れは管理された中で連続的に行なわ れ 。
まず、 エッチング工程より出た廃液と、 銅を選択的かつ効率よく 抽出できる抽出溶媒とを、 ミキサー ' セ トラー (M S— 1 ) に一定 流量比を保ちながら添加し、 ミキサー部分で攪拌混合後、 セ トラー 部分で混合液を低速で移送する間に銅濃度を下げた再生ェツチング 液と、 銅を含んだ抽出溶液に分離する。 銅を選択的に抽出できる抽 出溶媒と しては、 —ジケ ト ン系、 ォキシム系等の溶媒試薬に例え ば沸点 2 0 0 °C程度のケロシンから成る希釈溶液とを含んだものを 使用するのが好適である。
図 2 はここで使用する ミ キサーセ トラー (M S— 1 ) を写したも のである。 ミキサ^ "部分 Mにおいて、 攪拌混合された混合液はフィ ルタ 3 1 を通過して分離槽であるセ トラー部分 Sへ流入する。 セ ト ラー部分 Sには出口に近づく程径の小さ く なつた多数の穴を有する 隔壁 3 2が所定間隔おきに複数配列されている。 確認試験の結果、 このような隔壁 3 2を通過させることにより、 分離している細かな 抽出溶媒の粒子どう しが衝突して短時間に分離されることが確認さ れた。 このセ トラー部分 Sでは分離により下側に銅濃度を下げたェ ツチング再生液の層が、 上側に銅を含んだ抽出溶媒の層が出来、 出 口側でそれぞれ回収される。
銅の抽出を終了した再生エッチング液は、 油吸着材を通過させる ことにより微量残留した抽出溶液を回収除去した後再びエッチング 工程に戻し、 エッチングに使用される。
他方銅を含んだ抽出後の溶媒は、 M S— 2 に移送される。 抽出後 の銅を含んだ抽出溶媒の M S— 2への移送量に対し、 一定量の比率 の硫酸水溶液 (硫酸 · 硫酸銅水溶液) を M S— 2へ供給し、 両者を ミ キサー部分で混合の後、 ミキサーと連続するセ トラー部分で低速 で移送中に分離される。
硫酸中に硫酸銅の形で溶け込んだ銅は、 硫酸一硫酸銅水溶液の形 で油吸着材を通過させ抽出溶媒の持ち出し分を除去後、 電解槽に移 送され、 電気分解により金属銅と して有価物の形で回収される。 金 属銅の回収された希硫酸 (濃度 1 0 〜 1 5 %の硫酸銅と して銅が残 つている) は再度 M S— 2 において使用される。
再生されたエッチング液と、 逆抽出に使用した硫酸 · 硫酸銅水溶 液はいずれも油吸着材を通過後にエツチングと電気分解の工程に移 行しているが、 エッチング液に抽出溶媒が多く混入するとエツチン グ速度の低下が起き、 電気分解の電析槽に抽出溶媒が混入すると電 極の不導体化が起こり電解が進まなく なる弊害が起こる。
これを事前に防ぐために活性炭を使用して抽出溶媒の混入を防ぐ ことも出来るが、 活性炭は非常に高価なうえ吸着量が本目的にとつ ては低く、 また吸着速度も遅いため、 油吸着剤のほうが優れている c あるいは、 油水分離膜を通過させてもよい。 当然のことながら、 予 め油吸着材で混入した抽出溶媒を除去しておき、 その後活性炭濾過 を行なう ことでより確実に、 活性炭の負荷を減らしながら操業する ことも可能である。
ちなみに確認試験では、 川崎三興化成 (株) 製の油吸着材ォイロ ッ ク 1 0 0のみの使用にても良好な抽出溶媒の除去結果が得られた。 銅の除去された抽出溶媒は、 M S— 3 に移送される。
この M S — 3 による抽出溶媒の洗浄工程がこのシステムを長期に わたって安定して作動させるうえで非常に重要な工程で、 水、 温水 望ま しく は希塩酸、 また必要に応じエツチヤン ト組成物を所定量溶 解した水溶液にて洗浄される。 この工程により溶媒中に取り込まれ た硫酸根はきれいに洗浄され元の抽出溶媒に完全に復元することが できる。
また、 この洗浄工程は抽出溶媒が平面または立体的な構造の表面 を流れているところに水を噴務することにより行なっても良く、 設 置面積を少なくすることができ、 有利となる。
