JP3377347B2 - 基板の周辺部露光装置 - Google Patents

基板の周辺部露光装置

Info

Publication number
JP3377347B2
JP3377347B2 JP28683095A JP28683095A JP3377347B2 JP 3377347 B2 JP3377347 B2 JP 3377347B2 JP 28683095 A JP28683095 A JP 28683095A JP 28683095 A JP28683095 A JP 28683095A JP 3377347 B2 JP3377347 B2 JP 3377347B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
electrode
exposure lamp
light source
source unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP28683095A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09102455A (ja
Inventor
幸彦 稲垣
滋 笹田
守行 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK, Screen Holdings Co Ltd, Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP28683095A priority Critical patent/JP3377347B2/ja
Priority to KR1019960041228A priority patent/KR100216110B1/ko
Publication of JPH09102455A publication Critical patent/JPH09102455A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3377347B2 publication Critical patent/JP3377347B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • G03F7/2026Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure for the removal of unwanted material, e.g. image or background correction
    • G03F7/2028Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure for the removal of unwanted material, e.g. image or background correction of an edge bead on wafers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Fastening Of Light Sources Or Lamp Holders (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
  • Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板を処理の対象とし、
表面にフォトレジスト被膜が形成された基板の周辺部に
露光ビームを照射する基板の周辺部露光装置に係り、特
に露光ビーム用の光源部に含まれる露光用ランプの取り
付け技術に関する。 【0002】 【従来の技術】フォトレジスト被膜が形成された基板、
例えば半導体ウエハ(以下、ウエハと称する)を取り扱
う際に、ウエハの周辺部のフォトレジスト被膜がウエハ
収納具(ウエハキャリア)や処理装置等に触れて付着し
たり飛散することにより、ウエハキャリアや処理装置等
を汚染したり、あるいは自身の表面に付着したり他のウ
エハに付着して汚染する恐れがあることは周知の通りで
ある。そこで、フォトレジスト、特にポジ型のフォトレ
ジスト液が塗布されて形成されたフォトレジスト被膜に
所定のパターンを形成する前、あるいは形成した後にウ
エハの周辺部を露光して、その部分のフォトレジスト被
膜だけを除去するようにしている。 【0003】このような処理を行なう装置が基板の周辺
部露光装置であり、この種の装置は、主としてウエハの
周辺部に対して露光ビームを照射して露光処理を施す露
光処理部と、露光用ランプを含む露光ビーム用の光源部
とから構成されている。ここで図8を参照して光源部1
0について説明する。なお、この図は、光源部10の要
部を示す平面図である。 【0004】図中、符号11は、図示しない電源部の上
部に立設されたベースであり、このベース11の一端側
には支柱12を介して反射鏡13が取り付けられてい
る。反射鏡13の中央部付近に形成されている開口部1
3aには、露光用ランプ15が挿通されている。露光用
ランプ15は両端部に一対の端部電極15a,15bを
有し、その一方の端部電極15aはベース11を貫通し
