JP2002536597A - 可膨張性スリットバルブ及び可膨張性ゲートバルブ - Google Patents

可膨張性スリットバルブ及び可膨張性ゲートバルブ

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型で、安価で、信頼性が高く、従来のドアアセンブリより少ない粒子を生じさせるドアアセンブリを提供する。 【解決手段】 密封しなければならない開口に面する前板、該前板に有効に結合される後板、および前板と後板の間に位置する少なくとも1つの可膨張性部材を含む、密封可能ドアアセンブリ。膨張した際、可膨張性部材は、前板を移動させ開口と密封係合させる。ある実施態様においては、可膨張性部材は、1つまたは複数の真空グレードのベローズを含む。可動機構は、ドアアセンブリを選択的に開口を塞ぐためにドアアセンブリを移動する。いったんドアアセンブリが開口を塞ぐと、可膨張性部材は膨張し、拡大し、前板を開口に垂直な方向で押しやり、それによって開口を密封する。ドアアセンブリは、移動チャンバの外壁内に形成されるポケットの中に取り付けられてよく、密封板はポケット内に気密領域を形成するために利用されてよい。気密領域は、開口のドアのシールを高めるために加圧されてよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (発明の分野) 本発明は、開口の自動化気密シールを提供するための方法および装置に関する
。より詳細には、本発明は、半導体装置製作ツールの密封チャンバ用のゲートバ
ルブまたはスリットバルブなどのドアアセンブリに関する。
【0002】 (発明の背景) 半導体ウェハは、ツール(つまり、ロードロック)へまたはツールからのウェ
アの装填/取出し、ウェハの移載、またはウェハ加工のために指定される複数の
チャンバを備える自動製造ツール内で加工される。典型的には、各チャンバの環
境は、相互汚染を防止するため、および多様なチャンバを、その中で実行される
工程に応じて異なる圧力で維持できるようにするために、近隣のチャンバの環境
から選択的に切り離さなければならない。また、ロードロックも、ツールの外側
に存在する環境から選択的に切り離さなければならない。このような選択的な切
離しを達成するために、各チャンバには、ウェハをチャンバへおよびチャンバか
ら移動するためにウェハハンドラが伸張するスリットが備えられる。スリットは
、可動ドアと選択的に密封される(典型的には、真空用途の場合スリットバルブ
と、非真空用途の場合ゲートバルブと呼ばれる)。従来の可動ドアアセンブリは
嵩張り、貴重なクリーンルームの空間を消費し、多くの移動パーツおよび頻繁な
交換を必要とする。したがって、可動ドアアセンブリは、大きな費用を構成する
【0003】 多くの一般的に使用されているドアアセンブリは、パドル形をしており、密封
表面を有し、密封面から下方に伸びる細長い軸部分を有している。運転中、ドア
アセンブリは、密封面が、密封されるスリット開口を塞ぐように持ち上げられる
。その後に、ドアアセンブリの下部軸部分に位置している空気シリンダが作動さ
れる。空気シリンダはチャンバ壁を押し、このようにしてドアの下部軸部分をチ
ャンバから強制的に離し、スリットを密封するためにドアアセンブリの密封面を
内向きに押しやる。経時的に、この片持ち梁状の力が軸を曲げ、そこに沿ったあ
らゆる気密シールを破壊する。さらに密封面は、スリットを囲む面に沿って傾か
せるわずかに弧を描いて動く運動で、密封面をスリット開口に向かって移動する
。この摺動接触が、水面を汚染することのある粒子を生じさせる。
【0004】 結果的に、これらの従来のドアアセンブリは、嵩張り、高価で、信頼性に欠け
、潜在的に破壊的な粒子を生じさせる。したがって、さらに小型で、さらに安価
で、さらに信頼性が高い、および従来のドアアセンブリより少ない粒子を生じさ
せる改善されたドアアセンブリに対するニーズが存在する。
【0005】 (発明の開示) 本発明は、半導体製造ツールのスリット開口などの開口を選択的に密封するた
めの可動ドアアセンブリを提供する。ドアアセンブリは、密封される開口を有す
る面と密封係合させるように適応された前板、該前板に有効に結合される後板、
および前板と後板の間に位置する、前板を移動させて開口と選択的に密封係合さ
せるための少なくとも1つの可膨張性部材を備える。前板は、開口の回りの気密
シールを達成するための密封部材を有する。前板は、密封される開口を有する面
に平行であり、可膨張性部材は、密封される面に垂直な方向に前板を移動するよ
うに結合される。このようにして、本発明のドアアセンブリは、開口を取り囲む
面に沿って摺動することなく、それにより粒子を生じさせずに開口を密封する。
【0006】 本発明のドアアセンブリを真空環境での使用のため構成するとき、可膨張性部
材はステンレス鋼から作られるベローズなどの1つまたは複数の真空グレードの
部材を備える。真空用途に好ましい実施態様においては、本発明のドアアセンブ
リは、密封される開口と連絡しているポケット内(例えば、ウェハを移載するた
めの中央チャンバの外壁内に機械加工されるポケット内)に収容される。ドアア
センブリは、閉鎖位置に、および閉鎖位置からドアを移動させるための可動機構
を有し、そこではドアアセンブリは開口を塞ぐ。密封板は、可動機構に結合され
、ポケットの壁に接して密封するために配置され、それによりポケット内に気密
領域を生じさせる。気密領域を加圧することによって、密封開始後、ドアアセン
ブリの密封が(気密領域とチャンバ間の圧力勾配のために)強まり、さらに安価
な可膨張性部材が利用されてよい。
【0007】 さらなる優位点は、各ベローズを通過する単一気体送達路に結合される複数の
ベローズを有するモジュールを利用することによって達成される。このような設
計が、可膨張性部材および気体送達路を容易に交換または修復できるようにし、
設計を容易に縮小拡大可能にする。
【0008】 本発明のその他の目的、特色および優位点は、好ましい実施態様の以下の詳細
な説明、添付クレーム、および添付図面からさらに明らかになるだろう。
【0009】 (図面の詳細な説明) 図1は、本発明のドアアセンブリ11aの第1実施態様の等角図である。ドア
アセンブリ11aは、誘導式空気シリンダリフト17などの移動機構を介してハ
ウジング15内に可動で結合されるドア13を備える。空気シリンダリフト17
はハウジング15に取り付けられ、ドア13が(図3に最もよく図示されている
)開口19を塞がない開放位置と、ドア13が開口19を塞ぐ閉鎖位置の間でド
ア13を昇降するように構成されている。気体供給線路20は、図2Aおよび図
Bに関してさらに説明されるように、遠隔ソース(図示せず)からドア13の可
膨張性部材に気体を供給する。
【0010】 図2Aおよび図2Bは、図1のドア13のそれぞれ側面図および展開等角図で
ある。ドア13は、前板21a、後板23a、および可膨張性ブラダ25などの
可膨張部材を備え、前板21aおよび後ろ板23aの間で有効に結合される。可
膨張性ブラダ25は、フレーム27によって支えられる。複数のばね31a−c
は、前板21aおよび後板23aを互いに向かって偏向させるように前板21a
と後板23aの両方に結合するが、前板21aおよび後板23aがチャンバ(図
3)内の開口およびハウジング15(図1)の開口19を封止するほど十分な距
