JP3384039B2 - ビスフェノールaの製造方法 - Google Patents
ビスフェノールaの製造方法Info
- Publication number
- JP3384039B2 JP3384039B2 JP16880493A JP16880493A JP3384039B2 JP 3384039 B2 JP3384039 B2 JP 3384039B2 JP 16880493 A JP16880493 A JP 16880493A JP 16880493 A JP16880493 A JP 16880493A JP 3384039 B2 JP3384039 B2 JP 3384039B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenol
- bisphenol
- water
- adduct
- crystallization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
方法の改良に関するものである。さらに詳しくいえば、
本発明は、ビスフェノールAのフェノール溶液からビス
フェノールAとフェノールの付加物を真空冷却蒸発晶析
法により晶析させ、該付加物からビスフェノールAを製
造する方法において、各工程で生成するフェノール含有
水を有効に系内に循環使用し、排水量を極力減らして、
環境汚染を抑制するビスフェノールAの製造方法に関す
るものである。
2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンは、ポリ
カーボネート樹脂やポリアリレート樹脂などのエンジニ
アリングプラスチック、あるいはエポキシ樹脂などの原
料として重要な化合物であることが知られており、近年
その需要はますます増大する傾向にある。このビスフェ
ノールAは、酸性触媒及び場合により用いられる硫黄化
合物などの助触媒の存在下に、過剰のフェノールとアセ
トンとを縮合させることにより製造される。この反応混
合物には、ビスフェノールAのほかに過剰の未反応フェ
ノール、少量の未反応アセトン、触媒、反応生成水及び
他の反応副生物を含んでいる。該反応副生物としては、
2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン(o,p’−体)が主要成分であ
り、その他イソプロペニルフェノールのダイマー,トリ
スフェノール,ポリフェノール及び好ましくない着色物
質などが挙げられる。特にポリカーボネート樹脂やポリ
アリレート樹脂などの原料としてビスフェノールAを用
いる場合、着色がなく、かつ純度の高い高品質のものが
要求される。
る方法として種々の方法が検討されており、その一つと
して、例えば過剰のフェノールとアセトンとを縮合させ
て得られる反応混合物から触媒、水及び少量のフェノー
ルを除いたのち、残液を冷却することによってビスフェ
ノールAをフェノールとの付加物として晶出させ、この
結晶を反応副生成物を含む溶液から分離し、該付加物か
らフェノールを例えば分解,蒸留,抽出,水蒸気による
ストリッピングなどの方法により除去して、ビスフェノ
ールAを回収する方法が知られている。そしてこのビス
フェノールAとフェノールの付加物晶析法については種
々のプロセスが提案されている。例えば、ビスフェノー
ルAとフェノールの付加物を晶析させる方法として、真
空冷却蒸発晶析法が開示されている(特公昭52−46
946号公報)。この真空冷却蒸発晶析法は、ビスフェ
ノールAとフェノールとを含む反応混合物に水を添加し
て蒸発させ、その蒸発潜熱により温度を下げて晶析させ
る方法である。この晶析法においては、前記したよう
に、水の添加が必要であるために、系外に排出されるフ
ェノール含有水をできるだけ少なくして、環境汚染(水
質汚染)を防止することが重要である。しかしながら、
上記特公昭52−46946号公報記載の方法において
は、晶析缶で蒸発した水については系内に再循環使用す
るようになっているが、晶析したビスフェノールAとフ
ェノールの付加物を分離した後の母液中の水について
は、アセトンとともに蒸発、凝縮され、排水として処理
されている。したがって、母液中に含まれている水はす
べて排水となって環境汚染(水質汚染)の原因となり、
また、新たな水を系内に補給しなければならないという
問題がある。
事情のもとで、ビスフェノールAのフェノール溶液から
ビスフェノールAとフェノールの付加物を真空冷却蒸発
晶析法により晶析させ、該付加物からビスフェノールA
を製造する方法において、系外へ排出されるフェノール
含有水の量を極力減らして、環境汚染を抑制するととも
に、系内へ新たに補給する水を少なくするようなクロー
ズドシステムでビスフェノールAを効率よく製造する方
法を提供することを目的としてなされたものである。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、真空冷却蒸発
晶析の際に蒸発するフェノール含有水を凝縮、回収し、
