JP3371134B2 - 微孔質結晶シリコ−アルミノ−ホスフェートおよびその製造方法 - Google Patents

微孔質結晶シリコ−アルミノ−ホスフェートおよびその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、酸性の性質を有し、AEI構造を有する結晶
シリコ−アルミノ−ホスフェート(SAPO)およびその製
造方法に関するものである。さらに詳しくは本発明は、
新規なシリコ−アルミノ−ホスフェートRUW−18の製造
に関するものである。
微孔質結晶シリコ−アルミノ−ホスフェートおよびこ
のような製造物の製造方法は、例えばノルウエー特許第
169380号明細書に記載されている。これらの製造物は、
PO2+、AlO2−四面体単位から構築された立体結晶格子
を有している。PO2+の代わりに、SiO2四面体単位が置
き換えられており、次の実験的化学組成を有する(水分
が存在しないものをベースにしている): mR:(SixAlyPz)O2 式中、Rは、結晶間細孔システムに存在する少なくと
も1種の有機テンプレート材料を意味し、mは、(SixA
lyPz)O21モルあたりに存在するRのモル数であり、0
〜0.3の値を有する。x、yおよびzの合計値は1であ
り、xの最小値は0.005であり、yおよびzの最小値は
0.01であり、xの最大値は0.98であり、yの最大値は0.
6であり、且つzの最大値は0.52である。
シリコ−アルミノ−ホスフェートのための反応混合物
は、アルミニウムおよびリン源の少なくとも一部分と水
とを組み合わせることにより製造される(このとき、ケ
イ素源は実質上存在しない)。続いて、得られた混合物
とケイ素源とを反応させ、次に有機化合物とさらに反応
させる。混合の順番はある場合にのみ重要である。
反応混合物は、圧力容器に入れられ、結晶シリコ−ア
ルミノ−ホスフェートが得られるまで、100℃以上、好
ましくは100〜260℃の温度に、自己圧力下加熱される。
任意の適当な方法、例えば遠心分離または濾過により、
固体物質が回収される。回収された物質は、空気存在下
で乾燥され、か焼される。
か焼の際、有機テンプレート材料Rは燃焼し、これが
電荷補償カチオンとして生じる場合、新しい電荷補償カ
チオンとしてH+イオンが残るであろう。これは、シリコ
−アルミノ−ホスフェートの場合がそうであり、このよ
うにか焼の後に酸性を獲得する。
公知のシリコ−アルミノ−ホスフェートの中で、8員
環細孔の立体細孔構造を有する分子ふるいは、ガス分離
およびメタノールからのオレフィンの製造について最も
興味がもたれるであろう。SAPO−34およびSAPO−17は、
この構造を有する公知のシリコ−アルミノ−ホスフェー
ト(SAPO)として記載することができる。
AEI構造は、シメン(Simmen)ら、1991年、ゼオライ
ト(Zeolites)11、654に記載されている。この構造
は、およそ4〜5Åの細孔と開口部と、最も小さい寸法
が>5Åであるキャビティを有する立体細孔ネットワー
クを有する。結晶は、通常プレートの形状をしている。
この結晶の有効直径は小さいものであり、結晶の中心部
にむかって短い拡散通路が存在するであろう。AEI構造
を有するシリコ−アルミノ−ホスフェートは、従来は知
られていない。
AEI構造を有する結晶アルミノ−ホスフェートは、従
来製造されている(米国特許第4310440号)が、これは
酸性の性質を有していない。なぜならば、結晶格子が電
気的に中性であるからである。したがって、これは酸性
が要求される反応、例えばメタノールをオレフィンに転
換するための触媒として使用することはできない。収着
剤としての性質は、酸性の性質があろうとなかろうと分
子ふるいによって相違するであろう。酸性の分子ふるい
は分極するので、大きい収着キャパシティを有する。
本発明の目的は、酸性の性質を有し、且つ4〜5Åの
直径を有するチャネルおよび最も小さいサイズが>5Å
である“キャビティ”からなる細孔構造を有する結晶シ
リコ−アルミノ−ホスフェートを製造することである。
他の目的は、幅広い分野、例えばメタノールからのオレ
フィンの製造のための触媒または収着剤として使用でき
る材料を製造することである。
本発明のこれらの目的および他の目的は、下記の製造
物および方法により達成され、本発明は、添付の請求の
範囲により定義付けられ、且つ特徴付けられている。
本発明は、微孔質結晶シリコ−アルミノ−ホスフェー
トに関するものであり、その理論的化学組成は、合成お
よびか焼の後の水のない状態を基準にして: HxSixAlyPzO2 (式中、xは0.005〜0.1の値を有し、yおよびzは0.4
〜0.6の値であり、且つ“x"、“y"および“z"は、4面
体オキサイドとして存在する、それぞれケイ素、アルミ
ニウムおよびリンのモル画分である)である。
製造された分子ふるいRUW−18は、550℃で4時間、空
気中でか焼した後、特徴のあるX線回折図を有するプレ
ート形状の結晶である。このX線回折図は、表1に示さ
れる反射を少なくとも含み、これは2θ<24の領域にお
いて示されるものとは別に、最強、強または中の強い反
射はもたない。このことは、AEI構造と同じである。
この製造物は、材料1gあたり>0.1ミリモルNH3を室温
で収着させた場合、これが10℃/分の割合で流れるヘリ
ウム下で加熱されたとき、>300℃の温度で再び脱着し
た(局所的な最大脱着は350℃以上)という事実により
示されるように、酸性の性質を有する。
か焼した製造物のSi含量は、0.2〜3重量%、好まし
くは0.4〜1.2重量%の範囲にある。製造された製造物
は、4〜5Åの直径のチャネルおよび最小サイズが>5
Åであるキャビティを有するAEI構造を有する。
RUW−18は、SiO2、Al2O3およびP2O5さらに有機テンプ
レート材料の反応源の混合物から製造される。この混合
物は、Si源の存在しない環境下、Al源およびP源の少な
くとも1部分を配合し、次いで得られた混合物と他の原
料とを混合することにより製造される。最後に、この混
合物を乾燥しか焼する。驚くべきことに、合成した混合
物に、水およびリン酸を個々に添加することがRUW−18
の製造に重要であることが見いだされた。液体相の1部
分は、有機テンプレートが添加されるよりも前に、例え
ば濾過または蒸発により取り除かれなければならない。
ゲルの全重量の25〜50%を取り除いてもよい。しかしな
がら、35〜45%の除去が好ましい。次に反応混合物は、
100℃以上、好ましくは180〜260℃に加熱し、合理的な
回収率を得るために、この温度を少なくとも4時間維持
しなければならない。温度が低下すれば、さらなる時間
が必要となる。ゲル中のSiO2の含量は、5重量%未満に
維持しなければならない。
RUW−18結晶は、プレートの形状であり、そのサイズ
は幅広く変化する。このプレートの形状は、AEI構造に
典型的なものであると思われる。製造物は、メタノール
からのオレフィンの製造のための触媒として、且つ収着
剤として有用である。
分子ふるいの酸性部位は、例えばNH3の温度をプログ
ラムした脱着(TPD)により示すことができる。試験条
件に依存して、触媒的に活性な酸性部位は、およそ350
〜500℃のTPDプロフィールのピークとして示されるが、
一方、150〜250℃のピークは物理的に収着されたNH3
示し、これはほとんど酸性部位ではない。
シリコ−アルミノ−ホスフェートの製造において、酸
化アルミニウム、シリカおよび五酸化リン源の選択は、
とくに重要ではない。例えば、アルミニウムイソプロポ
キサイド、リン酸およびシリカソルを使用することがで
きる。テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド溶
液(TEAOH)、シクロペンチルアミン、アミノメチル−
シクロヘキサン、ピペリジン、シクロヘキシルアミンお
よびトリエチルヒドロキシエチルアミンは、好適なテン
プレート材料の例である。
本発明を下記の実施例によりさらに詳細に説明する。
これらの実施例は、RUW−18の唯一の製造方法として理
解するべきではない。
例1 蒸留水108gとアルミニウムイソプロポキサイド81.6g
とを混合し、続いて1分間振盪することにより反応混合
物を製造した。45gの85%リン酸を添加し、混合物を冷
却しながらさらに1分間振盪した。次に、0.6gの37%HC
lを加え、混合物を冷却しながら再度1分間振盪した。
3.0gのLudox LSコロイダルシリカ(30%SiO2、70%水)
を混合物に添加し、再度冷却しながら振盪した。15分間
静置後、混合物を濾過し、89gの液体を濾過し取り出し
た(37%)。フィルターケーキをボトルに移し、49gの4
0%TEAOHを加えた。1分間振盪し、且つ30分間静置した
後、内容物を3つの部分に分けた。32.6gの40%TEAOHを
その3つの部分のうちの1つに加え、混合物を1分間振
盪した。次にこの混合物を振盪テーブル上のオートクレ
ーブに移した(室温で1晩)。次に温度を215℃に上昇
させ、混合物をこの温度で120分間維持した。冷却した
後、製造物を蒸留水で洗浄し遠心分離した。続いて、乾
燥空気中、550℃で5時間、か焼した。
新規なRUW−18シリコ−アルミノ−ホスフェートの特
徴であるX線回折図を表2に示す。サンプルは結晶不純
物の極少量のみを含んでいた。
固体のか焼した製造物の組成は、化学的分析により、 38.2%Al2O3、1.72%SiO2、60.5%P2O5 であることが確定され、これは主要成分として、Si0.02
Al0.460.52O2の組成を有していた。
RUW−18の酸度は、Altamira InstrumentsのAMI−1に
より、NH3の温度をプログラムした脱着により測定し
た。この測定は、181℃および407℃の2つの異なる最大
ピークを示し、288℃の局部的な最高値を示した。また
この測定は、0.4ミリモルのNH3が、288〜550℃の範囲の
温度の乾燥サンプル1gあたりに脱着したことを示し、こ
のことから、NH3のこの量の大部分が顕著な酸性部位を
示すことが推定される。
例2 HClを加えなかったこと以外は、実施例1に記載した
ように反応混合物を製造した。このとき、100gの液体
(41%)を濾過し、TEAOHを加える前にフィルターケー
キを続いて3つの同量部分に分割した。次に、49gの40
%TEAOH溶液を3つのうちの1つの部分に加え、全混合
物を1分間振盪し、オートクレーブにいれた。さらなる
プロセスを実施例1に記載したように行った。ただし、
加熱処理は120時間ではなく、170時間とした。
合成し、か焼した(乾燥空気、550℃、5時間)製造
物は、表3に示されるようなデータに特徴付けられるX
線回折図を有していた。
か焼した製造物の組成は、化学的分析により、 37.5%Al2O3、1.79%SiO2、61.5%P2O5 であることが確定された。
NH3のTPD測定は、185℃および424℃の2つの異なる最
大ピーク明らかにを示し、303℃の局部的な最小値を示
した。またこの測定は、0.4ミリモルのNH3が、303〜550
℃の範囲の温度の乾燥サンプル1gあたりに脱着したこと
を示し、NH3のこの量の大部分が顕著な酸性部位を示す
ことが推定される。
例3 比較例として、ケイ素を添加せずに、実施例2と同様
の方法において、ALPO−18のサンプルを製造した。か焼
した製造物は、米国特許第4310440号明細書、実施例46b
に記載されたように特徴のあるX線の反射および<10%
のALPO−5の含量を示す幾つかの反射を含んでいた。NH
3のTPD測定は、180℃の最大を有するTPDプロフィールに
おける唯一のピークを示し、また、わずか0.05ミリモル
のNH3が、297〜550℃の温度範囲において、乾燥サンプ
ル1gあたりに脱着したことを示した。
例4 メタノールを軽質オレフィンに転換する試験を行っ
た。実施例1に記載したか焼した材料のサンプルを、タ
ブレットに圧縮した。続いてタブレットを注意深く圧潰
し、35〜70メッシュの画分をスクリーニングにより取り
出した。この粉末0.5gをステンレス鋼の反応器に入れ、
40%メタノールおよび60%窒素の混合物を、420℃の温
度で1時間につきメタノール0.5gの割合において通過さ
せた。
製造物をガスクロマトグラフィーにより分析し、325
分後の組成を表4に示す。
この結果は、製造されたRUW−18が、メタノールを軽
質オレフィンに変換するための良好な触媒であることを
示している。
例5 実施例2で製造されたものと同じ材料のサンプルに対
し、イソアルカン類からのn−アルカン類の分離の試験
を行った。2.75gの材料をSchlenkチューブにおき、窒素
置換した。次にn−ブタンをおよそ60ml/分で15分間、
サンプルに通過させた。この後、サンプルの重量は、12
%増加し、3.09gとなった。
次にイソブタンの収着について試験を行った。実施例
2により製造された材料の3.40gをSchlenkチューブに入
れ、窒素置換した。続いてイソブタンを60ml/分で15分
間、チューブに通過させた。この処理の後、サンプルの
重量は0.6%増加し、3.42gとなった。
この結果は、n−アルカンが分子ふるいの細孔に収着
するが、イソアルカンはその運動学的直径が著しく大き
いため収着しないことにより、製造されたRUW−18が、
イソアルカン類およびn−アルカン類(とくにブタン)
の分離のために使用可能であることを示している。RUW
−18は、より分子量のあるイソアルカン類およびn−ア
ルカン類およびアルケン類の分離のために使用できるで
あろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C01B 39/00 - 39/54 B01J 29/00 - 38/74 WPI(DIALOG) CA(STN)

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】合成およびか焼後の水の存在しない状態を
    ベースにし、理論的組成が HxSixAlyPzO2 (式中、xは0.005〜0.1の値を有し、yおよびzは0.4
    〜0.6の値である)である微孔質結晶シリコ−アルミノ
    −ホスフェートであって、この製造物は、空気中、550
    ℃で4時間か焼後、下記表1に示される特徴のあるX線
    回折図を有するものである微孔質結晶シリコ−アルミノ
    −ホスフェート:
  2. 【請求項2】材料1gあたり0.1ミリモルNH3/gを室温で収
    着させた場合、流れるヘリウム中でこれを10℃/分の割
    合で加熱したとき、>300℃の温度で再度脱着する(350
    ℃超で局所的な最大脱着を有する)という事実により示
    される酸性の性質を有する請求の範囲第1項に記載のシ
    リコ−アルミノ−ホスフェート。
  3. 【請求項3】0.2〜3重量%のSiO2を含む請求の範囲第
    1項に記載のシリコ−アルミノ−ホスフェート。
  4. 【請求項4】0.4〜1.2重量%のSiO2を含む請求の範囲第
    1項に記載のシリコ−アルミノ−ホスフェート。
  5. 【請求項5】4〜5Åの直径のチャネルおよび最小サイ
    ズが>5Åであるキャビティを有するAEI構造を有する
    請求の範囲第1項に記載のシリコ−アルミノ−ホスフェ
    ート。
  6. 【請求項6】SiO2、Al2O3およびP2O5の反応源、および
    有機テンプレート材料の混合物からAEI構造を有するシ
    リコ−アルミノ−ホスフェートを製造する方法であっ
    て、該方法は、該混合物が、Si源の不存在下、少なくと
    も1部分のAl源およびP源を配合して製造され、続いて
    得られた混合物を他の原料と混合し、次に乾燥およびか
    焼するものであり、ここで、 アルミニウム源は、リン源が添加されるよりも前に水と
    混合され、Si源の添加の後、液体相の20〜50%が得られ
    たゲルから取り除かれ、次にテンプレート材料が添加さ
    れることを特徴とするシリコ−アルミノ−ホスフェート
    を製造する方法。
  7. 【請求項7】液体相の35〜45%が取り除かれる請求の範
    囲第6項に記載の方法。
  8. 【請求項8】脱水が、乾燥の後の濾過により行われる請
    求の範囲第6項に記載の方法。
  9. 【請求項9】ゲル中のSiO2の含量が5重量%未満で維持
    される請求の範囲第6項に記載の方法。
  10. 【請求項10】メタノールからオレフィン類の製造にお
    ける触媒として、AEI構造を有する結晶シリコ−アルミ
    ノ−ホスフェートを使用する、使用方法。
  11. 【請求項11】収着剤として、AEI構造を有する結晶シ
    リコ−アルミノ−ホスフェートを使用する、使用方法。
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