離、互いから離れることができるように伸張する。前板21a、後板23aおよ
びフレーム27は、(図1に最もよく示されている)取付けブロック33を介し
て空帰シリンダリフト17の上部にボルトで留められる。前板21aおよび後板
23aは、好ましくは、その外面上にそれぞれ密封部材22,24を有する。前
板21aおよび後板23aは、好ましくは、ステンレス鋼、アルミニウム、また
はニッケルめっきアルミニウム等の耐食性材料を備える。前板21aおよび後板
23aは、図3を参照してさらに説明されるように、チャンバ内の開口(図3)
およびハウジング15の開口19(図1)の回りで密封するための寸法で作られ
ている。
【0011】 図3は、ロードロックチャンバ35から展開されるドアアセンブリ11aを示
す、図1の本発明のドアアセンブリ11aの展開等角図である。ロードロックチ
ャンバ35には、その中にスリット開口37が形成される。ハウジング15は、
複数のボルト穴39を通して伸張するボルト(図示せず)を介して、ロードロッ
クチャンバ35の前部にボルトで留められる。ロードロックチャンバ35のスリ
ット開口37およびハウジング15の開口19は、ウェハハンドラ(図示せず)
が、ハウジング15の外部の周囲環境とロードロックチャンバ35の内部領域の
間でウェハを渡すことができるように整列され、渡すことができるような寸法で
作られている。
【0012】 図3に図示されているように、空気シリンダリフト17は、そこに結合されて
いるドア13が開放位置にあるように下がった位置にある。開放位置では、ドア
13は、ウェハハンドラがその間を通過できるようにするために、ハウジング1
5の開口19、およびロードロックチャンバ35のスリット機構37の高さより
十分に下にある。運転中、ウェハが開口19と37を通して挿入または抽出され
た後に、空気シリンダリフト17は付勢され、そこに結合されるドア13がハウ
ジング15の開口19を塞ぎ、ロードロックチャンバ35の開口スリット37を
塞ぐように、閉鎖位置に移動する。それ以降、気体(例えば、空気、窒素等)が
、気体供給線路20を介して可膨張性ブラダ25に供給される。気体は、その結
果、同時に、前板21aの密封部材22をハウジング15に押しつけ、後板23
aの密封部材をロードロックチャンバ35に押しつける可膨張性ブラダ25を膨
張させる。前板の密封部材22は、それにより、開口19の回りで密封し、後板
の密封部材24は、スリット開口37の回りで密封する。図3の例では、後板2
3aの密封部材24は、別の部材にではなくむしろ周囲環境につながる開口19
を密封することは必要ではないため、省略することができる。
【0013】 ドアアセンブリを開くためには、可膨張性ブラダ25は、製造ツールメインフ
レームの一部である電磁バルブ(図示せず)を死なせ、可膨張性ブラダ25およ
び気体供給線路を大気に排出することによって収縮される。可膨張性ブラダ25
が収縮するにつれて、ばね31a−cが前板21aおよび後板23aを互いに向
かって引き寄せる。前板21aおよび後板23aが、それぞれロードロックチャ
ンバ25およびハウジング15から十分な距離引き寄せられてから、空気シリン
ダリフト17が、ドア13がスリット開口37および開口19を塞がなくなるよ
うに、ドア3を引き下げる。
【0014】 図4は、本発明のドアアセンブリの第2実施態様の等角図である。図1から図
8を通して、類似しているが、同一ではない本発明のドアアセンブリの第1実施
態様および第2実施態様の構成要素がそれぞれ「a」と「b」として示されてい
る。図4から図7のドアアセンブリ11bは、図1から図3のドアアセンブリ1
1aのように構成されているが、真空環境内での使用に対処するためにわずかに
修正されている。特に、ドアアセンブリ11bの可膨張性部材は、真空グレード
の材料(例えば、ステンレス鋼またはINCO,Inc.によって製造されるイ
ンコネル625(登録商標))から構成されている。図4に示されているように
、好ましい可膨張性部材は、空気シリンダリフト17の軸を容器に入れ、第1気
体供給線路を容器に入れる4つの真空グレードのベローズ43a−dおよび1つ
の垂直真空グレードのベローズ45を備える(図6参照)。ドアアセンブリ11
bは、(例えば、空気シリンダリフト17の軸が密封板47を通過し、密封板4
7が、軸がドアアセンブリ11bを昇降する間に静止したままとすることができ
るように)空気シリンダリフト17に有効に結合される密封板47も有する。
【0015】 実際には、ドアアセンブリ11bは、好ましくはチャンバ壁51(図5)内で
機械加工されるポケット49(図5)の内側に取り付けられ、密封板47はポケ
ット49の開放側面(例えば、底部)を密封し、それにより図5を参照してさら
に説明されるように気密領域を作成するように構成される。
【0016】 図5は、そこに取り付けられている図4の発明のドアアセンブリを有する典型
的な移載チャンバ51の等角図である。移載チャンバ51は、その中で複数のポ
ケット49a−fが機械加工されている厚い外壁53を有する。従来、各ポケッ
ト49a−fは、それぞれ内側スリット開口57および外側スリット開口59を
有する内側ポケット壁および外側ポケット壁55a、55bによって供給される
。ポケット49の底部は、そこを通ってドアアセンブリ(例えば、スリットバル
ブ)を受け取るために、従来開かれたままにされる。密封板47は、ポケット4
9の側壁を封止するような寸法で作られ、ポケット49の側壁を封止するO−リ
ング(図示せず)を含む溝を有する。このようにして、ドアアセンブリ11bが
、ポケット49の内側に取り付けられるとき、ポケット49は気密領域を形成す
る。運転中、空気シリンダリフト17は、ドア13bがポケットの内側スリット
開口57および外側スリット開口59を塞ぐ閉鎖位置と、ドア13bがポケット
の内側スリット開口57および外側スリット開口59を塞がない開口位置の間で
ドア13bは昇降する。閉鎖位置にあるとき、ドア13bが膨張し、図6および
図7を参照してさらに説明されるように、内側スリット開口57および外側スリ
ット開口59の回りにシールを形成する。
【0017】 密封を開始した後、気密領域は、有効にそこに結合されている機構によって(
例えば、製造ツールのメインフレームの電磁バルブ60を開放することによって
)、および機構を介して圧縮性流体を気密領域に流し込むことによって加圧され
てよい。圧縮性流体は、気密領域とチャンバの処理領域の間で圧力勾配を生じさ
せることによって、内側スリット開口57および外側スリット開口59を密封す
るために必要とされる力を生じさせる。この圧力勾配は密封を強め、さらに小型
で、さらに安価な可膨張性部材の使用を可能にする。
【0018】 図6は、図4のドアアセンブリ11bの発明ドア13bの展開等角図であり、
図7は発明ドア13bの気体供給の等角図である。真空グレードのベローズ43
a−dの気体供給システムは、垂直真空グレードのベローズ45を通して気体ソ
ース(図示せず)から取付けブロック33へ気体を供給する第1気体線路61a
を備える。取付けブロック33内では、第1気体線路61aは、第2気体線路6
1bに結合する。第2気体供給線路61bおよび真空グレードのベローズ43a
−dは、好ましくは、それらが1つの装置として取り外すことができる(つまり
モジュール式である)ように設計される。第2気体線路61bは、好ましくは固
定した部材(例えば、ステンレス鋼管材から構成されている)であり、その中に
複数の開口63が形成されている。真空グレードのベローズ43a−dは、第2
気体線路61b上に取り付けられ、気体は、第2気体線路61b内の開口63を
介して真空グレードのベローズ43a−dへ供給される。O−リング67a、6
7bをそのそれぞれの側面に有する空気シール65は、各真空グレードのベロー
ズ45a−dの間の第2気体線路61bに取り付けられる。第2気体線路61b
のそれぞれの端部では、端部O−リング69、座金71およびナット73が図6
に示されるように取り付けられている。このようにして、第2気体線路61bに
取り付けられるとき、ベローズ43a−dは、ナット73を増締めすることによ
って容易にともに保持される。
【0019】 ドアアセンブリ11bの前板21bおよび後板23bは、好ましくは、図4お
よび図6に示されるようにベローズ43a−dを受け入れるように形成され、真
空グレードのベローズ43a−dの中に伸張するボルト穴75とボルト(図示せ
ず)とを有する。このようにして、真空グレードのベローズ43a−d、および
第2気体線路61bを備えるモジュールは、前板21bおよび後板23bから容
易に切離し可能で、組立ておよび修復を容易にする。
【0020】 図8は、図1の発明ドアアセンブリ11aおよび図4の発明ドアアセンブリ1
1bを利用する自動半導体装置製造ツール77の平面図である。製造ツール77
は、それぞれ第1ウェハハンドラおよび第2ウェハハンドラ83、85を収容す
る第1移載チャンバ79および第2移載チャンバ81を備える。第1移載チャン
バ79は、1組のロードロック87、89および1組の通過チャンバ91、93
に有効に結合される。(仮想線で示されている)ガス抜きチャンバまたは冷却チ
ャンバのようなそれ以外のチャンバも、第1移載チャンバ79に結合されてよい
。第2移載チャンバ81は、通過チャンバ91、93に、および多様な半導体製
造工程(例えば、化学的気相蒸着、スパッタディポジション等)を実行するため
に構成される複数の加工チャンバ95、97、99、および101に結合される
【0021】 製造ツール77の各チャンバは、発明のドアアセンブリ11a、11bの1つ
または複数によって密封される。第1および第2の発明のドアアセンブリ11a 1 、11a2は、それぞれ大気からロードロックチャンバ87,89を密封する。
残りのシールが2つの真空環境の間で発生するため、図4のドアアセンブリ11
bは、それが真空環境内での使用のために、およびチャンバ壁内の取付けのため
に構成されるときに利用される。したがって、第1から第6のドアアセンブリ1
1b1-6が第1移載チャンバ79の壁の中に取り付けられ、第7ドアアセンブリ
から第12ドアアセンブリ11b7-12が、第2移載チャンバ81の壁の中に取り
付けられる。マイクロプロセッサ105およびメモリ107を備える制御装置1
03は、ロードロック、通過チャンバ、および加工チャンバを選択的に密封する
、第1ウェハハンドラおよび第2ウェハハンドラ83,85、ロードロック87
,89、およびドアアセンブリ11a1-2、11b1-12に有効に結合される。制
御装置103は、このようにして製造ツール77内でのウェハの移載および加工
を制御する。
【0022】 本発明のドアアセンブリ11bが必要とする空間はさらに少ないため、第1移
載チャンバ79および第2移載チャンバ81の全体的な底面積を削減することが
できるようにし、クリーンルームの費用を削減する。この節約は、信頼性の向上
、優れたシール、さらに長い耐用年数、および発明ドアアセンブリ11bの費用
の削減と組み合わされ、半導体製造ツールで使用される発明ドアアセンブリ11
a、11bを従来のスリットバルブおよび/またはゲートバルブよりはるかに優
れたものにする。代わりに、移載チャンバ79の底面積を縮小するよりむしろ、
移載チャンバ79は、その従来のサイズで維持されてよく、その場合、発明のド
アアセンブリのさらに小さいサイズが、ロボットの運転体積にさらに増加した空
間を提供し、アーム長がさらに長く引き伸ばされたロボットの使用を可能にする
【0023】 前記説明は、発明の好ましい実施態様だけを開示し、発明の範囲内に該当する
前記に開示された装置および方法の修正は、当業者には明らかとなるだろう。例
えば、O−リングなどの密封部材は、発明のドアアセンブリの前板および後板に
よりむしろ、ドアアセンブリハウジング、ロードロックチャンバ、またはポケッ
トの内壁または外壁に取り付けられてよい。このような装置では、前板および後
板は、依然として、それぞれの面を密封係合するように適応されると考えられる
。さらに、多様な構成要素の、およびその間の特殊な結合の形状は変わってよい
。発明のドアアセンブリは、ハウジングのサイズ、多様な板のサイズ、および可
膨張性サイズを変更することによって(例えば、200mmまたは300mmの
ウェハシステムで使用するために)容易に拡大縮小されてよい。可膨張性ベロー
ズが利用されるとき、その数は、所望のサイズを容易に達成するために増減され
てよい。さらに、開口の回りで密封するように適応される前板の部分は、好まし
くは、それが封止する面に平行であるが、前板は多様な向きを有する多くの部分
から構成されてよい。
【0024】 したがって、本発明は、その好ましい実施態様と関連して開示されたが、それ
以外の実施態様が、以下のクレームによって定められるように、発明の精神およ
び範囲に該当してよいことが理解されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のドアアセンブリの第1実施態様の等角図である。
【図2A】 図1のドアの側面立面図および展開等角図である。
【図2B】 図1のドアの側面立面図および展開等角図である。
【図3】 ロードロックチャンバを基準にして図示される、図1の本発明のドアアセンブ
リの展開等角図である。
【図4】 本発明のドアアセンブリの第2実施態様の等角図である。
【図5】 そこに取り付けられている図4の本発明のドアアセンブリを有する典型的な移
載チャンバ53の等角図である。
【図6】 図4の本発明の展開等角図である。
【図7】 図6の本発明のドア用の気体供給の等角図である。
【図8】 図1および図4の本発明のドアアセンブリを備える自動半導体装置製造ツール
の平面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/3065 H01L 21/302 B Fターム(参考) 3H053 AA25 AA35 BA19 BA24 BB20 BC09 DA09 3H066 AA03 BA17 BA38 4K029 AA06 AA24 BD01 KA01 KA05 KA09 4K030 CA04 CA12 GA12 KA10 KA11 KA28 5F004 AA14 AA16 BA00 BC01 BC06

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 密封される開口を有する面を密封係合するように適応される
    前板と、 前板に有効に結合される後板と、 前板と後板の間に位置していると共に、選択的に前板を移動させて開口に密封
    係合させる少なくとも1つの可膨張性部材と、 を有するドア、 を備える、気密シールを提供するためのドアアセンブリ。
  2. 【請求項2】 前板が、密封される開口を有する面に平行であり、可膨張性
    部材が、密封される表面に垂直な方向に前板を移動するように構成される、請求
    項1に記載の装置。
  3. 【請求項3】 密封される開口をドアが塞ぐ位置と、密封される開口をドア
    が塞がない位置の間でドアを選択的に移動させるための、ドアに結合される機構
    をさらに備える、請求項1に記載の装置。
  4. 【請求項4】 前板および後板を互いに向かって偏向させるように、前板と
    後板の間で有効に結合される少なくとも1つの偏向機構をさらに備える、請求項
    1に記載の装置。
  5. 【請求項5】 可膨張性部材の膨張中に後板が押しつけられる固定した構造
    を提供するように後板の後ろに配置されるハウジング、をさらに備える、請求項
    1に記載の装置。
  6. 【請求項6】 密封される開口をドアが塞ぐ位置と、密封される開口をドア
    が塞がない位置の間でドアを選択的に移動するためにドアに有効に結合される機
    構をさらに備え、 可膨張性部材が、密封される面に垂直な方向に前板を移動し、可膨張性部材が
    膨張したときにハウジングに垂直な方向で後板を移動するように構成され、ハウ
    ジングは、密封される開口に対して整列した開口を有する、請求項5に記載の装
    置。
  7. 【請求項7】 可膨張性部材は真空グレード部材を備える、請求項1に記載
    の装置。
  8. 【請求項8】 気体送達線路を備え、可膨張性部材が、そこから気体を受け
    取るために、気体送達線路に有効に結合される複数の真空グレードのベローズを
    さらに備える、請求項1に記載の装置。
  9. 【請求項9】 気体送達線路および複数の真空グレードのベローズがモジュ
    ール式である、請求項8に記載の装置。
  10. 【請求項10】 請求項2に記載のドアアセンブリと、 ドアに有効に結合される昇降機構と、 前板および後板を互いに向かって偏向させるように、前板と後板の間で有効に
    結合される少なくとも1つの偏向機構と、を備える装置。
  11. 【請求項11】 可膨張性部材が、複数の真空グレードのベローズを備える
    、請求項10に記載の装置。
  12. 【請求項12】 囲い壁と、 内側開口のある内側ポケット壁および内側開口に対して整列した外側開口のあ
    る外側ポケット壁の中で機械加工されるポケットと、 ポケットの中で結合される可動機構と、 内側開口と外側開口をドアが塞ぐ閉鎖位置と、内側開口または外側開口をドア
    が塞がない開放位置の間で移動するように可動機構に取り付けられている請求項
    7に記載の密封可能ドアアセンブリと、 可動機構に有効に結合される密封板であって、ポケットの内壁および外壁を封
    止し、それによってポケット内に、および内側開口と外側開口に隣接して気密領
    域を作り出すように配置されている密封板と、 そこに気体を供給するために気体気密領域に有効に結合される機構と、を備え
    る真空チャンバ。
  13. 【請求項13】 ドアの前板が内側ポケット壁に平行であり、ドアの後板が
    外側ポケット壁に平行であり、内側ポケット壁に垂直な方向で前板を移動するよ
    うに、外側ポケット壁に垂直な方向で後板を移動するように、および後板を外側
    ポケット壁に押しつける一方で内側ポケット壁に対して前板を押しつけるように
    、可膨張性部材が結合される、請求項12に記載の装置。
  14. 【請求項14】 可膨張性部材が、複数の真空グレードのベローズを備える
    、請求項13に記載の装置。
  15. 【請求項15】 複数の出口をその中に有する気体送達線路をさらに備え、
    複数の真空グレードのベローズが気体送達線路に有効に結合され、出口を通して
    気体を受け入れ、そして気体送達線路とブロック式装置を形成する、請求項14
    に記載の装置。
  16. 【請求項16】 ドアが開口を塞ぐ位置に、ドアを移動することと、 ドアを膨らませ、それによって開口を密封することと、 を備える、チャンバ開口を選択的に密封する自動方法。
  17. 【請求項17】 ドアの拡大が、ドアの可膨張性部材を膨張させることと、
    それによって開口に垂直な方向でドアを移動させることと、 を備える、請求項16に記載の方法。
  18. 【請求項18】 ドアと連絡する気密領域を形成することと、開口が密封さ
    れた後に気密領域を加圧することと、 をさらに備える、請求項16に記載の方法。
  19. 【請求項19】 ドアと連絡する気密領域を形成することと、開口が密封さ
    れた後に気密領域を加圧することと、 をさらに備える、請求項17に記載の方法。
  20. 【請求項20】 ドアの可膨張性部材を膨張させることが、ドアの前板に開
    口を密封係合させ、ドアの後板にドアハウジングを押しつけさせるほど十分に可
    膨張性部材を膨張させることを備える、請求項17に記載の方法。
  21. 【請求項21】 ドアの可膨張性部材を膨張させることが、ドアの前板に内
    側開口を密封係合させ、ドアの後板に外側開口を密封係合させるほど十分に可膨
    張性部材を膨張させることを備える、請求項17に記載の方法。
  22. 【請求項22】 囲い壁によって形成される封入領域の内側に配置されたウ
    ェハハンドラを有する請求項14に記載の装置と、 ポケットの外側開口に有効に結合される半導体ウェハを加工するための加工チ
    ャンバと、 を備える、自動半導体製造ツール。
  23. 【請求項23】 囲い壁によって形成される封入領域の内側に配置されたウ
    ェハハンドラを有する請求項13に記載の装置と、 ポケットの外側開口に有効に結合される半導体ウェハを加工するための加工チ
    ャンバと、 を備える自動半導体製造ツール。
  24. 【請求項24】 囲い壁によって形成される封入領域の内側に配置されたウ
    ェハハンドラを有する請求項12に記載のチャンバと、 半導体ウェハを製造ツールに装填し、製造ツールから取り出すためのポケット
    の外側開口に有効に結合されるロードロックチャンバと、 を備える、自動半導体製造ツール。
  25. 【請求項25】 囲い壁によって形成される封入領域の内側に配置されたウ
    ェハハンドラを有する請求項13に記載の装置と、 製造ツールに半導体ウェハを装填し、製造ツールから半導体ウェハを取り出す
    ためのポケットの外側開口に有効に結合されるロードロックチャンバと、 を備える、自動半導体製造ツール。
  26. 【請求項26】 ウェハを移載するためにその中にウェハハンドラを配置さ
    せる移載チャンバと、 移載チャンバに有効に結合される少なくとも1つの加工チャンバと、 移載チャンバに有効に結合される少なくとも1つのロードロックであって、ウェ
    ハが通過する密封可能な開口を有するロードロックと、 ロードロックの密封可能な開口に有効に結合される請求項6に記載の装置と、
    を備える、自動半導体製造ツール。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007148657A1 (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Nippon Valqua Industries, Ltd. 弁体部及びゲートバルブ装置
KR20140011986A (ko) * 2012-07-19 2014-01-29 배트 홀딩 아게 진공 밸브
JP2014037889A (ja) * 2012-08-17 2014-02-27 Vat Holding Ag バルブ
JP2015224751A (ja) * 2014-05-29 2015-12-14 プログレッシオ合同会社 真空用ゲートバルブ

Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020051699A1 (en) * 1997-05-05 2002-05-02 Gordon Nelson Door system for a process chamber
US6347918B1 (en) * 1999-01-27 2002-02-19 Applied Materials, Inc. Inflatable slit/gate valve
US6742774B2 (en) * 1999-07-02 2004-06-01 Holl Technologies Company Process for high shear gas-liquid reactions
TW477882B (en) * 2000-07-03 2002-03-01 Tokyo Electron Ltd Processing apparatus with sealing mechanism
US6553280B2 (en) 2000-07-07 2003-04-22 Applied Materials, Inc. Valve/sensor assemblies
WO2002005330A2 (en) * 2000-07-08 2002-01-17 Applied Materials, Inc. Door assembly for sealing an opening of a chamber
CN100435269C (zh) * 2001-07-15 2008-11-19 应用材料有限公司 处理系统
US6670071B2 (en) * 2002-01-15 2003-12-30 Quallion Llc Electric storage battery construction and method of manufacture
US6800172B2 (en) * 2002-02-22 2004-10-05 Micron Technology, Inc. Interfacial structure for semiconductor substrate processing chambers and substrate transfer chambers and for semiconductor substrate processing chambers and accessory attachments, and semiconductor substrate processor
US6858264B2 (en) * 2002-04-24 2005-02-22 Micron Technology, Inc. Chemical vapor deposition methods
US6814813B2 (en) 2002-04-24 2004-11-09 Micron Technology, Inc. Chemical vapor deposition apparatus
US20030202865A1 (en) * 2002-04-25 2003-10-30 Applied Materials, Inc. Substrate transfer apparatus
US6821347B2 (en) * 2002-07-08 2004-11-23 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for depositing materials onto microelectronic workpieces
KR100439036B1 (ko) * 2002-08-05 2004-07-03 삼성전자주식회사 반도체 제조설비
US6955725B2 (en) * 2002-08-15 2005-10-18 Micron Technology, Inc. Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces
US6926775B2 (en) * 2003-02-11 2005-08-09 Micron Technology, Inc. Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces
US7335396B2 (en) * 2003-04-24 2008-02-26 Micron Technology, Inc. Methods for controlling mass flow rates and pressures in passageways coupled to reaction chambers and systems for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers
CN100408902C (zh) * 2003-05-13 2008-08-06 应用材料股份有限公司 密封一处理室一开口的方法与装置
US7344755B2 (en) * 2003-08-21 2008-03-18 Micron Technology, Inc. Methods and apparatus for processing microfeature workpieces; methods for conditioning ALD reaction chambers
US7235138B2 (en) * 2003-08-21 2007-06-26 Micron Technology, Inc. Microfeature workpiece processing apparatus and methods for batch deposition of materials on microfeature workpieces
US7422635B2 (en) * 2003-08-28 2008-09-09 Micron Technology, Inc. Methods and apparatus for processing microfeature workpieces, e.g., for depositing materials on microfeature workpieces
US7056806B2 (en) * 2003-09-17 2006-06-06 Micron Technology, Inc. Microfeature workpiece processing apparatus and methods for controlling deposition of materials on microfeature workpieces
