JP3388435B2 - ゲートバルブ - Google Patents
ゲートバルブInfo
- Publication number
- JP3388435B2 JP3388435B2 JP37392199A JP37392199A JP3388435B2 JP 3388435 B2 JP3388435 B2 JP 3388435B2 JP 37392199 A JP37392199 A JP 37392199A JP 37392199 A JP37392199 A JP 37392199A JP 3388435 B2 JP3388435 B2 JP 3388435B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- opening
- valve plate
- wall
- closing
- closing body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はゲートバルブ、特
に、枚葉式の半導体製造装置で用いるプロセスチャンバ
ーに対し被処理体を挿，脱するためプロセスチャンバー
の壁に設けた開口を開閉するためのゲートバルブに関す
るものである。
に、枚葉式の半導体製造装置で用いるプロセスチャンバ
ーに対し被処理体を挿，脱するためプロセスチャンバー
の壁に設けた開口を開閉するためのゲートバルブに関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】図９は従来の半導体製造装置の要部を示
し、１はプロセスチャンバー、２はこのチャンバー１内
に挿入した被処理物、例えば半導体ウェハー、３は半導
体ウェハー２を移送するためのトランスファーチャンバ
ー、４は両チャンバー１と３を仕切る厚さ例えば２０ｍ
ｍの壁、５はこの壁４に形成したウェハー挿，脱用の例
えば縦５０ｍｍ、横２３０ｍｍの開口、６は壁４の開口
５を開閉するため上記壁４の外側面に離接される弁板、
７はこの弁板６に設けたシール用Ｏリング、８は上記弁
板６を上記壁４に離接する方向、例えば水平方向と、こ
れに直交する方向、例えば垂直方向に移動せしめるため
の弁ロッド、９は上記プロセスチャンバー１内における
ウェハー２の処理のための腐蝕性ガスまたはプラズマの
流れを示す。
し、１はプロセスチャンバー、２はこのチャンバー１内
に挿入した被処理物、例えば半導体ウェハー、３は半導
体ウェハー２を移送するためのトランスファーチャンバ
ー、４は両チャンバー１と３を仕切る厚さ例えば２０ｍ
ｍの壁、５はこの壁４に形成したウェハー挿，脱用の例
えば縦５０ｍｍ、横２３０ｍｍの開口、６は壁４の開口
５を開閉するため上記壁４の外側面に離接される弁板、
７はこの弁板６に設けたシール用Ｏリング、８は上記弁
板６を上記壁４に離接する方向、例えば水平方向と、こ
れに直交する方向、例えば垂直方向に移動せしめるため
の弁ロッド、９は上記プロセスチャンバー１内における
ウェハー２の処理のための腐蝕性ガスまたはプラズマの
流れを示す。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のプロセスチ
ャンバー１においてはその開口５の外側が弁板６によっ
て閉じられている状態においてプロセスチャンバー１の
壁４の内壁面側には開口５の壁厚に相当する凹陥部が対
向しているため、この付近における上記ガスやプラズマ
の流れ９に乱れや、ゆらぎ９′を生じ、ウェハー２の処
理の均一性に問題を生ずると共に、プロセスチャンバー
１内に弁板６のシール面が露出されるため、シール面が
プラズマアタックを受けたり、ガスにより汚染された
り、シール用Ｏリングが腐蝕する等の恐れがあった。
ャンバー１においてはその開口５の外側が弁板６によっ
て閉じられている状態においてプロセスチャンバー１の
壁４の内壁面側には開口５の壁厚に相当する凹陥部が対
向しているため、この付近における上記ガスやプラズマ
の流れ９に乱れや、ゆらぎ９′を生じ、ウェハー２の処
理の均一性に問題を生ずると共に、プロセスチャンバー
１内に弁板６のシール面が露出されるため、シール面が
プラズマアタックを受けたり、ガスにより汚染された
り、シール用Ｏリングが腐蝕する等の恐れがあった。
【０００４】本発明は上記の欠点を除くようにしたもの
である。
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のゲートバルブ
は、プロセスチャンバーの壁に形成した開口を開閉する
ため上記壁に離接される弁板と、上記開口を塞ぐ位置と
開く位置に移動自在な塞ぎ体と、上記塞ぎ体をその開位
置で収容するため上記壁に形成した収納溝と、上記弁板
及び塞ぎ体を移動するための駆動手段とより成り、上記
