JPH0648970A - ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法 - Google Patents
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法Info
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- JPH0648970A JPH0648970A JP20524392A JP20524392A JPH0648970A JP H0648970 A JPH0648970 A JP H0648970A JP 20524392 A JP20524392 A JP 20524392A JP 20524392 A JP20524392 A JP 20524392A JP H0648970 A JPH0648970 A JP H0648970A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な操作により、無色で純度が高く、ポリ
カーボネート樹脂やポリアリレート樹脂などの原料とし
て用いうる高品質のビスフェノールＡを効率よく製造す
る方法を提供すること。 【構成】 過剰のフェノールとアセトンとを縮合させて
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビ
スフェノールＡ）を生成させたのち、ビスフェノールＡ
とフェノールとの付加物を晶出させ、次いで、該付加物
を精製フェノールで洗浄するとともに、付加物の分解に
より得られるフェノールを反応系へリサイクルすること
により、高品質のビスフェノールＡを製造する。
カーボネート樹脂やポリアリレート樹脂などの原料とし
て用いうる高品質のビスフェノールＡを効率よく製造す
る方法を提供すること。 【構成】 過剰のフェノールとアセトンとを縮合させて
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビ
スフェノールＡ）を生成させたのち、ビスフェノールＡ
とフェノールとの付加物を晶出させ、次いで、該付加物
を精製フェノールで洗浄するとともに、付加物の分解に
より得られるフェノールを反応系へリサイクルすること
により、高品質のビスフェノールＡを製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン（以下、ビスフェノールＡと
称する）の製造方法の改良に関するものである。さらに
詳しくは、本発明は、反応中間体であるイソプロペニル
フェノールの回収が図れるとともに、無色で純度の高い
高品質のビスフェノールＡを効率よく製造する方法に関
するものである。
ロキシフェニル）プロパン（以下、ビスフェノールＡと
称する）の製造方法の改良に関するものである。さらに
詳しくは、本発明は、反応中間体であるイソプロペニル
フェノールの回収が図れるとともに、無色で純度の高い
高品質のビスフェノールＡを効率よく製造する方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】ビスフェノールＡはポリカーボネート樹
脂やポリアリレート樹脂などのエンジニアリングプラス
チック、あるいはエポキシ樹脂などの原料として重要な
化合物であることが知られており、近年その需要はます
ます増大する傾向にある。このビスフェノールＡは、酸
性触媒及び場合により用いられる硫黄化合物などの助触
媒の存在下に、過剰のフェノールとアセトンとを縮合さ
せることにより、製造される。この反応混合物には、ビ
スフェノールＡのほかに過剰の未反応フェノール，少量
の未反応アセトン，触媒，反応生成水及び他の反応副生
物を含んでいる。該反応副生物としては、２−（２−ヒ
ドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（ｏ，ｐ’−体）が主要成分であり、その他ト