US7282239B2 (en) * 2003-09-18 2007-10-16 Micron Technology, Inc. Systems and methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers
US7323231B2 (en) * 2003-10-09 2008-01-29 Micron Technology, Inc. Apparatus and methods for plasma vapor deposition processes
US7581511B2 (en) * 2003-10-10 2009-09-01 Micron Technology, Inc. Apparatus and methods for manufacturing microfeatures on workpieces using plasma vapor processes
US7647886B2 (en) 2003-10-15 2010-01-19 Micron Technology, Inc. Systems for depositing material onto workpieces in reaction chambers and methods for removing byproducts from reaction chambers
US7258892B2 (en) 2003-12-10 2007-08-21 Micron Technology, Inc. Methods and systems for controlling temperature during microfeature workpiece processing, e.g., CVD deposition
US7906393B2 (en) 2004-01-28 2011-03-15 Micron Technology, Inc. Methods for forming small-scale capacitor structures
KR100960030B1 (ko) * 2004-03-12 2010-05-28 배트 홀딩 아게 진공 게이트 밸브
US20050249873A1 (en) * 2004-05-05 2005-11-10 Demetrius Sarigiannis Apparatuses and methods for producing chemically reactive vapors used in manufacturing microelectronic devices
US8133554B2 (en) * 2004-05-06 2012-03-13 Micron Technology, Inc. Methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers and systems for depositing materials onto microfeature workpieces
US7699932B2 (en) * 2004-06-02 2010-04-20 Micron Technology, Inc. Reactors, systems and methods for depositing thin films onto microfeature workpieces
US7841582B2 (en) * 2004-06-02 2010-11-30 Applied Materials, Inc. Variable seal pressure slit valve doors for semiconductor manufacturing equipment
US20050268857A1 (en) * 2004-06-02 2005-12-08 Applied Materials, Inc. Uniformly compressed process chamber gate seal for semiconductor processing chamber
US7422653B2 (en) * 2004-07-13 2008-09-09 Applied Materials, Inc. Single-sided inflatable vertical slit valve
US20060045668A1 (en) * 2004-07-19 2006-03-02 Grabowski Al W System for handling of wafers within a process tool
KR20070048649A (ko) * 2004-09-04 2007-05-09 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 높이가 감소된 기판 캐리어
US20060102282A1 (en) * 2004-11-15 2006-05-18 Supercritical Systems, Inc. Method and apparatus for selectively filtering residue from a processing chamber
US20060165873A1 (en) * 2005-01-25 2006-07-27 Micron Technology, Inc. Plasma detection and associated systems and methods for controlling microfeature workpiece deposition processes
US7767145B2 (en) * 2005-03-28 2010-08-03 Toyko Electron Limited High pressure fourier transform infrared cell
US20060225772A1 (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Jones William D Controlled pressure differential in a high-pressure processing chamber
US20060226117A1 (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Bertram Ronald T Phase change based heating element system and method
US7494107B2 (en) * 2005-03-30 2009-02-24 Supercritical Systems, Inc. Gate valve for plus-atmospheric pressure semiconductor process vessels
US20060225769A1 (en) * 2005-03-30 2006-10-12 Gentaro Goshi Isothermal control of a process chamber
US20060237138A1 (en) * 2005-04-26 2006-10-26 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for supporting microelectronic devices during plasma-based fabrication processes