図 3 は逆抽出を行う ミキサーセ トラー (M S— 2 ) とこのような 水噴務式の洗浄装置 (M S — 3 ) を示したものである。 M S— 2 に おいては、 上記のようにミキサー部分 Mで抽出溶媒と希硫酸 (硫酸 硫酸銅水溶液) が攪拌混合され、 M S— 1 と同様、 混合物はフィ ルタ 4 1 を通過して分離槽であるセ トラー部分 Sに流入する。 セ ト ラー部分 Sは M S — 1 と同様に出口に近づく程径の小さ く なつた多 数の穴を有する隔壁 4 2が所定間隔おきに複数配列され、 分離が促 進される。 セ トラー部分 Sでは分離により下側に硫酸一硫酸銅水溶 液の層が、 上側に抽出溶媒の層が出来、 出口 4 3 において溢流した 抽出溶媒が M S— 3のミキサ一部分である傾斜面 4 4を通過する間 に上方から洗浄水が噴務され抽出溶媒と混合される。
M S - 3の分離槽であるセ トラー部分にも前述と同様の出口側に 近いほど径が小さ く なつた穴を有する隔壁 4 6が複数配列されてい る。 下層の洗浄水はポンプ 4 7 により汲み上げられ再度洗浄水と し て使用され、 元の状態に復元された上層の抽出溶媒は、 回収され、 再び M S — 1での銅の抽出に使用される。
図 4及び図 5 は本発明によるエッチング廃液の再利用方法を用い た装置の実施例を示す。 1 は再生エッチング液貯槽であり、 再生ェ ッチング液は、 一担、 再生液中間タンク 1 4 に貯溜されて、 エッチ ング槽 Eに適用される。 エッチング処理後の廃液は廃液中間タンク 1 5 (—部は建浴液保管タンク 1 6 ) を経てエッチング廃液貯槽 3 に貯溜される。 エッチング廃液は、 一担、 廃液中間槽 5 に貯溜され、 エッチヤ ン ト抽出再生槽 6 (M S— 1 ) において前述のように混合 ' 分離され る。 分離された再生エッチング液は再生エツチャ ン ト回収槽 7 に一 担貯溜された後再生ェッチング液貯槽 1 に戻される。
抽出溶媒は回収槽 8 に一担貯溜された後逆抽出槽 9 (M S - 2 ) において、 前述のように混合 · 分離が行なわれ、 逆抽出された溶媒 は回収槽 1 0 にて回収され、 更に抽出溶媒洗浄槽 1 1 において洗浄 が行なわれる。 回収された洗浄水は循環槽 1 2を経て再使用される, 洗浄済の抽出溶媒は回収槽 1 3 に一担貯溜された後エツチャ ン ト抽 出再生槽 6 (M S— 1 ) において再利用される。
逆抽出槽 9 (MA— 2 ) において分離された硫酸 ' 硫酸銅水溶液 は油吸着剤 1 9を経て電析槽 2 0 , 2 1 に送られ、 整流器 2 4, 2 5 により電圧調整されて電解が行なわれ、 金属銅が回収される。 電 析槽 2 0 , 2 1 から戻された水溶液は電析槽中継タンク 1 8を経て 逆抽出槽 9 (M S— 2 ) にて再使用される。
ア ンモニア水貯槽 2 にはアンモニア水を含むエッチング新液が貯 溜されており、 必要に応じア ンモニア水中間タンク 1 7を経てエツ チ ング槽 Eに捕給され、 あるいは新液調合槽 4 を経て再生エツチ ン グ液貯槽 1 に捕給される。
これらの液の流れはすべてポンプ Pにより制御され、 連続的かつ 自動的に行なわれる。
本発明の確認試験と して、 図 4及び図 5 に示す、 実働中の抽出再 生装置を用いて試験を行った。 表 1 にその結果を示す。 表 i
抽出溶液洗浄工程の有無によるエツチングの連続稼動可能な期間
Figure imgf000013_0001
この確認試験において、 「洗浄工程なし」 とは、 図 1 の破線で示 すように、 M S — 2 において逆抽出した抽出溶媒を M S — 3で洗浄 せずに M S— 1 にて再使用する場合である。 また、 「抽出後の洗浄 のみ実施」 とは、 図 6 において比較例と して示すように、 M S— 1 において抽出を行なった後、 抽出溶媒を洗浄し、 その後逆抽出を行 う場合である。
洗浄工程のない場合、 またエッチング液よりの銅の抽出後のみに 洗浄した場合では、 いずれも 3か月と短い期間の内にエッチング速 度の低下、 精度の低下が起こり高価なエッチング液の全量交換に至 つている。
そこで組成中で何が変化しているかを調査した結果、 図 7 に示す ように、 逆抽出時の硫酸が抽出溶媒を経由してエッチング液に移送 していることが分かった。
即ち、 図 7からも分かる様に洗浄工程を使用しない場合は、 使用 日数と共に硫酸濃度が上昇しており、 逆抽出に使用された硫酸のェ ツチング液への持込みが確認された。
また、 再生ェッチング液中に硫酸根が持ち込まれることにより、 図 8 に示すように、 使用日数と共にエツチング速度 (エッチレイ ト) が低下してく る。 本発明の実施例のように、 逆抽出後に洗浄工程を導入することで エッチング液に硫酸根が混入しないために、 図 7のように、 硫酸濃 度は上昇しておらず、 また図 8のように、 エッチング速度 (エッチ レイ ト) が低下していないため、 連続して安定したエッチングと溶 媒抽出による再生を繰り返すことができるようになった。
なお、 これらの確認試験において、 エッチング液の持ち出し量を 補充するために、 エッチング新液を適宜捕給した。
以上、 添付図面を参照して本発明の実施例について詳細に説明し たが、 本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、 本発明の 精神ないし範囲内において種々の形態、 変形、 修正等が可能である ことに留意すべきである。 産業上の利用可能性
以上説明したように、 本発明によれば、 逆抽出時に抽出溶媒に混 入してく る硫酸根を、 逆抽出後に洗浄することにより除去している ので、 エッチング液への硫酸根の持ち込みがなく、 従って長期にわ たって安定してエッチング液を使用することが出来る。

Claims

請 求 の 範 囲
1. アンモニアアルカ リ性の塩化第二銅エツチャ ン トを使用して 銅物体のエッチングを行い、 その際に生ずる廃液を、 選択的に銅を 抽出する抽出溶媒を使用して連続的に抽出することにより、 再生ェ ツチング液と して再利用する方法において、
( a ) 廃液と抽出溶媒を連続的に攪拌混合した後、 銅を含んだ抽 出溶液と銅濃度を下げた再生液とに分離し、 該銅濃度を下げた再生 液をエッチングの再利用に供する工程と、
( b ) 廃液より抽出した銅を含んだ抽出溶媒を、 銅濃度及び硫酸 濃度をある一定の範囲に調製した硫酸一硫酸銅水溶液と攪拌混合し た後分離して、 抽出溶媒中の銅を該硫酸一硫酸銅水溶液に移行させ る逆抽出工程と、
( c ) 逆抽出を行った後の抽出溶媒から硫酸を除去するべく、 水, 温水、 又は希塩酸等の洗浄液を用いて該逆抽出後の抽出溶媒を洗浄 する工程と、
( d ) 洗浄を終了した抽出溶媒を再度、 エッチング廃液の抽出再 生に利用する工程と、
( e ) 逆抽出により銅濃度の上昇した硫酸一硫酸銅水溶液を、 電 解を行って金属銅と して回収する工程と、
を含んでなることを特徴とするエッチング廃液の再利用方法。
2. 抽出溶媒により再生されたエッチング液は、 抽出溶媒の該再 生液への持ち出し分を除去するために油吸着材、 または油水分離膜 を通過させることを特徴とする請求項 1 に記載のエツチング廃液の 再利用方法。
3. 逆抽出した硫酸一硫酸銅水溶液は、 抽出溶媒の該水溶液への 持ち出し分を除去するために油吸着材、 または油水分離膜を通過さ せた後に電解槽にて金属銅と して回収されることを特徵とする請求 項 1 に記載のエッチング廃液の再利用方法。
4. 逆抽出した硫酸一硫酸銅水溶液は、 抽出溶媒の該水溶液への 持ち出し分を除去するために、 油吸着材を設置した中間槽を経由し て電解槽に循環され、 該電解槽内で金属銅と して回収されることを 特徵とする請求項 3 に記載のエツチング廃液の再利用方法。
5. ェッチング廃液と抽出溶媒を連続的に攪拌混合した後分離さ せる工程で、 分離を確実にかつ短時間で終了させるために、 該混合 液を、 分離槽の出口に近づく ほど径の小さ く なる穴の開いた複数の 隔壁を通過させることを特徵とする請求項 1 に記載のエツチング廃 液の再利用方法。
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