弁板が上記開口を閉じる位置では上記塞ぎ体が上記開口
を塞いでおり、上記弁板が上記開口を開く位置では上記
塞ぎ体が上記収納溝に収納されて上記開口を開いている
ことを特徴とする。
は、プロセスチャンバーの壁に形成した開口を開閉する
ため上記壁に離接される弁板と、上記開口を塞ぐ位置と
開く位置に移動自在な塞ぎ体と、上記塞ぎ体をその開位
置で収容するため上記壁に形成した収納溝と、上記弁板
及び塞ぎ体を移動するための駆動手段とより成り、上記
弁板が上記開口を閉じる位置では上記塞ぎ体が上記開口
を塞いでおり、上記弁板が上記開口を開く位置では上記
塞ぎ体が上記収納溝に収納されて上記開口を開いている
ことを特徴とする。
【０００６】
【０００７】また、本発明のゲートバルブは、プロセス
チャンバーの壁に形成した開口を開閉するため上記壁に
離接される弁板と、上記開口を塞ぐ位置と開く位置に移
動自在な塞ぎ体と、上記弁板と塞ぎ体を互に相対的に移
動せしめる移動手段と、上記弁板及び塞ぎ体を共に移動
するための駆動手段とより成り、上記弁板が上記開口を
閉じる位置では上記塞ぎ体が上記開口を塞いでおり、上
記弁板が上記開口を開く位置では上記塞ぎ体が上記壁の
内側面に対向されて上記開口を開いていることを特徴と
する。
チャンバーの壁に形成した開口を開閉するため上記壁に
離接される弁板と、上記開口を塞ぐ位置と開く位置に移
動自在な塞ぎ体と、上記弁板と塞ぎ体を互に相対的に移
動せしめる移動手段と、上記弁板及び塞ぎ体を共に移動
するための駆動手段とより成り、上記弁板が上記開口を
閉じる位置では上記塞ぎ体が上記開口を塞いでおり、上
記弁板が上記開口を開く位置では上記塞ぎ体が上記壁の
内側面に対向されて上記開口を開いていることを特徴と
する。
【０００８】上記壁の内壁面は平面状または弧状であ
り、弧状の場合には上記塞ぎ体が上記弧状の内壁面に合
致する湾曲を有する。
り、弧状の場合には上記塞ぎ体が上記弧状の内壁面に合
致する湾曲を有する。
【０００９】また、上記弁板と塞ぎ体を互に相対的に移
動せしめる移動手段は、一端を上記弁板に固定し、他端
を上記塞ぎ体に連結したベローズと、このベローズ内に
加圧流体を供給する手段とより成ることを特徴とする。
動せしめる移動手段は、一端を上記弁板に固定し、他端
を上記塞ぎ体に連結したベローズと、このベローズ内に
加圧流体を供給する手段とより成ることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下図面によって本発明の実施例
を説明する。
を説明する。
【００１１】本発明においては上記開口５を埋める突出
部（図示せず）を上記弁板６のプロセスチャンバー１側
の中央部に設ける。
部（図示せず）を上記弁板６のプロセスチャンバー１側
の中央部に設ける。
【００１２】本発明の他の実施例においては図１に示す
ようにプロセスチャンバー１の壁４に形成した開口５の
外側を開閉するため上記壁４の外側面に弁板６を離接自
在とし、上記開口５の内側を塞ぐ大きさ、形状の塞ぎ
体、例えば塞ぎ板１０を上記弁板６にアーム１１を介し
て連結する。
ようにプロセスチャンバー１の壁４に形成した開口５の
外側を開閉するため上記壁４の外側面に弁板６を離接自
在とし、上記開口５の内側を塞ぐ大きさ、形状の塞ぎ
体、例えば塞ぎ板１０を上記弁板６にアーム１１を介し
て連結する。
【００１３】また、上記壁４に上記開口５の内周面に開
口する収納溝１２を垂直方向下方に延びるように形成
し、図２に示すようにこの溝１２内に上記塞ぎ板１０を
その開位置で収容せしめる。
口する収納溝１２を垂直方向下方に延びるように形成
し、図２に示すようにこの溝１２内に上記塞ぎ板１０を
その開位置で収容せしめる。
【００１４】また、弁板６及び塞ぎ板１０は駆動手段
（図示せず）により夫々上記開口５を閉じ及び塞ぐ場合
には弁棒８及びアーム１１を介して図２において垂直方
向上方に移動せしめて図３に示した状態とした後、水平
方向内方に移動して図１に示すように上記開口５の周り
の上記壁４の外側面に形成した弁座に弁板６を対接せし
めると共に、上記塞ぎ板１０を上記開口５内において上
記壁４の内側面に一致する位置ならしめる。
（図示せず）により夫々上記開口５を閉じ及び塞ぐ場合
には弁棒８及びアーム１１を介して図２において垂直方
向上方に移動せしめて図３に示した状態とした後、水平
方向内方に移動して図１に示すように上記開口５の周り
の上記壁４の外側面に形成した弁座に弁板６を対接せし
めると共に、上記塞ぎ板１０を上記開口５内において上
記壁４の内側面に一致する位置ならしめる。
【００１５】また、上記弁板６及び塞ぎ板１０によって
上記開口５を閉じず及び塞がないようにする場合には、
これらを駆動手段によって図３に示すように水平方向外
