JP3346734B2 - 処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、例えばＬＣＤ基板
等の被処理体に各種処理を施す複数の処理ユニットから
なる処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
されている。

【０００３】一般に、このような処理装置は、ＬＣＤ基
板の洗浄ユニット、洗浄後にＬＣＤ基板に疎水化処理を
施すアドヒージョン処理ユニット、フォトレジスト膜
（感光膜）を塗布形成するレジスト塗布ユニット、ＬＣ
Ｄ基板にプリベーク、ポストベーク処理等を施すための
加熱処理ユニット、ＬＣＤ基板を冷却する冷却ユニッ
ト、処理装置外の露光装置で露光後に所定の現像液を塗
布してＬＣＤ基板の現像を行う現像ユニット等から構成
されている。

【０００４】このような各種処理ユニットにより、ＬＣ
Ｄ基板の洗浄、ＬＣＤ基板の疎水化処理、フォトレジス
ト膜の形成、フォトレジスト膜のベーキングを行い、露
光装置でパターンの露光を行った後、さらに基板の現像
を行うことにより、ＬＣＤ基板の塗布・現像の一連の処
理が完了する。

【０００５】また、このような処理システムでは、各種
処理を行う処理ユニットとの間でＬＣＤ基板の受渡しを
行うための搬送装置が設けられており、両側に各種処理
ユニットを配した搬送路に沿って、ＬＣＤ基板を載置し
た搬送装置が移動するようになっている。

【０００６】このような処理装置において、搬送路はユ
ニット化されており、各種処理ユニットの排気・排液経
路は、搬送路ユニットの筐体内における搬送装置の下方
のスペースに配設されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、搬送路
ユニットの筐体内のスペースには、排気・排液経路以外
の種々の配管が配設されており、したがってこのような
排気・排液経路は、搬送路ユニットの筐体内を迂回して
配置せざるを得ず、そのため、排出経路が長くなって効
率が悪いという問題点がある。また、搬送装置のメンテ
ナンス等を行う場合には、搬送路ユニットの筐体内に作
業者が入り込む必要があるが、この際に筐体内の排出経
路が作業者の邪魔になり、メンテナンス性が悪いといっ
た不都合もある。

【０００８】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であり、排気・排液の排出経路を極力短くして排出効率
を向上すると共に、メンテナンス性を向上した処理装置
を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、第１発明は、搬送路ユニットと、搬送路ユニットの
両側に設けられ、被処理体に対して各種処理を施す複数
の処理ユニットと、前記搬送路ユニットの中を移動し、
被処理体を載置して搬送するとともに各処理ユニットの
間で被処理体の受け渡しを行う搬送装置と、前記各処理
ユニットから排気または排液を行う排出経路とを具備
し、前記搬送路ユニットの筐体の下面には走行移動用の
キャスタが設けられ、前記排出経路は、前記搬送路ユニ
ットの筐体の下方に前記キャスタによって形成された空
間に配置されていることを特徴とする処理装置を提供す
る。

【００１０】第２発明は、搬送路ユニットと、前記搬送
路ユニットの両側に設けられ、被処理体に対して各種処
理を施す複数の処理ユニットと、前記搬送路ユニットの
中を移動し、被処理体を載置して搬送するとともに各処
理ユニットの間で被処理体の受け渡しを行う搬送装置
と、前記各処理ユニットから排気または排液を行う排出
経路とを具備し、前記搬送路ユニットの一方の側には前
記複数の処理ユニットのうち、液体処理を行う液体処理
ユニットが配置され、前記搬送路ユニットの他方の側に
は前記複数の処理ユニットのうち、加熱処理を行う加熱
処理ユニットが配置され、前記搬送路ユニットの筐体の
下面には走行移動用のキャスタが設けられ、前記排出経
路は、前記搬送路ユニットの筐体の下方に前記キャスタ
によって形成された空間に搬送路の搬送方向に略直交す
るように配置され、前記液体処理ユニットから対向配置
された前記加熱処理ユニットへ至るように設けられてい
ることを特徴とする処理装置を提供する。

【００１１】第３発明は、被処理体を回転させて液処理
する複数の回転処理装置を一方向に配置してなる回転処
理装置群と、被処理体を加熱して処理する複数の加熱処
理装置を前記一方向と同一方向に配置してなる加熱処理
装置群と、これら加熱処理装置群と回転処理装置群との
間に配置され前記被処理体を搬送する搬送機構が配置さ
れた搬送機構部と、前記回転処理装置群の複数の回転処
理装置のそれぞれの排気および／または排液の排出経路
を前記加熱処理装置群の下方位置で連結するダクトとを
具備し、前記搬送機構部は、筐体と、この筐体の下面に
設けられた走行移動用のキャスタとを有し、前記排出経
路は、前記筐体の下方に前記キャスタによって形成され
た空間に搬送路の搬送方向に略直交するように配置さ
れ、前記回転処理装置から対向配置された前記加熱処理
装置へ至るように設けられていることを特徴とする処理
装置を提供する。

【００１２】本発明によれば、従来のように排出経路が
搬送路ユニットの筐体内に配設されているのではなく、
処理ユニットから延出した排出経路は、搬送路ユニット
の筐体の下方に前記キャスタによって形成された空間に
配置されているので、排出経路を迂回させる必要がな
く、排出経路を短くすることができ、その結果、排出効
率を向上することができる。また、排出経路が搬送路ユ
ニットの筐体内に存在しないので、搬送路ユニットの筐
体内に作業者が入り込んで搬送装置のメンテナンスを行
う際に、排出経路が作業者の邪魔になるといったことが
なく、メンテナンス性を著しく向上させることができ
る。

【００１３】また、搬送路ユニットの一方の側には複数
の処理ユニットのうち、液体処理を行う液体処理ユニッ
トが配置され、搬送路ユニットの他方の側には複数の処
理ユニットのうち、加熱処理を行う加熱処理ユニットが
配置され、排出経路は、前記搬送路ユニットの筐体の下
方に前記キャスタによって形成された空間に搬送路の搬
送方向に略直交するように配置され、前記液体処理ユニ
ットから対向配置された前記加熱処理ユニットへ至るよ
うに設けられているので、液体処理ユニットから加熱処
理ユニットへ至るように最短化された排出経路で排気・
排液することができ、加熱処理ユニット側から一括して
排気・排液を行うことができるので、排気・排液の効率
が高く、かつ排出経路のメンテナンス性が極めて高い。

【００１４】第１発明において、排出経路が、搬送路ユ
ニットの筐体の下方に前記キャスタによって形成された
空間に搬送路の搬送方向に略直交するように配置され、
前記搬送路ユニットの一方側の処理ユニットから他方側
の処理ユニットへ至るように設けることにより、排気・
排液を搬送路ユニットの一方側に集約することができ、
排気・排液の効率が高く、かつ排出経路のメンテナンス
性が極めて高く、さらに排出経路を最短化することがで
きる。

【００１５】第１発明および第２発明において、排出経
路が複数のボックス状ダクトを着脱自在に組み合わせて
なるようにすることにより、装置の組立の際には、排気
・排液の排出経路として複数のボックス状ダクトを適宜
組み合わせればよく、種々の装置仕様に対応して容易に
組立てることができ、装置の構造の簡素化およびメンテ
ナンス性の向上も図ることができる。また、各処理ユニ
ットの位置を組み替える際にも、それに対応してボック
ス状ダクトを適宜組み合わせればよく、所望の処理工程
に応じて各種処理ユニットを組み込んだ処理装置を構築
することができる。

【００１６】さらに、各処理ユニットを互いに着脱自在
に連結するジョイント手段をさらに具備することによ
り、ジョイント手段の連結・解除により、搬送路に対す
る各種処理ユニットの位置を簡単にかつ自由に組み替え
ることができ、ひいては、処理装置全体のスループット
を向上させることができる。

【００１７】さらにまた、第２発明において、熱的処理
ユニットに接続されるダクトをさらに具備し、液体処理
ユニットの排出経路および熱的処理ユニットの排気経路
がダクトに接続されているようにすることにより、搬送
路ユニットの一方の側に集約された排出口にダクトをは
め込むだけで排気・排液を行うことができ、組立が極め
て容易であるとともに、装置構成を極めて簡略化するこ
とができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明が適用
されるＬＣＤ基板の塗布・現像処理システムを示す斜視
図である。

【００１９】この塗布・現像処理システムは、複数の基
板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーシ
ョン１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連
の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部
２と、カセットステーション１上のカセットＣと処理部
２との間でＬＣＤ基板の搬送を行うための搬送機構３と
を備えている。そして、カセットステーション１におい
てカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構３は
カセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１２上を
移動可能な搬送アーム１１とを備え、この搬送アーム１
１によりカセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬送が
行われる。

【００２０】処理部２は、前段部２ａと後段部２ｂとに
分かれており、それぞれ中央に搬送路ユニット１５、１
６を有しており、これら搬送路の両側に各処理ユニット
が配設されている。そして、これらの間には中継部１７
が設けられている。

【００２１】前段部２ａは、搬送路ユニット１５に沿っ
て移動可能な主搬送装置１８を備えており、搬送路１５
の一方側には、上下２段に積層されてなる２組の加熱処
理ユニット２１、ならびにそれに隣接して上下に設けら
れたアドヒージョン処理ユニット２２および冷却ユニッ
ト２３が配置されており、他方側には洗浄ユニット２４
および現像処理ユニット２５が配置されている。

【００２２】一方、後段部２ｂは、搬送路ユニット１６
に沿って移動可能な主搬送装置１９を備えており、搬送
路ユニット１６の一方側には、二段積層されてなる３組
の加熱処理ユニット２８が配置されており、搬送路ユニ
ット１６の他方側には、レジスト塗布ユニット２６およ
び基板Ｇの周辺部のレジストを除去する周辺レジスト除
去ユニット２７が配置されている。加熱処理ユニット２
８は、レジストの安定化のためのプリベーク、露光後の
ポストエクスポージャーベーク、および現像後のポスト
ベーク処理を行うものである。なお、後段部２ｂの後端
には、露光装置（図示せず）との間で基板Ｇの受け渡し
を行うためのインターフェース部３０が設けられてい
る。

【００２３】中継部１７には、加熱処理ユニット２８に
隣接した位置に、二段積層されてなる冷却処理ユニット
２９が設けられており、冷却処理ユニット２９に対向す
る位置に、薬液供給ユニット８１および搬送装置進入路
８２が設けられている。

【００２４】上記主搬送装置１８は、搬送機構３のアー
ム１１との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、前段
部２ａの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、
さらには中継部１７との間で基板Ｇの受け渡しを行う機
能を有している。また、主搬送装置１９は中継部１７と
の間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、後段部２ｂの
各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらには
インターフェース部３０との間の基板Ｇの受け渡しを行
う機能を有している。

【００２５】このように各処理ユニットを集約して一体
化することにより、省スペース化および処理の効率化を
図ることができる。

【００２６】このように構成される塗布・現像処理シス
テムにおいては、カセットＣ内の基板Ｇが、処理部２に
搬送され、処理部２では、まず、洗浄ユニット２４によ
り洗浄処理され、加熱処理ユニット２１の一つで加熱乾
燥された後、レジストの定着性を高めるためにアドヒー
ジョン処理ユニット２２にて疎水化処理され、冷却ユニ
ット２３で冷却後、レジスト塗布ユニット２６でレジス
トが塗布され、周辺レジスト除去ユニット２７で基板Ｇ
の周縁の余分なレジストが除去される。その後、基板Ｇ
は、加熱処理ユニット２８の一つでプリベーク処理さ
れ、冷却ユニット２９で冷却された後、インターフェー
ス部３０を介して露光装置に搬送されてそこで所定のパ
ターンが露光される。そして、再びインターフェース部
３０を介して搬入され、加熱処理ユニット２８の一つで
ポストエクスポージャーベーク処理が施される。その
後、冷却ユニット２９で冷却された基板Ｇは、現像処理
ユニット２５で現像処理され、所定の回路パターンが形
成される。現像処理された基板Ｇは、主搬送装置１８お
よび搬送機構３によってカセットステーション１上の所
定のカセットに収容される。

【００２７】次に、本発明の塗布・現像処理システムの
各種処理ユニットの排気・排液構造について、現像処理
ユニット２５を代表して説明する。図２は、本発明の塗
布・現像処理システムにおける現像処理ユニット２５か
ら加熱処理ユニット２１に至る模式的断面図である。ま
た、図３は現像処理ユニット２５の概略構成を示す模式
図、図４は現像処理ユニット２５の模式的平面図、図５
は現像処理ユニットの処理工程を示す工程図、図６は現
像処理ユニットの模式的断面図である。

【００２８】図２に示すように、現像処理ユニット２５
は、筐体２５ａを有しており、その中の上部にスピンチ
ャック３１が設けられている。そして、筐体２５ａの下
部には現像処理の際に排気・排液するための排出経路６
０が接続されており、この排出経路６０は搬送路ユニッ
ト１５の筐体１５ａの下方を通って加熱処理ユニット２
１の筐体２１ａの下部へ延びている。なお、排出経路６
０の詳細については後述する。また、図示するように、
現像処理ユニット２５の筐体２５ａ、搬送路ユニット１
５の筐体１５ａ、加熱処理ユニット２１の筐体２１ａの
下面には走行移動のためにキャスタ５１が設けられてい
る。なお、他のユニットも同様のキャスタが設けられて
いる。

【００２９】現像処理ユニット２５は、図３および図４
に示すように、基板Ｇを真空吸着によって保持し水平方
向に回転する上記スピンチャック３１と、このスピンチ
ャック３１および基板Ｇを包囲する容器３２と、基板Ｇ
の表面のレジスト膜面に処理液として所定の現像液を供
給する現像液供給ノズル３３と、基板Ｇの現像液を吸引
により回収する吸引ノズル３４と、現像後の基板Ｇ表面
の回路パターンにリンス液（洗浄液）を供給する洗浄液
供給ノズル３５と、これら現像液供給ノズル３３、吸引
ノズル３４をそれぞれ側方に設けた待機位置および基板
Ｇより上方の処理位置に移動する移動機構３６とを具備
してなる。

【００３０】この場合、現像液供給ノズル３３は、現像
液供給管３７を介して現像液収容タンク３８に接続さ
れ、現像液供給管３７に介設されるポンプ３９の駆動お
よびバルブ４０の開閉操作によって現像液が供給される
ように構成されている。また、吸引ノズル３４は、吸引
機構４１を有する排液排出管４２を介してボックス状ダ
クト４３に接続されている。また、スピナー排気は、後
述する排出経路６０のボックス状ダクト６１を介して排
出されるようになっている。

【００３１】このように構成される現像処理ユニット２
５においては、まず、メインアーム１８により基板Ｇを
その中へ搬入し、スピンチャック３１上に基板を真空吸
着によって保持した状態で、図５（ａ）に示すように、
現像液供給ノズル３３を基板Ｇの短辺または長辺方向に
スキャンさせて、基板Ｇ表面に所定の厚さ例えば２ｍｍ
程度になるように現像液Ｌを供給する。次に、現像液供
給ノズル３３を待機位置に後退させ所定時間、現像処理
を行った後、図示しない吸引機構によって吸引ノズル３
４を負圧状態にさせて、図５（ｂ）に示すように、吸引
ノズル３４をその先端部が基板Ｇに接触しない程度の間
隔、例えば０．５ｍｍ程度に近づけた状態に設定し、ス
キャンさせて現像液Ｌの上澄み部分の余剰となった現像
液Ｌａを吸引し、これをボックス状ダクト４３を介して
処理設備へ送り再生する。次に、吸引ノズル３４によっ
て現像液Ｌａがほぼ回収された後、図５（ｃ）に示すよ
うに、洗浄液供給ノズル３５を基板Ｇの上方に移動し、
リンス液（洗浄液）を供給すると共に、スピンチャック
３１を回転させることにより、リンス液で基板Ｇ上に残
っている現像液Ｌを洗い流す。そして、洗浄液の供給を
停止した洗浄液供給ノズル３５を待機位置に後退させた
後、図５（ｄ）に示すように、スピンチャック３１を高
速で回転させて基板Ｇ上に付着する現像液、リンス液を
遠心力で吹き飛ばして乾燥を行って、処理が終了する。

【００３２】図６に示すように、搬送路ユニット１５の
フレーム５２には、各種処理ユニットを任意に取り替え
るためのジョイント手段５３が設けられている。このジ
ョイント手段５３は、図６に示すように、例えば、フレ
ーム５２に沿って所定間隔を隔てて固定された第１のブ
ラケット５４と、この第１のブラケット５４から搬送路
１６の外側に水平に張り出されたボルト５５と、フレー
ム５２の着脱面に固定されボルト５５の挿通を許容する
ためのボルト挿通孔５６を有する第２のブラケット５７
と、ボルト５５に螺合して第１のブラケット５４に対し
て第２のブラケット５７をを固定するためのナット５８
とで構成されている。この場合、ボルト挿通孔５６の孔
ピッチは、互いに等しく、また、フレーム５２のボルト
ピッチに対して等しく設定されている。また、ボルト挿
通孔５６の孔径は、ボルト５５の外径よりも大きく、ま
たは長孔状に形成され、遊びが得られるようになってい
る。

【００３３】なお、第１のブラケット５４を搬送路１６
のフレーム５２に取り付け、第２のブラケット５７を各
種処理ユニットの側面に取り付けることは勿論可能であ
り、また、ジョイント手段５３は、各種処理ユニットを
着脱し得るものであればよく、必ずしもボルト・ナット
に限定されるものではない。さらに、ジョイント手段
は、各種処理ユニット同士の連結に用いられてもよい。
なお、搬送路ユニット１６も同様の構成を有している。

【００３４】次に、図２、図７および図８を参照して、
各種処理ユニットの排気・排液の排出経路について詳細
に説明する。図７は現像処理ユニットおよびレジスト塗
布ユニットのスピナー排気の排出経路を示す平面図、ま
た、図８は、図２に示すスピナー排気の排出経路６０に
用いられるボックス状ダクトの斜視図である。

【００３５】図７に示すように、現像処理ユニット２５
のスピナー排気の排出経路６０は、大略的に、主搬送装
置１８の搬送路ユニット１５の下側で搬送路ユニット１
５に略直交するように配置されていると共に、搬送路ユ
ニット１５を挟んで対向して配置された加熱処理ユニッ
ト２１の下側に延出されている。同様に、洗浄ユニット
２４の排気の排気経路７０も、主搬送装置１８の搬送路
ユニット１５の下側で搬送路ユニット１５に略直交する
ように配置されていると共に、搬送路ユニット１５を挟
んで対向して配置された加熱処理ユニット２１の下側に
延出されている。また、レジスト塗布ユニット２６のス
ピナー排気の排出経路７１、および周辺レジスト除去ユ
ニット２７の排気の排出経路７２は、大略的には、主搬
送装置１９の搬送路ユニット１６の下側で搬送路ユニッ
ト１６に略直交するように配置されていると共に、搬送
路ユニット１６を挟んで対向して配置された熱処理ユニ
ット２８の下側に延出されている。

【００３６】具体的な構造として、図２および図８に示
すように、例えば現像処理ユニット２５のスピナー排気
の排出経路６０の一部として、現像処理ユニット２５の
下部にボックス状ダクト６１が設けられている。このボ
ックス状ダクト６１の側方には、上下方向に配置された
ボックス状ダクト６２が連接されている。このボックス
状ダクト６２の下部には、加熱処理ユニット２１側へ略
水平に長尺に延出するように存在するボックス状ダクト
６３が連接されている。このボックス状ダクト６３は、
搬送路ユニット１５の筐体の下方のキャスター５１によ
って形成された空間に存在しており、その反対側端部に
は、上下方向に配置されたボックス状ダクト６４が連接
され、このボックス状ダクト６４の上部に、加熱処理ユ
ニット２１の下部内を略水平に延出したボックス状ダク
ト６５が連接されている。さらに、このボックス状ダク
ト６５は、加熱処理ユニット２１の側部に配置されて他
の処理ユニットの排気をも共通して排出するボックス状
ダクト６６に連接されている。

【００３７】また、図９に示す変形例では、加熱処理ユ
ニット２１の下部に配置されたボックス状ダクト６５
に、加熱処理ユニット２１の床下に配置されて他の処理
ユニットの排気をも共通して排出するボックス状ダクト
６７が連接されている。

【００３８】図１０は現像処理ユニットおよび洗浄処理
ユニットの排液の排出経路を示す平面図である。図１０
に示すように、現像処理ユニット２５および洗浄ユニッ
ト２４の排液の排出経路７３は、搬送路１５の下側で共
通の排出路に接続された後、搬送路１６の下側で搬送路
１６に略直交するように配置されていると共に、搬送路
１５を挟んで対向して配置された冷却処理ユニット２３
の下側に延出されている。この場合にも、排液の排出経
路の構造は、上記の場合と同様に、ボックス状ダクトの
組み合わせによって構成されている。

【００３９】図１１は加熱処理ユニット等の熱排気の排
出経路を示す平面図である。図１１に示すように、加熱
処理ユニット２１，２８等の熱排気の排出経路７４は、
搬送路ユニット１５，１６寄りで加熱処理ユニット２
１，２８等の下側の共通の経路に接続された後、加熱処
理ユニット２１，２８等の下側を横断して外側に延出さ
れている。これにより、複数の処理ユニットから排出さ
れた熱排気が、ダクト７５を通して外部に排出される。

【００４０】この場合に、図１２に示すように、ダクト
７５および上述のボックス状ダクト６５を加熱処理ユニ
ット等の熱的処理ユニットの配列方向に延在する共通ダ
クト７６に嵌合するようにしてもよい。

【００４１】以上のように、現像処理ユニット２５等の
排気・排液の排出経路は、搬送路ユニット１５，１６の
筐体の下方のキャスター５１によって形成された空間に
配置されているので、排出経路を迂回させる必要がな
く、排出経路を短くすることができ、その結果、排出効
率を向上することができる。また、排出経路が搬送路ユ
ニット１５，１６の筐体１５ａ，１６ａ内に存在しない
ので、これら筐体内に作業者が入り込んで搬送装置のメ
ンテナンスを行う際に、排出経路が作業者の邪魔になる
といったことがなく、メンテナンス性を著しく向上させ
ることができる。

【００４２】また、排出経路が、搬送路ユニット１５，
１６の一方側の処理ユニットから他方側の処理ユニット
に至るように設けられているので、排気・排液を搬送路
ユニットの一方側に集約することができ、排気・排液の
効率が高く、かつ排出経路のメンテナンス性が極めて高
い。この場合に、搬送路ユニット１５，１６の一方の側
には液体処理を行う液体処理ユニットが配置され、他方
の側には熱的処理を行う熱的処理ユニットが配置されて
いるので、排出経路を液体処理ユニットから対向配置さ
れた熱的処理ユニットへ至るように極短い距離にして排
気・排液することができ、しかも熱処理ユニット側から
一括して排気・排液を行うことができるので、排気・排
液の効率および排出経路のメンテナンス性をさらに一層
高くすることができる。この場合に、排出経路が搬送路
ユニット１５，１６に略直交するように配置されている
ので排出経路は最短化されている。さらに、上記のよう
に、ダクト７５および上述のボックス状ダクト６５を加
熱処理ユニット等の熱的処理ユニットの配列方向に延在
する共通ダクト７６に嵌合するようにすることにより、
搬送路ユニット１５，１６の一方の側に集約された排出
口にダクトをはめ込むだけで排気・排液を行うことがで
き、組立が極めて容易であるとともに、装置構成を極め
て簡略化することができる。

【００４３】さらに、排出経路は、複数のボックス状ダ
クト６等を着脱自在に組み合わせてなるため、装置の組
立の際には、排気・排液の排出経路として複数のボック
ス状ダクトを適宜組み合わせればよく、種々の装置仕様
に対応して容易に組立てることができ、装置の構造の簡
素化およびメンテナンス性の向上も図ることができる。
また、各種処理ユニットの位置を組み替える際には、排
気・排液の排出経路として複数のボックス状ダクト６１
等を適宜組み合わせればよく、所望の処理工程に応じて
各種処理ユニットを組み込んだ処理システムを構築する
ことができると共に、装置の構造の簡素化も図ることが
できる。

【００４４】さらにまた、ジョイント手段５３が設けら
れており、排出経路がボックス状ダクト６１等の組み合
わせにより構成されているため、図１３に示すように、
各種処理ユニットをサブアッセイとして、工場、または
設置場所の周辺で予め組み立てておき、組み立てられた
サブアッセイを敷地に搬入して所定のシステムを構築し
たり、また、同様にして各種処理ユニットのレイアウト
のためのサブアッセイを組み替え、これを搬入すること
によって所望のラインを構築することが自在となり、塗
布・現像の工程変更、システムの設置スペースの規制に
対して十分対応したシステムを構築することができる。
このように、搬送路に対する各種処理ユニットの位置を
簡単にかつ自由に組み替えることができ、ひいては、処
理システム全体のスループットを向上することができ
る。

【００４５】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態
では、排出経路６０等を搬送路ユニットの一方側の処理
ユニットから他方側の処理ユニットに至るように設けた
が、図１４に示すように、搬送路ユニット１５の直下に
おいてボックス状ダクト６３’から直接排気または排液
する排出経路６０’を設けてもよい。

【００４６】また、上記実施の形態では、本発明に係る
処理システムをＬＣＤ基板の塗布・現像処理システムに
適用した場合について説明しているが、本発明に係る処
理システムは、ＬＣＤ基板以外の被処理体例えば半導体
ウエハの塗布・現像処理システムやその他の各種処理手
段を具備する処理装置にも適用できることは勿論であ
る。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
排出経路が搬送路ユニットの筐体内に配設されているの
ではなく、処理ユニットから延出した排出経路は、搬送
路ユニットの筐体の下方に前記キャスタによって形成さ
れた空間に配置されているので、排出経路を迂回させる
必要がなく、排出経路を短くすることができ、その結
果、排出効率を向上することができる。また、排出経路
が搬送路ユニットの筐体内に存在しないので、搬送路ユ
ニットの筐体内に作業者が入り込んで搬送装置のメンテ
ナンスを行う際に、排出経路が作業者の邪魔になるとい
ったことがなく、メンテナンス性を著しく向上させるこ
とができる。

【００４８】このような構成において、排出経路が、搬
送路ユニットの筐体の下方に前記キャスタによって形成
された空間に搬送路の搬送方向に略直交するように配置
され、前記搬送路ユニットの一方側の処理ユニットから
他方側の処理ユニットへ至るように設けることにより、
排気・排液を搬送路ユニットの一方側に集約することが
でき、排気・排液の効率が高く、かつ排出経路のメンテ
ナンス性が極めて高く、さらに排出経路を最短化するこ
とができる。

【００４９】また、搬送路ユニットの一方の側には複数
の処理ユニットのうち、液体処理を行う液体処理ユニッ
トが配置され、搬送路ユニットの他方の側には複数の処
理ユニットのうち、加熱処理を行う加熱処理ユニットが
配置され、排出経路は、前記搬送路ユニットの筐体の下
方に前記キャスタによって形成された空間に搬送路の搬
送方向に略直交するように配置され、前記液体処理ユニ
ットから対向配置された前記加熱処理ユニットへ至るよ
うに設けられているので、液体処理ユニットから加熱処
理ユニットへ至るように最短化された排出経路で排気・
排液することができ、加熱処理ユニット側から一括して
排気・排液を行うことができるので、排気・排液の効率
が高く、かつ排出経路のメンテナンス性が極めて高い。

【００５０】さらに、排出経路を、複数のボックス状ダ
クトを着脱自在に組み合わせてなるようにすることによ
り、装置の組立の際には、排気・排液の排出経路として
複数のボックス状ダクトを適宜組み合わせればよく、種
々の装置仕様に対応して容易に組立てることができ、装
置の構造の簡素化およびメンテナンス性の向上も図るこ
とができる。また、各処理ユニットの位置を組み替える
際にも、それに対応してボックス状ダクトを適宜組み合
わせればよく、所望の処理工程に応じて各種処理ユニッ
トを組み込んだ処理装置を構築することができる。

【００５１】さらにまた、各処理ユニットを互いに着脱
自在に連結するジョイント手段を設けることにより、ジ
ョイント手段の連結・解除により、搬送路に対する各種
処理ユニットの位置を簡単にかつ自由に組み替えること
ができ、ひいては、処理装置全体のスループットを向上
させることができる。

【００５２】さらにまた、搬送路ユニットの一方の側に
は複数の処理ユニットのうち、液体処理を行う液体処理
ユニットが配置され、搬送路ユニットの他方の側には複
数の処理ユニットのうち、熱的処理を行う熱的処理ユニ
ットが配置された装置において、熱的処理ユニットに接
続されるダクトに液体処理装置の排出経路および熱的処
理ユニットの排気経路を接続するようにすることによ
り、搬送路ユニットの一方の側に集約された排出口にダ
クトをはめ込むだけで排気・排液を行うことができ、組
立が極めて容易であるとともに、装置構成を極めて簡略
化することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用されるＬＣＤ基板の塗布・現像処
理システムを示す斜視図。

【図２】本発明の塗布・現像処理システムにおける現像
ユニットから加熱処理ユニットに至る模式的断面図。

【図３】現像処理ユニットの概略構成を示す模式図。

【図４】現像処理ユニットの模式的平面図。

【図５】現像処理ユニットの処理工程を示す工程図。

【図６】現像処理ユニットの模式的断面図。

【図７】現像処理ユニット及びレジスト塗布ユニットの
スピナー排気の排出経路を示す平面図。

【図８】図２に示すスピナー排気の排出経路に用いられ
るボックス状ダクトの斜視図。

【図９】現像処理ユニットからのスピナー排気の排出経
路の変形例を示す模式的断面図。

【図１０】現像処理ユニット等の排液の排出経路を示す
平面図。

【図１１】加熱処理ユニット等の熱排気の排出経路を示
す平面図。

【図１２】加熱処理ユニットおよび現像処理ユニット等
からのダクトに接続れる共通ダクトを説明するための斜
視図。

【図１３】本発明の処理システムの組み立て工程を示す
工程図。

【図１４】現像処理ユニットからの排出経路の変形例を
示す模式的断面図。

【符号の説明】

１５，１６……搬送路ユニット １８，１９……主搬送装置 ２１，２８……加熱処理ユニット ２５……現像処理ユニット ２６……レジスト塗布ユニット ２９……冷却ユニット ５３……ジョイント手段 ６０，７０，７１，７２……排出経路 ６１〜６７……ボックス状ダクト Ｇ……ＬＣＤ基板

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送路ユニットと、 搬送路ユニットの両側に設けられ、被処理体に対して各
   種処理を施す複数の処理ユニットと、 前記搬送路ユニットの中を移動し、被処理体を載置して
   搬送するとともに各処理ユニットの間で被処理体の受け
   渡しを行う搬送装置と、 前記各処理ユニットから排気または排液を行う排出経路
   とを具備し、前記搬送路ユニットの筐体の下面には走行移動用のキャ
   スタが設けられ、 前記排出経路は、前記搬送路ユニット
   の筐体の下方に前記キャスタによって形成された空間に
   配置されていることを特徴とする処理装置。
2. 【請求項２】 前記排出経路は、前記搬送路ユニットの
   筐体の下方に前記キャスタによって形成された空間に搬
   送路の搬送方向に略直交するように配置され、前記搬送
   路ユニットの一方側の処理ユニットから他方側の処理ユ
   ニットへ至るように設けられていることを特徴とする処
   理装置。
3. 【請求項３】 搬送路ユニットと、 前記搬送路ユニットの両側に設けられ、被処理体に対し
   て各種処理を施す複数の処理ユニットと、 前記搬送路ユニットの中を移動し、被処理体を載置して
   搬送するとともに各処理ユニットの間で被処理体の受け
   渡しを行う搬送装置と、 前記各処理ユニットから排気または排液を行う排出経路
   とを具備し、 前記搬送路ユニットの一方の側には前記複数の処理ユニ
   ットのうち、液体処理を行う液体処理ユニットが配置さ
   れ、前記搬送路ユニットの他方の側には前記複数の処理
   ユニットのうち、加熱処理を行う加熱処理ユニットが配
   置され、前記搬送路ユニットの筐体の下面には走行移動用のキャ
   スタが設けられ、 前記排出経路は、前記搬送路ユニット
   の筐体の下方に前記キャスタによって形成され た空間に
   搬送路の搬送方向に略直交するように配置され、前記液
   体処理ユニットから対向配置された前記加熱処理ユニッ
   トへ至るように設けられていることを特徴とする処理装
   置。
4. 【請求項４】 前記排出経路は、複数のボックス状ダク
   トを着脱自在に組み合わせてなることを特徴とする請求
   項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の処理装置。
5. 【請求項５】 前記各処理ユニットを互いに着脱自在に
   連結するジョイント手段をさらに具備することを特徴と
   する請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の処
   理装置。
6. 【請求項６】 前記加熱処理ユニットに接続されるダク
   トをさらに具備し、前記液体処理ユニットの排出経路お
   よび前記加熱処理ユニットの排気経路が前記ダクトに接
   続されていることを特徴とする請求項３に記載の処理装
   置。
7. 【請求項７】 被処理体を回転させて液処理する複数の
   回転処理装置を一方向に配置してなる回転処理装置群
   と、 被処理体を加熱して処理する複数の加熱処理装置を前記
   一方向と同一方向に配置してなる加熱処理装置群と、 これら加熱処理装置群と回転処理装置群との間に配置さ
   れ前記被処理体を搬送する搬送機構が配置された搬送機
   構部と、 前記回転処理装置群の複数の回転処理装置のそれぞれの
   排気および／または排液の排出経路を前記加熱処理装置
   群の下方位置で連結するダクトとを具備し、前記搬送機構部は、筐体と、この筐体の下面に設けられ
   た走行移動用のキャスタとを有し、前記排出経路は、前
   記筐体の下方に前記キャスタによって形成された空間に
   搬送路の搬送方向に略直交するように配置され、前記回
   転処理装置から対向配置された前記加熱処理装置へ至る
   ように設けられている ことを特徴とする処理装置。