リスフェノール，ポリフェノール及び好ましくない着色
物質などが挙げられる。特にポリカーボネート樹脂やポ
リアリレート樹脂などの原料としてビスフェノールＡを
用いる場合、着色がなく、かつ純度の高い高品質のもの
が要求される。
脂やポリアリレート樹脂などのエンジニアリングプラス
チック、あるいはエポキシ樹脂などの原料として重要な
化合物であることが知られており、近年その需要はます
ます増大する傾向にある。このビスフェノールＡは、酸
性触媒及び場合により用いられる硫黄化合物などの助触
媒の存在下に、過剰のフェノールとアセトンとを縮合さ
せることにより、製造される。この反応混合物には、ビ
スフェノールＡのほかに過剰の未反応フェノール，少量
の未反応アセトン，触媒，反応生成水及び他の反応副生
物を含んでいる。該反応副生物としては、２−（２−ヒ
ドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（ｏ，ｐ’−体）が主要成分であり、その他ト
リスフェノール，ポリフェノール及び好ましくない着色
物質などが挙げられる。特にポリカーボネート樹脂やポ
リアリレート樹脂などの原料としてビスフェノールＡを
用いる場合、着色がなく、かつ純度の高い高品質のもの
が要求される。
【０００３】従来、高品質のビスフェノールＡを製造す
る方法として種々の方法が検討されており、その一つと
して、例えば過剰のフェノールとアセトンとを縮合させ
て得られる反応混合物から触媒，水及び一部のフェノー
ルを除いたのち、残液を冷却することにより、ビスフェ
ノールＡをフェノールとの付加物として晶出させ、この
結晶を反応副生成物を含む溶液から分離し、該付加物か
らフェノールを除去してビスフェノールＡを回収する方
法が知られている。そしてビスフェノールＡとフェノー
ルとの付加物からフェノールを除去する方法としては、
例えば蒸留，抽出，水蒸気によるストリッピングなど種
々の方法が提案されている。しかしながら、これらの方
法によって得られたビスフェノールＡは、エポキシ樹脂
用としてはそのまま適用できても、ポリカーボネート樹
脂やポリアリレート樹脂に適用するには必ずしも品質的
に満足しうるものではなく、例えば熱水による再結晶
（特開昭５９−６２５４３号公報）や溶剤による洗浄
（特開昭５９−２３１０３３号公報）などの後工程を必
要とした。このような後工程を施す場合、操作が煩雑と
なり、製品ビスフェノールＡはコスト高になるのを免れ
ないという問題が生じる。
る方法として種々の方法が検討されており、その一つと
して、例えば過剰のフェノールとアセトンとを縮合させ
て得られる反応混合物から触媒，水及び一部のフェノー
ルを除いたのち、残液を冷却することにより、ビスフェ
ノールＡをフェノールとの付加物として晶出させ、この
結晶を反応副生成物を含む溶液から分離し、該付加物か
らフェノールを除去してビスフェノールＡを回収する方
法が知られている。そしてビスフェノールＡとフェノー
ルとの付加物からフェノールを除去する方法としては、
例えば蒸留，抽出，水蒸気によるストリッピングなど種
々の方法が提案されている。しかしながら、これらの方
法によって得られたビスフェノールＡは、エポキシ樹脂
用としてはそのまま適用できても、ポリカーボネート樹
脂やポリアリレート樹脂に適用するには必ずしも品質的
に満足しうるものではなく、例えば熱水による再結晶
（特開昭５９−６２５４３号公報）や溶剤による洗浄
（特開昭５９−２３１０３３号公報）などの後工程を必
要とした。このような後工程を施す場合、操作が煩雑と
なり、製品ビスフェノールＡはコスト高になるのを免れ
ないという問題が生じる。
【０００４】このような問題を解決する方法として、例
えば近年、ビスフェノールＡとフェノールとの付加物を
分解して得られるフェノールを用いて、該付加物を洗浄
し、その後にフェノールとビスフェノールＡとに分解し
て、高品質のビスフェノールＡを製造する方法が提案さ
れている（特開平１−１４６８３９号公報）。しかしな