てフランジ17に固着されている。一方の端部電極15
aは、反射鏡13により光が照射される光照射側Aの反
対側Bにある第1の電極21に接続されている。他方の
端部電極15bは、矢型チップを片端に有する配線22
によって、第2の電極23に接続されている。上記第1
の電極21および第2の電極23は、露光用ランプ15
に電力を供給する図示しない電源部に接続されている。 【0005】このように構成された光源部10は、光照
射側Aに露光用ランプ15の光を照射し、その方向に配
設されている光ファイバ等の光伝達手段を介して、図示
しない露光処理部のレンズユニットに露光ビーム用の光
を導出するようになっている。また、光源部10は、例
えば、装置の前面開口部から、光源部10の光照射側A
部分を先頭にして挿入され、反対側Bを装置の前面開口
部側に向けた状態で装置に取り付けられている。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】ところで、光源部10
の露光ランプ15は、当然のことながら時間が経過する
につれてその光度が低下し、ある一定の光度にまで低下
した時点で交換する必要がある。その交換時点、すなわ
ち寿命は、一般的に1000時間程度であり、装置を2
4時間稼働させる場合には、1000〔時間〕/24
〔時間/日〕=41.6日となって2か月に一度は露光
用ランプ15を交換する必要がある。また、露光用ラン
プ15の寿命は、上記のとおりであるが、装置としては
安全をみて600時間程度を交換の目安としており、こ
の場合には600〔時間〕/24〔時間/日〕=25日
となって約1か月に一度は露光用ランプ15を交換する
必要がある。 【0007】しかしながら、露光用ランプ15を交換す
るためには、まず、光源部10を装置内から引き出して
ネジ17aを取り外し、第2の電極23を外し、配線2
2を延ばし、次いで、露光用ランプ15を光照射側A方
向から取り外すという複雑な作業を伴い、ランプ交換に
時間がかかるという問題点がある。このように複雑な交
換作業によりランプ交換に時間を要することにより、装
置の稼働率が低下するという問題点がある。さらに、光
源部10を装置内から引き出す際には、光源部10が装
置内部と摺動するので、この部分からクリーンルームに
は大敵であるパーティクルが発生するという問題点があ
る。 【0008】また、このようなパーティクルの発生を防
止するために光源部10を装置から引き出すことなく露
光用ランプ15を交換できるようにするためには、装置
の光源部10を取り付けた部分に上記の交換作業のため
の空間、具体的には、作業者の手が入る空間であって、
かつ、光照射側A方向に配線22、露光用ランプ15を
とりまわせるだけの充分な空間を設ける必要がある。し
かし、最近の半導体業界においては、回転式塗布装置
(いわゆるスピンコータ)や回転式現像装置(いわゆる
スピンデベロッパ)などの複数個の異なる処理部を備え
たプロセス装置が用いられることが多いが、プロセス装
置において基板の周辺部露光装置に割り当てることがで
きるスペースは非常に小さく、上記の空間を装置に設け
ることは物理的に困難になってきている。 【0009】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、露光用ランプの交換に伴うパーティク
ルの発生を抑制しつつも、迅速かつ容易に露光用ランプ
の交換を行なうことができる基板の周辺部露光装置を提
供することを目的とする。 【0010】 【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、本発明に係る基板の周辺部露光装置は、表面にフォ
トレジスト被膜が形成された基板の周辺部に対して露光
ビームを照射する露光処理部と、両端部に一対の端部電
極を有する露光用ランプを含む前記露光ビーム用の光源
部とを備えるとともに、前記光源部は、前記露光用ラン
プの一方の端部電極に接続される、光照射側の反対側に
ある第1の電極と、前記露光用ランプの他方の端部電極
に接続される、光照射側にある第2の電極とを介して前
記露光用ランプに電力供給を行なうように構成されてい
る基板の周辺部露光装置において、前記光源部は、その
第2の電極と、前記露光用ランプの他方の端部電極とを
着脱自在に接続する連結機構を有するとともに、前記第
1の電極側に開閉扉を有し、この開閉扉を開放した際の
開口を通して前記露光用ランプを挿抜可能に構成されて
いることを特徴とするものである。 【0011】 【作用】本発明の作用は次のとおりである。すなわち、
光源部は、光照射側にある第2の電極と、露光用ランプ
の他方の端部電極とを着脱自在に接続する連結機構を有
しているので、光照射側に位置する露光用ランプの他方
の端部電極の接続を容易に解除することができる。ま
た、露光用ランプの一方の端部電極は開放扉側にあり、
その開口を通して容易に第1の電極から取り外すことが
できる。このようにして取り外された露光用ランプは、
第1の電極側にある開放扉を開放した際の開口を通して
外部に取り出される。 【0012】新たな露光用ランプは、その開口を通して
光源部に挿入されるが、連結機構によりその他方の端部
電極と光源部の第2の電極とを容易に接続することがで
き、一方の端部電極を開口を通して容易に接続すること
ができる。このように光源部を引き出すことなく露光用
ランプを交換することができるとともに、その一対の端
部電極の接続を容易に行なうことができる。 【0013】 【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図1を参照して、本発明に係る基板
の周辺部露光装置について説明する。なお、この図は、
実施例装置の外観を示す斜視図である。 【0014】図中、符号1は基板の周辺部露光装置であ
り、この装置は図示しない、熱処理装置、回転式塗布装
置、露光装置、回転式現像装置などの複数個の処理装置
から構成される半導体プロセス装置に取り付けられてい
るものである。 【0015】この装置1の上部には、表面にフォトレジ
スト被膜が形成された基板の周辺部に対して露光ビーム
を照射する露光処理部2が配設され、下部には露光処理
部2に対して露光ビームを供給するための光源部10が
配設されている。 【0016】まず、露光処理部2の概略構成について図
2の斜視図を参照して説明する。図中、二点鎖線でその
形状を示した符号Wは、その表面にフォトレジスト被膜
を形成された基板であり、この基板Wは回転可能に配設
された吸引式スピンチャック2aによって吸着支持され
る。吸引式スピンチャック2aは、θ軸モータ2bによ
って回転駆動されるようになっている。 【0017】ウエハWの端部付近には、ウエハWの周縁
部の位置を検出するためのエッジセンサ2dが立設され
ており、ウエハWの回転位置決めおよび検出された偏心
量に基づいて、露光ビームの照射位置を回転中心方向に
ずらすことにより基板Wの周縁部から均等な幅を有する
領域を露光することができるようになっている。 【0018】奥側には、それぞれ直交する3方向に移動
可能に構成された移動ステージ3が配設されている。こ
の移動ステージ3は、Lの字状を呈した移動部材3a
と、その移動部材3aの下面に配設されたガイドレール
と、移動部材3aをガイドレールに沿って移動させるた
めのY軸モータ3bとにより構成されている。移動部材
3aは、Y軸モータ3bによりY軸方向に沿って移動さ
れる。 【0019】移動部材3aの立設された部分には、ベー
ス4が、ガイドレール4dに沿ってX軸方向に沿って移
動可能に配設されている。ベース4は、X軸モータ4a
の回転を駆動ベルトにより伝達されて移動するようにな
っている。このX軸方向への移動は、半導体ウエハなど
のように基板Wの円弧の一部分に直線的に形成されたオ
リエンテーション・フラットの露光を行なうために行な
われるものである。さらにベース4には、光ファイバ4
bを介して光源部10からの光を露光ビームとして基板
Wに照射するためのレンズユニット4c(Z方向に移動
可能)が取り付けられている。 【0020】図1に戻る。光源部10は、その前面に開
口10aを形成されており、この開口10aには開閉自
在の開閉扉10bが配設されている。光源部10の下部
には、光源部10に電力供給を行なうための電源部20
が配設されており、その前面には光源部10の累積使用
時間などを表示するための表示部20aが配設されてい
る。 【0021】次に、図3および図4を参照して光源部1
0について説明する。なお、図3は光源部10の概略構
成を示す平面図であり、図4はその連結機構を示す図で
ある。電源部20の上面にはベース11が取り付けら
れ、このベース11の一端側には支柱12を介して反射
鏡13が取り付けられている。反射鏡13の中央部付近
に形成された開口部13aには、例えば、HgXe(水
銀・キセノン)ランプなどの露光用ランプ15の一端側
が挿通されている。露光用ランプ15は、その両端部に
一対の端部電極15a,15bを有しており、このうち
一方の端部電極15aは、ベース開口11aを通ってフ
ランジ17に嵌め込まれているとともにフランジ17に
固着されている。フランジ17は、その周辺部の3箇所
を固定ネジ17aにより固定されてベース11に取り付
けられている。また、フランジ17には、バナナプラグ
17bが配設されており、このバナナプラグ17bを介
して一方の端部電極15aは電源部20に接続されてい
る。なお、バナナプラグ17bは、本発明における第1
の電極に相当する。 【0022】露光用ランプ15から放射された光は、反
射鏡13によりA側(光照射側A)に収束されて放射さ
れる。露光用ランプ15の他方の端部電極15bは、そ
の雄ネジ部15b1 に、バナナプラグ19aの雌ネジ部
19a1 が螺合されている。バナナプラグ19aは、雌
ネジ部19a1 の反対側に、その短軸方向に弾性を有す
るバナナチップ19a2 を有する。 【0023】バナナプラグ19aは、その先端部のバナ
ナチップ19a2 が、ジャック19bに圧入されるよう
になっている。ジャック19bは、その先端部が薄板状
の金属からなる第2の電極23に溶着されており、反射
鏡13の鍔部分に配設されたターミナル24を介して電
源部20に電気的に接続されている。なお、上述したバ
ナナプラグ19aとジャック19bとは、連結機構19
を構成している。 【0024】ジャック19bは、図5の断面図に示すよ
うに、バナナプラグ19aのバナナチップ19a2 が容
易に挿入されるような構造を呈している。詳細に説明す
ると、バナナチップ19a2 の最大外径よりもやや小さ
な内径を有し、バナナチップ19a2 の外周部と電気的
に接続される接触部19b1 と、バナナチップ19a2
が進入してくる際にその案内作用をする、接触部19b
1 から進入側に向けて次第に内径が大きくなるように傾
斜面を形成されてなる案内部19b2 とを有する。した
がって、バナナプラグ19aの進入位置が多少ずれた場
合でも、そのバナナチップ19a2 は確実にジャック1
9bの接触部19b1 に圧入されるように構成されてい
る。 【0025】上記のように構成されている光源部10
は、図1に示すように、電源部20の上面に配設され
て、その光照射側Aを奥側に、その反対側Bを装置の前
面に向けるようにして基板の周辺部露光装置1に取り付
けられている。なお、光源部10の光照射側Aには、図
示しないシャッターやフィルタを介して露光処理部2の
光ファイバ4b(図2参照)の他端部が配設されてい
る。 【0026】次に、露光用ランプ15の交換作業につい
て、図6の分解図を参照して説明する。なお、以下の作
業は、露光用ランプ15のガラス面に、手の油脂を付着
させることがないように手袋をはめて行なうのが好まし
い。これは、露光用ランプ15は内部には高圧がかかる
ため、油脂の付着によりガラス面の温度分布が不均一と
なってガラスが破損するのを防止するためである。 【0027】まず、作業者は、電源部20の前面に配設
されている表示部20a(図1参照)を見て、累積使用
時間が予め規定されている寿命に基づく交換時間に達し
ているか否かを判断する。その結果、交換時間に到達し
ている場合には、露光用ランプ15の交換を行なうが、
その前に電源部20の図示しない電源スイッチをオフに
する。 【0028】まず、図1に示すように、作業者は開閉扉
10bを装置の前面側に開放する。この開閉扉10bを
開放すると、その開口10aには光源部10の光照射側
Aの反対側Bが露出した状態となる。次いで、この反対
側Bの、ベース11に取り付けられているバナナプラグ
17bを引抜き、さらに3本の固定ネジ17aを取り外
す。そして、フランジ17の外周部を把持して手前側に
引く。すると、光照射側Aにある連結機構19が開放さ
れて、フランジ17には露光用ランプ15が固定された
状態で開口10aを通って取り出される。 【0029】そして、新たな露光用ランプ15を用意す
る。なお、新たな露光用ランプ15の他方の端部電極1
5bには、既に、バナナプラグ19aが取り付けられて
いるものとする。フランジ17の外周部を把持し、他方
の端部電極15bを開口10aおよびベース開口11
a、反射鏡13の開口部13aを通して挿入する。する
と、バナナプラグ19aがジャック19bの案内部19
2 によって案内されて、確実にそのバナナチップ19
2 が接触部19b1 に圧入される。このとき多少バナ
ナプラグ19aの進入軸がずれたとしても、案内部19
2 に案内されるように構成されているので、連結機構
19は確実に機能して他方の端部電極15bは第2の電
極23に確実に接続される。 【0030】この連結機構19によって、露光用ランプ
15の他方の端部電極15bが第2の電極23に電気的
に接続されたことを確認した後、フランジ17を3本の
固定ネジ17aによってベース11に取り付ける。そし
て、バナナプラグ17bを取り付けた後に開閉扉10b
を閉じて、電源部20の電源をオンにする。この電源を
オンにしてから、露光用ランプ15の発光安定時間経過
後、例えば、15分後から基板の周辺部露光装置1によ
る露光処理を再開することができる。 【0031】このように露光用ランプ15は、開口10
aを通してその一方の端部電極15aの、バナナプラグ
17b(第1の電極)からの取り外し、および取り付け
が容易にでき、また、光照射側Aの連結機構19によっ
て、他方の端部電極15bを第2の電極23から容易に
取り外し、および容易に取り付けることができるので、
図8に示した従来例のように、装置の奥側(光照射側
A)にある配線22などを取り外すような煩雑な作業を
行なう必要がなく、迅速にかつ容易に露光用ランプ15
を取り外し、および取り付けること、つまり露光用ラン
プ15の交換を迅速かつ容易に行なうことができる。こ
の交換作業を迅速に行なうことができることにより、基
板の周辺部露光装置1の停止時間を少なくすることがで
きるので、装置の稼働率を向上させることができる。 【0032】さらに、露光用ランプ15の交換作業にお
いて、光源部10を装置から取り出す必要がないので、
それを取り出すことに起因するパーティクルの発生を抑
制することができる。また、交換作業に必要な空間を非
常に小さくできるので、複数個の処理部を備えているプ
ロセス装置においては、その中での占有スペースを小さ
くすることができ、プロセス装置内におけるレイアウト
の自由度を高めることができる。したがって、周辺部露
光装置が他の処理部によって囲われるような構成となっ
た場合においても、露光用ランプ15の交換作業に支障
をきたすようなことがない。 【0033】上記の実施例においては、連結機構19の
ジャック19bに案内部19b2 を形成しておくことに
より、新たな露光用ランプ15を挿入した際の進入軸の
ずれをある程度吸収できるようにしているが、さらに、
図7に示すように、露光用ランプ15の進入時の軸ずれ
を極力小さくできるような構成を付加するようにしても
よい。 【0034】すなわち、フランジ17には、そのベース
11側に少なくとも2本のガイド軸30を突出形成させ
ておくとともに、ベース11の、ガイド軸30に対応す
る位置には、ガイド軸30の外径よりも僅かに大きな内
径を有するガイド孔35を形成しておく。そして、新た
な露光用ランプ15をフランジ17に取り付けた後、ガ
イド軸30をガイド孔35内に挿入しつつ、フランジ1
7を押し込むことにより進入軸のずれを抑制することが
できる。これにより新たな露光用ランプ15の挿入時に
進入軸がずれて連結機構19が機能しないことを防止す
ることができる。また、露光用ランプ15は上述したよ
うに高圧となるので、油脂のほかに、微小な傷がついて
もガラスが破損に至る場合があるが、このように進入軸
のずれを抑制することにより、露光用ランプ15の中間
付近にある球状部がベース開口11aや反射鏡13の開
口13aに接触して、これに起因して露光用ランプ15
が破損するような不都合を回避することができる。すな
わち、交換作業を確実に行なうことが可能になる。な
お、上記のガイド軸30およびガイド孔35には、パー
ティクルの発生を抑制するため、およびスムーズに挿入
できるように、表面処理を施しておくのが好ましい。 【0035】なお、上記の実施例では、連結機構19
を、バナナプラグ19aおよびジャック19bによって
構成したが、本発明はこの構成に限定されるものではな
く、着脱自在の連結機構であれば種々の変形実施が可能
である。例えば、バナナプラグ19aに代えてピンプラ
グを採用し、ジャック19bの接触部19b1 にピンプ
ラグの挿抜時に抵抗を与えるための弾性部材を設けるよ
うにしてもよい。 【0036】また、上記の実施例では、光源部10の光
照射側Aを装置の奥側に、反対側Bを装置の手前側にし
て取り付けるように構成されている装置を例に採って説
明したが、例えば、光照射側Aを装置の上側(または下
側)にして、反対側Bを装置の下側(または上側)に取
り付けるような装置においても適用可能である。このよ
うな場合においても、開閉扉を反対側Bに設けることに
より、露光用ランプを下側(または上側)から挿抜する
ことができて、上記と同様の効果を奏することが可能で
ある。 【0037】 【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、連結機構により光照射側に位置する露光用ラ
ンプの他方の端部電極と第2の電極との接続/解除を迅
速かつ容易にすることができるとともに、露光用ランプ
の一方の端部電極と第1の電極との接続/解除を、開閉
扉の開口を通して容易に行なうことができ、前記開口を
通して露光用ランプを挿抜することができる。したがっ
て光源部を引き出す必要がないので、パーティクルの発
生を抑制できて、露光用ランプを迅速かつ容易に交換す
ることができる。その結果、交換作業に伴う装置の停止
時間を少なくすることができて、装置稼働率を高めるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】実施例に係る基板の周辺部露光装置の概略構成
を示す外観斜視図である。 【図2】露光処理部を示す斜視図である。 【図3】実施例に係る光源部を示す平面図である。 【図4】実施例に係る連結機構を示す図である。 【図5】連結機構の一部をなすジャックの縦断面図であ
る。 【図6】露光用ランプの交換時の説明に供する図であ
る。 【図7】光源部の変形例を示す図である。 【図8】従来例に係る装置の光源部を示す平面図であ
る。 【符号の説明】 1 … 基板の周辺部露光装置 2 … 露光処理部 10 … 光源部 10a … 開口 10b … 開閉扉 11 … ベース 13 … 反射鏡 15 … 露光用ランプ 15a,15b … 一方および他方の端部電極 17 … フランジ 17b … バナナプラグ(第1の電極) 19 … 連結機構 19a … バナナプラグ 19b … ジャック 23 … 第2の電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI F21M 1/00 (72)発明者 笹田 滋 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大日本スクリーン製造株式会社 洛西事 業所内 (72)発明者 伊藤 守行 静岡県磐田郡豊岡村下神増314番地の5 浜松ホトニクス株式会社 豊岡製作所 内 (56)参考文献 特開 平6−250060(JP,A) 特開 平6−168602(JP,A) 特開 平7−182915(JP,A) 実開 平6−70229(JP,U) 実開 平2−42311(JP,U) 実開 平7−34361(JP,U) 実開 昭63−99601(JP,U) 実開 平3−22311(JP,U) 実開 平3−29933(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 F21S 2/00 F21V 19/00 F21M 1/00 G03F 7/20

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 表面にフォトレジスト被膜が形成された
    基板の周辺部に対して露光ビームを照射する露光処理部
    と、両端部に一対の端部電極を有する露光用ランプを含
    む前記露光ビーム用の光源部とを備えるとともに、前記
    光源部は、前記露光用ランプの一方の端部電極に接続さ
    れる、光照射側の反対側にある第1の電極と、前記露光
    用ランプの他方の端部電極に接続される、光照射側にあ
    る第2の電極とを介して前記露光用ランプに電力供給を
    行なうように構成されている基板の周辺部露光装置にお
    いて、 前記光源部は、その第2の電極と、前記露光用ランプの
    他方の端部電極とを着脱自在に接続する連結機構を有す
    るとともに、前記第1の電極側に開閉扉を有し、この開
    閉扉を開放した際の開口を通して前記露光用ランプを挿
    抜可能に構成されていることを特徴とする基板の周辺部
    露光装置。
JP28683095A 1995-10-05 1995-10-05 基板の周辺部露光装置 Expired - Lifetime JP3377347B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28683095A JP3377347B2 (ja) 1995-10-05 1995-10-05 基板の周辺部露光装置
KR1019960041228A KR100216110B1 (ko) 1995-10-05 1996-09-20 기판의 주변부 노광장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28683095A JP3377347B2 (ja) 1995-10-05 1995-10-05 基板の周辺部露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09102455A JPH09102455A (ja) 1997-04-15
JP3377347B2 true JP3377347B2 (ja) 2003-02-17

Family

ID=17709595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28683095A Expired - Lifetime JP3377347B2 (ja) 1995-10-05 1995-10-05 基板の周辺部露光装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP3377347B2 (ja)
KR (1) KR100216110B1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3275838B2 (ja) * 1998-07-21 2002-04-22 ウシオ電機株式会社 光照射装置
JP4522024B2 (ja) * 2001-07-27 2010-08-11 キヤノン株式会社 水銀ランプ、照明装置及び露光装置
JP5935827B2 (ja) * 2014-06-09 2016-06-15 株式会社ニコン メンテナンス方法
JP6323492B2 (ja) * 2016-05-12 2018-05-16 株式会社ニコン 光源装置
JP6645532B2 (ja) * 2018-04-11 2020-02-14 株式会社ニコン 光源装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP7178240B2 (ja) * 2018-11-14 2022-11-25 東京エレクトロン株式会社 光照射装置
JP2020060798A (ja) * 2020-01-09 2020-04-16 株式会社ニコン 光源装置、露光装置、ランプ、メンテナンス方法およびデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR100216110B1 (ko) 1999-08-16
KR970023645A (ko) 1997-05-30
JPH09102455A (ja) 1997-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100467123B1 (ko) 척세척을이용한기판상의입자저감방법
US5874190A (en) Process for projection exposure of a workpiece with back alignment marks
JP3377347B2 (ja) 基板の周辺部露光装置
JP4343050B2 (ja) 現像処理装置及びその方法
JP2002353096A (ja) 基板搬送方法、露光装置及び露光方法
JP2004235234A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR100539405B1 (ko) 노광장치에있어서의마스크지지장치
US11167326B2 (en) Substrate processing apparatus and nozzle unit
JP2002158277A (ja) 基板ホルダ、基板搬送アーム、露光装置及び基板露光処理装置
KR20050038427A (ko) 반도체 소자 제조장비에서의 기판 주변부 노광장치
JPH11154639A (ja) 周辺露光装置およびその方法
JP2004079590A (ja) 不要膜除去装置および不要膜除去方法、並びにフォトマスクブランク製造方法
JPH1140642A (ja) 基板処理装置および方法
JP3714864B2 (ja) エッジ露光装置
JP4125205B2 (ja) エッジ露光装置およびそれを備える基板処理装置
JP3087209B2 (ja) 露光装置
KR20070036237A (ko) 스테이지와 스테이지 세정 방법, 이를 갖는 노광 장치
JP4392229B2 (ja) 配線パターン形成方法
KR20040074744A (ko) 웨이퍼 가장자리 노광 장치
KR20020063964A (ko) 웨이퍼 에지 노광장치
KR20030033219A (ko) 반도체 웨이퍼의 에지 노광 장치
KR101256670B1 (ko) 노광 장치
JPH11354430A (ja) 基板処理装置および基板製造方法
KR100219415B1 (ko) 웨이퍼 노광설비의 내부 조명장치
JPH11219877A (ja) 基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071206

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081206

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081206

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091206

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101206

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101206

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111206

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111206

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121206

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121206

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131206

Year of fee payment: 11

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term