JP3388435B2 - ゲートバルブ - Google Patents
ゲートバルブInfo
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- JP3388435B2 JP3388435B2 JP37392199A JP37392199A JP3388435B2 JP 3388435 B2 JP3388435 B2 JP 3388435B2 JP 37392199 A JP37392199 A JP 37392199A JP 37392199 A JP37392199 A JP 37392199A JP 3388435 B2 JP3388435 B2 JP 3388435B2
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- Japan
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- opening
- valve plate
- wall
- closing
- closing body
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
Description
に、枚葉式の半導体製造装置で用いるプロセスチャンバ
ーに対し被処理体を挿,脱するためプロセスチャンバー
の壁に設けた開口を開閉するためのゲートバルブに関す
るものである。
し、1はプロセスチャンバー、2はこのチャンバー1内
に挿入した被処理物、例えば半導体ウェハー、3は半導
体ウェハー2を移送するためのトランスファーチャンバ
ー、4は両チャンバー1と3を仕切る厚さ例えば20m
mの壁、5はこの壁4に形成したウェハー挿,脱用の例
えば縦50mm、横230mmの開口、6は壁4の開口
5を開閉するため上記壁4の外側面に離接される弁板、
7はこの弁板6に設けたシール用Oリング、8は上記弁
板6を上記壁4に離接する方向、例えば水平方向と、こ
れに直交する方向、例えば垂直方向に移動せしめるため
の弁ロッド、9は上記プロセスチャンバー1内における
ウェハー2の処理のための腐蝕性ガスまたはプラズマの
流れを示す。
ャンバー1においてはその開口5の外側が弁板6によっ
て閉じられている状態においてプロセスチャンバー1の
壁4の内壁面側には開口5の壁厚に相当する凹陥部が対
向しているため、この付近における上記ガスやプラズマ
の流れ9に乱れや、ゆらぎ9′を生じ、ウェハー2の処
理の均一性に問題を生ずると共に、プロセスチャンバー
1内に弁板6のシール面が露出されるため、シール面が
プラズマアタックを受けたり、ガスにより汚染された
り、シール用Oリングが腐蝕する等の恐れがあった。
である。
は、プロセスチャンバーの壁に形成した開口を開閉する
ため上記壁に離接される弁板と、上記開口を塞ぐ位置と
開く位置に移動自在な塞ぎ体と、上記塞ぎ体をその開位
置で収容するため上記壁に形成した収納溝と、上記弁板
及び塞ぎ体を移動するための駆動手段とより成り、上記
弁板が上記開口を閉じる位置では上記塞ぎ体が上記開口
を塞いでおり、上記弁板が上記開口を開く位置では上記
塞ぎ体が上記収納溝に収納されて上記開口を開いている
ことを特徴とする。
チャンバーの壁に形成した開口を開閉するため上記壁に
離接される弁板と、上記開口を塞ぐ位置と開く位置に移
動自在な塞ぎ体と、上記弁板と塞ぎ体を互に相対的に移
動せしめる移動手段と、上記弁板及び塞ぎ体を共に移動
するための駆動手段とより成り、上記弁板が上記開口を
閉じる位置では上記塞ぎ体が上記開口を塞いでおり、上
記弁板が上記開口を開く位置では上記塞ぎ体が上記壁の
内側面に対向されて上記開口を開いていることを特徴と
する。
り、弧状の場合には上記塞ぎ体が上記弧状の内壁面に合
致する湾曲を有する。
動せしめる移動手段は、一端を上記弁板に固定し、他端
を上記塞ぎ体に連結したベローズと、このベローズ内に
加圧流体を供給する手段とより成ることを特徴とする。
を説明する。
部(図示せず)を上記弁板6のプロセスチャンバー1側
の中央部に設ける。
ようにプロセスチャンバー1の壁4に形成した開口5の
外側を開閉するため上記壁4の外側面に弁板6を離接自
在とし、上記開口5の内側を塞ぐ大きさ、形状の塞ぎ
体、例えば塞ぎ板10を上記弁板6にアーム11を介し
て連結する。
口する収納溝12を垂直方向下方に延びるように形成
し、図2に示すようにこの溝12内に上記塞ぎ板10を
その開位置で収容せしめる。
(図示せず)により夫々上記開口5を閉じ及び塞ぐ場合
には弁棒8及びアーム11を介して図2において垂直方
向上方に移動せしめて図3に示した状態とした後、水平
方向内方に移動して図1に示すように上記開口5の周り
の上記壁4の外側面に形成した弁座に弁板6を対接せし
めると共に、上記塞ぎ板10を上記開口5内において上
記壁4の内側面に一致する位置ならしめる。
上記開口5を閉じず及び塞がないようにする場合には、
これらを駆動手段によって図3に示すように水平方向外
方に移動した後、垂直下方に移動して、図2に示すよう
に上記弁板6が開口5より離れてこれを開くと共に、上
記塞ぎ板10が収納溝12内に収納され、開口5を塞が
ないようにする。
であるから弁板6によって開口5を閉じた状態において
は上記突出部が上記開口を埋めるようになり、または、
塞ぎ板10が壁4の内側面に一致する位置となり、開口
5による凹陥部がプロセスチャンバー1に対向しないよ
うになるため、従来の欠点を一掃できるようになる。
ある本発明の他の実施例を示し、この実施例においては
上記塞ぎ板10及び収納溝12を同様に湾曲したものと
する。
によって上記塞ぎ板10を上記弁板6に相対的に水平方
向に移動自在ならしめた本発明の更に他の実施例を示
し、この実施例においては、上記収納溝12を設けず、
上記弁板6及び塞ぎ板10によって上記開口5を閉じず
及び塞がないようにする場合には、駆動手段によって上
記弁板6を水平方向外方に移動せしめたとき上記移動手
段14のベローズ13内に加圧流体通路15を介して加
圧流体を導入して上記塞ぎ板10を水平方向内方に移動
して図7に示すように上記開口5からプロセスチャンバ
ー1の壁4の内側に位置されるようにし、次いで駆動手
段によって図8に示すように弁板6と塞ぎ板10を垂直
方向下方に移動せしめるようにする。
グである。
れば極めて簡単な構成により開口5を開閉できると共
に、開口5の外側を弁板6によって閉じたときには開口
5が突出部によって埋められ、または、開口5の内側が
塞ぎ板10によって塞ぐことができるため開口5の付近
におけるガスやプラズマの流れ9に乱れや、ゆらぎ9′
が生ぜず、ウェハー2等の処理の均一性を向上できると
共に、プロセスチャンバー1内に弁板6のシール面が露
出されないため、シール面の汚れやOリング7の劣化を
防止できる等大きな利益がある。
る。
である。
である。
の斜視図である。
る。
要部の縦断正面図である。
図である。
図である。
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 プロセスチャンバーの壁に形成した開口
を開閉するため上記壁に離接される弁板と、上記開口を
塞ぐ位置と開く位置に移動自在な塞ぎ体と、上記塞ぎ体
をその開位置で収容するため上記壁に形成した収納溝
と、上記弁板及び塞ぎ体を移動するための駆動手段とよ
り成り、上記弁板が上記開口を閉じる位置では上記塞ぎ
体が上記開口を塞いでおり、上記弁板が上記開口を開く
位置では上記塞ぎ体が上記収納溝に収納されて上記開口
を開いていることを特徴とするゲートバルブ。 - 【請求項2】 プロセスチャンバーの壁に形成した開口
を開閉するため上記壁に離接される弁板と、上記開口を
塞ぐ位置と開く位置に移動自在な塞ぎ体と、上記弁板と
塞ぎ体を互に相対的に移動せしめる移動手段と、上記弁
板及び塞ぎ体を共に移動するための駆動手段とより成
り、上記弁板が上記開口を閉じる位置では上記塞ぎ体が
上記開口を塞いでおり、上記弁板が上記開口を開く位置
では上記塞ぎ体が上記壁の内側面に対向されて上記開口
を開いていることを特徴とするゲートバルブ。 - 【請求項3】 上記移動手段が、一端を上記弁板に固定
し、他端を上記塞ぎ体に連結したベローズと、このベロ
ーズ内に加圧流体を供給する手段とより成ることを特徴
とする請求項2記載のゲートバルブ。 - 【請求項4】 上記壁の内壁面が弧状であり、上記塞ぎ
体が上記弧状の内壁面に合致する湾曲を有することを特
徴とする請求項1、2または3記載のゲートバルブ。
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- 2000-11-07 US US09/707,654 patent/US6425569B1/en not_active Expired - Lifetime
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