がら、この方法においては、該付加物を分解して得られ
るフェノール中に、ビスフェノールＡの分解により生成
するイソプロペニルフェノールが存在し、該フェノール
を付加物の洗浄工程にリサイクルすることによって蓄積
され、イソプロペニルフェノールのダイマーやトリスフ
ェノールなどの不純物が生成し、ビスフェノールＡの純
度や色調を悪化させるという好ましくない事態を招来す
るおそれがある。また、該イソプロペニルフェノールは
反応中間体であり、これが有効に利用されないという問
題もある。
えば近年、ビスフェノールＡとフェノールとの付加物を
分解して得られるフェノールを用いて、該付加物を洗浄
し、その後にフェノールとビスフェノールＡとに分解し
て、高品質のビスフェノールＡを製造する方法が提案さ
れている（特開平１−１４６８３９号公報）。しかしな
がら、この方法においては、該付加物を分解して得られ
るフェノール中に、ビスフェノールＡの分解により生成
するイソプロペニルフェノールが存在し、該フェノール
を付加物の洗浄工程にリサイクルすることによって蓄積
され、イソプロペニルフェノールのダイマーやトリスフ
ェノールなどの不純物が生成し、ビスフェノールＡの純
度や色調を悪化させるという好ましくない事態を招来す
るおそれがある。また、該イソプロペニルフェノールは
反応中間体であり、これが有効に利用されないという問
題もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
ビスフェノールＡとフェノールとの付加物からフェノー
ルを除去して、ビスフェノールＡを回収する従来の方法
が有する欠点を克服し、簡単な操作により、無色で純度
が高く、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂な
どの原料として用いうる高品質のビスフェノールＡを効
率よく製造する方法を提供することを目的としてなされ
たものである。
ビスフェノールＡとフェノールとの付加物からフェノー
ルを除去して、ビスフェノールＡを回収する従来の方法
が有する欠点を克服し、簡単な操作により、無色で純度
が高く、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂な
どの原料として用いうる高品質のビスフェノールＡを効
率よく製造する方法を提供することを目的としてなされ
たものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記目的を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、ビスフェノール
Ａとフェノールとの付加物を精製フェノールで洗浄した
のち、フェノールとビスフェノールＡとに分解し、該フ
ェノールを反応系にリサイクルすることにより、イソプ
ロペニルフェノールの蓄積が回避され、高品質のビスフ
ェノールＡが得られるとともに、イソプロペニルフェノ
ールの回収が図れることを見出した。本発明はこのよう
な知見に基づいてなされたものである。すなわち、本発
明は、過剰のフェノールとアセトンとを縮合させてビス
フェノールＡを生成させたのち、該ビスフェノールＡと
フェノールとの付加物を晶出させ、次いでこれを分解し
てフェノールを除去し、ビスフェノールＡを回収するに
当り、該付加物を精製フェノールで洗浄するとともに、
付加物の分解により得られるフェノールを反応系へリサ
イクルすることを特徴とするビスフェノールＡの製造方
法を提供するものである。
達成するために鋭意研究を重ねた結果、ビスフェノール
Ａとフェノールとの付加物を精製フェノールで洗浄した
のち、フェノールとビスフェノールＡとに分解し、該フ
ェノールを反応系にリサイクルすることにより、イソプ
ロペニルフェノールの蓄積が回避され、高品質のビスフ
ェノールＡが得られるとともに、イソプロペニルフェノ
ールの回収が図れることを見出した。本発明はこのよう
な知見に基づいてなされたものである。すなわち、本発