一方、該晶析後のスラリーを真空濾過器でビスフェノー
ルAとフェノールの付加物の結晶からなる固形分のケー
クと母液とに分離し、該母液中のフェノール含有水を凝
縮、回収し、得られたフェノール含有水を上記晶析の際
に回収されたフェノール含有水とともに、その少なくと
も一部をビスフェノールAのフェノール溶液に添加する
水及び真空濾過器用真空ポンプのシール水に循環使用す
ることにより、その目的を達成しうることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、ビスフェノールAのフェノール溶
液からビスフェノールAとフェノールの付加物を晶析さ
せ、次いで該付加物からビスフェノールAを製造するに
あたり、該ビスフェノールAのフェノール溶液に水を添
加後、真空冷却蒸発晶析装置に導入し、減圧冷却させて
ビスフェノールAとフェノールの付加物を晶析させ、該
晶析の際に蒸発するフェノール含有水を凝縮、回収し、
一方、該晶析後のスラリーを真空濾過器でビスフェノー
ルAとフェノールの付加物の結晶からなる固形分のケー
クと液体分の母液に分離し、該母液中のフェノール含有
水を凝縮、回収し、得られたフェノール含有水を上記晶
析の際に回収されたフェノール含有水とともに、その少
なくとも一部をビスフェノールAのフェノール溶液に添
加する水及び真空濾過器用真空ポンプのシール水に循環
使用することを特徴とするビスフェノールAの製造方法
を提供するものである。以下、添付図面に従って本発明
の方法を詳細に説明する。
の一例を示す概略図であって、まず、反応器1におい
て、過剰のフェノールとアセトンとを縮合させてビスフ
ェノールAを生成させる。この際、通常触媒として塩酸
や硫酸などの酸、あるいは陽イオン交換樹脂などが用い
られる。また、この際、所望により選択率や反応速度を
上げる目的で、例えばエチルメルカプタン,メチルメル
カプタン,n−オクチルメルカプタンなどのメルカプタ
ン類を助触媒として用いることができる。また、フェノ
ール/アセトンモル比は、通常3〜30、好ましくは5
〜20の範囲で選ばれ、一方、反応温度は、通常45〜
110℃の範囲で選ばれる。このようにして得られた反
応混合物は、公知の方法により、触媒を除去したのち、
濃縮塔2に供給される。なお、陽イオン交換樹脂を固定
床とする反応器を用いる場合には、触媒の除去操作は必
要でない。
制限はなく、通常ボトム温度80〜170℃、圧力40
〜400Torrの条件で濃縮が行われる。温度が80
℃未満では高真空が必要となり、また170℃を超える
と不純物が増加したり、着色の原因となる。また、濃縮
残液であるビスフェノールAのフェノール溶液における
ビスフェノールAの濃度は適宜選ばれるが、20〜50
重量%、好ましくは25〜45重量%の範囲にあるのが
有利である。この濃度が20重量%未満ではビスフェノ
ールAの回収率が低く、50重量%を超えると晶析後の
スラリー移送が困難となる。このようにして濃縮された
ビスフェノールAのフェノール溶液は、主として回収フ
ェノール含有水Aからなる水が添加されたのち、真空冷
却蒸発晶析装置3に導入される。この際、添加される水
の量は、該ビスフェノールAのフェノール溶液に対し
て、通常5〜30重量%程度である。この水の添加量が
5重量%未満では除熱能力が充分でなく、30重量%を
超えるとビスフェノールAの溶解ロスが大きくなり、好
ましくない。
宜条件下、好ましく圧力20〜80Torr、温度37
〜70℃の条件で晶析処理が行われる。この晶析温度が
37℃未満では晶析液の粘度の増大や固化をもたらすお
それがあり、70℃を超えるとビスフェノールAの溶解
ロスが大きくなり、好ましくない。この晶析処理におい
て、フェノールを5〜40重量%含有する水の蒸気が得
られ、このものは凝縮器7に送られ、凝縮されてレシー
バー8に貯留される。一方、ビスフェノールAとフェノ
ールの付加物の結晶を含むスラリーは真空濾過器4に送
られ、該付加物の結晶からなる固形分のケークBと液体
分の母液Cとに分離される。
工程へ送られ、ビスフェノールAとフェノールとに分離
処理され、ビスフェノールAが得られる。一方、真空濾
過器4で分離された母液CはビスフェノールA,フェノ
ール,水などを含有しており、脱水塔5に送られ、脱水
される。脱水塔5の塔頂ガスは、フェノールを約5〜4
0重量%含有する水の蒸気であり、このものは凝縮器6
で凝縮され、レシーバー8に貯留される。脱水塔5の操
作条件については特に制限はなく、通常ボトム温度13
0〜170℃、圧力100〜600Torrの条件で操
作される。この温度が130℃未満では高真空が必要で
あるし、170℃を超えると不純物が増加したり、着色
の原因となる。脱水塔5の底部から出る濃縮残液Dは次
工程へ送られ、処理される。
含有水Aは、その少なくとも一部が濃縮塔2からのビス
フェノールAのフェノール溶液に添加する水及び真空濾
過器4用の真空ポンプ9のシール水として循環使用され
る。真空濾過器4には真空ポンプ9を使用して窒素ガス
Eが循環しており、そして真空ポンプのシール液として