方に移動した後、垂直下方に移動して、図２に示すよう
に上記弁板６が開口５より離れてこれを開くと共に、上
記塞ぎ板１０が収納溝１２内に収納され、開口５を塞が
ないようにする。
上記開口５を閉じず及び塞がないようにする場合には、
これらを駆動手段によって図３に示すように水平方向外
方に移動した後、垂直下方に移動して、図２に示すよう
に上記弁板６が開口５より離れてこれを開くと共に、上
記塞ぎ板１０が収納溝１２内に収納され、開口５を塞が
ないようにする。
【００１６】本発明のゲートバルブは上記のような構成
であるから弁板６によって開口５を閉じた状態において
は上記突出部が上記開口を埋めるようになり、または、
塞ぎ板１０が壁４の内側面に一致する位置となり、開口
５による凹陥部がプロセスチャンバー１に対向しないよ
うになるため、従来の欠点を一掃できるようになる。
であるから弁板６によって開口５を閉じた状態において
は上記突出部が上記開口を埋めるようになり、または、
塞ぎ板１０が壁４の内側面に一致する位置となり、開口
５による凹陥部がプロセスチャンバー１に対向しないよ
うになるため、従来の欠点を一掃できるようになる。
【００１７】図４及び図５は上記壁４の内側面が弧状で
ある本発明の他の実施例を示し、この実施例においては
上記塞ぎ板１０及び収納溝１２を同様に湾曲したものと
する。
ある本発明の他の実施例を示し、この実施例においては
上記塞ぎ板１０及び収納溝１２を同様に湾曲したものと
する。
【００１８】図６はベローズ１３を用いた移動手段１４
によって上記塞ぎ板１０を上記弁板６に相対的に水平方
向に移動自在ならしめた本発明の更に他の実施例を示
し、この実施例においては、上記収納溝１２を設けず、
上記弁板６及び塞ぎ板１０によって上記開口５を閉じず
及び塞がないようにする場合には、駆動手段によって上
記弁板６を水平方向外方に移動せしめたとき上記移動手
段１４のベローズ１３内に加圧流体通路１５を介して加
圧流体を導入して上記塞ぎ板１０を水平方向内方に移動
して図７に示すように上記開口５からプロセスチャンバ
ー１の壁４の内側に位置されるようにし、次いで駆動手
段によって図８に示すように弁板６と塞ぎ板１０を垂直
方向下方に移動せしめるようにする。
によって上記塞ぎ板１０を上記弁板６に相対的に水平方
向に移動自在ならしめた本発明の更に他の実施例を示
し、この実施例においては、上記収納溝１２を設けず、
上記弁板６及び塞ぎ板１０によって上記開口５を閉じず
及び塞がないようにする場合には、駆動手段によって上
記弁板６を水平方向外方に移動せしめたとき上記移動手
段１４のベローズ１３内に加圧流体通路１５を介して加
圧流体を導入して上記塞ぎ板１０を水平方向内方に移動
して図７に示すように上記開口５からプロセスチャンバ
ー１の壁４の内側に位置されるようにし、次いで駆動手
段によって図８に示すように弁板６と塞ぎ板１０を垂直
方向下方に移動せしめるようにする。
【００１９】なお、１６はベローズ１３の復帰スプリン
グである。
グである。
【００２０】
【発明の効果】上記のように本発明のゲートバルブによ
れば極めて簡単な構成により開口５を開閉できると共
に、開口５の外側を弁板６によって閉じたときには開口
５が突出部によって埋められ、または、開口５の内側が
塞ぎ板１０によって塞ぐことができるため開口５の付近
におけるガスやプラズマの流れ９に乱れや、ゆらぎ９′
が生ぜず、ウェハー２等の処理の均一性を向上できると
共に、プロセスチャンバー１内に弁板６のシール面が露
出されないため、シール面の汚れやＯリング７の劣化を
防止できる等大きな利益がある。
れば極めて簡単な構成により開口５を開閉できると共
に、開口５の外側を弁板６によって閉じたときには開口
５が突出部によって埋められ、または、開口５の内側が
塞ぎ板１０によって塞ぐことができるため開口５の付近
におけるガスやプラズマの流れ９に乱れや、ゆらぎ９′
が生ぜず、ウェハー２等の処理の均一性を向上できると
共に、プロセスチャンバー１内に弁板６のシール面が露
出されないため、シール面の汚れやＯリング７の劣化を
防止できる等大きな利益がある。
【図１】本発明のゲートバルブの要部の縦断正面図であ
る。
る。
【図２】本発明のゲートバルブの動作説明用縦断正面図
である。
である。
【図３】本発明のゲートバルブの動作説明用縦断正面図
である。
である。
【図４】本発明のゲートバルブの他の実施例を示す要部
の斜視図である。
の斜視図である。
【図５】図４に示すゲートバルブの要部の平面図であ
る。
る。
【図６】本発明のゲートバルブの更に他の実施例を示す
要部の縦断正面図である。
要部の縦断正面図である。
【図７】図６に示すゲートバルブの動作説明用縦断正面
図である。
図である。
【図８】図６に示すゲートバルブの動作説明用縦断正面
図である。
図である。
【図９】従来のゲートバルブの説明用縦断正面図であ
る。
る。
１ プロセスチャンバー
２ 半導体ウェハー
３ トランスファーチャンバー
４ 壁
５ 開口
６ 弁板
７ Ｏリング
８ 弁ロッド
９ 腐蝕性ガスまたはプラズマ
９′ ゆらぎ
１０ 塞ぎ板
１１ アーム
１２ 収納溝
１３ ベローズ
１４ 移動手段
１５ 加圧流体通路
１６ 復帰スプリング
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
F16K 3/00 - 3/36
F16K 51/02
Claims (4)
- 【請求項１】 プロセスチャンバーの壁に形成した開口
を開閉するため上記壁に離接される弁板と、上記開口を
塞ぐ位置と開く位置に移動自在な塞ぎ体と、上記塞ぎ体
をその開位置で収容するため上記壁に形成した収納溝
と、上記弁板及び塞ぎ体を移動するための駆動手段とよ
り成り、上記弁板が上記開口を閉じる位置では上記塞ぎ
体が上記開口を塞いでおり、上記弁板が上記開口を開く
位置では上記塞ぎ体が上記収納溝に収納されて上記開口
を開いていることを特徴とするゲートバルブ。 - 【請求項２】 プロセスチャンバーの壁に形成した開口
を開閉するため上記壁に離接される弁板と、上記開口を
塞ぐ位置と開く位置に移動自在な塞ぎ体と、上記弁板と
塞ぎ体を互に相対的に移動せしめる移動手段と、上記弁
板及び塞ぎ体を共に移動するための駆動手段とより成
り、上記弁板が上記開口を閉じる位置では上記塞ぎ体が
上記開口を塞いでおり、上記弁板が上記開口を開く位置
では上記塞ぎ体が上記壁の内側面に対向されて上記開口
を開いていることを特徴とするゲートバルブ。 - 【請求項３】 上記移動手段が、一端を上記弁板に固定
し、他端を上記塞ぎ体に連結したベローズと、このベロ
ーズ内に加圧流体を供給する手段とより成ることを特徴
とする請求項２記載のゲートバルブ。 - 【請求項４】 上記壁の内壁面が弧状であり、上記塞ぎ
体が上記弧状の内壁面に合致する湾曲を有することを特
徴とする請求項１、２または３記載のゲートバルブ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37392199A JP3388435B2 (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | ゲートバルブ |
| US09/707,654 US6425569B1 (en) | 1999-12-28 | 2000-11-07 | Gate valve |
| KR10-2000-0066063A KR100482978B1 (ko) | 1999-12-28 | 2000-11-08 | 게이트 밸브 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP37392199A JP3388435B2 (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | ゲートバルブ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001187972A JP2001187972A (ja) | 2001-07-10 |
| JP3388435B2 true JP3388435B2 (ja) | 2003-03-24 |
Family
ID=18502978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP37392199A Expired - Lifetime JP3388435B2 (ja) | 1999-12-28 | 1999-12-28 | ゲートバルブ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6425569B1 (ja) |
| JP (1) | JP3388435B2 (ja) |
| KR (1) | KR100482978B1 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3388435B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2003-03-24 | 株式会社ブイテックス | ゲートバルブ |
| KR100847890B1 (ko) | 2006-12-13 | 2008-07-23 | 세메스 주식회사 | 챔버 라이너를 포함하는 밀폐형 반도체 공정 시스템 및그것을 이용한 웨이퍼 가공 방법 |