明は、過剰のフェノールとアセトンとを縮合させてビス
フェノールＡを生成させたのち、該ビスフェノールＡと
フェノールとの付加物を晶出させ、次いでこれを分解し
てフェノールを除去し、ビスフェノールＡを回収するに
当り、該付加物を精製フェノールで洗浄するとともに、
付加物の分解により得られるフェノールを反応系へリサ
イクルすることを特徴とするビスフェノールＡの製造方
法を提供するものである。
【０００７】本発明の方法においては、まず過剰のフェ
ノールとアセトンとを縮合させてビスフェノールＡを生
成させるが、この際、通常触媒として塩酸や硫酸などの
酸、あるいは陽イオン交換樹脂などが用いられる。該陽
イオン交換樹脂としては、一般にスチレンとジビニルベ
ンゼンとの共重合体を骨格とするものが用いられる。ま
た、この際、所望により選択率や反応速度を上げる目的
で、例えばエチルメルカプタン，メチルメルカプタン，
ｎ−オクチルメルカプタンなどのメルカプタン類を助触
媒として用いることができる。また、フェノール／アセ
トンモル比は、通常３〜３０、好ましくは５〜２０の範
囲で選ばれる。このモル比が３０を超えると反応速度が
遅く、３未満ではビスフェノールＡ（ｐ，ｐ’−体）の
選択率が低下する傾向がみられる。一方、イオン交換樹
脂を触媒として用いた場合、反応温度は、通常４５〜１
１０℃の範囲で選ばれる。この温度が４５℃未満では反
応速度が遅い上、場合により固化するおそれがあり、１
１０℃を超えるとビスフェノールＡ（ｐ，ｐ’−体）の
選択率が低下し、また陽イオン交換樹脂の耐熱性から限
界がある。
ノールとアセトンとを縮合させてビスフェノールＡを生
成させるが、この際、通常触媒として塩酸や硫酸などの
酸、あるいは陽イオン交換樹脂などが用いられる。該陽
イオン交換樹脂としては、一般にスチレンとジビニルベ
ンゼンとの共重合体を骨格とするものが用いられる。ま
た、この際、所望により選択率や反応速度を上げる目的
で、例えばエチルメルカプタン，メチルメルカプタン，
ｎ−オクチルメルカプタンなどのメルカプタン類を助触
媒として用いることができる。また、フェノール／アセ
トンモル比は、通常３〜３０、好ましくは５〜２０の範
囲で選ばれる。このモル比が３０を超えると反応速度が
遅く、３未満ではビスフェノールＡ（ｐ，ｐ’−体）の
選択率が低下する傾向がみられる。一方、イオン交換樹
脂を触媒として用いた場合、反応温度は、通常４５〜１
１０℃の範囲で選ばれる。この温度が４５℃未満では反
応速度が遅い上、場合により固化するおそれがあり、１
１０℃を超えるとビスフェノールＡ（ｐ，ｐ’−体）の
選択率が低下し、また陽イオン交換樹脂の耐熱性から限
界がある。
【０００８】このようにして得られた反応混合物は、公
知の方法により、触媒を除去したのち、晶析に先立って
濃縮を行うことが望ましい。なお、陽イオン交換樹脂を
固定床とする反応器を用いる場合には、触媒の除去操作
は必要でない。濃縮条件については特に制限はないが、
通常温度１００〜１７０℃，圧力４０〜５００ｔｏｒｒ
の条件で濃縮が行われる。温度が１００℃未満では高真
空が必要となり、１７０℃を超えると不純物が増加し、
着色の原因となる。また、濃縮残液のビスフェノールＡ
の濃度は２０〜４０重量％の範囲にあるのが有利であ
る。この濃度が２０重量％未満ではビスフェノールＡの
回収率が低く、４０重量％を超えると晶析後のスラリー
の移送が困難となる。
知の方法により、触媒を除去したのち、晶析に先立って
濃縮を行うことが望ましい。なお、陽イオン交換樹脂を
固定床とする反応器を用いる場合には、触媒の除去操作
は必要でない。濃縮条件については特に制限はないが、
通常温度１００〜１７０℃，圧力４０〜５００ｔｏｒｒ
の条件で濃縮が行われる。温度が１００℃未満では高真
空が必要となり、１７０℃を超えると不純物が増加し、
着色の原因となる。また、濃縮残液のビスフェノールＡ
の濃度は２０〜４０重量％の範囲にあるのが有利であ
