JP3382767B2 - エッチング補正パターン作成装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、金属材料をエッチ
ング加工してリードフレーム等の微細パターンからなる
エッチング製品を製造する場合に、マスクとして使用す
るレジストパターンに相当するエッチング補正パターン
を、製品設計寸法パターンのＣＡＤデータから作成する
際に適用して好適な、エッチング補正パターン作成装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】エッチング製品としては、搭載するＩＣ
（集積回路）チップと電気的に接続するために用いるリ
ードフレームがある。

【０００３】図３６は、一方の面から見た１チップ分の
リードフレームの一例を示したもので、中心にはチップ
（図示せず）を取り付けるためのダイパッド（アイラン
ド）１０が位置し、該ダイパッド１０は、外枠１２にタ
ブ吊りバー１４を介して支持されており、その周囲には
インナリード１６が先端をダイパッド１０に近接させて
配置されていると共に、該インナリード１６に連続する
アウタリード１８がダムバー２０等を介して上記外枠１
２に支持されている。又、上記インナリード１６には、
該リード１６の変形を防止するためにプラスチックから
なる固定用テープ２２が貼り付けられている。なお、図
中破線はモールドラインである。

【０００４】上記リードフレームを例に、エッチング製
品の設計から製品完成までの工程の概略を示すと、図３
７のようになる。

【０００５】リードフレームのパターン設計はＣＡＤ
（Ｃomputer Ａided Ｄesign ）を用いて行われ、まず
ＣＡＤ１の製品パターン設計工程で目標とする製品の寸
法と同一の（Ａ）製品寸法ＣＡＤデータを作成し、次い
でＣＡＤ２のエッチング補正工程で、実際のエッチング
工程でレジストパターンの幅より余分に削られてしまう
サイドエッチング分の補正代を、上記（Ａ）製品寸法Ｃ
ＡＤデータに加算してレジストパターンの原型となる
（Ｂ）加工寸法ＣＡＤデータを作成し、次のパターン製
造工程でこの加工寸法ＣＡＤデータをレーザプロッタで
描画して（Ｃ）ガラス原版パターンを作成する。この原
版パターンは、リードフレームの表裏両面についてそれ
ぞれ作成される。

【０００６】その後、上記ガラス原版をマスクとして用
いて、リードフレームの基材である銅板等の金属材料に
コーティングされているレジストを露光（焼付け）し、
現像し、バーニング（硬化）して（Ｄ）製版パターン
（レジストパターン）を作成し、次いで露出部分の金属
材料を除去するエッチングを行い、その後付着している
レジストを剥離することにより、最終的にリードフレー
ム、即ち（Ｅ）製品パターンが得られる。

【０００７】上記リードフレームの製造工程では、
（Ｅ）製品パターンは、設計パターンである（Ａ）製品
寸法ＣＡＤデータと同一になることが望ましい。そのた
めにこの（Ａ）に補正代を加えて設計される（Ｂ）加工
寸法ＣＡＤデータ（これは（Ｃ）ガラス原版パターン、
（Ｄ）製版パターンと基本的に同一寸法パターンであ
る）と上記（Ｅ）との寸法差は大きく、通常数十μｍの
差がある。

【０００８】同様に微細加工される他のエッチング製品
として、カラーテレビ用のシャドウマスクがあるが、こ
れに比較してリードフレームは形状が不規則である上
に、エッチング終了後に行う後工程が複雑であるという
特徴を有している。

【０００９】又、リードフレームの特徴として、チップ
が取り付けられるアイランド１０とワイヤボンディング
されるインナリードの先端との間にギャップ（エッチン
グ除去される空間）があり、そこにエッチング液が入り
易いために、インナリードの先端部はエッチングが進み
易く、先細りになり易い反面、ワイヤボンディングのた
めには十分な先端幅の寸法が要求される。

【００１０】このように加工が難しいリードフレームを
エッチングする際のマスクとなる（Ｄ）の製版パターン
を作成するための（Ｂ）加工寸法ＣＡＤデータは、上述
した如くレジストパターンより余分にサイドエッチング
されるエッチング代に相当する寸法を、補正代として
（Ａ）の製品寸法ＣＡＤデータに加算する補正を行って
作成される。

【００１１】従来、上記リードフレームの場合のエッチ
ング補正に使用する補正代は、経験に基づいて、例えば
板厚の１／２の寸法が全体的に一律に設定され、インナ
リード先端部等は局所的に微調整を行っていた。

【００１２】このように、エッチング補正パターンの作
成作業は、製品設計パターンが単純な場合には補正形状
と補正量が経験的に決められているため、コンピュータ
のプログラムを組むことにより、かなり自動化されてい
る。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、エッチ
ング製品の設計寸法パターンが未だ経験したことがな
く、しかもピッチが細かいファインなものについてエッ
チング補正パターン（補正データ）を作成しなければな
らない場合は、経験則がそのまま通用しないので、自動
化プログラムによる補正作業の自動化ができなくなる。
そのため、このような場合、パターン設計者は、経験則
を基本にしながら、過去の経験を頼りに補正パターンを
作成すると共に、該補正パターンに基づく製品の試作
と、その試作結果に基づくパターン修正との試行錯誤を
繰り返すことになるため、完成された補正パターンを製
造ラインに投入する前に大幅な停滞を生じ、製品納期
が、例えば数ヵ月も遅れることも起こり得る。

【００１４】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、特別な経験がない者でも、高精度な
エッチング補正パターンを簡単に作成できると共に、そ
の作成作業を自動化することもできるエッチング補正パ
ターン作成装置を提供することを課題とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、製品設計寸法
パターンのＣＡＤデータに補正代を加算して、レジスト
パターンの原型となる補正データを作成する手段と、該
補正データを原型とするレジストパターンをマスクに、
エッチング加工して作成された現物パターンを画像入力
する手段と、入力された現物パターンの画像データと、
ＣＡＤデータ及び補正データとを、対応する基準点を一
致させて重ね合せて照合する手段と、照合状態下で、Ｃ
ＡＤデータ上又は補正データ上に設定されている検査ポ
イントに対応する現物パターンの画像データの輪郭上の
点を算出する手段と、算出された輪郭上の点を始点と
し、対応する補正データ上の検査ポイントを終点とする
ベクトルを発生させる手段と、発生させたベクトルを、
その始点が対応するＣＡＤデータ上の検査ポイントに一
致する位置に、平行移動させる手段と、平行移動後の各
ベクトルの終点を利用して、次回レジストパターン作成
用の新たな補正データを作成する手段と、を備えた構成
とすることにより、前記課題を解決したものである。

【００１６】即ち、本発明においては、１回目の試作品
は、例えば経験則で決定した補正代を設定した補正デー
タを用いて作成すると共に、その試作品（現物パター
ン）を画像計測して、実際のエッチング代又は設計寸法
からの誤差を求め、該エッチング代又は誤差を２回目の
試作品を作成するための補正データに反映させるように
したので、人の経験に依存することなく、高精度な補正
データを作成することができるため、早い場合は１回の
修正で最終補正データを作成することが可能となる。

【００１７】又、２回目以降の修正が必要な場合でも、
同様の操作を繰り返すだけでよいので、人の経験に依存
することなく、高精度な補正データを作成することがで
きる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を詳細に説明する。

【００１９】図１は、本発明に係る第１実施形態のＣＡ
Ｄシステム（エッチング補正パターン作成装置）の概略
構成を示すブロック図である。

【００２０】上記ＣＡＤシステムは、サンプル（現物）
を装着するサンプル装着装置３０と、該装着装置３０に
セットされたサンプルを拡大する光学顕微鏡３２と、該
顕微鏡３２による観察像を受光してカラーのビデオ信号
に変換するＣＣＤカメラ３４と、該ＣＣＤカメラ３４か
らのカラービデオ信号を処理する画像処理装置３６と、
該画像処理装置３６で処理した画像データをカラー表示
できるＴＶモニタ３８と、通常の作図機能の他に上記画
像処理装置３６から入力される画像データからＣＡＤデ
ータを生成させるためのラスタ・ベクタ変換機能や、２
以上のＣＡＤデータの重ね合せや、それらの相互の位置
移動（シフト）、寸法測定等の機能を有するＣＡＤ装置
を構成するエンジニアリングワークステーション（ＥＷ
Ｓ）４０とを備えている。

【００２１】又、上記ＣＡＤシステムでは、サンプル装
着装置３０が、サンプル装着部（図示せず）を有する手
動の回転ステージ４２と、サンプルを平面方向に移動さ
せるＸＹステージ４４と、サンプルを垂直方向に移動さ
せるＺステージ４６で構成され、ＸＹステージ４４及び
Ｚステージ４６は、ワークステーション４０からインタ
フェイスＲＳ２３２Ｃを介して指令を受けて作動するＸ
Ｙステージコントローラ４８及びオートフォーカスコン
トローラ５０によりそれぞれ駆動制御されるようになっ
ている。又、上記ＸＹステージ４４にはレーザ位置検出
器が取り付けられ、そのＸＹ方向の位置計測が同じくワ
ークステーション４０からの指令により作動するレーザ
スケールカウンタ５２により行われ、その実測値がワー
クステーション４０にフィードバックされ、ＸＹステー
ジコントローラ４８によるＸＹステージ４４の位置計測
値の修正が行われるようになっている。

【００２２】又、上記オートフォーカスコントローラ５
０には、ＣＣＤカメラ３４からオートフォーカスに使用
する画像信号が直に入力されるようになっており、顕微
鏡３２を介して取り込まれた画像を別に設けてあるオー
トフォーカス用モニタ（図示せず）で直接見ることがで
きるようになっていると共に、該オートフォーカスコン
トローラ５０からＴＶモニタ３８にもモノクロ（Ｂ／
Ｗ）のビデオ信号が入力されるようになっている。

【００２３】図２は、上記装着装置３０、光学顕微鏡３
２及びＣＣＤカメラ３４の外観を示した斜示図であり、
前記図１に示したＸＹステージ４４は、Ｘステージ４４
ＡとＹステージ４４Ｂからなり、それぞれ前記ステージ
コントローラ４８に接続されているＸ駆動モータ５４
Ａ、Ｙ駆動モータ５４ＢによりＸ方向、Ｙ方向に移動可
能になされ、Ｙステージ４４Ｂの上にはサンプルを装着
する回転ステージ４２が取り付けられ、手動で回転でき
るようになっている。

【００２４】又、Ｘステージ４４Ａ及びＹステージ４４
Ｂの側面には、それぞれ微細回折格子からなるスケール
パターン５６Ａ、５６Ｂが付設され、且つ上記Ｘ駆動モ
ータ５４Ａ、Ｙ駆動モータ５４Ｂで移動された両ステー
ジ４４Ａ、４４Ｂの位置をレーザ光をスケールパターン
５６Ａ、５６Ｂに照射して検出するためのＸ位置検出器
５８Ａと、Ｙ位置検出器５８Ｂとが設置され、これら両
検出器５８Ａ、５８Ｂは前記レーザスケールカウンタ５
２に接続されている。

【００２５】又、上記Ｘステージ４４Ａの下には、前記
Ｚステージ４６が配置され、該Ｚステージ４６はＺ駆動
モータ５４Ｃにより垂直方向に進退動可能になってお
り、該Ｚ駆動モータ５４Ｃは前記オートフォーカスコン
トローラ５０に接続され、該コントローラ５０からの制
御信号に基づいて光学顕微鏡３２の対物レンズ３２Ａと
サンプルとの間の距離を増減して、該顕微鏡３２に対す
るオートフォーカスが行われるようになっている。

【００２６】又、上記Ｚステージ４６の下には支持台を
兼ねた透過光源ユニット６０が配置され、該ユニット６
０には顕微鏡３２に対して下から投光する透過光源（図
示せず）が内蔵され、且つその側壁には透過光源スイッ
チ６０Ａと光量調整ボリューム６０Ｂとが付設されてい
る。

【００２７】更に、前記顕微鏡３２には落射光源ユニッ
ト６２が取り付けられ、該ユニット６２には落射光源
（図示せず）が内蔵され、該ユニット６２の側壁には落
射光源スイッチ６２Ａと光量調整ボリューム６２Ｂとが
付設されている。

【００２８】従って、サンプルの顕微鏡画像をＣＣＤカ
メラ３４で取り込む際には、透過及び落射の少なくとも
一方の光源を使用することが可能になっている。

【００２９】次に、図３を用いて前記画像処理装置３６
の構成の特徴と処理機能について説明する。なお、この
処理装置３６としては、画像入力・処理・２値化の処理
機能を有する、例えば、セイコー電子工業（株）製のＳ
Ｖ−２１１０（商品名）を利用することができる。

【００３０】この画像処理装置３６は、ＣＣＤカメラ３
４から入力されるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各信
号を１画面毎に記憶することができる、それぞれ四角形
で囲んで示すＲ画像、Ｇ画像、Ｂ画像用の３つのフレー
ムメモリと、Ｙ（輝度）信号を記憶するモノクロのＢ／
Ｗ画像用の１つのフレームメモリと、前記Ｒ、Ｇ、Ｂ信
号を３×３マトリックス演算部で処理して得られるＨ
（色相）、Ｓ（彩度）、Ｖ（輝度）のそれぞれの画像デ
ータを記憶するＨ、Ｓ、Ｖの各画像用の３つのフレーム
メモリと、Ｒ信号とＢ信号を画像算術演算部で処理して
得た両者の差分画像データを記憶するＲ−Ｂ差分画像用
フレームメモリの、合計８個のフレームメモリを備えて
いる。

【００３１】このように異なる色信号を採用する理由
は、図４の表に示すように、現物試料（現物パターン）
によって使用されている材料や要求される画像の種類が
異なることがあるため、使用に適した光源の種類や最適
な色信号が異なることにある。

【００３２】即ち、原版パターンは、リードフレームの
表用と裏用の２種類あり、いずれもガラス乾板（ガラス
板に不透明なフィルムでパターンが形成されている）で
あるため、白黒の透過像が良好なコントラストで得られ
ることから、Ｂ／Ｗ画像のフレームメモリが最適プレー
ンである。

【００３３】又、製版パターンは、リードフレームの表
面及び裏面に形成されるレジストパターンであるため、
金属材料及びレジストの種類によって異なると共に、落
射光源を使用して反射像を受光する必要がある。

【００３４】レジストとしてカゼインを使用している場
合には、現像後の加熱硬化の段階でレジストが赤系統の
色になっているため、材料が銀白色の４２アロイでは最
適プレーンとしてＢ画像のフレームメモリを使用できる
が、銅（Ｃｕ）材ではそれ自体が赤系統の色であるた
め、Ｂ画像ではその差が明瞭でないため、Ｖ画像のフレ
ームメモリが最適のプレーンとなる。

【００３５】又、レジストとしてブルー系のドライフィ
ルムを使用する場合は、４２アロイではＲ画像が最適で
あるが、銅材ではＲ−Ｂ差分画像のフレームメモリが最
適プレーンとなる。