水が使用されているが、水の一部は窒素ガスに同伴され
て、真空濾過器の母液側に入り、脱水塔5で回収され
る。ここで、シール水として外部より水を補給すると排
水を増やすことになるので、本発明においては、レシー
バー8に貯留された回収フェノール含有水Aを用いるも
のである。なお、本発明の方法においては、前記真空冷
却蒸発晶析装置、脱水塔及び真空濾過器は、それぞれ複
数設置してもよく、また、この場合でもレシーバーは一
つで共有して用いてもよい。本発明の方法においては、
このように水をクローズドシステムで循環使用すること
により、新たに系内に補給する水の量は、脱水塔5の塔
底から排出される濃縮残液D中に含まれる水の量とほぼ
一致し、最小限に抑えることができる。
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
たビスフェノールA35wt%を含有するフェノール溶
液50,000kg/hrに、レシーバー8の回収フェノ
ール含有水(フェノール10wt%)を6,000kg/
hr添加し、この混合液を真空冷却蒸発晶析装置3に供
給する。この晶析装置は圧力20Torr、温度40℃
で運転されている。晶析装置から出た蒸気は、凝縮器7
で凝縮され、レシーバー8に貯留される。一方、晶析装
置から出スラリーは真空濾過器4でビスフェノールAと
フェノールの付加物の結晶からなるケークBと母液Cと
に分離される。この際のケーク量は20,000kg/h
rである。なお、真空ポンプ9には、シール水として、
レシーバー8の回収フェノール含有水が用いられてい
る。母液は脱水塔5に供給され、脱水塔5の頂部から出
た蒸気は、凝縮器6で凝縮され、レシーバー8に貯留さ
れる。一方、脱水塔5の底部から濃縮残液Dが排出され
る。この濃縮残液Dの量は30,000kg/hrであ
る。脱水塔5は、圧力300Torr、ボトム温度16
5℃で運転されている。上記工程において、不足する水
は新たに外部から補給したところ、この補給水量は約7
0kg/hrであった。この水の量は、脱水塔の底部か
ら排出される濃縮残液中の水の量とほぼ一致しており、
当初の目標とおり、排水量を最小限に抑えることができ
た。
る母液中の水の量は1トン/hrであった。したがっ
て、脱水塔の頂部から回収されるフェノール含有水を循
環使用しない場合、補給水量は1トン/hrとなる。
からの水を100kg/hrで補給したところ、排水量
は約170kg/hrであった。
ェノール溶液からビスフェノールAとフェノールの付加
物を真空冷却蒸発晶析法に晶析させ、該付加物からビス
フェノールAを製造する方法において、晶析装置及び該
付加物を分離した母液の脱水塔から出るフェノール含有
水を、系内で循環使用することにより、排水量が最小限
に抑えられ、環境汚染を抑制することができる。
す概略図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 ビスフェノールAのフェノール溶液から
ビスフェノールAとフェノールの付加物を晶析させ、次
いで該付加物からビスフェノールAを製造するにあた
り、該ビスフェノールAのフェノール溶液に水を添加
後、真空冷却蒸発晶析装置に導入し、減圧冷却させてビ
スフェノールAとフェノールの付加物を晶析させ、該晶
析の際に蒸発するフェノール含有水を凝縮、回収し、一
方、該晶析後のスラリーを真空濾過器でビスフェノール
Aとフェノールの付加物の結晶からなる固形分のケーク
と液体分の母液に分離し、該母液中のフェノール含有水
を凝縮、回収し、得られたフェノール含有水を上記晶析
の際に回収されたフェノール含有水とともに、その少な
くとも一部をビスフェノールAのフェノール溶液に添加
する水及び真空濾過器用真空ポンプのシール水に循環使
用することを特徴とするビスフェノールAの製造方法。 - 【請求項2】 水を添加する前のビスフェノールAのフ
ェノール溶液におけるビスフェノールAの濃度が、20
〜50重量%である請求項1記載の製造方法。 - 【請求項3】 真空冷却蒸発晶析装置における操作条件
が、圧力20〜80Torr、温度37〜70℃である請求
項1記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16880493A JP3384039B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | ビスフェノールaの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16880493A JP3384039B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | ビスフェノールaの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0725799A JPH0725799A (ja) | 1995-01-27 |
JP3384039B2 true JP3384039B2 (ja) | 2003-03-10 |
