JP2015224751A - 真空用ゲートバルブ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空用ゲートバルブ10は、開口12aを有するケーシングと、このケーシング内を揺動して開口を開閉するバルブプレート14と、バルブプレート14をケーシングに密着させる位置調整手段16を備えている。位置調整手段16は、ケーシング内を昇降してバルブプレート14に接してバルブプレート14の位置を調整する昇降体18と、この昇降体18をケーシングとの間で摩擦抵抗が生じないようにケーシング内を昇降させる電磁石24とを備えている。昇降体18は、ケーシングとの間にOリング及びグリースを介することなくケーシング内に設置され、電磁石24は、通電により磁力を発生して昇降体18をケーシング12に接触させることなく昇降させる。
【選択図】図2
Description
昇降体18は、図1に示すように、ケーシング12の開口12aの周縁に沿ったリング状の形状を有し、図2に示すように、円板状のバルブプレート14の輪郭に沿ってバルブプレート14の外周付近に環状に、即ち、バルブプレート14の全周にわたってバルブプレート14に接して、バルブプレート14をケーシング12に密着させることができ、バルブプレート14が、例えば、先端方向等の一方向にのみ反って、バルブプレート14とケーシング12との間に間隙が生ずることがなく、密閉状態を確実に保持することができる。
昇降手段20は、図1及び図2に示すように、通電により磁力を発生して昇降体18を引き寄せる電磁石24と、ケーシング12内に設置され電磁石24により磁性を帯びて昇降体18を吸着する吸着体26と、昇降体18の凹部内に設置され吸着体26と昇降体18とを連結するベローズ28とを有している。
吸着体26は、図1及び図2に示すように、昇降体18と同様に、ケーシング12の開口12aの周縁に沿ったリング状の形状を有し、昇降体18の全周に対応して設けられる。また、この吸着体26は、図1及び図2に示すように、逆凹部状の縦断面を有し、この逆凹部の頂上面(凹部の底面)部分を複数箇所においてビス30によりケーシング12に固定することによりケーシング12内に配置される。この場合、吸着体26は、図2に特に示すように、2つの密閉用Oリング32を介してケーシング12内に設置される。これら2つの密閉用Oリング32は、図2(A)に示すように、昇降体18がバルブプレート14から離れている場合には、図5(A)に示すように、吸着体26との間を気密に保ち、昇降体18,ひいては、バルブプレート14の裏側(昇降体18とはバルブプレート14を挟んで反対の側である処理チャンバ側)を真空状態に保持する役割を有する。
一方、電磁石24は、図1及び図2に示すように、ケーシング12の開口12aの周縁に沿ったリング状の形状を有し、昇降体18の全周に対応して設けられる。この電磁石24は、図2に特に示すように、吸着体26の逆凹部状の内部に収納されて、吸着体26の凹部形状の開口部を塞ぐ蓋部34により吸着体26の内部に設置される。なお、この蓋部34は、磁石により発生する磁界の影響を受けないよう、SUS304等の非磁性材料から形成される。
具体的には、昇降手段20は、図2に示すように、電磁石24による磁束密度を検出するセンサ36をも有し、このセンサ36により検出された磁束密度に応じて、電磁石24への通電を制御して、磁力を調整することにより昇降体18の昇降速度を制御することができる。このため、昇降体18の不必要な急上昇又は急降下による吸着体26やバルブプレート14との衝突等を適切に抑制して、メタルコンタクトによるパーティクルの発生を抑制することができる。
更に、昇降手段20のベローズ28は、昇降体18の昇降の際に昇降体18の昇降を案内する役割を有する。即ち、このベローズ28を設けることなく、ケーシング12の内部において昇降体18を自由状態で配置して、単に電磁石24による吸着及びその解除のみで昇降体18を昇降させると、ケーシング12内で、昇降体18が傾いたり歪んだ状態で昇降して、ケーシング12との間にメタルコンタクトが発生するおそれがある。このため、このベローズ28によって、昇降体18の位置を規制して、電磁石24により昇降体18をケーシング12と接触させることなく昇降させても、適正な軌道をもって昇降させることができる。
バルブプレート14は、図2(A)に示すように、位置調整手段16によりケーシング12への密着状態から解放されているときは、ケーシング12との間にギャップが生じるように設定されている。具体的には、ケーシング12との間に約1mm程度のギャップが設定されている。これにより、バルブプレート14が、揺動時にケーシング12等に接触したり、また、その結果、破損等することを防止して、円滑な揺動を確保することができる。即ち、位置調整手段16は、このバルブプレート14の自由状態での位置設定に抗して、図2(B)に示すように、バルブプレート14をケーシング12に密着させるものである。
12 ケーシング
12A ケーシング本体
12B カバー
12a 開口
12b センサホール
14 バルブプレート
16 位置調整手段
18 昇降体
18A 昇降体本体
18B 押圧部材
20 昇降手段
22A 本体側Oリング
22B プレート側Oリング
24 電磁石
26 吸着体
28 ベローズ
30 ビス
32 密閉用Oリング
34 蓋部
36 センサ
38 ギャップ
40 ボンデットOリング
Claims (12)
- 開口を有するケーシングと、前記ケーシング内を揺動して前記開口を開閉するバルブプレートとを備えた真空用ゲートバルブにおいて、前記バルブプレートが前記開口に対し全閉位置にあるときに前記バルブプレートを前記ケーシングに密着させる位置調整手段を更に備え、前記位置調整手段は、前記ケーシング内を昇降して前記バルブプレートに接して前記バルブプレートの位置を調整する昇降体と、前記昇降体を前記ケーシングとの間で摩擦抵抗が生じないように前記ケーシング内を昇降させる昇降手段とを備えていることを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項1に記載された真空用ゲートバルブであって、前記昇降体は、前記ケーシングとの間にOリング及びグリースを介することなく前記ケーシング内に設置され、前記昇降手段は、前記昇降体を前記ケーシングに接触させることなく昇降させることを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項1又は請求項2のいずれかに記載された真空用ゲートバルブであって、前記昇降手段は、通電により磁力を発生して前記昇降体を引き寄せる電磁石を有し、前記通電を制御することにより前記電磁石により発生した前記磁力を調整して前記昇降体を昇降させることを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項3に記載された真空用ゲートバルブであって、前記昇降手段は、前記電磁石による磁束密度を検出するセンサを備え、前記センサにより検出された前記磁束密度に応じて、前記電磁石への通電を制御して、前記磁力を調整することにより前記昇降体の昇降速度を制御することを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項4に記載された真空用ゲートバルブであって、前記電磁石は前記ケーシング内に設置され前記電磁石により磁性を帯びて前記昇降体を吸着する吸着体の内部に設置され、前記センサは、前記電磁石により磁性を帯びた前記吸着体及び前記昇降体並びに前記吸着体と前記昇降体との間のギャップから外れた位置に設置されて、前記電磁石による磁束密度を検出することを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項5に記載された真空用ゲートバルブであって、前記センサは、前記吸着体と前記昇降体との間のギャップの横に設置されていることを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項5又は請求項6のいずれかに記載された真空用ゲートバルブであって、前記昇降手段は、前記センサにより検出された前記磁束密度が低い程前記電磁石の前記磁力が強いと判断し、前記センサにより検出された前記磁束密度が高い程前記電磁石の前記磁力が弱いと判断して、前記磁力に応じて前記昇降体の昇降速度を所定値に制御することを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項4乃至請求項7のいずれかに記載された真空用ゲートバルブであって、前記センサは、前記ケーシング内に設置され、前記ケーシングの外側から着脱できることを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載された真空用ゲートバルブであって、前記昇降手段は、前記ケーシングに非接触のベローズを備え、前記ベローズは、前記昇降体の昇降の際に前記昇降体の昇降を案内することを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項9に記載された真空用ゲートバルブであって、前記ベローズはバネ性を有して通常では前記昇降体を前記バルブプレートに押し付ける方向に付勢し、前記電磁石は前記ベローズの付勢力に抗して、前記昇降体を上昇させることを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項9又は請求項10のいずれかに記載された真空用ゲートバルブであって、前記ベローズは、一端が前記ケーシング側に連結され、他端が前記昇降体に連結されて、前記バルブプレートの裏側への大気の流入を遮断することを特徴とする真空用ゲートバルブ。
- 請求項9乃至請求項11のいずれかに記載された真空用ゲートバルブであって、前記ベローズは、ステンレス等の非磁性材料から形成されていることを特徴とする真空用ゲートバルブ。
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