る。この濃度が２０重量％未満ではビスフェノールＡの
回収率が低く、４０重量％を超えると晶析後のスラリー
の移送が困難となる。
【０００９】濃縮残液からのビスフェノールＡとフェノ
ールとの付加物の晶析は、通常一般的な冷却晶析法で行
われる。晶析温度は４０〜７０℃である。この晶析温度
が４０℃未満では晶析液の粘度の増大や固化をもたらす
おそれがあり、７０℃を超えるとビスフェノールＡの溶
解ロスが大きくなり、好ましくない。
ールとの付加物の晶析は、通常一般的な冷却晶析法で行
われる。晶析温度は４０〜７０℃である。この晶析温度
が４０℃未満では晶析液の粘度の増大や固化をもたらす
おそれがあり、７０℃を超えるとビスフェノールＡの溶
解ロスが大きくなり、好ましくない。
【００１０】次に、このようにして晶析されたビスフェ
ノールＡとフェノールとの付加物は、公知の方法により
分離したのち、精製フェノールにより洗浄処理が施され
る。この洗浄処理においては、該精製フェノールは、通
常付加物１００重量部に対し、３０〜１００重量部の割
合で用いられる。次いで、洗浄処理された付加物を分解
処理するが、この場合、温度は通常１３０〜２００℃、
好ましくは１５０〜１８０℃の範囲で選ばれ、一方圧力
は通常２０〜１５０ｔｏｒｒの範囲で選ばれる。このよ
うにして、該付加物の分解によりフェノールが留出する
が、この留出フェノール中には、ビスフェノールＡの分
解生成物であるイソプロペニルフェノールが、通常数十
〜数千ｗｔｐｐｍ含まれている。このイソプロペニルフ
ェノールの生成量は、分解温度が高いほど、また、滞留
時間が長いほど多くなる。さらに、該イソプロペニルフ
ェノールは、不安定でイソプロペニルフェノールのダイ
マーやトリスフェノールなどの不純物を生成したり、着
色の原因となることがある。
ノールＡとフェノールとの付加物は、公知の方法により
分離したのち、精製フェノールにより洗浄処理が施され
る。この洗浄処理においては、該精製フェノールは、通
常付加物１００重量部に対し、３０〜１００重量部の割
合で用いられる。次いで、洗浄処理された付加物を分解
処理するが、この場合、温度は通常１３０〜２００℃、
好ましくは１５０〜１８０℃の範囲で選ばれ、一方圧力
は通常２０〜１５０ｔｏｒｒの範囲で選ばれる。このよ
うにして、該付加物の分解によりフェノールが留出する
が、この留出フェノール中には、ビスフェノールＡの分
解生成物であるイソプロペニルフェノールが、通常数十
〜数千ｗｔｐｐｍ含まれている。このイソプロペニルフ
ェノールの生成量は、分解温度が高いほど、また、滞留
時間が長いほど多くなる。さらに、該イソプロペニルフ
ェノールは、不安定でイソプロペニルフェノールのダイ
マーやトリスフェノールなどの不純物を生成したり、着
色の原因となることがある。
【００１１】このような留出フェノールを、特開平１−
１４６８３９号公報記載のように、ビスフェノールＡと
フェノールとの付加物の洗浄処理にリサイクル使用すれ
ば、ビスフェノールＡ中の不純物の増加や色相悪化をも
たらすなど、好ましくない事態を招来する。したがっ
て、本発明においては、イソプロペニルフェノールを含
んだ留出フェノールを反応系へリサイクルする。これに
よって、イソプロペニルフェノールを反応中間体として
回収できるとともに、たとえ不純物が生成しても晶析工
程で除去され、製品ビスフェノールＡの純度低下や色相
悪化を招くことはない。また、本発明においては、該ビ
スフェノールＡとフェノールとの付加物の洗浄用フェノ
ールとしては、前記したように精製フェノールが用いら
れる。一方、ビスフェノールＡとフェノールとの付加物
の分解により得られたビスフェノールＡは、その中の残
留フェノールをスチームストリッピングなどの方法によ
り実質上完全に除去することによって、目的とする高品
質のビスフェノールＡが得られる。
１４６８３９号公報記載のように、ビスフェノールＡと
フェノールとの付加物の洗浄処理にリサイクル使用すれ
ば、ビスフェノールＡ中の不純物の増加や色相悪化をも