【００３６】エッチングが終了し、レジスト膜を除去し
た後の製品パターンの場合は、貫通形状の透過像と表裏
両面それぞれの反射像とを受光することができ、透過像
は前述した如く黒白のＢ／Ｗ画像が、反射像の場合はＨ
（色相）画像が最適プレーンとなる。

【００３７】又、製品パターンの中でも、前記図３６に
示したようにインナリードにポリイミド樹脂からなる固
定用テープ２２（表にはＴＰと記す）が貼り付けられて
いる場合には、テープは赤系統で透明度が高いため、テ
ープが画像入力されない完全透過像を得るためには、Ｂ
／Ｗ画像が最適プレーンとなる。但し、後述する２値化
の閾値を適切に設定する必要がある。

【００３８】逆に、テープを含めた透過像を撮り込むた
めには、テープに対しても不透過のブルーが好適である
ため、Ｂ画像が最適プレーンとなる。

【００３９】更に、テープ部分のみを撮り込みたい場合
は、落射光源を用いる反射像に対してＨ画像が最適プレ
ーンとなる。

【００４０】上述した如く、画像として撮り込む対象に
応じて最適な使用プレーンを選択すると、前記８個のフ
レームメモリの中から対応する画像信号が２値化処理部
に入力される。この２値化処理部で入力された画像デー
タについて２値化処理を行う。その際に設定する閾値
は、例えば０から２５５の階調値の中から任意に設定す
ることができる。

【００４１】上記２値化処理部で２値化された画像デー
タに対して、現物パターンの表面の微細な粗さ等が原因
で生じる画像上の黒スポット又は白スポットを除去する
ためのモフォロジー処理を行う。但し、透過像の場合は
このようなスポットは発生しないので行う必要はない。

【００４２】除去する対象のスポットが白又は黒のいず
れであるかを設定し、所定のモフォロジー回数を設定し
て、その回数の画像の膨脹・収縮処理を行ってスポット
の除去を行う。

【００４３】次いで、上記処理を行って得られた２値画
像は、ＣＡＤ装置として機能するワークステーション４
０に入力され、ここで該２値画像を後述する照合等の各
種処理に用いる。このワークステーション４０として
は、通常のＣＡＤソフト（例えば、コンピュータビジョ
ン社のＣＡＤソフトＭedusa （商品名））が稼働する、
例えばサンマイクロシステムズ社のＳparc Ｓtation１
０（商品名）を利用することができる。

【００４４】又、本実施形態のＣＡＤシステム（エッチ
ング補正パターン作成装置）では、前記ワークステーシ
ョン４０に、製品設計寸法パターンのＣＡＤデータに補
正代を加算して作成されるレジストパターンの原型とな
る補正データ上に複数の検査ポイントを、ＣＡＤデータ
上に該検査ポイントに１対１に対応する副検査ポイント
を、それぞれ設定する手段と、設定された上記検査ポイ
ントに対応する現物パターンの輪郭上の点を算出する手
段と、算出された輪郭上の点を始点とし、対応する検査
ポイントを終点とするベクトルを発生させる手段と、発
生させたベクトルを、その始点が対応するＣＡＤデータ
上の副検査ポイントに一致する位置に、平行移動させる
手段と、平行移動後の各ベクトルの終点を利用して、次
回レジストパターン作成用の新たな補正データを作成す
る手段と、がソフトウエアにより構築されている。

【００４５】又、ここでは、検査ポイントに対応する副
検査ポイントが、原則として該検査ポイントから最短距
離の点として選択されるようになされている。又、検査
ポイントに対応する現物パターンの輪郭上の点が、該検
査ポイントから最短距離の点として算出されるようにな
されている。

【００４６】次に、本実施形態の作用を、図５のフロー
チャート等を参照しながら詳細に説明する。

【００４７】本実施形態のＣＡＤシステムでは、以下に
詳述する図５のフローチャートの手順に従って、新たな
補正データの自動作成ができるようになっている。

【００４８】まず、製品設計寸法パターンのＣＡＤデー
タを作成し（ステップＳ１）、ファイルに保存すると共
に、自動補正プログラム等を使用し、該ＣＡＤデータに
経験則に基づくエッチング補正を行って、試作用の補正
データを作成し、それをファイルに保存する（ステップ
Ｓ２）。この補正データは、上記ＣＡＤデータに、例え
ば板厚の１／２の寸法を、全体に一律に加算して作成さ
れる。又、この段階では、例えば４チップ分が連なった
１フレームの補正データが作成される。

【００４９】次いで、上記ステップＳ２で作成した１フ
レームの補正データを用いて、金属板にコーティングさ
れているレジスト膜にレーザプロッタにより必要な数だ
け面付け描画し、露光、現像してレジストパターンを形
成した後、金属板をエッチングして第１回目の試作品を
作成する（ステップＳ３）。

【００５０】その後、作成したリードフレーム試作品の
現物パターンを画像入力する。その際に、（１）試料セ
ッティング、直交補正、（２）アイランド中心測定、
（３）ＡＦ条件、画像処理条件設定の画像処理条件等の
設定を行う（ステップＳ４）。

【００５１】具体的には、この画像処理条件等の設定
は、図６に示すフローチャートのステップＳ１１〜Ｓ１
６の手順に従って行うことができる。

【００５２】まず、具体的な操作を開始する前に、シス
テムの機能の基本的な設定と調整とを行っておく。特
に、顕微鏡３２のレンズやカメラ３４を交換したときに
は、カメラ３４とＸＹステージ４４の直交調整を行う必
要がある。これはカメラマウント部を手動で回転させて
行う。この直交調整は、図７にモニタ画面を模式的に示
すように、サンプル装着部にある、×印で示す微小なマ
ーク（微小なゴミでもよい）を基準点とし、これがモニ
タ画面から外れない範囲で左右のＸ方向に水平移動させ
た場合に、モニタ上の基準線（水平線）から上記基準点
がズレなければＯＫとすることで行うことができる。

【００５３】又、画像計測機能を与えるために、１画素
当りの寸法と、画面送りピッチを測定しておく必要があ
る。これは、１画面サイズ（本実施形態では、５１２×
４８０画素）に対応するステージ送り値を測定すること
にあたり、具体的には、モニタ３８の画面を示した図８
に示すように、×印で示す基準点を、画面上のＸ方向及
びＹ方向のいずれにも１／４、３／４の位置にある基準
線上の４ポイントに動かし、そのときのＸ方向、Ｙ方向
のステージ移動距離を、前記レーザスケールカウンタ５
２によるカウント値を用いることにより高精度に測定す
ることができる。この場合、１画素当りの寸法はＸｓ／
２５６、Ｙｓ／２４０となり、Ｘ方向、Ｙ方向それぞれ
の画面送りピッチは２Ｘｓ、２Ｙｓとして計算される。
なお、上記寸法、ピッチの測定には、レーザスケールカ
ウンタを使用せずに、ＸＹステージの駆動モータ（ステ
ップモータ）による送りピッチ、例えば１μｍを使用し
てもよい。

【００５４】以上の準備操作が完了していることを前提
に、前記図６のステップＳ１１でサンプルのセッティン
グを行う。具体的には、前記図２に示したように、回転
ステージ４２の所定位置にサンプル（リードフレーム）
を装着し、オペレータがモニタ３８に表示されているカ
メラ３４から撮り込まれたサンプルの画像を見ながら、
上記回転ステージ４２を操作して、サンプルの直交調整
を行う。

【００５５】上述したＸＹステージ４４との直交調整が
既に終了しているＣＣＤカメラ３４により入力されたサ
ンプルの水平エッジを表示したモニタ画面が、図９のよ
うであるとすれば、ＸＹステージ４４をＸ軸方向に大き
く動かした場合でも水平基準線から上記エッジがズレな
いような位置に、回転ステージ４２を手動で回転させ、
サンプルとＸＹステージ４４との間の直交調整を行う。

【００５６】次いで、ステップＳ１２で、使用光源の選
択と、その光量調整を行う。即ち、スイッチ６０Ａ又は
６２Ａのいずれかをオンにすることにより、透過光源又
は落射光源を選択する。希望する光源を選択し、オート
フォーカス装置のモニタを見て輝度信号が規定範囲に入
るように６０Ｂ又は６２Ｂの光量ボリュームにより、光
量の調整を行う。なお、場合によっては上記両光源を同
時に使用することもできる。

【００５７】次いで、ステップＳ１３で、実測値に基づ
いて更に正確な補正をするために、試料の直交度測定を
行う。ここでは、次のステップ１４で行うアイランド中
心測定と同様に、水平と思われる２点と、垂直と思われ
る２点の座標を測定する。

【００５８】図１０は、上記各２点の測定点Ｈ１、Ｈ
２、Ｖ１、Ｖ２と、各点の画像を撮り込んでいるときの
ＣＣＤカメラ３４の視野を示し、斜線部分がフレーム
（現物）にあたる。ここでは、水平方向の２点Ｈ１、Ｈ
２としてフレームのエッジ上の点を、垂直方向の２点Ｖ
１、Ｖ２として、エッチングを促進するために設けられ
ている縦溝のエッジ上の点を利用している。このステッ
プでは、資料の直交度が、前記ステップＳ１１で回転ス
テージ等を操作して既にできる限り合わせてあることが
前提になる。即ち、Ｈ１の点で視野の中央付近に見えて
いたエッジが、ステージを水平方向に移動させてＨ２の
点に視野を移したときにも、そのほぼ中央に見え、上下
に僅かに動く程度に抑えておく。補正するとは言え、視
野から外れる位に直交がズレているのは好ましくない。

【００５９】以上の条件の下で測定された、上記４点の
座標が、 Ｈ１（Ｘ_H1，Ｙ_H1），Ｈ２（Ｘ_H2，Ｙ_H2） Ｖ１（Ｘ_V1，Ｙ_V1），Ｖ２（Ｘ_V2，Ｙ_V2） であり、次に求めるアイランド中心の座標を、（Ｘｃ，
Ｙｃ）とすると、図１０中にＰで表わした点の測定座標
（ｘ，ｙ）は、次の（１）、（２）式で補正された
（ｘ′，ｙ′）として得られる。

【００６０】 ｘ′＝−｛（Ｘ_V2−Ｘ_V1）／（Ｙ_V2−Ｙ_V1）｝×（ｙ−Ｙｃ）＋ｘ…（１） ｙ′＝−｛（Ｙ_H2−Ｙ_H1）／（Ｘ_H2−Ｘ_H1）｝×（ｘ−Ｘｃ）＋ｙ…（２）

【００６１】上述したステップＳ１３の直交補正のため
の測定が終わった後、ステップＳ１４でアイランド中心
指定、ステップＳ１５でＡＦ条件設定、ステップＳ１６
で画像処理条件設定をそれぞれ実行する。

【００６２】このステップＳ１４からＳ１６までは、例
えば図１１〜図１３に模式的に示したような、モニタ画
面に表示されるメニュー画面（それぞれ同一画面にウィ
ンドウ表示することもできる）でメニューを選択するこ
とにより実行される。

【００６３】まず、ステップＳ４で、本実施形態の装置
が有する原点算出機能を用いて、画像として取り込まれ
たアイランド（ダイパッド）の中心指定（原点算出）を
行う。

【００６４】本実施形態では、図１４にアイランド１０
を拡大して示すと共に、その右側にモニタ画面を示すよ
うに、該アイランド１０の上端の点Ｐ_T 、及び下端の点
Ｐ_Bをそれぞれカメラ入力画面のＹ軸方向中心に一致さ
せて入力することにより、それぞれのＹ座標値Ｙ_T 、Ｙ
_B が算出され、左側端の点Ｐ_L 及び右側端の点Ｐ_R をそ
れぞれ画面のＸ方向中心に一致させて入力することによ
り、それぞれＸ座標値Ｘ_L 、Ｘ_R が算出されるようにな
っている。従って、これら４箇所の白黒（黒の部分は斜
線で示した）の境界にあたるエッジ位置の座標値から、
位置合せ原点となるアイランド中心の座標（Ｘｃ、Ｙ
ｃ）が次式で算出される。

【００６５】 Ｘｃ＝（Ｘ_R ＋Ｘ_L ）／２， Ｙｃ＝（Ｙ_T ＋Ｙ_B ）／２ …（３）

【００６６】なお、本実施形態のＣＡＤシステムにはエ
ッジ検出機能があり、エッジの自動認識が可能であるた
め、上述のように左右上下の白黒の境界のエッジを、画
面上のＸ座標、Ｙ座標の中心に一致させなくとも、単に
各エッジ部分を画面内に取り込むだけで、各エッジの座
標値を検出し、自動的に上記式により計算が実行され、
同様の中心指定を行うことができる。このように入力画
像のアイランドの中心を特定することにより、該中心を
ＣＡＤデータの設計パターンのアイランドの中心に一致
させる位置合せを行うことにより重ね合せ表示を正確に
行うことが可能となる。

【００６７】通常１チップ分のリードフレームは、アイ
ランドの中心を原点として、基本的には左右上下対称に
設計されるため、ＣＡＤデータはアイランド中心を原点
として記述（設計）されているか、原点の座標がデータ
内に明示されているので、前述した方法で算出された原
点を、ＣＡＤ装置上でＣＡＤデータのアイランド中心に
一致させることにより、寸法差が大きい、例えば加工寸
法パターンとエッチングパターンでも、自動的に正確に
位置合せを行うことが可能となる。

【００６８】以上のステップＳ１３で測定された試料直
交度と、Ｓ１４で指定された画像上のアイランドの中心
に関する情報は、設定ファイルＸＹに格納される。

【００６９】次いで、ステップＳ１５でオートフォーカ
ス（ＡＦ）の条件設定を行う。ここでは、モードを選択
し、リミット値を設定する。このモードには、平坦なサ
ンプルに適用するＺ軸方向に１つの基準点（位置）を決
め、その点から上下にＺステージ４６を微小移動させな
がら合焦させる２ＷＡＹ方式と、凹凸の大きい表面に適
用する、合焦点を越える所定の下方位置迄Ｚステージ４
６を下降させた状態から、該ステージ４６を徐々に上昇
させてサンプルをレンズに近付けて合焦させる１ＷＡＹ
方式と、対物レンズ（本実施形態では５種類）の中から
の使用レンズの選択とがある。

【００７０】リミットは、オートフォーカス時にレンズ
とサンプルとの衝突を防止するために設定する接近限界
距離である。なお、ここでは、モードとして凹凸の激し
い製品サンプルでは１ＷＡＹを、激しくない場合は２Ｗ
ＡＹを選択する、レンズとして分解能１μｍ／１画素で
取り込むために２０倍対物レンズを用い、そのためのフ
ォーカスパラメータ設定ファイルを使用する、リミット
値として原点より２ｍｍ、フォーカス作動距離の最大値
をリミットの１／２にする、等の通常デフォルト値を設
定する。このステップで設定した条件は、設定ファイル
ＡＦに格納される。

【００７１】ＡＦモードとして２ＷＡＹ方式を選択する
場合、試料のエッジ部分（平坦部分）が画面に入るよう
にし、オートフォーカスを起動するか、あるいはマニュ
アルでＺステージ４６を移動するかして、フォーカス原
点（基準点のＺ座標値）も設定する。オートフォーカス
は、上述の如くこの位置を基準にＺステージ４６を上下
微小移動して実行される。

【００７２】次のステップＳ１６では、画像処理の条件
を設定する。その内容は、使用する色が異なる前記図３
に示した８種類の画像フレームメモリの中から使用する
入力プレーンの選択と、２値画像を作成する際の２値化
閾値の設定、白又は黒の不要な点を画像データから除く
ために行うモフォロジー条件である。このステップで設
定した条件は、設定ファイルＳＶに格納される。

【００７３】次いで、前記図５に戻り、検査ポイントの
マーキングを行う（ステップＳ５）。これは、請求項３
で規定される検査ポイントを設定する工程に相当する。
以下、現物パターンの画像データの輪郭上の対応点を算
出するために基準とする方の点を検査ポイント、該検査
ポイントに対応して設定される点を副検査ポイントとし
て説明する。

【００７４】このステップＳ５で行う検査ポイントのマ
ーキングを、図１５（Ａ）を用いて説明する。この図１
５（Ａ）は、リードフレームの１本のインナーリードを
示し、内側が製品設計寸法のＣＡＤデータで、外側が経
験則に従って所定の補正代を一律に加算して作成した補
正データである。

【００７５】この例では、ファイルから読み出した補正
データ上に複数の検査ポイントをマーキングにより設定
する。この検査ポイントは、図中、Ａ〜Ｄの符号を付し
た各オリジナル頂点データ（補正データを作成する際に
設定してある座標データ）と、これら頂点データを基準
に設定されたその他の点データとで構成される。具体的
には、グループ１、グループ２のように図示したよう
に、例えばＣＣＤカメラ３４の１視野で規定される画像
処理エリアを単位にグループ化され、そのグループ内で
は線分エリアを等分割することにより自動設定されるよ
うになっている。

【００７６】又、ここでは、補正データ上の上記検査ポ
イントに対応する副検査ポイントを、ファイルから読み
出したＣＡＤデータ上に設定する。この副検査ポイント
は、図中、Ａ′〜Ｄ′の符号を付した、設計時に設定し
てある各オリジナル頂点データと、原則として、対応す
る検査ポイント（頂点データを除く）から最短距離の点
として１対１で設定する点データとで構成される。但
し、角部では、図１６（Ａ）に示すように、この原則が
成立しないため、同図（Ｂ）のように不均等な間隔（例
えば、均等な場合の１／２）の補間点として設定する。

【００７７】このように角部に対して不均等な間隔で行
う補間点の設定は、図１７に示す孔部の補正データのよ
うに、前記図１６の場合とはＣＡＤデータとの位置関係
が逆の場合には、補正データ上の検査ポイントに対して
も同様に行う。以上のようにして検査ポイント、副検査
ポイントが設定された補正データ、ＣＡＤデータは検査
ポイントファイルＰＮＴに格納される。

【００７８】前記ステップＳ５で、検査ポイント、副検
査ポイントのマーキングが終了した後、ＣＡＤデータ及
び補正データに、画像入力した試作品の現物パターン
を、それぞれアイランド中心を原点として一致させ、重
ね合せて照合し、その状態でエッチング代の自動測定と
補正パターンの自動発生を行い、仕上った補正パターン
をファイルに保存し、次回エッチング用の補正データと
する（ステップＳ６、７）。

【００７９】次に、ＣＡＤ装置（ワークステーション４
０）の内部で実行される上記ステップＳ６、Ｓ７の補正
パターンの発生と仕上の処理について、図１８、１９に
示したフローチャートに従って詳述する。

【００８０】まず、ステップＳ２１で、前述した各設定
ファイルＸＹ、ＡＦ、ＳＶ等から前記操作で格納したデ
ータ等の読み込みを行う。

【００８１】ここで読み込まれる各設定ファイル内容を
以下に例示する。 ファイルＸＹ ・試料直交度情報（水平２点、垂直２点） ・アイランド４辺の位置（アイランド中心） ファイルＳＶ ・入力カラープレーン番号 ・２値化閾値 ・モフォロジー方向と回数（＋：白〜黒、−：黒〜白） ファイルＡＦ（通常固定） ・視野単位実行か、固定フォーカスの選択 ・ＡＦモード（レンズ５種類に各２モード（１又は２Ｗ
ＡＹ）） ・ソフトリミット値（Ｚステージ上限、下限）

【００８２】なお、ファイルＳＶの内容でモフォロジ−
方向の＋は白い画像から黒点を除く場合、−は黒い画像
から白点を除く場合を意味する。又、ファイルＡＦの内
容で、「視野単位実行」は１回の画像撮り込み毎にオー
トフォーカスを実行することで、例えばリードフレーム
のように微小凹凸があるサンプルに適用し、固定フォー
カスはガラス原版のように平坦度が高いものに適用す
る。ソフトリミット値は、前記ステップ５で設定したリ
ミット値と同様で、オペレータがサンプルとレンズが衝
突しないように設定するＺステージの移動上限値や、必
要以上に下がらないようにするための下限値である。

【００８３】次いで、前記検査ポイントファイルＰＮＴ
から希望する１グループ分のデータを読み込む（ステッ
プ２２）。図２０は、このように読み込んだ、前記ステ
ップＳ５で検査ポイントを設定した補正データのみを表
示したＣＡＤ画面であり、図中Ｐ１、Ｐ２は、補正デー
タ上のインナーリード先端部を示している。ここでは、
リード先端部Ｐ２に、１、２、…ｎの数字で示した１グ
ループ分の検査ポイントが設定されている様子が示して
ある。なお、この図ではＣＡＤデータと、その上の副検
査ポイントは省略してある。

【００８４】次に、検査ポイント１〜ｎを算術平均する
ことにより、その重心を算出する（ステップＳ２３）。
なお、以下の説明では、ｘ，ｙは、アイランド中心を原
点としたＣＡＤ座標系、Ｘ，ＹはＸＹステージ上のステ
ージ座標系、Ｕ，Ｖはカメラの視野の水平方向と垂直方
向のそれぞれの寸法、ｕ，ｖはカメラの視野中心を原点
とした視野座標系をそれぞれ表わしている。

【００８５】まず、ＣＡＤ座標系で設定した前記検査ポ
イント１〜ｎの各点の座標（ｘ₁ ，ｙ₁ ）、（ｘ₂ ，ｙ
₂ ）、（ｘ₃ ，ｙ₃ ）、・・・（ｘ_n ，ｙ_n ）から検査
箇所の重心（ｘ_G ，ｙ_G ）を次の（４）、（５）式で求
める。

【００８６】 ｘ_G ＝（ｘ₁ ＋ｘ₂ ＋ｘ₃ ・・・＋ｘ_n ）／４ …（４） ｙ_G ＝（ｙ₁ ＋ｙ₂ ＋ｙ₃ ・・・＋ｙ_n ）／４ …（５）

【００８７】上記ステップＳ２３の重心算出の計算が終
わると、ステップＳ２４で、ワークステーションからの
指令によりＸＹステージコントローラ４８がＸＹステー
ジ４４を移動させて、上記重心（ｘ_G ，ｙ_G ）にカメラ
３４の視野中心を一致させる。その際、レーザスケール
カウンタ５２で実際に計測した実測位置（Ｘ、Ｙ座標値
にあたる）をワークステーション４０にフィードバック
して読み込む（ステップ２４）。

【００８８】次いで、ステップＳ２５で、上記カメラ設
定位置でワークステーション４０からの指令に基づいて
オートフォーカスコントローラ５０によりオートフォー
カスが実行される。

【００８９】その後、ワークステーション４０から画像
処理装置３６（ＳＶ）へ指令がなされ、画像処理装置３
６が起動して、ＣＣＤカメラ３４から該処理装置３６へ
画像フレームの入力が行われ、入力されたラスタ画像に
対する２値化と、不要な点を画像から除くモフォロジー
処理が行われて２値画像を生成する画像処理Ｉが実行さ
れる（ステップＳ２６）。

【００９０】図２１は、上記重心（ｘ_G ，ｙ_G ）に視野
中心が一致した状態で画像入力した現物パターンであ
り、カメラの視野寸法はＵ×Ｖである。このときの視野
中心にあたるステージ移動座標（Ｘ，Ｙ）は、アイラン
ド中心座標（Ｘｃ，Ｙｃ）を用いて、次の（６）式で与
えられる。

【００９１】 Ｘ＝Ｘｃ＋ｘ_G ，Ｙ＝Ｙｃ＋ｙ_G …（６）

【００９２】次いで、ＣＡＤ座標系の検査ポイント１〜
ｎの座標を、カメラの視野中心を原点として設定される
視野座標系に変換する（ステップＳ２７）。検査ポイン
ト１〜ｎの各点の視野座標系の座標を、（ｕ₁ ，
ｖ₁ ），（ｕ₂ ，ｖ₂ ），（ｕ₃ ，ｖ₃ ），・・・，
（ｕ_n ，ｖ_n ）とする。便宜上ここでは説明は省略する
が、ＣＡＤデータ上に設定されている副検査ポイントに
対しても同様の変換処理を行う。

【００９３】なお、実際の座標変換にあたっては、ステ
ージを移動させたときに誤差が生じている場合には、そ
の補正も同時に行われるようにする。即ち、ステージ移
動後、前記レーザースケールカウンタ５２で精密に座標
計測し、直交補正を行った結果、図２２に示すように、
前記（６）式に示したステージ上の中心座標（Ｘ，Ｙ）
が実際には（Ｘ′，Ｙ′）であったとすると、ＣＡＤ座
標系の上記検査ポイント１の座標（ｘ₁ ，ｙ₁ ）は、視
野座標系には、次の（７）、（８）式で変換することに
より、同時に補正することができる。なお、Ｍはカメラ
３４の水平方向の画素数、Ｎは垂直方向の画素数で、こ
こではＭ＝５１２、Ｎ＝４８０、Ｖ＝４９６ｍｍ、Ｖ＝
４６４ｍｍである。

【００９４】 ｕ₁ ＝（Ｍ／Ｕ）｛ｘ₁ −ｘ_G −（Ｘ′−Ｘ）｝＋Ｍ／２ …（７） ｖ₁ ＝−（Ｎ／Ｖ）｛ｙ₁ −ｙ_G −（Ｙ′−Ｙ）｝＋Ｎ／２ …（８） （Ｙ軸上下反転）

【００９５】（ｕ₂ ，ｖ₂ ），（ｕ₃ ，ｖ₃ ），・・
・，（ｕ_n ，ｖ_n ）の各座標は、上記（７）、（８）式
と同様の式により求めることができる。

【００９６】なお、上記（８）式のＹ軸上下反転は、一
般に、カメラでは画素系で上が原点であるのに、ＣＡＤ
座標系では下が原点にとってあるため、Ｙ軸方向には−
１倍して反転させていることを表わしている。

【００９７】次いで、ステップ２８で画像処理IIが実行
される。ここでは、前記ステップ２６で作成した２値画
像の中からリード部分に相当する閉領域（図２１では３
つ）を抽出し、各閉領域について重心を算出し、その中
で視野中心に最も近い重心を持つ閉領域（現物パターン
の非孔部）のみを選択しすることにより上記図２１中に
一部が表示されている上方と下方にある現物パターンを
除去し、選択された中央部の閉領域についてのみ輪郭抽
出を実行する。図２３は、このようにして抽出された閉
領域の輪郭を示したものである。

【００９８】なお、上記閉領域の重心は、画像処理装置
３６が有する重心計算用プロセッサを用いて、該閉領域
を構成する全ての黒点の平均値として算出される。但
し、輪郭線が求まっていれば、その線上の点の平均とし
て求めてもよい。

【００９９】次いで、ステップＳ２９で、画像処理III
して、検査ポイントと最端距離の閉領域上の対応点を算
出する。即ち、補正データ上の検査ポイントに相当する
視野座標系の１〜ｎのｎ点からの距離が最小となる輪郭
上の１′〜ｎ′を対応点として求め、各座標を
（ｕ₁ ′，ｖ₁ ′），（ｕ₂ ′，ｖ₂ ′），（ｕ₃ ′，
ｖ₃ ′），・・・，（ｕ_n ′，ｖ_n ′）とする。この計
算は、画像処理で自動的に実行することができる。

【０１００】次いで、上記１′〜ｎ′の各対応点の座標
を、視野座標系からＣＡＤ座標系へ逆変換する（ステッ
プ３０）。この逆変換は、（ｕ₁ ′，ｖ₁ ′）を
（ｘ₁ ′，ｙ₁ ′）に変換する場合であれば、前記
（７）、（８）式を変形した式に相当する次の（９）、
（１０）式で行うことができる。この他の（ｕ₂ ′，ｖ
₂ ′）〜（ｕ_n ′，ｖ_n ′）も同様の式で逆変換し、対
応する（ｘ₂ ′，ｙ₂ ′）〜（ｘ _n ′，ｙ_n ′）の各座
標を求めることができる。

【０１０１】 ｘ₁ ′＝（Ｕ／Ｍ）（ｕ₁ ′−Ｍ／２）＋ｘ_G ＋Ｘ′−Ｘ−Ｘｃ…（９） ｙ₁ ′＝（Ｖ／Ｎ）（Ｎ／２−ｖ₁ ′）＋ｙ_G ＋Ｙ′−Ｙ−Ｙｃ…（１０）

【０１０２】次いで、ＣＡＤ座標系でベクトル計算し、
補正ポイントを算出し、図２４に示すような補正パター
ンに対応する補正データを作成する（ステップＳ３
１）。

【０１０３】ここで、上記ステップＳ２９〜Ｓ３１迄の
処理で、本実施形態の特徴を、図２５〜図２７を参照し
ながら更に具体的に詳述する。即ち、図２５に、インナ
ーリード先端部分について、試作品の現物パターンと、
補正データ及びＣＡＤデータとを照合した状態を拡大し
て示したように（ＣＡＤデータ上の副検査ポイントのマ
ーカは省略してある）、補正データ上に設定した検査ポ
イントに対応する現物パターンの輪郭上の点をそれぞれ
求める。この輪郭上の対応点は、前述した如く検査ポイ
ントからの最短距離の点として自動算出される。次い
で、算出された輪郭上の点を始点とし、対応する検査ポ
イントを終点とするベクトルを発生させる。このベクト
ルがエッチング代に当る。

【０１０４】次いで、発生させたベクトルを、その始点
がＣＡＤデータ上の副検査ポイントに一致する位置に、
平行移動させる。これを、１本のベクトルの場合につい
て、概念的に示した図２６を用いて具体的に説明する。

【０１０５】予め設定されている補正データ上の１つの
検査ポイントがＸで、該Ｘに対応する輪郭上の点がＰで
あったとすると、Ｐを始点、Ｘを終点とするベクトルを
発生させ、次いで、該検査ポイントＸに対応して予め設
定されているＣＡＤデータ上の副検査ポイントＣに、始
点Ｐが一致する位置に、ベクトルＰＸを平行移動させ、
ベクトルＣＸ′とする。

【０１０６】このようなベクトルの発生と平行移動と
を、１グループ分の全ての検査ポイントについて実行
し、平行移動後の各ベクトルの終点を利用して、エッチ
ング補正パターンを作成する。

【０１０７】図２７は、このように修正して作成した１
グループ分の新たな補正データ（修正された補正パター
ン）を概念的に示した上記図２５に相当する図であり、
平行移動させたベクトルの終点を順次結んで形成される
パターンが修正された補正データに相当する。以上の操
作は、難しいパターン部分のみに実行し、簡単なパター
ン部分には従来と同様に経験則を適用し、両者を合成す
るようにしてもよい。

【０１０８】このように作成された１グループ分の新た
な補正データをファイルに格納し（ステップＳ３２）、
必要な全グループについて処理が完了していない場合
は、次のグループに移動し、前記ステップＳ２２〜Ｓ３
２と同様の操作を実行し、全グループについて処理が完
了した時点で、全データをＣＡＤ上で統合し、補正パタ
ーンを仕上げ、完成された補正データを次回補正データ
としてファイルに格納する（ステップＳ３３、Ｓ３
４）。

【０１０９】以上のようにして作成された補正データを
用いてエッチングした第２回目の試作品について算出さ
れたエッチング代から、公差内で目標の現物パターンが
得られたと判断される場合は、それを最終の補正データ
としてリードフレームの製造ラインに供給する。一方、
公差から外れている場合には、再度修正された新たな補
正データを自動発生させ、該補正データで再度の試作を
行い、同様の操作を繰り返す。

【０１１０】以上詳述した本実施形態によれば、経験則
に基づいて作成した補正パターン（補正データ）を用い
てエッチング加工した試作品から、エッチング代を自動
測定し、それを補正パターンに対して修正指示情報とし
て与えて実測値を反映させることにより、２回目以降で
適格な補正パターンを作成することができる。

【０１１１】従って、２回目以降の試作品のエッチング
加工は、客観的なデータに基づく補正パターンを用いて
行うことができるので、試行錯誤を繰り返すことが無く
なり、納期遅延を防止できる。

【０１１２】又、未熟なパターン設計者でも、２回目以
降の補正データの作成をエキスパート並みの精度で行う
ことができる。又、エッチングラインに起因する、ＸＹ
方向のエッチングの偏りやムラ等の、予測できない誤差
も補正できるため、経験則を超えた高精度な補正を自動
的に行うことができる。

【０１１３】更に、パターン設計者が新たな補正パター
ンを考案する際、同種形状について補正データを作成し
た実績があれば、それを参考データとして使用できるた
め、経験則に基づく新規パターンの設計にも応用するこ
とができる。

【０１１４】次に、本発明に係る第２実施形態について
説明する。

【０１１５】本実施形態は、請求項４に係る一具体例で
あり、副検査ポイントを設定せず、発生させたベクトル
を、その始点が、該輪郭上の点と対応する検査ポイント
とを通る直線がＣＡＤデータと交差する点（検査ポイン
ト）に一致する位置に、平行移動させるようにした以外
は、前記第１実施形態と実質的に同一である。

【０１１６】本実施形態においては、前記図１５（Ｂ）
に示したように、補正データにのみ検査ポイントを設定
する。前記図２５の場合と同様に、検査ポイントに対応
する輪郭上の点が求められたら、前記図２６に相当する
図２８に示すように、ベクトルＰＸとＣＡＤデータとの
交点Ｎを新たな検査ポイントとして設定し、該交点Ｎ
に、その始点Ｐが一致する位置に、該ベクトルを平行移
動させてベクトルＮＸ′とし、該ベクトルの終点Ｘ′を
補正データとして利用する。なお、図２８では便宜上、
ベクトルＰＸとベクトルＮＸ′をずらして表示してあ
る。図２９は、この操作を前記図２５に示した全ての検
査ポイントに施した結果を示した、前記図２７に相当す
る図である。

【０１１７】次に、本発明に係る第３実施形態について
説明する。

【０１１８】本実施形態は、請求項３に係る他の具体例
であり、前記第１実施形態とは逆に、ＣＡＤデータ上に
１グループ分の複数の検査ポイントを、補正データ上に
該検査ポイントに対応する副検査ポイントを、それぞれ
ポイントマーカで設定すると共に、算出された輪郭上の
点を始点とし、検査ポイントに対応する補正データ上の
副検査ポイントを終点とするベクトルを発生させ、該ベ
クトルを、その始点が上記検査ポイントに一致する位置
に、平行移動させるようにした以外は、前記第１実施形
態と実質的に同一である。

【０１１９】本実施形態においては、図３０に示すよう
に、ＣＡＤデータ上に検査ポイントを設定し、該検査ポ
イントに対応する最短距離の輪郭上の点を算出する。こ
れは設計パターンと現物との差であるエッチング誤差を
求めていることに当る。

【０１２０】次いで、輪郭上の点を始点とし、補正デー
タ上に設定されている、対応する副検査ポイント（同図
には省略してある）を終点とするベクトルを発生させ、
このベクトルを、その始点がＣＡＤデータ上の検査ポイ
ントに一致する位置に平行移動させ、そのときのベクト
ルの終点を新たな補正データとして利用する。

【０１２１】これを、１つの検査ポイントについて図３
１を用いて具体的に説明すると、予め設定されているＣ
ＡＤデータ上の検査ポイントＣから最短距離にある輪郭
上の点Ｐを算出する。次いで、点Ｐを始点とし、検査ポ
イントＣに対応して予め設定されている補正データ上の
副検査ポイントＸを終点とするベクトルを発生させる。
その後、始点Ｐが検査ポイントに一致する位置に、ベク
トルＰＸを平行移動させ、ベクトルＣＸ′とし、その終
点Ｘ′を新たな補正データにする。

【０１２２】同様の操作を、上記図３０の全ての検査ポ
イントに対して施した結果を概念的に示したのが図３２
であり、平行移動させた各ベクトルの終点を直線で結ん
だパターンが新たな補正データに相当する。

【０１２３】次に、本発明に係る第４実施形態について
説明する。

【０１２４】本実施形態は、請求項４に係る他の具体例
であり、補正データ上に副検査ポイントを設定せず、Ｃ
ＡＤデータ上に設定した検査ポイントに対応する輪郭上
の点を始点とし、輪郭上の点と検査ポイントとを通る直
線が補正データと交差する点（検査ポイント）を終点と
するベクトルを発生させると共に、該ベクトルを、その
始点がＣＡＤデータ上の上記検査ポイントに一致する位
置に平行移動させるようにした以外は、前記第３実施形
態と実質的に同一である。

【０１２５】本実施形態においては、前記図３０の場合
と同様に、検査ポイントに対応する輪郭上の点が求めら
れたら、前記図３１に相当する図３３に示すように、点
ＰとＣを通る直線と補正データとの交点Ｎを新たな検査
ポイントとして求め、Ｐを始点、Ｎを終点とするベクト
ルを発生させる。次いで、このベクトルＰＮを、その始
点Ｐが検査ポイントＣに一致する位置に平行移動させて
ベクトルＣＸ′とし、該ベクトルの終点Ｘ′を新たな補
正データとして利用する。図３４は、この操作を全ての
検査ポイントに施した結果を示した、前記図３２に相当
する図である。

【０１２６】以上、本発明について具体的に説明した
が、本発明は、前記実施形態に示したものに限られるも
のでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
ある。

【０１２７】例えば、検査ポイントに対応する輪郭上の
点を、最短距離の点として求める場合を示したが、検査
ポイントを通る直線が輪郭と直交する点として求めても
よい。

【０１２８】又、検査ポイントは、グループ毎に等分割
して設定する方法に限らず、図３５に示すように、グル
ープ化された範囲でも、設定するピッチを変化させ、例
えば角部に近いほど細かいピッチにし、完全にフラット
な部分には大きなピッチにし、場合によっては検査ポイ
ントを設定しないようにしてもよい。この場合、設定し
た一番内側の点同士をつなげるようにすればよい。

【０１２９】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
特別な経験がない者でも、高精度なエッチング補正パタ
ーンを、簡単に作成できると共に、その作成作業を自動
化することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る第１実施形態のＣＡＤシステムの
概略構成を示すブロック図

【図２】ＣＡＤシステムのサンプル装着装置、顕微鏡、
ＣＣＤカメラを示す斜示図

【図３】ＣＡＤシステムの画像処理装置が有するフレー
ムメモリと、処理機能を示すブロック図

【図４】サンプル別の最適入力プレーンを求めて示す図
表

【図５】実施形態の作用の概要を示すフローチャート

【図６】画像処理条件の設定の処理手順を示すフローチ
ャート

【図７】カメラとＸＹステージの直交調整時のモニタ画
面を示す説明図

【図８】画素当りの寸法と画面送りピッチの算出時のモ
ニタ画面を示す説明図

【図９】サンプルとＸＹステージの直交調整時のモニタ
画面を示す説明図

【図１０】試料の直交補正方法を示す説明図

【図１１】ＣＡＤシステムのメニュー画面を例示する説
明図

【図１２】ＣＡＤシステムのメニュー画面を例示する他
の説明図

【図１３】ＣＡＤシステムのメニュー画面を例示する更
に他の説明図

【図１４】アイランドの中心指定の方法の一例を示す説
明図

【図１５】検査ポイントのマーキング方法を示す説明図

【図１６】角部の検査ポイントのマーキング方法を示す
説明図

【図１７】角部の検査ポイントのマーキング方法を示す
他の説明図

【図１８】２回目の補正データの作成手順を示すフロー
チャート

【図１９】２回目の補正データの作成手順を示す他のフ
ローチャート

【図２０】検査ポイントの設定方法を示す説明図

【図２１】対象箇所を画像入力した状態を示す説明図

【図２２】ＣＡＤ座標系を視野座標系に変換する方法を
示す説明図

【図２３】閉領域の選択と最短距離点の決定方法を示す
説明図

【図２４】新たな補正データに対応する補正パターンを
発生させた状態を示す説明図

【図２５】エッチング代の測定原理を示す説明図

【図２６】第１実施形態による補正データの発生方法を
模式的に示す説明図

【図２７】第１実施形態により作成された補正データを
示す説明図

【図２８】第２実施形態による補正データの発生方法を
模式的に示す説明図

【図２９】第２実施形態により作成された補正データを
示す説明図

【図３０】エッチング誤差の測定方法を示す説明図

【図３１】第３実施形態による補正データの発生方法を
模式的に示す説明図

【図３２】第３実施形態により作成された補正データを
示す説明図

【図３３】第４実施形態による補正データの発生方法を
模式的に示す説明図

【図３４】第４実施形態により作成された補正データを
示す説明図

【図３５】検査ポイント設定の変形例を示す説明図

【図３６】リードフームの一例を示す説明図

【図３７】リードフレームの製造過程を概念的に示す説
明図

【符号の説明】 ３０…サンプル装着装置 ３２…光学顕微鏡 ３４…ＣＣＤカメラ ３６…画像処理装置 ３８…ＴＶモニタ ４０…ワークステーション（ＥＷＳ） ４２…回転ステージ ４４…ＸＹステージ ４４Ａ…Ｘステージ ４４Ｂ…Ｙステージ ４６…Ｚステージ ４８…ＸＹステージコントローラ ５０…オートフォーカスコントローラ ５２…レーザスケールカウンタ ５４Ａ…Ｘ駆動モータ ５４Ｂ…Ｙ駆動モータ ５４Ｃ…Ｚ駆動モータ ５６Ａ、５６Ｂ…スケールパターン ５８Ａ…Ｘ位置検出器 ５８Ｂ…Ｙ位置検出器 ６０…透過光源ユニット ６０Ａ…透過光源スイッチ ６０Ｂ…光量調整ボリューム ６２…落射光源ユニット ６２Ａ…落射光源スイッチ ６２Ｂ…光量調整ボリューム

フロントページの続き (72)発明者 飯沼 輝明 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 山地 正高 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 渡辺 智 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 平５−66550（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−175392（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−266136（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−240148（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 23/50 C23F 1/00 102 G06F 17/50

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】製品設計寸法パターンのＣＡＤデータに補
   正代を加算して、レジストパターンの原型となる補正デ
   ータを作成する手段と、 該補正データを原型とするレジストパターンをマスク
   に、エッチング加工して作成された現物パターンを画像
   入力する手段と、 入力された現物パターンの画像データと、ＣＡＤデータ
   及び補正データとを、対応する基準点を一致させて重ね
   合せて照合する手段と、 照合状態下で、ＣＡＤデータ上又は補正データ上に設定
   されている検査ポイントに対応する現物パターンの画像
   データの輪郭上の点を算出する手段と、 算出された輪郭上の点を始点とし、対応する補正データ
   上の検査ポイントを終点とするベクトルを発生させる手
   段と、 発生させたベクトルを、その始点が対応するＣＡＤデー
   タ上の検査ポイントに一致する位置に、平行移動させる
   手段と、 平行移動後の各ベクトルの終点を利用して、次回レジス
   トパターン作成用の新たな補正データを作成する手段
   と、を備えていることを特徴とするエッチング補正パタ
   ーン作成装置。
2. 【請求項２】請求項１において、 ＣＡＤデータ上又は補正データ上の検査ポイントが、各
   オリジナル頂点データ、及びそれらを基準に設定された
   点データの少なくとも一方であることを特徴とするエッ
   チング補正パターン作成装置。
3. 【請求項３】請求項１において、 ＣＡＤデータ上の検査ポイント及び補正データ上の検査
   ポイントが、各オリジナル頂点データ、及びそれらを基
   準にそれぞれ１対１に対応付けて設定された点データの
   少なくとも一方であることを特徴とするエッチング補正
   パターン作成装置。
4. 【請求項４】請求項１又は２において、 ＣＡＤデータ上又は補正データ上のどちらか一方の検査
   ポイントが、他方の検査ポイントと、それに対応して算
   出された輪郭上の点とを通る直線が、同補正データ又は
   同ＣＡＤデータと交差する点として算出された点データ
   であることを特徴とするエッチング補正パターン作成装
   置。
5. 【請求項５】請求項３において、 １対１に対応付けて設定される検査ポイントが、原則と
   して他方の検査ポイントから最短距離の点として選択さ
   れるようになされていることを特徴とするエッチング補
   正パターン作成装置。
6. 【請求項６】請求項１において、 検査ポイントに対応する現物パターンの輪郭上の点が、
   該検査ポイントから最短距離の点、又は該検査ポイント
   を通る直線が輪郭と直交する点として算出されるように
   なされていることを特徴とするエッチング補正パターン
   作成装置。