JPS6281725A - 半導体ウエハ−チヤツク治具 - Google Patents
半導体ウエハ−チヤツク治具Info
- Publication number
- JPS6281725A JPS6281725A JP22294685A JP22294685A JPS6281725A JP S6281725 A JPS6281725 A JP S6281725A JP 22294685 A JP22294685 A JP 22294685A JP 22294685 A JP22294685 A JP 22294685A JP S6281725 A JPS6281725 A JP S6281725A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- sensor
- chuck
- gas
- pins
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ウェハーチャック治具に関し、特にベル
ヌーイ・チャックの構造に関するものである。
ヌーイ・チャックの構造に関するものである。
従来のベルヌーイ・チャックは第２図に示すように空気
作動パルプ１を付けたガス配管２が円板３の中央に負通
して取り付けられ、さらに円板３の外周縁に円板３と直
角方向にガイド板４が取り付けられた構造になっていた
。このようなベルヌーイ・チャックでウェハー６を吸着
するには、コントローラーの信号により電磁弁５を開弁
じ、空気作動パルプ１に空気供給管７を通して空気を送
り、このパルプ１を開弁しガスをベルヌーイ・チャック
に供給することにより、ウェハー６の上部圧力Ｐ工と下
部圧力Ｐ２とに圧力差（Ｐ工＜Ｐ２）をつくり、ウェハ
ーのチャックをおこなうものである。８はガス気流であ
る。
作動パルプ１を付けたガス配管２が円板３の中央に負通
して取り付けられ、さらに円板３の外周縁に円板３と直
角方向にガイド板４が取り付けられた構造になっていた
。このようなベルヌーイ・チャックでウェハー６を吸着
するには、コントローラーの信号により電磁弁５を開弁
じ、空気作動パルプ１に空気供給管７を通して空気を送
り、このパルプ１を開弁しガスをベルヌーイ・チャック
に供給することにより、ウェハー６の上部圧力Ｐ工と下
部圧力Ｐ２とに圧力差（Ｐ工＜Ｐ２）をつくり、ウェハ
ーのチャックをおこなうものである。８はガス気流であ
る。
このような構造になっていたので、このベルヌーイ・チ
ャックでウェハー６をチャックすると、ウェハー６の保
持がウェハー上部と下部との圧力差のみでおこなわれて
いるため、ウェハー６は浮動してガイド板４内面に何回
も衝突してしまう。
ャックでウェハー６をチャックすると、ウェハー６の保
持がウェハー上部と下部との圧力差のみでおこなわれて
いるため、ウェハー６は浮動してガイド板４内面に何回
も衝突してしまう。
ウェハーは種々のプロセスを通ってきているため、ウェ
ハ一端面のカケを生じているものもあり、一部にはこの
部分より亀裂が入りウェハー割れを起こす。またカケの
部分も多くなる。
ハ一端面のカケを生じているものもあり、一部にはこの
部分より亀裂が入りウェハー割れを起こす。またカケの
部分も多くなる。
さらにチャック用に使用するガスの中に微量のゴミが浸
入している場合、ベルヌーイ・チャックでウェハーを運
んでいる間中ガスを供給しているため、ウェハー上に付
着するゴミの数もしだいに増えてくる。また運搬中ベル
ヌーイ・チャック下部は気流が非常にみだれ、チャック
下部にウェハーが置いである場合、周囲のゴミがそのウ
ェハー上に付着するという問題を有していた。
入している場合、ベルヌーイ・チャックでウェハーを運
んでいる間中ガスを供給しているため、ウェハー上に付
着するゴミの数もしだいに増えてくる。また運搬中ベル
ヌーイ・チャック下部は気流が非常にみだれ、チャック
下部にウェハーが置いである場合、周囲のゴミがそのウ
ェハー上に付着するという問題を有していた。
本発明は前記問題点を解消した治具を提供するものであ
る。
る。
本発明はベルヌーイ・チャックに保持されるウェハーの
位置を検知するウェハーセンサーと、該ウェハーセンサ
ーの信号によりベルヌーイ・チャックへのガス供給のオ
ン・オフを行う制御部と、該制御部の指令により出没し
、ベルヌーイ・チャックに保持しているウェハーの下面
を支える駆動ピンとを有することを特徴とする半導体ウ
ェハーチャック治具である。
位置を検知するウェハーセンサーと、該ウェハーセンサ
ーの信号によりベルヌーイ・チャックへのガス供給のオ
ン・オフを行う制御部と、該制御部の指令により出没し
、ベルヌーイ・チャックに保持しているウェハーの下面
を支える駆動ピンとを有することを特徴とする半導体ウ
ェハーチャック治具である。
以下本発明の実施例を第１図によって説明する。
第１図に示すように、円板３にウェハーセンサー９を設
け、このセンサー９がウェハー６を検知する位置より下
部にウェハー６を保持する駆動ピン１０をガイド板４に
取り付け、通常はこのガイド板４内面より出っ張らない
ようにしておく。さらに、これらをコントロールする制
御部１２を設ける。
け、このセンサー９がウェハー６を検知する位置より下
部にウェハー６を保持する駆動ピン１０をガイド板４に
取り付け、通常はこのガイド板４内面より出っ張らない
ようにしておく。さらに、これらをコントロールする制
御部１２を設ける。
実施例において、制御部１２からの指令により空気作動
パルプ１が開き、ガス配管２よりベルヌーイ・チャック
にガスが導入され、上下の圧力差によりウェハー６がチ
ャック内を上昇する。そのとき、ウェハーセンサー９に
よりウェハー６との距離を測定し、駆動ピン１０より上
部にウェハー６があることをセンサー９が検知した時、
この信号により制御部１２を通して電磁弁５を閉じ空気
の供給をたち、空気作動パルプ１を閉じ、同時に駆動ピ
ン１０を動作しピン１１をガイド板４の内部に張り出さ
せ、ピン１１にてウェハー６の周縁を保持する。
パルプ１が開き、ガス配管２よりベルヌーイ・チャック
にガスが導入され、上下の圧力差によりウェハー６がチ
ャック内を上昇する。そのとき、ウェハーセンサー９に
よりウェハー６との距離を測定し、駆動ピン１０より上
部にウェハー６があることをセンサー９が検知した時、
この信号により制御部１２を通して電磁弁５を閉じ空気
の供給をたち、空気作動パルプ１を閉じ、同時に駆動ピ
ン１０を動作しピン１１をガイド板４の内部に張り出さ
せ、ピン１１にてウェハー６の周縁を保持する。
またウェハー６をおろす時はこの駆動ピン１０のピン≠
＃忌＃１１をガイド板４の内面に収納し、この状態でウ
ェハーを治具から取り外す。
＃忌＃１１をガイド板４の内面に収納し、この状態でウ
ェハーを治具から取り外す。
以上説明したように本発明のベルヌーイ・チャックを使
用することにより、ウェハーがガイド板の内面に衝突す
ることがなく、ウェハ一端面のかけ、割れがなくなり、
またウェハーを上部に持ち上げる時のみ、ガスを使用す
るので、ガス中に含まれるゴミの影響が非常に少なくで
き、ウェハーの歩留を著しく向上させるとともに、ベル
ヌーイ・チャック搬送路下側のウェハーにもゴミの付着
がなくなる。さらにチャックに使用するガス使用量も極
端に少なく出来、経済的にも有利となるという効果を有
するものである。
用することにより、ウェハーがガイド板の内面に衝突す
ることがなく、ウェハ一端面のかけ、割れがなくなり、
またウェハーを上部に持ち上げる時のみ、ガスを使用す
るので、ガス中に含まれるゴミの影響が非常に少なくで
き、ウェハーの歩留を著しく向上させるとともに、ベル
ヌーイ・チャック搬送路下側のウェハーにもゴミの付着
がなくなる。さらにチャックに使用するガス使用量も極
端に少なく出来、経済的にも有利となるという効果を有
するものである。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は従来
例を示す断面図である。 １・・・空気作動パルプ ２・・・ガス配管３・・・
円板 ４・・・ガイド板５・・・電磁弁
６・・・ウエノ・−７・・・空気供給管
８・・・ガス気流９・・・ウェハーセンサー １
０・・・駆動ピン１１・・・ピン １２・
・・制御部特許出願人 日本電気株式会社 第２医
例を示す断面図である。 １・・・空気作動パルプ ２・・・ガス配管３・・・
円板 ４・・・ガイド板５・・・電磁弁
６・・・ウエノ・−７・・・空気供給管
８・・・ガス気流９・・・ウェハーセンサー １
０・・・駆動ピン１１・・・ピン １２・
・・制御部特許出願人 日本電気株式会社 第２医
Claims (1)
- （１）ベルヌーイ・チャックに保持されるウェハーの位
置を検知するウェハーセンサーと、該ウェハーセンサー
の信号によりベルヌーイ・チヤツクへのガス供給のオン
・オフを行う制御部と、該制御部の指令により出没し、
ベルヌーイ・チャックに保持しているウェハーの下面を
支える駆動ピンとを有することを特徴とする半導体ウェ
ハーチャック治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22294685A JPS6281725A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 半導体ウエハ−チヤツク治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22294685A JPS6281725A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 半導体ウエハ−チヤツク治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6281725A true JPS6281725A (ja) | 1987-04-15 |
Family
ID=16790348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22294685A Pending JPS6281725A (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | 半導体ウエハ−チヤツク治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6281725A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02156651A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-15 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | ウエーハのハンドリング装置 |
| US6379103B1 (en) * | 1999-12-22 | 2002-04-30 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Substrate transfer apparatus |
| US20110123913A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
| JP2017062490A (ja) * | 2011-12-29 | 2017-03-30 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| CN108568684A (zh) * | 2017-12-05 | 2018-09-25 | 湖南飞沃新能源科技股份有限公司 | 一种工件定位装置 |
-
1985
- 1985-10-07 JP JP22294685A patent/JPS6281725A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02156651A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-15 | Kyushu Electron Metal Co Ltd | ウエーハのハンドリング装置 |
| US6379103B1 (en) * | 1999-12-22 | 2002-04-30 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Substrate transfer apparatus |
| US20110123913A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
| JP2017062490A (ja) * | 2011-12-29 | 2017-03-30 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| CN108568684A (zh) * | 2017-12-05 | 2018-09-25 | 湖南飞沃新能源科技股份有限公司 | 一种工件定位装置 |
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