たらすなど、好ましくない事態を招来する。したがっ
て、本発明においては、イソプロペニルフェノールを含
んだ留出フェノールを反応系へリサイクルする。これに
よって、イソプロペニルフェノールを反応中間体として
回収できるとともに、たとえ不純物が生成しても晶析工
程で除去され、製品ビスフェノールＡの純度低下や色相
悪化を招くことはない。また、本発明においては、該ビ
スフェノールＡとフェノールとの付加物の洗浄用フェノ
ールとしては、前記したように精製フェノールが用いら
れる。一方、ビスフェノールＡとフェノールとの付加物
の分解により得られたビスフェノールＡは、その中の残
留フェノールをスチームストリッピングなどの方法によ
り実質上完全に除去することによって、目的とする高品
質のビスフェノールＡが得られる。
【００１２】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。 実施例１ 図１に示すビスフェノールＡ製造工程図に従って、連続
プロセスにより、ビスフェノールＡを製造した。まず、
陽イオン交換樹脂６００ｇが充填された反応器１に、フ
ェノールを４６００ｇ／ｈｒ，アセトンを２８０ｇ／ｈ
ｒ及びエチルメルカプタンを１６ｇ／ｈｒの速度で温度
を７５℃に維持しながら、連続的に供給する。反応混合
物２は濃縮工程３に導かれ、１６５℃，４００ｔｏｒｒ
の条件でビスフェノールＡの濃度が３０重量％になるよ
うに濃縮され、この濃縮液４は晶析工程５へ導かれ、４
５℃の条件で冷却晶析処理が施され、ビスフェノールＡ
とフェノールとの付加物が晶析する。次に、この付加物
のスラリー６は分離工程７に送られ、付加物結晶と母液
とに分離される。付加物結晶８は洗浄工程９において、
精製フェノールにより湿ケークの0.５倍（重量比）量で
洗浄され、洗浄された付加物結晶１０は再結晶を経て付
加物分解工程１１に送られる。この分解工程において
は、２０ｔｏｒｒ，１７０℃の条件で付加物は分解さ
れ、大部分のフェノールが留出する。この留出フェノー
ル１２は全量反応器１にリサイクルされる。一方、分解
工程１１から取り出されたビスフェノールＡ１３は、そ
の中の残留フェノールをスチームストリッピングにより
実質上完全に除去して製品ビスフェノールＡとする。系
が定常に達した時点で、留出フェノール１２中のイソプ
ロペニルフェノールを測定したところ、８０ｗｔｐｐｍ
存在していた。また、製品ビスフェノールＡは純度９9.
９６ｗｔ％，溶融色はＡＰＨＡ１０以下であった。
する。 実施例１ 図１に示すビスフェノールＡ製造工程図に従って、連続
プロセスにより、ビスフェノールＡを製造した。まず、
陽イオン交換樹脂６００ｇが充填された反応器１に、フ
ェノールを４６００ｇ／ｈｒ，アセトンを２８０ｇ／ｈ
ｒ及びエチルメルカプタンを１６ｇ／ｈｒの速度で温度
を７５℃に維持しながら、連続的に供給する。反応混合
物２は濃縮工程３に導かれ、１６５℃，４００ｔｏｒｒ
の条件でビスフェノールＡの濃度が３０重量％になるよ
うに濃縮され、この濃縮液４は晶析工程５へ導かれ、４
５℃の条件で冷却晶析処理が施され、ビスフェノールＡ
とフェノールとの付加物が晶析する。次に、この付加物
のスラリー６は分離工程７に送られ、付加物結晶と母液
とに分離される。付加物結晶８は洗浄工程９において、
精製フェノールにより湿ケークの0.５倍（重量比）量で
洗浄され、洗浄された付加物結晶１０は再結晶を経て付
加物分解工程１１に送られる。この分解工程において
は、２０ｔｏｒｒ，１７０℃の条件で付加物は分解さ
れ、大部分のフェノールが留出する。この留出フェノー
ル１２は全量反応器１にリサイクルされる。一方、分解
工程１１から取り出されたビスフェノールＡ１３は、そ
の中の残留フェノールをスチームストリッピングにより
実質上完全に除去して製品ビスフェノールＡとする。系
が定常に達した時点で、留出フェノール１２中のイソプ
ロペニルフェノールを測定したところ、８０ｗｔｐｐｍ
存在していた。また、製品ビスフェノールＡは純度９9.
９６ｗｔ％，溶融色はＡＰＨＡ１０以下であった。
【００１３】比較例１ 図２に示すビスフェノールＡ製造工程図に従って、連続
プロセスによりビスフェノールＡを製造した。すなわ
ち、実施例１において、留出フェノール１２を反応器１
にリサイクルせずに、付加物結晶の洗浄工程９において
精製フェノールの代わりに用いた以外は、実施例１と同
様に実施した。その結果、留出フェノール中のイソプロ
ペニルフェノールの濃度は次第に上昇し、数千ｗｔｐｐ
ｍにも達した。また、運転当初はビスフェノールＡの純
度，色調共に問題はなかったが、次第に悪化していっ
た。得られた製品ビスフェノールＡは純度が９9.２３ｗ
ｔ％，溶融色がＡＰＨＡ６０となり、品質の悪いもので
あった。
プロセスによりビスフェノールＡを製造した。すなわ
ち、実施例１において、留出フェノール１２を反応器１
にリサイクルせずに、付加物結晶の洗浄工程９において
精製フェノールの代わりに用いた以外は、実施例１と同
様に実施した。その結果、留出フェノール中のイソプロ
ペニルフェノールの濃度は次第に上昇し、数千ｗｔｐｐ
ｍにも達した。また、運転当初はビスフェノールＡの純
度，色調共に問題はなかったが、次第に悪化していっ
た。得られた製品ビスフェノールＡは純度が９9.２３ｗ
ｔ％，溶融色がＡＰＨＡ６０となり、品質の悪いもので
あった。
【００１４】
【発明の効果】本発明によると、簡単な操作により、無
色で純度が高く、ポリカーボネート樹脂やポリーアリレ
ート樹脂などの原料として用いうる高品質のビスフェノ
ールＡを効率よく製造することができる。
色で純度が高く、ポリカーボネート樹脂やポリーアリレ
ート樹脂などの原料として用いうる高品質のビスフェノ
ールＡを効率よく製造することができる。
【図１】実施例１におけるビスフェノールＡ製造工程図
である。
である。
【図２】比較例１におけるビスフェノールＡ製造工程図
である。
である。
１ 反応器 ３ 濃縮工程 ５ 晶析工程 ７ 分離工程 ９ 洗浄工程 11 付加物分解工程 12 留出フェノール 13 ビスフェノールＡ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 増田 修一 千葉県市原市姉崎海岸１番地１ 出光石油 化学株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 過剰のフェノールとアセトンとを縮合さ
せて２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
を生成させたのち、該２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパンとフェノールとの付加物を晶出させ、
次いでこれを分解してフェノールを除去し、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを回収するに当
り、該付加物を精製フェノールで洗浄するとともに、付
加物の分解により得られるフェノールを反応系へリサイ
クルすることを特徴とする２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20524392A JPH0648970A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20524392A JPH0648970A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0648970A true JPH0648970A (ja) | 1994-02-22 |
Family
ID=16503771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20524392A Pending JPH0648970A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648970A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001083614A1 (fr) * | 2000-04-27 | 2001-11-08 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Resine de polycarbonate pour substrat de disque optique et substrat de disque optique |
| KR20160127002A (ko) | 2014-02-28 | 2016-11-02 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 비스페놀 a 의 제조 방법 |
-
1992
- 1992-07-31 JP JP20524392A patent/JPH0648970A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001083614A1 (fr) * | 2000-04-27 | 2001-11-08 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Resine de polycarbonate pour substrat de disque optique et substrat de disque optique |
| US6716510B2 (en) | 2000-04-27 | 2004-04-06 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Polycarbonate resin for optical disk substrate and optical disk substrate |
| US7067609B2 (en) | 2000-04-27 | 2006-06-27 | Idemitsu Kosan Co., Ltd | Polycarbonate resin for optical disk substrate and optical disk substrate |
| CN100457826C (zh) * | 2000-04-27 | 2009-02-04 | 出光兴产株式会社 | 用作光盘底基的聚碳酸酯树脂及光盘底基 |
| KR20160127002A (ko) | 2014-02-28 | 2016-11-02 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 비스페놀 a 의 제조 방법 |
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