| TWI462208B (zh) * | 2007-11-23 | 2014-11-21 | Jusung Eng Co Ltd | 槽閥組件及其操作方法 |
| KR101292806B1 (ko) * | 2007-11-23 | 2013-08-02 | 주성엔지니어링(주) | 슬롯 밸브 어셈블리 및 그 작동 방법 |
| KR100901285B1 (ko) * | 2007-12-20 | 2009-06-09 | 주식회사 디엠에스 | 기판 처리 장치 |
| DE102008027944B3 (de) | 2008-06-12 | 2009-07-30 | Vat Holding Ag | Schieberventil |
| DE102008051349B3 (de) * | 2008-10-15 | 2009-11-12 | Vat Holding Ag | Vakuumventil |
| KR101892499B1 (ko) * | 2011-10-04 | 2018-08-28 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 처리 장치 |
| TWI656293B (zh) * | 2014-04-25 | 2019-04-11 | 瑞士商Ｖａｔ控股股份有限公司 | 閥 |
| US10224224B2 (en) * | 2017-03-10 | 2019-03-05 | Micromaterials, LLC | High pressure wafer processing systems and related methods |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US855350A (en) * | 1905-08-18 | 1907-05-28 | Horace F Neumeyer | Hydrant. |
| US3120944A (en) | 1960-06-29 | 1964-02-11 | Commissariat Energie Atomique | Mechanical movement gate-valve having positive reduction means |
| DE3224387A1 (de) | 1982-06-30 | 1984-01-12 | Schertler, Siegfried, 9469 Haag | Vakuumschieberventil |
| US4721282A (en) | 1986-12-16 | 1988-01-26 | Lam Research Corporation | Vacuum chamber gate valve |
| JPH03204483A (ja) * | 1990-01-08 | 1991-09-06 | Irie Koken Kk | 無しゅう動真空ゲートバルブ |
| US5002255A (en) | 1989-03-03 | 1991-03-26 | Irie Koken Kabushiki Kaisha | Non-sliding gate valve for high vacuum use |
| US5120019A (en) | 1989-08-03 | 1992-06-09 | Brooks Automation, Inc. | Valve |
| JP3330686B2 (ja) * | 1993-07-12 | 2002-09-30 | 株式会社アルバック | 無摺動ゲートバルブ |
| JP2613171B2 (ja) | 1993-07-22 | 1997-05-21 | 株式会社岸川特殊バルブ | ゲートバルブ |
| KR960015773U (ko) * | 1994-10-22 | 1996-05-17 | 액정표시판넬 보호커버를 구비한 카드식페이저 | |
| JP3310578B2 (ja) * | 1996-12-13 | 2002-08-05 | エヌオーケー株式会社 | ゲートバルブ |
| DE19746241C2 (de) * | 1997-10-20 | 2000-05-31 | Vat Holding Ag Haag | Einrichtung zum Verschließen einer Öffnung |
| JP3388435B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2003-03-24 | 株式会社ブイテックス | ゲートバルブ |
-
1999
