JP3357579B2 - ブロッカ装置 - Google Patents
ブロッカ装置Info
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- JP3357579B2 JP3357579B2 JP20123497A JP20123497A JP3357579B2 JP 3357579 B2 JP3357579 B2 JP 3357579B2 JP 20123497 A JP20123497 A JP 20123497A JP 20123497 A JP20123497 A JP 20123497A JP 3357579 B2 JP3357579 B2 JP 3357579B2
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- Japan
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マスクパタンをウ
エハ上に転写して半導体素子を製造する露光装置におい
て、露光光を遮ることによって任意の露光領域の露光を
可能にするブロッカ装置に関し、特に、露光波長の短い
Ｘ線露光装置やシンクロトロン放射光を利用したＳＯＲ
露光装置に用いて好適なブロッカ装置に関する。
エハ上に転写して半導体素子を製造する露光装置におい
て、露光光を遮ることによって任意の露光領域の露光を
可能にするブロッカ装置に関し、特に、露光波長の短い
Ｘ線露光装置やシンクロトロン放射光を利用したＳＯＲ
露光装置に用いて好適なブロッカ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体集積回路の製造において、露光装
置によりマスクパタンをウエハ上に塗布したレジストに
転写する際、ブロッカ装置によって露光光の一部を遮光
することによりウエハの露光領域を制限している。この
ようなブロッカ装置としては、露光光の一部を遮断する
複数枚のブロッカと、これらのブロッカを移動させて所
定の位置に位置決めするブロッカ位置決め機構とで構成
し、前記ブロッカを露光光のみ遮り、マスクとウエハを
位置合わせするために用いるアライメント光は透過する
材料によって製作したものが提案されている（例：特公
平１−１４４２２１号）。
置によりマスクパタンをウエハ上に塗布したレジストに
転写する際、ブロッカ装置によって露光光の一部を遮光
することによりウエハの露光領域を制限している。この
ようなブロッカ装置としては、露光光の一部を遮断する
複数枚のブロッカと、これらのブロッカを移動させて所
定の位置に位置決めするブロッカ位置決め機構とで構成
し、前記ブロッカを露光光のみ遮り、マスクとウエハを
位置合わせするために用いるアライメント光は透過する
材料によって製作したものが提案されている（例：特公
平１−１４４２２１号）。
【０００３】半導体に形成されるパタン寸法はますます
細くなってきており、パタンを転写する露光光の波長は
エキシマレーザなどの２００ｎｍ以下の短い波長となっ
てきている。また、アライメントに用いるアライメント
光は６００ｎｍ以上の波長が多く、両者を分離すること
は容易になってきている。また、アライメント光には、
検出精度を得るために、波長帯域の狭いレーザなどが多
く用いられている。
細くなってきており、パタンを転写する露光光の波長は
エキシマレーザなどの２００ｎｍ以下の短い波長となっ
てきている。また、アライメントに用いるアライメント
光は６００ｎｍ以上の波長が多く、両者を分離すること
は容易になってきている。また、アライメント光には、
検出精度を得るために、波長帯域の狭いレーザなどが多
く用いられている。
【０００４】図３はＸ線露光装置に用いられる従来のブ
ロッカ装置の構成を示す断面図、図４はブロッカの平面
図である。これらの図において、１は転写される原画で
あるパタン（マスクパタン）１ａを形成したマスク、２
ａ〜２ｄは露光光Ｌ1 を遮光し、アライメント光Ｌ2 を
透過させるブロッカで、露光光Ｌ1 を挟んでＸ、Ｙ方向
に２つずつ平行に対向して配置されることにより、全体
として平面視ロ字状に配列されている。また、ブロッカ
２ａ〜２ｄは板厚が一定のプレートからなり、互いに平
行に対向するものどうしがブロッカ位置決め機構３によ
り互いに接近離間する方向に移動されることにより位置
決めされ、マスク１を照射する露光光Ｌ1 を所望の大き
さに整形する。ブロッカ２ａ〜２ｄは、通常マスク１、
ウエハ４および位置決め機構３に対して平行で、アライ
メント光Ｌ2 の光軸に対しては垂直になるように設置さ
れている。これは、ブロッカ２ａ〜２ｄ内の光路を最短
にし、減衰を最小にするためである。ブロッカ位置決め
機構３の駆動源としては、ロータリーエンコーダ付きＤ
Ｃサーボモータなどが用いられる。アライメント光Ｌ2
は、上記した通り露光光Ｌ1 より波長の長い光が用いら
れ、ブロッカ２ａ〜２ｄを透過した後、マスク１および
ウエハ４に形成したアライメントパタンを照射する。
ロッカ装置の構成を示す断面図、図４はブロッカの平面
図である。これらの図において、１は転写される原画で
あるパタン（マスクパタン）１ａを形成したマスク、２
ａ〜２ｄは露光光Ｌ1 を遮光し、アライメント光Ｌ2 を
透過させるブロッカで、露光光Ｌ1 を挟んでＸ、Ｙ方向
に２つずつ平行に対向して配置されることにより、全体
として平面視ロ字状に配列されている。また、ブロッカ
２ａ〜２ｄは板厚が一定のプレートからなり、互いに平
行に対向するものどうしがブロッカ位置決め機構３によ
り互いに接近離間する方向に移動されることにより位置
決めされ、マスク１を照射する露光光Ｌ1 を所望の大き
さに整形する。ブロッカ２ａ〜２ｄは、通常マスク１、
ウエハ４および位置決め機構３に対して平行で、アライ
メント光Ｌ2 の光軸に対しては垂直になるように設置さ
れている。これは、ブロッカ２ａ〜２ｄ内の光路を最短
にし、減衰を最小にするためである。ブロッカ位置決め
機構３の駆動源としては、ロータリーエンコーダ付きＤ
Ｃサーボモータなどが用いられる。アライメント光Ｌ2
は、上記した通り露光光Ｌ1 より波長の長い光が用いら
れ、ブロッカ２ａ〜２ｄを透過した後、マスク１および
ウエハ４に形成したアライメントパタンを照射する。
【０００５】５はアライメント光Ｌ2 によりマスク１と
ウエハ４の相対位置を検出するアライメント光学系、６
はマスク１を搭載するマスクステージ、７はウエハ４を
搭載するウエハステージである。
ウエハ４の相対位置を検出するアライメント光学系、６
はマスク１を搭載するマスクステージ、７はウエハ４を
搭載するウエハステージである。
【０００６】転写すべきマスクパタン１ａが形成されて
いるマスク１は、ブロッカ２ａ〜２ｄの下方に配置され
たマスクステージ６に取付けられている。ブロッカ２ａ
〜２ｄによって一部が遮光されることにより所望の形状
に整形された露光光Ｌ1 は、マスク１上のデバイス領域
を照射し、ここを透過した露光光がウエハ４上に塗布し
たレジストを照射し感光させることによりマスクパタン
１ａが転写される。
いるマスク１は、ブロッカ２ａ〜２ｄの下方に配置され
たマスクステージ６に取付けられている。ブロッカ２ａ
〜２ｄによって一部が遮光されることにより所望の形状
に整形された露光光Ｌ1 は、マスク１上のデバイス領域
を照射し、ここを透過した露光光がウエハ４上に塗布し
たレジストを照射し感光させることによりマスクパタン
１ａが転写される。
【０００７】ブロッカ２ａ〜２ｄは、露光光Ｌ1 の一部
を遮り、アライメント光Ｌ2 を透過させるので、アライ
メント光Ｌ2 を用いることにより露光中でもマスク１と
ウエハ４を直接的に常時検出することができる。このた
め、熱変形などによる位置ずれを補正し、高精度なアラ
イメントを行うことができる利点を有している。
を遮り、アライメント光Ｌ2 を透過させるので、アライ
メント光Ｌ2 を用いることにより露光中でもマスク１と
ウエハ４を直接的に常時検出することができる。このた
め、熱変形などによる位置ずれを補正し、高精度なアラ
イメントを行うことができる利点を有している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来のブロッカ装置においては、ブロッカ２ａ〜２ｄ
をアライメント光Ｌ2 の光軸に対して垂直になるように
設置しているため、ブロッカ２ａ〜２ｄの表面で反射し
た反射光が元来た光路を通ってアライメント光学系５に
戻り、この反射光と、マスク１とウエハ４のアライメン
トパタンを照射した後アライメント光学系５によって検
出されるアライメント光光とが互いに干渉し、アライメ
ント精度を低下させるという問題があった。また、ブロ
ッカ２ａ〜２ｄがマスク１およびウエハ４と平行である
ため、ブロッカ２ａ〜２ｄとマスク１またはウエハ４間
で多重反射が生じ、それがアライメント光学系５に入る
と、アライメント光と干渉しアライメント精度をさらに
低下させる。そのため、アライメント精度を向上させる
には、上述のようなブロッカ２ａ〜２ｄからの反射光お
よびブロッカ２ａ〜２ｄとマスク１またはウエハ４間で
の多重反射光を極力抑えるための対策を講じることが強
く望まれていた。
た従来のブロッカ装置においては、ブロッカ２ａ〜２ｄ
をアライメント光Ｌ2 の光軸に対して垂直になるように
設置しているため、ブロッカ２ａ〜２ｄの表面で反射し
た反射光が元来た光路を通ってアライメント光学系５に
戻り、この反射光と、マスク１とウエハ４のアライメン
トパタンを照射した後アライメント光学系５によって検
出されるアライメント光光とが互いに干渉し、アライメ
ント精度を低下させるという問題があった。また、ブロ
ッカ２ａ〜２ｄがマスク１およびウエハ４と平行である
ため、ブロッカ２ａ〜２ｄとマスク１またはウエハ４間
で多重反射が生じ、それがアライメント光学系５に入る
と、アライメント光と干渉しアライメント精度をさらに
低下させる。そのため、アライメント精度を向上させる
には、上述のようなブロッカ２ａ〜２ｄからの反射光お
よびブロッカ２ａ〜２ｄとマスク１またはウエハ４間で
の多重反射光を極力抑えるための対策を講じることが強
く望まれていた。
【０００９】本発明は上記した従来の問題を解決するた
めになされたもので、その目的とするところは、反射光
による影響をなくし、マスクとウエハのアライメント精
度を向上させるようにしたブロッカ装置を提供すること
にある。
めになされたもので、その目的とするところは、反射光
による影響をなくし、マスクとウエハのアライメント精
度を向上させるようにしたブロッカ装置を提供すること
にある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、ウエハの露光領域を制限するために、マス
クのパタンをウエハ上に転写する露光光を遮る複数のブ
ロッカと、これらのブロッカを移動させ露光領域を所望
の形状に整形する位置決め機構とからなり、前記ブロッ
カを、露光光は遮断するが、マスクとウエハを位置合わ
せするために用いるアライメント光は透過する材料で製
作したブロッカ装置において、アライメント光の前記ブ
ロッカで反射した反射光がアライメント光学系に戻らな
いよう前記ブロッカの厚みを変化させたことを特徴とす
る。本発明において、ブロッカの表面で反射する反射光
はブロッカの厚みが異なることから入射方向と異なる方
向に反射するため、アライメント光学系によって検出さ
れることがない。また、ブロッカは、マスクおよびウエ
ハを照射した後反射して戻ってきた光を反射するが、そ
の反射方向はブロッカへの入射方向と異なるため、ブロ
ッカとマスクまたはウエハ間で多重反射することもな
い。したがって、マスク表面で反射した反射光またはマ
スクもしくはウエハとブロッカ間での多重反射光とアラ
イメント光とが互いに干渉せず、アライメント精度を向
上させることができる。
に本発明は、ウエハの露光領域を制限するために、マス
クのパタンをウエハ上に転写する露光光を遮る複数のブ
ロッカと、これらのブロッカを移動させ露光領域を所望
の形状に整形する位置決め機構とからなり、前記ブロッ
カを、露光光は遮断するが、マスクとウエハを位置合わ
せするために用いるアライメント光は透過する材料で製
作したブロッカ装置において、アライメント光の前記ブ
ロッカで反射した反射光がアライメント光学系に戻らな
いよう前記ブロッカの厚みを変化させたことを特徴とす
る。本発明において、ブロッカの表面で反射する反射光
はブロッカの厚みが異なることから入射方向と異なる方
向に反射するため、アライメント光学系によって検出さ
れることがない。また、ブロッカは、マスクおよびウエ
ハを照射した後反射して戻ってきた光を反射するが、そ
の反射方向はブロッカへの入射方向と異なるため、ブロ
ッカとマスクまたはウエハ間で多重反射することもな
い。したがって、マスク表面で反射した反射光またはマ
スクもしくはウエハとブロッカ間での多重反射光とアラ
イメント光とが互いに干渉せず、アライメント精度を向
上させることができる。
【００１１】
【００１２】
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施の
形態に基づいて詳細に説明する。図１は本発明に係るブ
ロッカ装置の一実施の形態を示す断面図である。なお、
従来技術の欄で示した構成部材等と同一のものについて
は同一の符号をもって示し、その説明を適宜省略する。
本実施の形態においては、Ｘ，Ｙ方向にそれぞれ２つず
つ対向して配置された露光領域を制限する４つのブロッ
カ２ａ〜２ｄ（２ｂ，２ｄは図示せず）をアライメント
光Ｌ2 の光軸に対して傾斜させて設けている。
形態に基づいて詳細に説明する。図１は本発明に係るブ
ロッカ装置の一実施の形態を示す断面図である。なお、
従来技術の欄で示した構成部材等と同一のものについて
は同一の符号をもって示し、その説明を適宜省略する。
本実施の形態においては、Ｘ，Ｙ方向にそれぞれ２つず
つ対向して配置された露光領域を制限する４つのブロッ
カ２ａ〜２ｄ（２ｂ，２ｄは図示せず）をアライメント
光Ｌ2 の光軸に対して傾斜させて設けている。
【００１４】ブロッカ２ａ〜２ｄは、露光光Ｌ1 を遮光
し、アライメント光Ｌ2 を透過する材料で製作されてい
る。具体的には石英ガラス、マイカ、ガラス、ダイヤモ
ンドなどのある程度厚さのあるものであれば使用可能で
ある。露光光Ｌ1 としては、Ｘ線が用いられるが、Ｘ線
より波長の長い紫外線であってもよく、その場合はブロ
ッカ２ａ〜２ｄの材質として紫外線を遮光するものを選
択することで対処することができる。ブロッカ位置決め
機構３は、互いに対向する２つのブロッカ２ａと２ｃ、
２ｂと２ｄが互いに接近する方向にブロッカ２ａ〜２ｄ
を移動調整するが、移動軸に対するローリング方向（図
において上下方向）に回動させても同様に調整すること
ができる。
し、アライメント光Ｌ2 を透過する材料で製作されてい
る。具体的には石英ガラス、マイカ、ガラス、ダイヤモ
ンドなどのある程度厚さのあるものであれば使用可能で
ある。露光光Ｌ1 としては、Ｘ線が用いられるが、Ｘ線
より波長の長い紫外線であってもよく、その場合はブロ
ッカ２ａ〜２ｄの材質として紫外線を遮光するものを選
択することで対処することができる。ブロッカ位置決め
機構３は、互いに対向する２つのブロッカ２ａと２ｃ、
２ｂと２ｄが互いに接近する方向にブロッカ２ａ〜２ｄ
を移動調整するが、移動軸に対するローリング方向（図
において上下方向）に回動させても同様に調整すること
ができる。
【００１５】本実施の形態においては、ブロッカ２ａ〜
２ｄの露光光Ｌ1 を遮光する内側縁がブロッカ位置決め
機構３に固定される外側縁より低くなるように、言い換
えればマスク１に近づくようにブロッカ２ａ〜２ｄを傾
斜させているが、反対に外側縁が内側縁より低くなるよ
うに傾斜させてもよい。このように、ブロッカ２ａ〜２
ｄを傾斜させて配置すると、アライメント光Ｌ1 のブロ
ッカ２ａ〜２ｄの表面で反射する反射光はブロッカ２ａ
〜２ｄが傾いているため、元来た光路を通ってアライメ
ント光学系５に戻ることはない。また、マスク１および
ウエハ４から戻ってきた光でブロッカ２ａ〜２ｄの裏面
に当たって反射する反射光も、ブロッカ２ａ〜２ｄが傾
斜していることからマスク１あるいはウエハ４に戻るこ
とはなく、マスク１またはウエハ４とブロッカ２ａ〜２
ｄ間での多重反射を防止することができる。
２ｄの露光光Ｌ1 を遮光する内側縁がブロッカ位置決め
機構３に固定される外側縁より低くなるように、言い換
えればマスク１に近づくようにブロッカ２ａ〜２ｄを傾
斜させているが、反対に外側縁が内側縁より低くなるよ
うに傾斜させてもよい。このように、ブロッカ２ａ〜２
ｄを傾斜させて配置すると、アライメント光Ｌ1 のブロ
ッカ２ａ〜２ｄの表面で反射する反射光はブロッカ２ａ
〜２ｄが傾いているため、元来た光路を通ってアライメ
ント光学系５に戻ることはない。また、マスク１および
ウエハ４から戻ってきた光でブロッカ２ａ〜２ｄの裏面
に当たって反射する反射光も、ブロッカ２ａ〜２ｄが傾
斜していることからマスク１あるいはウエハ４に戻るこ
とはなく、マスク１またはウエハ４とブロッカ２ａ〜２
ｄ間での多重反射を防止することができる。
【００１６】図２は本発明の他の実施の形態を示す断面
図である。この実施の形態においては、ブロッカ２ａ〜
２ｄを断面形状が楔形のプレートで形成することにより
幅方向において板厚を漸次変化させ、内側縁が最小板厚
で外側縁が最大板厚としている。このため、表裏面は反
対方向に傾斜している。ただし、板厚が内側縁で最大
で、外側縁で最小となるものであってもよい。
図である。この実施の形態においては、ブロッカ２ａ〜
２ｄを断面形状が楔形のプレートで形成することにより
幅方向において板厚を漸次変化させ、内側縁が最小板厚
で外側縁が最大板厚としている。このため、表裏面は反
対方向に傾斜している。ただし、板厚が内側縁で最大
で、外側縁で最小となるものであってもよい。
【００１７】このような構成においても、ブロッカ２ａ
〜２ｄの表裏面を傾けているので、上記した実施の形態
と同様に、アライメント光学系５から照射されたアライ
メント光Ｌ1 がブロッカ２ａ〜２ｄの表面で反射して
も、その反射光は元来た光路を通ってアライメント光学
系５により検出されることはない。また、マスク１およ
びウエハ４から反射して戻ってきた光でブロッカ２ａ〜
２ｄの裏面で反射する光も、マスク１あるいはウエハ４
に戻ることはなく、マスク１あるいはウエハ４とブロッ
カ２ａ〜２ｄ間での多重反射を防止することができる。
〜２ｄの表裏面を傾けているので、上記した実施の形態
と同様に、アライメント光学系５から照射されたアライ
メント光Ｌ1 がブロッカ２ａ〜２ｄの表面で反射して
も、その反射光は元来た光路を通ってアライメント光学
系５により検出されることはない。また、マスク１およ
びウエハ４から反射して戻ってきた光でブロッカ２ａ〜
２ｄの裏面で反射する光も、マスク１あるいはウエハ４
に戻ることはなく、マスク１あるいはウエハ４とブロッ
カ２ａ〜２ｄ間での多重反射を防止することができる。
【００１８】次に、第３の実施の形態として、レーザ光
などの波長帯域が限られた光をアライメント光Ｌ2 とし
て用いる場合には、表裏面にアライメント光Ｌ2 が反射
しないような無反射コーティングを施したブロッカ２ａ
〜２ｄをアライメント光Ｌ2に対して垂直に配置しても
よい。無反射コーティングを施した場合は、アライメン
ト光Ｌ2 のブロッカ２ａ〜２ｄからの反射光を小さく抑
えるができるため、ブロッカ２ａ〜２ｂを傾斜させて配
置したり、断面形状を楔形にする必要がなく、図３およ
び図４に示した従来のブロッカを用いることができる。
ただし、図１または図２に示した本発明にかかるブロッ
カ２ａ〜２ｄの表裏面に無反射コーティング処理を施し
たものを用いてもよいことは勿論である。また、マスク
１またはウエハ４から反射してきた光で、ブロッカ２ａ
〜２ｄにより反射してマスク１またはウエハ４に戻る光
も、無反射コーティングのため非常に弱く、上記実施の
形態と同様な効果が得られる。
などの波長帯域が限られた光をアライメント光Ｌ2 とし
て用いる場合には、表裏面にアライメント光Ｌ2 が反射
しないような無反射コーティングを施したブロッカ２ａ
〜２ｄをアライメント光Ｌ2に対して垂直に配置しても
よい。無反射コーティングを施した場合は、アライメン
ト光Ｌ2 のブロッカ２ａ〜２ｄからの反射光を小さく抑
えるができるため、ブロッカ２ａ〜２ｂを傾斜させて配
置したり、断面形状を楔形にする必要がなく、図３およ
び図４に示した従来のブロッカを用いることができる。
ただし、図１または図２に示した本発明にかかるブロッ
カ２ａ〜２ｄの表裏面に無反射コーティング処理を施し
たものを用いてもよいことは勿論である。また、マスク
１またはウエハ４から反射してきた光で、ブロッカ２ａ
〜２ｄにより反射してマスク１またはウエハ４に戻る光
も、無反射コーティングのため非常に弱く、上記実施の
形態と同様な効果が得られる。
【００１９】
【発明の効果】以上述べたように本発明に係るブロッカ
装置によれば、ブロッカ表面で反射した反射光が元来た
光路を通ってアライメント光学系により検出されること
がなく、また、マスクおよびウエハから反射して戻って
きた光でブロッカにより反射された光もマスクあるいは
ウエハに戻ることがなく、マスクあるいはウエハとブロ
ッカ間での多重反射を防止することができる。したがっ
て、アライメント光とマスク表面で反射した反射光また
は、マスクあるいはウエハとブロッカ間で多重反射する
反射光とが互いに干渉せず、アライメント精度を向上さ
せることができる。
装置によれば、ブロッカ表面で反射した反射光が元来た
光路を通ってアライメント光学系により検出されること
がなく、また、マスクおよびウエハから反射して戻って
きた光でブロッカにより反射された光もマスクあるいは
ウエハに戻ることがなく、マスクあるいはウエハとブロ
ッカ間での多重反射を防止することができる。したがっ
て、アライメント光とマスク表面で反射した反射光また
は、マスクあるいはウエハとブロッカ間で多重反射する
反射光とが互いに干渉せず、アライメント精度を向上さ
せることができる。
【００２０】
【図１】 本発明に係るブロッカ装置の一実施の形態を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】 本発明に係るブロッカ装置の他の実施の形態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図３】 ブロッカ装置の従来例を示す断面図である。
【図４】 ブロッカの平面図である。
１…マスク、１ａ…マスクパタン、２ａ〜２ｄ…ブロッ
カ、３…ブロッカ位置決め機構、４…ウエハ、５…アラ
イメント光学系、６…マスクステージ、７…ウエハステ
ージ、Ｌ１…露光光、Ｌ2 …アライメント光。
カ、３…ブロッカ位置決め機構、４…ウエハ、５…アラ
イメント光学系、６…マスクステージ、７…ウエハステ
ージ、Ｌ１…露光光、Ｌ2 …アライメント光。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−326574（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−65110（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−283124（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−226352（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−291018（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (1)
- 【請求項１】 ウエハの露光領域を制限するために、マ
スクのパタンをウエハ上に転写する露光光を遮る複数の
ブロッカと、これらのブロッカを移動させ露光領域を所
望の形状に整形する位置決め機構とからなり、前記ブロ
ッカを、露光光は遮断するが、マスクとウエハを位置合
わせするために用いるアライメント光は透過する材料で
製作したブロッカ装置において、アライメント光の前記ブロッカで反射した反射光がアラ
イメント光学系に戻らないよう前記ブロッカの厚みを変
化させた ことを特徴とするブロッカ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20123497A JP3357579B2 (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | ブロッカ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20123497A JP3357579B2 (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | ブロッカ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1145848A JPH1145848A (ja) | 1999-02-16 |
| JP3357579B2 true JP3357579B2 (ja) | 2002-12-16 |
Family
ID=16437569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20123497A Expired - Fee Related JP3357579B2 (ja) | 1997-07-28 | 1997-07-28 | ブロッカ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3357579B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101288993B1 (ko) | 2011-12-20 | 2013-08-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 어닐링 장치 |
-
1997
- 1997-07-28 JP JP20123497A patent/JP3357579B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101288993B1 (ko) | 2011-12-20 | 2013-08-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 어닐링 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1145848A (ja) | 1999-02-16 |
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