Family
ID=15874801
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16880493A Expired - Lifetime JP3384039B2 (ja) | 1993-07-08 | 1993-07-08 | ビスフェノールaの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3384039B2 (ja) |
-
1993
- 1993-07-08 JP JP16880493A patent/JP3384039B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0725799A (ja) | 1995-01-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR910004133B1 (ko) | 고순도 비스페놀 a의 제조방법 | |
RU2422429C2 (ru) | Способ получения бисфенола а высокой чистоты и производственная установка | |
EP0630878A1 (en) | Process for the production of bisphenol | |
JPH01146839A (ja) | 高純度の2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを製造する方法 | |
JP4904064B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JPH08333290A (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP4398674B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP3384039B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
US4950804A (en) | Process for preparing bisphenol A | |
JP5446067B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JPH0558611B2 (ja) | ||
EP3643696B1 (en) | Method for washing ion exchange resin | |
KR102349519B1 (ko) | 비스페놀a의 제조방법 | |
JP4552418B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP4506210B2 (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
KR101090193B1 (ko) | 비스페놀a의 제조방법 | |
US20240308944A1 (en) | Method for the manufacture of bisphenol a | |
JPH08325183A (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP2007112763A (ja) | 色相の良好なビスフェノールaの製造方法 | |
JPH07107006B2 (ja) | ビスフェノールaとフェノールとの付加物の晶出方法 | |
JPH0648970A (ja) | 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンの製造方法 | |
JPH0413640A (ja) | ビスフェノールa製造プロセスにおける閉塞防止方法 | |
JPH0558612B2 (ja) | ||
JPH06306001A (ja) | 純粋なフェノールを回収する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081227 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081227 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091227 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091227 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121227 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131227 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |