KR20030033219A - 반도체 웨이퍼의 에지 노광 장치 - Google Patents

반도체 웨이퍼의 에지 노광 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 제조 설비의 웨이퍼 에지 노광 장치에 관한 것이다. 본 발명의 웨이퍼 에지 노광 장치는 회전척과 에지 노광부 및 냉각장치로 구성된다. 상기 에지 노광부는 노광을 위한 빛을 발생시키는 조명박스와 상기 조명박스에 연결되는 광케이블 및 웨이퍼에 상기 광케이블로부터의 빛을 조사하는 렌즈부로 이루어진다. 그리고, 상기 냉각장치는 에지 노광 공정 시 웨이퍼 에지 부분의 열을 소멸시키기 위한 에어(air)를 발생시키는 에어 발생부와 상기 에어 발생부로부터의 에어를 웨이퍼 전면에 공급하는 에어 공급관으로 구성된다.

Description

반도체 웨이퍼의 에지 노광 장치{EDGE EXPOSURE APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER}
본 발명은 반도체 제조 설비의 스피너 설비에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 웨이퍼 에지 노광(wafer edge exposure;WEE) 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조 과정에서 웨이퍼에 필요한 패턴을 형성하는 포토리소그래피 공정에서는 광화학적 반응물질인 포토레지스트를 사용한다. 포토리소그래피 공정을 수행하기 위해서 포토레지스트가 도포된 웨이퍼는 주변부를 척이나 튀져에 의해 잡혀져서 운반되거나, 가공된다. 그런데, 이러한 경우 척이나 튀져에 의해 접촉되는 위치에는 파티클이 발생하여 이후 공정에서 불량을 발생시키는 요인이 된다.
따라서, 상기한 문제를 없애기 위해 별도로 웨이퍼의 에지를 노광시켜 이 부분의 포토레지스트를 제거하는 공정을 두고 있다. 그리고, 이런 공정을 수행하기 위해 웨이퍼 에지 노광 장치가 마련된다.
도 1은 종래의 반도체 웨이퍼 에지 노광 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 웨이퍼 에지 노광 장치는 회전척(60), 조명박스(10), 광케이블(20) 및 렌즈부(30)로 구성된다. 먼저, 상기 회전척(60) 상에 웨이퍼(50)가 놓여진다. 상기 회전척(60)은 에지 노광 공정을 위하여 회전을 한다. 상기 조명박스(10)는 에지 노광을 위한 빛을 발생시킨다. 상기 조명박스(10)로부터의 빛은 광케이블(20)을 통해서 상기 렌즈부(30)로 전해진다. 상기 렌즈부(30)는 상기 광케이블(20)이 상단에 연결되는 하우징(40)과 상기 광케이블(20)에서 전달된 빛을 웨이퍼(50)에 포커싱하기 위한 렌즈군(70)으로 구성된다. 상기 렌즈부(30)을 통과한 빛은 회전척(60) 상에 놓여진 웨이퍼(50)에 빛을 조사하여 웨이퍼 에지 부분의 포토레지스트를 노광시킨다.
그러나, 상기한 통상적인 웨이퍼 에지 노광 장치는 렌즈부에서 나오는 빛에 의해 웨이퍼의 에지 부위가 국부적으로 가열되어 웨이퍼의 팽창계수가 달라져서 이후 공정에서 정렬(alignment)의 불량을 초래한다. 또한, 웨이퍼 에지 주변의 포토레지스트에 영향을 미쳐 노광폭(critical dimension;CD)불량을 유발한다.
본 발명의 목적은 에지 노광 시 열에 의한 웨이퍼의 공정 불량을 방지하기 위한 웨이퍼 에지 노광 장치를 제공하는데 있다.
도 1은 종래의 반도체 웨이퍼 에지 노광 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 반도체 웨이퍼 에지 노광 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10,100 : 조명박스(lamp house)
20,110 : 광케이블 30,200 : 렌즈부
40,120 : 하우징 50,130 : 웨이퍼
60,140 : 회전척 70,170 : 렌즈군
150 : 에어(air) 발생부 160 : 에어 공급관
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 의하면, 웨이퍼 에지 노광 장치는 웨이퍼가 놓여지는 회전척과 상기 웨이퍼의 가장자리를 노광하는 에지 노광 부 및 상기 에지 노광부에 의해 웨이퍼 상에 발생하는 열을 소멸시켜주는 냉각 장치로 구성된다.
상기 에지 노광부는 에지 노광을 위한 빛을 발생시키는 조명박스와 상기 조명박스에 연결된 광케이블 및 상기 광 케이블의 일단에 위치하며, 상기 광케이블로 유도된 빛을 상기 웨이퍼 상에 조사하는 렌즈부를 포함한다.
이와 같은 본 발명에서, 상기 냉각 장치는 냉각을 위한 에어(air)를 발생시키는 에어 발생부와 상기 에어 발생부에 수평으로 장착되고, 상기 에어 발생부로부터의 에어를 상기 웨이퍼의 전면에 공급하기 위한 에어 공급관으로 구성된다.
이와 같은 본 발명에서, 상기 렌즈부는 상기 광케이블이 상단에 연결되는 원통형의 하우징 및 상기 하우징에 내재되고, 광케이블에서 전달된 빛이 웨이퍼에 포커싱되도록 다수의 렌즈를 적층하여 구성된 렌즈군을 포함한다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 2에 의거하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 반도체 웨이퍼 에지 노광 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하면, 웨이퍼 에지 노광 장치는 회전척, 에지 노광부 및 냉각 장치로 구성된다.
상기 공정 진행 중에 회전을 하는 상기 회전척(140)에는 에지 노광을 위한 웨이퍼(130)가 놓여진다. 상기 웨이퍼(130)의 에지 부분에 대한 노광 공정을 수행하는 에지 노광부는 상기 회전척(140) 상부에 위치한다. 상기 에지 노광부는 조명박스(100)와 광케이블(110) 및 렌즈부(200)으로 구성된다. 상기 조명박스(100)는 빛을 발생시키기 위한 램프(lamp)(미 도시된)를 구비하고 있으며, 상기 램프에 의해 에지 노광에 필요한 빛이 발생한다. 상기 조명박스(100)로부터의 빛은 상기 광케이블(110)을 통하여 상기 렌즈부(200)에 다달른다. 상기 렌즈부(200)는 광케이블(110)이 상단에 연결되는 하우징(120)과 상기 하우징(120)에 내재되고, 광케이블(110)에서 전달된 빛이 웨이퍼(130)에 포커싱되도록 하는 렌즈군(170)으로 구성된다. 상기 렌즈부(200)은 광케이블(110)로부터 유도된 빛을 웨이퍼(130)에 조사하여 에지 부분을 노광한다.
상기 냉각 장치는 상기 에지 노광부에 인접하게 위치하고 있으며, 상기 에지 노광부에 의해 에지 노광 공정이 이루어지는 웨이퍼(130)의 가열 현상을 방지하여 준다. 이러한 냉각에는 에어(air)가 사용되어 진다. 에어를 사용하는 상기 냉각 장치는 에어를 발생시키는 에어 발생부(150)와 상기 에어 발생부(150)로부터의 에어를 웨이퍼에 공급하여 주는 에어 공급관(160)으로 구성된다. 상기 에어 공급관 (160)은 상기 에어 발생부(150)에 수평으로 장착되고, 상기 웨이퍼(130)와 대응되게 위치한다. 그리고 상기 에어 공급관(160)은 에어가 상기 웨이퍼(130)의 전면에 공급되도록 하기 위하여 에어가 나오는 복수 개의 홀(미 도시된)들을 포함한다.
본 발명의 범위 및 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 상기 본 발명의 장치에 대한 다양한 변형 및 변화가 가능하다는 것은 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명하다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 웨이퍼 에지 노광 장치가 냉각 장치를 구비함으로써, 웨이퍼 에지 노광 시 열에 의한 웨이퍼의 불량을 방지할 수 있다. 이로 인해, 이후 공정에서 발생되는 웨이퍼의 정렬 불량을 방지할 수 있다.

Claims (3)

  1. 웨이퍼가 놓여지는 회전척;
    상기 웨이퍼의 가장자리를 노광하는 에지 노광부; 및
    에지 노광 공정 시 웨이퍼 상에 발생되는 열을 소멸시켜주는 냉각장치를 구비하되;
    상기 에지 노광부는
    에지 노광을 위한 빛을 발생시키는 조명박스(lamp house);
    상기 조명박스에 연결된 광케이블; 및
    상기 광케이블의 일단에 위치하며, 상기 광케이블로 유도된 빛을 상기 웨이퍼에 조사하는 렌즈부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 에지 노광 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 냉각장치는
    냉각을 위한 에어(air)를 발생시키는 에어 발생부; 및
    상기 에어 발생부에 수평으로 장착되고, 상시 에어 발생부로부터의 에어를 상기 웨이퍼의 전면에 공급하기 위한 에어 공급관으로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 에지 노광 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 렌즈부는
    상기 광케이블이 상단에 연결되는 원통형의 하우징; 및
    상기 하우징에 내재되고, 광케이블에서 전달된 빛이 웨이퍼에 포커싱되도록 다수의 렌즈를 적층하여 구성된 렌즈군을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 에지 노광 장치.
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EP1731966A1 (en) * 2004-03-30 2006-12-13 Pioneer Corporation Exposure equipment
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KR100973286B1 (ko) * 2003-06-27 2010-07-30 삼성테크윈 주식회사 스마트 카드 접촉 단자 및 이를 이용한 스마트 카드

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