US7469715B2 (en) 2005-07-01 2008-12-30 Applied Materials, Inc. Chamber isolation valve RF grounding
US7927062B2 (en) * 2005-11-21 2011-04-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for transferring substrates during electronic device manufacturing
US20070116545A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for a substrate carrier having an inflatable seal
US20070141280A1 (en) * 2005-12-16 2007-06-21 Applied Materials, Inc. Substrate carrier having an interior lining
JP2008075135A (ja) * 2006-09-21 2008-04-03 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 真空処理装置および大気開放方法
KR100837232B1 (ko) * 2006-09-27 2008-06-12 주식회사 에이티에스엔지니어링 게이트 밸브
US8082741B2 (en) * 2007-05-15 2011-12-27 Brooks Automation, Inc. Integral facet cryopump, water vapor pump, or high vacuum pump
US7806383B2 (en) * 2007-06-01 2010-10-05 Applied Materials, Inc. Slit valve
US8297591B2 (en) * 2008-08-29 2012-10-30 Applied Materials, Inc. Slit valve control
US20100098518A1 (en) * 2008-10-20 2010-04-22 Applied Materials, Inc. In/out door for a vacuum chamber
US20100127201A1 (en) * 2008-11-21 2010-05-27 Applied Materials, Inc. Interlocking valve chamber and lid
US20100304027A1 (en) * 2009-05-27 2010-12-02 Applied Materials, Inc. Substrate processing system and methods thereof
EP2315236B1 (de) * 2009-10-22 2014-05-14 VAT Holding AG Klappen-Transferventil
TWM396551U (en) * 2010-09-03 2011-01-11 ming-xian Huang Screen holder capable of adjusting screen angle
US8641014B2 (en) 2010-09-10 2014-02-04 Applied Materials, Inc. Gate valve
KR101101224B1 (ko) * 2011-04-22 2012-01-18 주식회사 레인테크 개폐 장치 및 개폐 방법
US10023954B2 (en) 2011-09-15 2018-07-17 Applied Materials, Inc. Slit valve apparatus, systems, and methods
US9086173B2 (en) * 2012-07-19 2015-07-21 Vat Holding Ag Vacuum valve
KR101430661B1 (ko) * 2012-08-29 2014-08-18 주식회사 에스에프에이 슬릿 밸브
US9524889B2 (en) 2013-03-15 2016-12-20 Applied Materials, Inc. Processing systems and apparatus adapted to process substrates in electronic device manufacturing
US9355876B2 (en) 2013-03-15 2016-05-31 Applied Materials, Inc. Process load lock apparatus, lift assemblies, electronic device processing systems, and methods of processing substrates in load lock locations
US10278501B2 (en) 2014-04-25 2019-05-07 Applied Materials, Inc. Load lock door assembly, load lock apparatus, electronic device processing systems, and methods
US9638335B2 (en) 2015-01-08 2017-05-02 King Lai Hygienic Materials Co., Ltd. Double sealing valve
US10636629B2 (en) 2017-10-05 2020-04-28 Applied Materials, Inc. Split slit liner door
US11328943B2 (en) 2020-04-03 2022-05-10 Applied Materials, Inc. Dual gate and single actuator system

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB851444A (en) 1956-06-05 1960-10-19 Commissariat Energie Atomique Improvements in or relating to vacuum control valves
US3040773A (en) 1959-09-04 1962-06-26 Crane Co Combined valve actuating and indicator mechanism
US3524467A (en) 1967-10-13 1970-08-18 Exxon Research Engineering Co Fluid expanded disk valve
US3717322A (en) 1970-10-27 1973-02-20 Verreries Appliquees Shutter valves for high-vacuum applications
CH546912A (de) 1971-10-25 1974-03-15 Vat Ag Schnellschlussventil.
CH582842A5 (ja) 1974-07-15 1976-12-15 Vat Ag
US4075787A (en) 1975-07-07 1978-02-28 American Sterilizer Company Inflatable pouch to seal
US4070001A (en) 1976-07-06 1978-01-24 Musgrove Ronald R Vacuum safety valve
US4157169A (en) 1977-10-12 1979-06-05 Torr Vacuum Products Fluid operated gate valve for use with vacuum equipment
US4238111A (en) * 1978-08-04 1980-12-09 Torr Vacuum Products, Inc. Gate valve for use with vacuum equipment
CH636422A5 (de) 1979-02-26 1983-05-31 Balzers Hochvakuum Hochvakuumventil.
US4381100A (en) 1981-01-02 1983-04-26 Fairchild Industries, Inc. Valve and valving apparatus
JPS60136671A (ja) 1983-12-26 1985-07-20 Fuji Seikou Kk ゲ−トバルブのシ−ル構造
US5110249A (en) * 1986-10-23 1992-05-05 Innotec Group, Inc. Transport system for inline vacuum processing
US4721282A (en) 1986-12-16 1988-01-26 Lam Research Corporation Vacuum chamber gate valve
US4785962A (en) 1987-04-20 1988-11-22 Applied Materials, Inc. Vacuum chamber slit valve
DE3831249A1 (de) 1988-09-14 1990-03-22 Schertler Siegfried Ventilschieber
JPH02186172A (ja) 1989-01-10 1990-07-20 Irie Koken Kk 無しゅう動ゲートバルブ用弁体
US5002255A (en) 1989-03-03 1991-03-26 Irie Koken Kabushiki Kaisha Non-sliding gate valve for high vacuum use
US5120019A (en) 1989-08-03 1992-06-09 Brooks Automation, Inc. Valve
GB2240157A (en) 1990-01-12 1991-07-24 Colin Badham Flow control valve for fluid materials
JPH03234979A (ja) 1990-02-09 1991-10-18 Canon Inc 仕切り弁
US5116023A (en) 1991-05-14 1992-05-26 Mdc Vacuum Products Corporation Low vibration high vacuum gate valve
US5275303A (en) 1992-02-03 1994-01-04 Applied Materials, Inc. Valve closure mechanism for semiconductor deposition apparatus
US5363872A (en) 1993-03-16 1994-11-15 Applied Materials, Inc. Low particulate slit valve system and method for controlling same
US5379983A (en) 1993-12-21 1995-01-10 Vat Holding Ag Shut-off valves for pipelines
JP2766190B2 (ja) 1994-07-28 1998-06-18 入江工研株式会社 無しゅう動真空ゲートバルブ
TW295677B (ja) 1994-08-19 1997-01-11 Tokyo Electron Co Ltd
DE19601541A1 (de) 1995-01-27 1996-08-01 Seiko Seiki Kk In einer Vakuumumgebung einsetzbares Vertikaltransfersystem sowie dazugehöriges Absperrventilsystem
US5577707A (en) 1995-12-18 1996-11-26 Vat Holding Ag Slide valve
US6045620A (en) * 1997-07-11 2000-04-04 Applied Materials, Inc. Two-piece slit valve insert for vacuum processing system
US6089543A (en) * 1997-07-11 2000-07-18 Applied Materials, Inc. Two-piece slit valve door with molded-in-place seal for a vacuum processing system
US5975492A (en) * 1997-07-14 1999-11-02 Brenes; Arthur Bellows driver slot valve
EP2099061A3 (en) * 1997-11-28 2013-06-12 Mattson Technology, Inc. Systems and methods for low contamination, high throughput handling of workpieces for vacuum processing
US6079693A (en) * 1998-05-20 2000-06-27 Applied Komatsu Technology, Inc. Isolation valves
US5971358A (en) * 1998-06-11 1999-10-26 Penn Troy Machine Co., Inc. Gate assembly for a double disk gate valve
DE19857201A1 (de) * 1998-12-11 2000-06-15 Leybold Systems Gmbh Schleusenventil
US6347918B1 (en) * 1999-01-27 2002-02-19 Applied Materials, Inc. Inflatable slit/gate valve
US6390448B1 (en) * 2000-03-30 2002-05-21 Lam Research Corporation Single shaft dual cradle vacuum slot valve

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007148657A1 (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Nippon Valqua Industries, Ltd. 弁体部及びゲートバルブ装置
KR101015801B1 (ko) * 2006-06-19 2011-02-18 닛폰 바루카 고교 가부시키가이샤 밸브체부 및 게이트 밸브 장치
US8047231B2 (en) 2006-06-19 2011-11-01 Nippon Val-Qua Industries, Ltd. Valve element unit and gate valve apparatus
KR20140011986A (ko) * 2012-07-19 2014-01-29 배트 홀딩 아게 진공 밸브
JP2014020562A (ja) * 2012-07-19 2014-02-03 Vat Holding Ag 真空バルブ
KR102107245B1 (ko) 2012-07-19 2020-05-07 배트 홀딩 아게 진공 밸브
JP2014037889A (ja) * 2012-08-17 2014-02-27 Vat Holding Ag バルブ
JP2015224751A (ja) * 2014-05-29 2015-12-14 プログレッシオ合同会社 真空用ゲートバルブ

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Publication number Publication date
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