- 1999-12-28 JP JP37392199A patent/JP3388435B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-11-07 US US09/707,654 patent/US6425569B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-08 KR KR10-2000-0066063A patent/KR100482978B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100482978B1 (ko) | 2005-04-15 |
| JP2001187972A (ja) | 2001-07-10 |
| US6425569B1 (en) | 2002-07-30 |
| KR20010060267A (ko) | 2001-07-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3388435B2 (ja) | ゲートバルブ | |
| JPH054666A (ja) | 通気孔を設けた半導体ウエーハ用真空カセツト | |
| US5217053A (en) | Vented vacuum semiconductor wafer cassette | |
| EP1075023A1 (en) | Unprocessed material storing device and carry-in/out stage | |
| JP6115628B2 (ja) | ゲートバルブ | |
| JP5015280B2 (ja) | 基板収納ポッドおよびその蓋部材並びに基板の処理装置 | |
| JP2002536597A (ja) | 可膨張性スリットバルブ及び可膨張性ゲートバルブ | |
| US8382066B2 (en) | Gate valve | |
| KR20080073778A (ko) | Ｏ링 없는 로우 프로파일 피팅 및 피팅 조립체 | |
| US7296783B2 (en) | Vacuum processing apparatus | |
| US5743424A (en) | Sealable container | |
| KR20040040996A (ko) | 게이트 밸브 조립체 | |
| US7607880B2 (en) | Wafer processing apparatus having dust proof function | |
| JP2006038121A (ja) | ゲート弁及び真空ゲート弁 | |
| US7614840B2 (en) | Wafer processing apparatus having dust proof function | |
| JP4632111B2 (ja) | 遮断弁の弁構造 | |
| JP2798603B2 (ja) | 真空用ゲートバルブ | |
| JPH08198181A (ja) | スキューバ用１次減圧器 | |
| JPH03239884A (ja) | 超高真空ゲート弁 | |
| JP2002303372A (ja) | ゲートバルブ並びに真空処理装置および方法 | |
| JPH062699U (ja) | ウエハキャリアボックス | |
| JPH0618143Y2 (ja) | 高圧流体充填用バルブ装置 | |
| KR200168523Y1 (ko) | 가스 밸브 장치용 포핏 시트 링 | |
| TW202417338A (zh) | 基板收納容器 | |
| JP2000346212A (ja) | 液体容器用排出バルブ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3388435 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090117 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100117 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110117 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120117 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130117 Year of fee payment: 10 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140117 Year of fee payment: 11 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |