JP3352617B2 - 光記録媒体の製造方法及び製造装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体の製造
方法及び製造装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータ、ワード
プロセッサ、大型コンピュータシステム等のための外部
記憶装置として、光ディスク等の光記録媒体が急速に普
及しつつある。かかる光記録媒体は、従来より広く用い
られている磁気ディスク等の磁気記録媒体に比べて、記
憶容量が大きく、振動あるいは電磁界などの外乱に対す
る耐久性が高く、かつ寿命が長いなどといった種々の利
点を有している。

【０００３】そして、かかる光記録媒体としては、一般
に、再生専用型光記録媒体、追記型光記録媒体及び書換
型光記録媒体があげられるが、これらの中で、追記型光
記録媒体、例えば追記型コンパクトディスク（ＣＤ−
Ｒ）あるいは追記型デジタルビデオディスク（ＤＶＤ−
Ｒ）は、ユーザーが一度だけ任意の情報の書き込みを行
うことができる一方、該情報が書き換えられるおそれが
ないので、とくに重要な情報の記録・保存に適するとい
った利点がある。

【０００４】このような追記型光記録媒体、例えばＣＤ
−Ｒは、一般におよそ次のような手順で製造される。す
なわち、まず透明なプラスチック材料（例えば、ポリカ
ーボネート樹脂）等を用いて射出成型等により円板形
（ドーナツ形）の基板がつくられる。なお、射出成型時
にこの基板の２つの広がり面のうちの一方の面には、ト
ラッキングガイド用のグルーブ部（溝部）が形成され
る。そして、基板のグルーブ部が形成された方の広がり
面の上に、順次、有機色素を含む記録層と金属材料から
なる反射層とが形成される。さらに、この反射層の上に
紫外線硬化樹脂がスピンコート等により塗布される。そ
して、塗布終了後に紫外線硬化樹脂層に紫外線が照射さ
れ、これにより紫外線硬化樹脂層が硬化させられ、反射
層を保護する保護層となる。なお、ＤＶＤ−Ｒの場合
は、反射層の上に紫外線硬化樹脂が接着剤としてスピン
コート等により塗布された後、該接着剤層の上にカバー
基板が配置され、この後カバー基板側から接着剤に紫外
線が照射され、これにより接着剤が硬化してカバー基板
が光記録媒体本体側に接着される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
手法で追記型光記録媒体を製造する場合、反射層に、孔
径が数ｎｍ〜１００μ程度のピンホールが形成されるこ
とがある。そして、このようなピンホールが形成された
反射層の上に紫外線硬化樹脂が塗布されると、紫外線照
射により該紫外線硬化樹脂が硬化させられるまでの間
に、液状の紫外線硬化樹脂がピンホール内に侵入し、さ
らには記録層に侵入することがある。この場合、紫外線
硬化樹脂が記録層の色素を溶かし、あるいはピンホール
による欠陥を拡大させ、これにより完成後における光記
録媒体の品質の重要な指標であるエラーレートを低下
（悪化）させるといった問題が生じる。

【０００６】本発明は、上記従来の問題を解決するため
になされたものであって、反射層にピンホールが形成さ
れた場合でも、該ピンホールによる欠陥の拡大を防止し
てエラーレートが良好な光記録媒体を得ることができる
手段を提供することを解決すべき課題ないしは目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決すべく
なされた本発明の第１の態様は、光を用いて読み出すこ
とが可能な形態で情報を記録する光記録媒体の製造方法
であって、（ａ）円板形（ドーナツ型）の基板の２つの
広がり面のうちの第１の広がり面の上に、少なくとも有
機色素を含む記録層を形成し、（ｂ）記録層の上に反射
層（例えば、金属材料からなる反射層）を形成し、
（ｃ）反射層の上に紫外線硬化樹脂を塗布する一方、該
紫外線硬化樹脂塗布時に基板の第２の広がり面に紫外線
を照射し、（ｄ）紫外線硬化樹脂の塗布終了後に、基板
の第１の広がり面側から紫外線硬化樹脂に紫外線を照射
して該紫外線硬化樹脂を硬化させることを特徴とするも
のである。なお、記録層及び反射層は、例えば蒸着法、
スパッタ法等により形成することができる。また、紫外
線硬化樹脂の塗布は、例えばスピンコート法等により行
うことができる。

【０００８】この光記録媒体の製造方法においては、基
板の第１の広がり面側から紫外線硬化樹脂に紫外線を照
射する際にも、基板の第２の広がり面に紫外線を照射す
るようにしてもよい。この光記録媒体の製造方法は、と
くに記録層に光を照射することにより一度だけ情報の書
き込みが可能な追記型光記録媒体の製造に適するもので
ある。かかる追記型光記録媒体としては、コンパクトデ
ィスク（ＣＤ−Ｒ）、デジタルビデオディスク（ＤＶＤ
−Ｒ）等があげられる。なお、ＣＤ−Ｒの場合は、紫外
線硬化樹脂は、硬化後には反射層を保護する保護層とな
る。また、ＤＶＤ−Ｒの場合は、紫外線硬化樹脂は、硬
化後にはカバー基板を光記録媒体本体側に接着させる接
着層となる。この光記録媒体の製造方法においては、記
録層を形成した後、該記録層の上に記録補助層（中間
層）を形成し、該記録補助層の上に反射層を形成するよ
うにしてもよい。なお、以下では便宜上、光記録媒体の
厚み方向にみて第１の広がり面側を「表側」といい、第
２の広がり面側を「裏側」という。

【０００９】本発明にかかる光記録媒体の製造方法にお
いては、紫外線硬化樹脂の塗布時に基板の裏側に紫外線
が照射されるが、ここで反射層にピンホールが形成され
ている場合、該紫外線の一部がピンホールを通って反射
層の上の紫外線硬化樹脂に到達する。これにより、ピン
ホールの表側端部近傍の紫外線硬化樹脂が硬化させられ
る。このため、ピンホールの表側開口部は硬化した紫外
線硬化樹脂によって閉止され、液状の紫外線硬化樹脂は
ピンホール内に侵入しない。このように、反射層にピン
ホールが形成されている場合でも、液状の紫外線硬化樹
脂のピンホールへの侵入が防止されるので、該ピンホー
ルによる欠陥の拡大が防止され、該光記録媒体のエラー
レートが良好となる。

【００１０】また、本発明の第２の態様は、光を用いて
読み出すことが可能な形態で情報を記録する光記録媒体
の製造装置であって、（ａ）円板形の基板の２つの広が
り面のうちの第１の広がり面の上に、少なくとも有機色
素を含む記録層を形成する記録層形成装置と、（ｂ）記
録層の上に、反射層（例えば、金属材料からなる反射
層）を形成する反射層形成装置と、（ｃ）反射層の上に
紫外線硬化樹脂を塗布する紫外線硬化樹脂塗布装置と、
（ｄ）紫外線硬化樹脂塗布時に、基板の第２の広がり面
に紫外線を照射する副紫外線照射装置と、（ｅ）紫外線
硬化樹脂の塗布終了後に、基板の第１の広がり面側から
紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して該紫外線硬化樹脂を
硬化させる主紫外線照射装置とが設けられていることを
特徴とするものである。なお、記録層形成装置及び反射
層形成装置としては、例えば蒸着装置、スパッタ装置等
を用いることができる。また、紫外線硬化樹脂塗布装置
としては、例えばスピンコート装置等を用いることがで
きる。

【００１１】この光記録媒体の製造装置においては、副
紫外線照射装置が、主紫外線照射装置によって基板の第
１の広がり面側から紫外線硬化樹脂に紫外線が照射され
る際にも、基板の第２の広がり面に紫外線を照射するよ
うになっていてもよい。この光記録媒体の製造装置は、
とくに記録層に光を照射することにより一度だけ情報の
書き込みが可能な追記型光記録媒体の製造に適するもの
である。かかる追記型光記録媒体としては、前記の光記
録媒体の製造方法の場合と同様に、コンパクトディスク
（ＣＤ−Ｒ）、デジタルビデオディスク（ＤＶＤ−Ｒ）
等があげられる。この光記録媒体の製造装置において
は、記録層の上に記録補助層を形成する記録補助層形成
装置が設けられ、反射層形成装置が、記録補助層の上に
反射層を形成するようになっていてもよい。

【００１２】この光記録媒体の製造装置においては、紫
外線硬化樹脂の塗布時に基板の裏側に紫外線が照射され
るが、ここで反射層にピンホールが形成されている場
合、該紫外線の一部がピンホールを通って反射層の上の
紫外線硬化樹脂に到達する。これにより、ピンホールの
表側端部近傍の紫外線硬化樹脂が硬化させられる。この
ため、ピンホールの表側開口部は硬化した紫外線硬化樹
脂によって閉止され、液状の紫外線硬化樹脂はピンホー
ル内に侵入しない。このように、反射層にピンホールが
形成されている場合でも、液状の紫外線硬化樹脂のピン
ホールへの侵入が防止されるので、該ピンホールによる
欠陥の拡大が防止され、該光記録媒体のエラーレートが
良好となる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を具体
的に説明する。まず、本発明にかかるＣＤ−Ｒ（追記型
コンパクトディスク）の製造方法ないしは製造装置を説
明する。図１（ａ）に示すように、本発明にかかるＣＤ
−Ｒの製造においては、まず実質的に透明なプラスチッ
ク材料、例えばポリカーボネート樹脂等を用いて、射出
成型等により、円板形（ドーナツ形）の基板１（図２参
照）がつくられる（ステップＳ１）。なお、基板１の形
状ないしは品質（例えば、外径、内径、厚み、反り、偏
芯、面振れ、複屈折特性等）は、普通のＣＤ−Ｒの場合
と同様である。

【００１４】図２及び図３に示すように、この基板成型
工程（ステップＳ１）においては、基板１の表側広がり
面にスパイラル状のトラッキングガイド用のグルーブ部
２（溝部）が形成される。なお、基板１の裏側広がり面
は平坦である。このグルーブ部２は、基板径方向に切断
した断面が台形（溝底側が狭い）をなすように形成さ
れ、そのトラックピッチ（基板径方向のピッチ）はおお
むね１.６μｍ程度に設定されている。なお、基板径方
向にみて、隣り合う２つのグルーブ部２の間にはランド
部３が形成されている。ここで、グルーブ部２の深さ
は、おおむね０.０３〜０.０８μｍ程度に設定され、グ
ルーブ部２の幅（基板径方向の幅）は、深さが中位の位
置でおおむね０.３〜０.６μｍ程度に設定されている。
なお、基板１の厚さは、おおむね１.２ｍｍ程度に設定
されている。

【００１５】次に、基板１の表側広がり面、すなわちグ
ルーブ部２が形成されている方の広がり面の上に、記録
層が形成され（ステップＳ２）、さらにこの記録層の上
に反射層が形成される（ステップＳ３）。図４に示すよ
うに、記録層及び反射層は、それぞれ、真空処理装置４
内の所定の処理室で形成される。この真空処理装置４に
は、前処理室５と、記録層形成室６と、反射層形成室７
とが設けられている。ここで、真空処理装置４内は、お
おむね１０^-3Torrよりも低圧（高真空側）に保持されて
いる。なお、この圧力は、１０^-4Torrよりも低くするの
がとくに好ましい。

【００１６】かくして、基板搬入部８に置かれた基板１
は、順次、前処理装置９を備えた前処理室５と、色素蒸
着装置１０を備えた記録層形成室６と、金属蒸着装置１
１を備えた反射層形成室７とに搬送されて所定の処理が
施され、この後基板搬出部１２に取り出される。具体的
には、前処理室５では、前処理装置９により、基板１の
表側広がり面に、記録層の基板１への付着性を高めるた
めの前処理が施される。そして、記録層形成室６では、
色素蒸着装置１０により、前処理が施された基板１の表
側広がり面に有機色素が蒸着され、これにより有機色素
からなる記録層が形成される。

【００１７】図５に示すように、記録層形成室６内に配
置された色素蒸着装置１０には、色素容器１３と、該色
素容器１３内に収容された有機色素１４を加熱する電気
ヒーター１５とが設けられている。そして、電気ヒータ
ー１５によって加熱された有機色素１４は気化（昇華）
して有機色素蒸気１６となる、この有機色素蒸気１６は
記録層形成室６内で拡散し、その一部は、ほぼ室温に保
持されている基板１の表側広がり面上で冷却されて固体
化（蒸着）し、該表側広がり面に固着した記録層１７と
なる。詳しくは図示していないが、基板１は基板ホルダ
によって保持され、記録層１７の厚さを均一化するため
に該基板ホルダによって自転させられるようになってい
る。なお、基板１を自転させるとともに、公転させるよ
うにしてもよい。

【００１８】ここで、記録層１７の厚さは、おおむね１
０〜３００ｎｍ程度に設定される。このような厚さの記
録層１７を蒸着させるのに要する時間は、おおむね数秒
〜数十秒程度である。なお、記録層形成室６内には、記
録層１７の厚さを監視するための膜厚モニタ１８が設け
られている。かかる膜厚モニタ１８としては、例えば水
晶振動子モニタ、光学モニタ等を用いることができる。

【００１９】この記録層１７の形成工程において、有機
色素１４は、一般には１００〜５００°Ｃ程度、大抵は
２００〜４００°Ｃ程度に加熱されて気化ないしは昇華
する。ここで、有機色素１４は、ＣＤ−Ｒの記録層材料
として一般に用いられている有機色素であればよく、例
えばフタロシアニン系、ナフタロシアニン系、スクアリ
リウム系、コロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノ
ン系、アントラキノン系、キサンテン系、トリフェニル
メタン系、アズレン系、テトラヒドロコリン系、フェナ
ナスレン系、トリフェノチアゾン系、アゾ系あるいはポ
リメチン系の有機色素材料等を用いることができる。

【００２０】なお、ここでは有機色素１４の加熱源とし
て電気ヒーター１５を用いているが、この加熱源は当該
技術分野で用いられているものであればどのようなもの
でも用いることができる。例えば、光ないしは赤外線の
輻射を利用した加熱源を用いることができる。また、こ
のような色素蒸着装置１０ではなく、スパッタ装置を用
いて記録層１７を形成するようにしてもよい。さらに
は、大気中において、スピンコート法等で有機色素溶液
を塗布して記録層１７を形成してもよい。

【００２１】このようにして記録層１７が形成された
後、基板１は反射膜形成室７に搬送され、金属蒸着装置
１１により、記録層１７の上に金属材料が蒸着され、反
射層２０が形成される。なお、金属蒸着装置１１は、一
般に用いられている普通の金属蒸着装置であるので、そ
の詳しい説明は省略する。この反射層形成工程におい
て、金属材料としては、例えば金（Ａｕ）、銀（Ａ
ｇ）、アルミニウム（Ａｌ）などの反射率の高い金属が
用いられる。なお、このような金属蒸着装置１１ではな
く、スパッタ装置を用いて反射層２０を形成するように
してもよい。

【００２２】このように、基板１の表側広がり面に記録
層１７と反射層２０とが形成された後、該反射層２０の
上に保護層が形成される（ステップＳ４）。以下、この
保護層の具体的な形成手法を説明する。図６（ａ）に示
すように、この保護層形成工程では、まず紫外線硬化樹
脂塗布機２１を用いて、基板１の表側広がり面上に形成
された反射層２０の上に紫外線硬化樹脂２２が塗布され
る（工程Ｔ１）。

【００２３】次に、反射層２０の上に紫外線硬化樹脂２
２が塗布された基板１が、その中心軸まわりに矢印Ｙ₁
で示すように回転（自転）させられ、余剰の紫外線硬化
樹脂２２が除去されて反射層２０の上にほぼ均一な厚さ
の紫外線硬化樹脂層２２が形成される（工程Ｔ２）。つ
まり、反射層２０の上にスピンコートにより紫外線硬化
樹脂層２２が形成される。紫外線硬化樹脂層２２の厚さ
は、おおむね２〜１０μｍ程度である。そして、この工
程Ｔ２では、基板１の裏側広がり面、すなわちグルーブ
部２（図３参照）が形成されていない方の広がり面に紫
外線が照射される。

【００２４】このように、基板１の裏側広がり面に紫外
線を照射するのは、万一反射層２０にピンホールが形成
されている場合でも、液状の紫外線硬化樹脂２２がピン
ホール内に侵入し、さらには記録層１７に侵入して、こ
れにより完成後におけるＣＤ−Ｒのエラーレートが低下
するのを防止するためである。なお、基板１の裏側広が
り面への紫外線照射を開始するタイミングは、反射層２
０にピンホールが形成されている場合において、液状の
紫外線硬化樹脂２２がピンホールに侵入し始める時点よ
りも早くなければならない。以下、基板１の裏側広がり
面に紫外線を照射することにより、万一反射層２０にピ
ンホールが形成されている場合でも、液状の紫外線硬化
樹脂２２のピンホールへの侵入を有効に防止することが
できる理由ないしはメカニズムを説明する。

【００２５】図７（ａ）に示すように、反射層２０にピ
ンホール２６が形成されている場合において、基板１の
裏側広がり面に紫外線が照射されると、この紫外線の一
部は、基板１と記録層１７とを透過した後、ピンホール
２６内を通って反射層２０の上の紫外線硬化樹脂層２２
に到達する。なお、反射層２０は、ピンホール２６以外
の部分では紫外線をほとんで透過させない。その結果、
ピンホール２６の表側端部近傍の紫外線硬化樹脂２７が
硬化させられ、この硬化した固体の紫外線硬化樹脂２７
が該ピンホール２６の表側開口部を閉止（封止）する。
これにより、液状の紫外線硬化樹脂２２がピンホール２
６内に侵入するのが防止される。なお、反射層２０にピ
ンホール２６が形成されている場合において、紫外線硬
化樹脂２２の物性等により、液状の紫外線硬化樹脂２２
がピンホール２６に侵入し始める時期が、紫外線硬化樹
脂層２２の形成が完了する時点よりも遅くなると予測さ
れる特別の状況がある場合は、該工程Ｔ２の終了後に、
基板１の裏側広がり面への紫外線照射を開始するように
してもよい。

【００２６】このように、反射層２０にピンホール２６
が形成されている場合でも、液状の紫外線硬化樹脂２２
のピンホール２６への侵入が防止されるので、該ピンホ
ール２６による欠陥の拡大が防止され、完成後における
ＣＤ−Ｒのエラーレートが良好となる。そして、基板１
の反射層２０の上に紫外線硬化樹脂層２２が形成された
後、基板１の表側から紫外線硬化樹脂層２２に紫外線が
照射される（工程Ｔ３）。かくして、図８（ａ）に示す
ように、該紫外線硬化樹脂層２２が硬化させられて、反
射層２０等を保護する保護層２２となる。なお、この工
程Ｔ３でも、基板１の裏側広がり面への紫外線照射が行
われるが、この裏側広がり面への紫外線照射は省略して
もよい。

【００２７】このように、保護層２２が形成された後、
該ＣＤ−Ｒに対してインライン検査が行われ（ステップ
Ｓ５）、検査結果が良好であれば該ＣＤ−Ｒに、印刷、
組み立て、包装等の後処理が施され（ステップＳ６）、
この後出荷される。

【００２８】以下、本発明にかかるＤＶＤ−Ｒ（追記型
デジタルビデオディスク）の製造方法ないしは製造装置
を説明する。なお、このＤＶＤ−Ｒの製造方法ないしは
製造装置は、大半が前記のＣＤ−Ｒの製造方法ないしは
製造装置と共通であるので、説明の重複を避けるため、
以下では主として前記のＣＤ−Ｒの製造の場合と異なる
点について説明する。

【００２９】図１（ｂ）に示すように、本発明にかかる
ＤＶＤ−Ｒの製造においては、ＣＤ−Ｒの製造の場合と
ほぼ同様に、射出成型により基板１がつくられ（ステッ
プＳ１１）、この基板１の表側広がり面の上に記録層１
７が形成され（ステップＳ１２）、さらに記録層１７の
上に反射層２０が形成される（ステップＳ１３）。ただ
し、ＤＶＤ−Ｒの場合は、基板１の厚さは、ＣＤ−Ｒの
場合（１.２ｍｍ）よりも薄く、０.６ｍｍ程度に設定さ
れる。これは、ＤＶＤ−Ｒの場合は、後記のとおり、基
板１（反射層２０）の表側に厚さが０.６ｍｍ程度のカ
バー基板２５（図８（ｂ）参照）が接着されるので、該
ＤＶＤ−Ｒ全体としての厚さを１.２ｍｍ程度に抑える
ためである。また、トラックピッチは、ＣＤ−Ｒの場合
（１.６μｍ）の場合よりも小さく、０.７４μｍ程度に
設定される。

【００３０】ＤＶＤ−Ｒの製造の場合は、基板１の表側
広がり面の上に記録層１７と反射層２０とが形成された
後、反射層２０の上に接着層が形成され（ステップＳ１
４）、この接着層の上にカバー基板２５（図８（ｂ）参
照）が接着される（ステップＳ１５）。以下、ＤＶＤ−
Ｒの製造における接着層形成工程とカバー基板接着工程
とについて具体的に説明する。

【００３１】図６（ｂ）に示すように、この場合、まず
接着剤塗布機２３を用いて、基板１の表側広がり面上に
形成された反射層２０の上に、紫外線硬化樹脂からなる
接着剤２４が塗布される（工程Ｔ１１）。

【００３２】次に、基板１の表側広がり面（接着剤層２
４）の上にカバー基板２５が載せられる（工程Ｔ１
２）。続いて、接着剤層２４を介して互いに密着してい
る基板１とカバー基板２５とが、その中心軸まわりに矢
印Ｙ₂で示すように回転（自転）させられ、余剰の接着
剤２４が除去されるとともに、接着剤層２４の厚さが調
整される。これにより、基板１とカバー基板２５との間
に、おおむね３０〜７０μｍ程度の厚さの接着剤層２４
が形成される（工程Ｔ１３）。

【００３３】ここで、接着剤層２４を形成しないしはそ
の厚さを調整する工程Ｔ１３では、基板１の裏側広がり
面、すなわちグルーブ部２（図３参照）が形成されてい
ない方の広がり面に紫外線が照射される。このように、
基板１の裏側広がり面に紫外線を照射するのは、前記の
ＣＤ−Ｒの製造の場合と同様の理由による。すなわち、
図７（ｂ）に示すように、反射層２０にピンホール２８
が形成されている場合において、基板１の裏側広がり面
に紫外線が照射されると、この紫外線の一部は、基板１
と記録層１７とを透過した後、ピンホール２８内を通っ
て反射層２０の上の接着剤層２４に到達する。その結
果、ピンホール２８の表側端部近傍の接着剤２９が硬化
させられ、この硬化した固体の接着剤２９が該ピンホー
ル２８の表側開口部を閉止（封止）する。これにより、
液状の接着剤２４がピンホール２８内に侵入するのが防
止される。なお、反射層２０にピンホール２８が形成さ
れている場合において、接着剤２４の物性等により、液
状の接着剤２４がピンホール２８に侵入し始める時期
が、接着剤層２４の形成が完了する時点よりも遅くなる
と予測される特別の状況がある場合は、該工程Ｔ１２の
終了後に、基板１の裏側広がり面への紫外線照射を開始
するようにしてもよい。

【００３４】このように、反射層２０にピンホール２８
が形成されている場合でも、液状の接着剤２４のピンホ
ール２８への侵入が防止されるので、該ピンホール２８
による欠陥の拡大が防止され、完成後におけるＤＶＤ−
Ｒのエラーレートが良好となる。

【００３５】このようにして、基板１とカバー基板２５
との間の接着剤層２４の厚さが調整された後、カバー基
板２５側から接着剤層２４に紫外線が照射される（工程
Ｔ１４）。かくして、図８（ｂ）に示すように、該接着
剤層２４が硬化させられ、カバー基板２５が基板１（Ｄ
ＶＤ−Ｒ本体側）に接着される。なお、この工程Ｔ１４
でも、基板１の裏側広がり面への紫外線照射が行われる
が、この裏側広がり面への紫外線照射は省略してもよ
い。

【００３６】このように、カバー基板２５が基板１に接
着された後、該ＤＶＤ−Ｒに対してインライン検査が行
われ（ステップＳ１６）、検査結果が良好であれば、該
ＤＶＤ−Ｒに、印刷、組み立て、包装等の後処理が施さ
れ（ステップＳ１７）、この後出荷される。

【００３７】以上、本発明によれば、反射層にピンホー
ルが形成されている場合でも、該ピンホールによる欠陥
の拡大を防止することができ、エラーレートが良好な光
記録媒体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 （ａ）は本発明にかかるＣＤ−Ｒの製造工程
を示すフローチャートであり、（ｂ）は本発明にかかる
ＤＶＤ−Ｒの製造工程を示すフローチャートである。

【図２】 ＣＤ−ＲないしはＤＶＤ−Ｒの基板の斜視図
である。

【図３】 図２に示す基板を基板径方向に切断した縦断
面を示す断面図である。

【図４】 基板の表側広がり面に記録層及び反射層を形
成する真空処理装置の模式図である。

【図５】 図４に示す真空処理装置の記録層形成室の模
式図である。

【図６】 （ａ）はＣＤ−Ｒの製造における保護層の形
成手順を示す図であり、（ｂ）はＤＶＤ−Ｒの製造にお
ける接着剤層の形成手順及びカバー基板の接着手順を示
す図である。

【図７】 （ａ）は裏側広がり面に紫外線が照射されて
いる状態においてＣＤ−Ｒの基板を基板径方向に切断し
た縦断面を示す断面図であり、（ｂ）は裏側広がり面に
紫外線が照射されている状態においてＤＶＤ−Ｒの基板
を基板径方向に切断した縦断面を示す断面図である。

【図８】 （ａ）は保護層形成後においてＣＤ−Ｒを基
板径方向に切断した縦断面を示す断面図であり、（ｂ）
はカバー基板接着後においてＤＶＤ−Ｒを基板径方向に
切断した縦断面を示す断面図である。

【符号の説明】

１…基板、２…グルーブ部、３…ランド部、４…真空処
理装置、５…前処理室、６…記録層形成室、７…反射層
形成室、８…基板搬入部、９…前処理室装置、１０…色
素蒸着装置、１１…金属蒸着装置、１２…基板搬出部、
１３…色素容器、１４…有機色素、１５…電気ヒータ
ー、１６…有機色素蒸気、１７…記録層、１８…膜厚モ
ニタ、２０…反射層、２１…紫外線硬化樹脂塗布機、２
２…紫外線硬化樹脂（紫外線硬化樹脂層、保護層）、２
３…接着剤塗布機、２４…接着剤（接着剤層）、２５…
カバー基板、２６…ピンホール、２７…硬化した紫外線
硬化樹脂、２８…ピンホール、２９…硬化した接着剤。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−10348（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−164242（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−40146（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−21438（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−159394（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−12857（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 7/26

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光を用いて読み出すことが可能な形態で
   情報を記録する光記録媒体の製造方法であって、 円板形の基板の２つの広がり面のうちの第１の広がり面
   の上に、少なくとも有機色素を含む記録層を形成し、 上記記録層の上に反射層を形成し、 上記反射層の上に紫外線硬化樹脂を塗布する一方、該紫
   外線硬化樹脂塗布時に上記基板の第２の広がり面に紫外
   線を照射し、 紫外線硬化樹脂の塗布終了後に、上記基板の第１の広が
   り面側から上記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して該紫
   外線硬化樹脂を硬化させることを特徴とする光記録媒体
   の製造方法。
2. 【請求項２】 上記基板の第１の広がり面側から上記紫
   外線硬化樹脂に紫外線を照射する際にも、上記基板の第
   ２の広がり面に紫外線を照射することを特徴とする、請
   求項１に記載された光記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 上記光記録媒体が、上記記録層に光を照
   射することにより一度だけ情報の書き込みが可能な追記
   型光記録媒体であることを特徴とする、請求項１又は２
   に記載された光記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 上記光記録媒体がコンパクトディスクで
   あって、上記紫外線硬化樹脂が、硬化後に上記反射層を
   保護する保護層となることを特徴とする、請求項３に記
   載された光記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 上記光記録媒体がデジタルビデオディス
   クであって、上記紫外線硬化樹脂が、硬化後にカバー基
   板を光記録媒体本体側に接着させる接着層となることを
   特徴とする、請求項３に記載された光記録媒体の製造方
   法。
6. 【請求項６】 光を用いて読み出すことが可能な形態で
   情報を記録する光記録媒体の製造装置であって、 円板形の基板の２つの広がり面のうちの第１の広がり面
   の上に、少なくとも有機色素を含む記録層を形成する記
   録層形成装置と、 上記記録層の上に反射層を形成する反射層形成装置と、 上記反射層の上に紫外線硬化樹脂を塗布する紫外線硬化
   樹脂塗布装置と、 紫外線硬化樹脂塗布時に、上記基板の第２の広がり面に
   紫外線を照射する副紫外線照射装置と、 紫外線硬化樹脂の塗布終了後に、上記基板の第１の広が
   り面側から上記紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して該紫
   外線硬化樹脂を硬化させる主紫外線照射装置とが設けら
   れていることを特徴とする光記録媒体の製造装置。
7. 【請求項７】 上記副紫外線照射装置が、上記主紫外線
   照射装置によって上記基板の第１の広がり面側から上記
   紫外線硬化樹脂に紫外線が照射される際にも、上記基板
   の第２の広がり面に紫外線を照射するようになっている
   ことを特徴とする、請求項６に記載された光記録媒体の
   製造装置。
8. 【請求項８】 上記光記録媒体が、上記記録層に光を照
   射することにより一度だけ情報の書き込みが可能な追記
   型光記録媒体であることを特徴とする、請求項６又は７
   に記載された光記録媒体の製造装置。
9. 【請求項９】 上記光記録媒体がコンパクトディスクで
   あって、上記紫外線硬化樹脂が、硬化後に上記反射層を
   保護する保護層となることを特徴とする、請求項８に記
   載された光記録媒体の製造装置。
10. 【請求項１０】 上記光記録媒体がデジタルビデオディ
    スクであって、上記紫外線硬化樹脂が、硬化後にカバー
    基板を光記録媒体本体側に接着させる接着層となること
    を特徴とする、請求項８に記載された光記録媒体の製造
    装置。