JP3342012B2 - 新規なインドリノン誘導体，その製造及びこのものを含む製薬学的組成物 - Google Patents

新規なインドリノン誘導体，その製造及びこのものを含む製薬学的組成物

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JP3342012B2 JP51382493A JP51382493A JP3342012B2 JP 3342012 B2 JP3342012 B2 JP 3342012B2 JP 51382493 A JP51382493 A JP 51382493A JP 51382493 A JP51382493 A JP 51382493A JP 3342012 B2 JP3342012 B2 JP 3342012B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はラセミ形またはそのエナンチオマーの状態の
式 の新規なイソインドリノン誘導体及びその塩並びにその
製造方法に関する。
式（Ｉ）の生成物は顕著な抗不安、催眠、鎮痙、抗て
んかん及び筋肉弛緩特性を有する。
ヨーロツパ特許第0,274,930号に一般式 式中、より詳細にはＡはピロール環を有するイソイン
ドリン核を形成し、Hetはハロゲン原子で置換され得る
ナフチリジニル基を表わし、Ｙは基COを表わし、そして
Ｒは炭素原子１〜10個を含む置換もしくは未置換のアル
キル基を表わす、 のイソインドリノン誘導体が記載され、この誘導体は顕
著な治療特性を有する。
これらの生成物の中で、ラセミ形またはそのエナンチ
オマー、殊に右旋性異性体の状態の、Ａがピロール環を
有するイソインドリン核を形成し、Hetが２−（７−ク
ロロ−1,8−ナフチリジニル）基を表わし、Ｙが基COを
表わし、そしてＲが３−メチルブチル基を表わすものが
低い毒性と共に殊に強い活性を示す。他方、Ｒが第１級
ヒドロキシル基で置換されるアルキル基例えば３−ヒド
ロキシプロピル基を表わす一般式（II）の生成物は顕著
に低い程度の同じ活性のタイプを示し、従つてこれらの
ものは製薬産業に利用することは困難である。
Ｒが第３級ヒドロキシル基で置換されるアルキル基を
表わす一般式（II）の生成物、及び殊にラセミ形または
そのエナンチオマーの状態の式（Ｉ）の生成物は驚くべ
きことに、そして予期せずに少なくともＲが３−メチル
ブチル基を表わす対応する生成物と同様に興味ある活性
を示すことが見い出され、そしてこのことが本発明の目
的を形成する。
本発明によれば、ラセミ形の式（Ｉ）の生成物はラセ
ミ形の式 の生成物の酸の存在下における水性有機媒質中での処理
による水和により得ることができる。
有機溶媒としてエーテル例えばテトラヒドロフランま
たはジオキサンを好適に用いる。
酸として無機酸例えば硫酸を好適に用いる。
水和は一般に０乃至50℃間、好ましくは20℃程度の温
度で行う。
式（Ｉ）の生成物のエナンチオマーは式（Ｉ）のラセ
ミ生成物を構成するエナンチオマーに適するキラル相上
での分離によるか、または式（III）のラセミ生成物を
構成するエナンチオマーに適するキラル相上での分離に
よるかのいずれかであり、続いて得られる各々のエナン
チオマーの水和により得ることができる。
式（Ｉ）のラセミ生成物を構成するエナンチオマーの
分離は一般にセルローストリフエニルカルバメートで被
覆されたシリカのカラム上での高速液体クロマトグラフ
イーにより適当な溶媒例えばエタノール／ヘキサン混合
物で溶出させながら行う。J.Amer.Chem.Soc.,106,5357
（1984）に記載される条件下で製造される相を好適に用
いる。
式（III）のラセミ生成物を構成するエナンチオマー
の分離は一般に修飾されたパークル（Pirkle）タイプの
相上での高速液体クロマトグラフイーにより適当な溶媒
例えばヘキサン／塩化メチレン混合物で溶出させながら
行う。
キラル相として、好ましくは3,5−ジニトロ−Ｌ−ベ
ンゾイルロイシンであるキラルセレクター（Selector）
が炭素原子３〜14個を含むアミノアルカノイルアーム
（arm）によりシリカから離れ、アミノプロピルシリカ
のアミン官能基に結合し、そして遊離のシラノール官能
基がトリアルキルシリル基でブロツクされる相を好適に
用いる。
本発明の他の目的を構成するこのキラル相は構造式 式中、同一もしくは相異なることができるＲ及び同一
もしくは相異なることができるR1は炭素原子１〜10個を
含むアルキル基を表わし、G1は電子吸引性基を表わし、
そしてｎは３乃至13間の整数を表わす、 により定義し得る。
好ましくは、記号Ｒの１つは炭素原子７〜10個を含む
アルキル基を表わし、他の２つの炭素原子１または２個
を含むアルキル基、好ましくはメチル基を表わし、記号
R1は同一であり、かつメチルまたはエチル基を表わし、
G1は好ましくは随時１個またはそれ以上のニトロ基で置
換されていてもよいベンゾイル基例えば3,5−ジニトロ
ベンゾイル基を表わし、そしてｎは10に等しい。
本発明による新規なキラル相はアミノアルキルシリカ
上でアミン官能基が保護基例えばｔ−ブトキシカルボニ
ル基により保護された炭素原子３〜14個を含むアミノア
ルカン酸無水物を作用させ、続いて上記のSi（Ｒ）３基
によりシラノール官能基のあるものをブロツクし、次に
アミン官能基に対する保護基の除去後にアミン官能基が
上記の電子吸引性基G1により保護されたＬ−ロイシンを
用いてアミド化し、そして最後に上記のSi（R1）３によ
り残留シラノール官能基をブロツクすることにより製造
し得る。
アミノプロピルシリカ上の保護されたアミノアルカン
酸無水物の作用は一般に無水有機溶媒例えばジメチルホ
ルムアミド中にて20℃の範囲の温度で処理することによ
り行う。
上記の−Si（Ｒ）３によるシラノール基のブロツクは
塩基性試薬例えばピリジンの存在下で有機溶媒例えば塩
化メチレン中で処理するアミノアルカノイル残基がグラ
フト化されたアミノピロピルシリカ上でのハロトリアル
キルシランの作用により行う。
アミノアルカノイル残基に対する保護基の除去は一般
に保護基がｔ−ブトキシカルボニル基である場合に、有
機溶媒例えば塩化メチレン中でトリフルオロ酢酸の作用
により行う。
アミン官能基が保護されるＬ−ロイシンを用いるアミ
ド化は縮合剤例えばＮ−エトキシカルボニル−２−エト
キシ−1,2−ジヒドロキノリンの存在下で無水有機溶媒
例えばジメチルホルムアミド中で処理することにより行
う。
上記の−Si（R1）３基による残留シラノール基のブロ
ツクは一般にトリアルキルシリルイミダゾールを用い、
有機溶媒例えば塩化メチレン中で処理することにより行
う。
得られる各々のエナンチオマーの水和は対応するラセ
ミ生成物の水和に対する上記の条件下で行う。
式（III）の生成物は有機溶媒例えばジメチルスルホ
キシド中にて０乃至50℃間で塩化リチウムを作用させる
ことにより一般式 式中、Ｒは炭素原子１〜４個を含む直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルキル基を表わす、 の生成物の脱アルコキシカルボニル化により得ることが
できる。
一般式（Ｖ）の生成物は強無機塩基例えば水素化ナト
リウムの存在下にて無水有機溶媒例えばジメチルホルム
アミド中にて処理することにより一般式 式中、Ｒは上に定義される、 のエステルを３−クロロ−２−（７−クロロ−1,8−ナ
フチリジン−２−イル）−１−イソインドリノンに作用
させることにより得ることができる。
一般式（VI）のエステルはV.B.ラオ（Rao）ら、J.Ame
r.Chem.Soc.,107,5732（1985）により記載される条件下
で得ることができる。
３−クロロ−２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン
−２−イル）−１−イソインドリノンはヨーロツパ特許
第0,274,930号に記載される条件下で製造し得る。
随時塩の状態であつてもよい、ラセミ形及びそのエナ
ンチオマー、殊に右旋性エナンチオマーの式（Ｉ）の生
成物は抗不安、催眠、鎮痙、抗てんかん及び筋肉弛緩剤
として有用ならしめる殊に有利な製薬学的特性を示す。
殊に、これらのものはスクワイアーズ（Squires）及び
ブラエストラツプ（Braestrup）、Nature,266,732（197
7）の研究をベースとするJ.C.ブランチヤード（Blancha
rd）及びL.ジユロウ（Julou）、J.of Neurochemistry,4
0,601（1983）により記載される技術により0.5乃至1nM
間の値の濃度でベンゾジアゼピン受容体部位に対して良
好な試験管内親和性を有する。
これらのものはそれ自体エベレツト（Everett）及び
リチヤーズ（Richards）、J.Pharmacol.,81,402（194
4）と同様の技術によりペンテラゾールにより誘導され
る痙攣に関して経口経路を介して一般に0.05乃至0.5mg/
kg間の投与でマウスにおいて活性であることを示した。
式（Ｉ）の新規な生成物及びその塩は低い毒性のもの
である。そのLD50はマウスにおいて経口経路を介して30
0mg/kgより多い。
医学用として、式（Ｉ）の新規な生成物はそのままで
か、または製薬学的に許容し得る塩の状態で、即ち用い
る投薬量で無毒である状態で使用し得る。
挙げ得る製薬学的に許容し得る塩は無機酸との付加塩
例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩及びリン酸塩または有機
酸とのもの例えば酢酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸
塩、安息香酸塩、フマール酸塩、マレイン酸塩、メタン
スルホン酸塩、イソチオネート、テオフイリン酢酸塩、
サリチル酸塩、フエノールフタレネートもしくはメチレ
ンビス−β−オキシナフトエートまたはこれらの化合物
の代替誘導体である。
次の実施例は本発明を説明するものである。
実施例１ 1,4−ジオキサン20cm3中の（R,S）−２−（７−クロ
ロ−1,8−ナフチリジン−２−イル）−３−（５−メチ
ル−２−オキソ−５−ヘキセン−１−イル）−１−イソ
インドリノン2.0gの懸濁液に20℃程度の温度で35％硫酸
水溶液（w/v）20cm3を加えた。得られた黄色の溶液を12
時間撹拌し、続いて砕いた氷20gを加えた。反応混合物
のpH値を1N水酸化ナトリウム水溶液の添加により７の程
度に調整した。次にこのものを酢酸エチル100cm3で３回
抽出した。一緒にした有機相を水50cm3で２回洗浄し、
硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして減圧下にて40℃程
度の温度で乾固するまで濃縮した。得られた残渣をアセ
トニトリル中で再結晶した後、融点140℃の（R,S）−２
（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２−イル）−３−
（５−メチル−５−ヒドロキシ−２−オキソヘキシル）
−１−イソインドリノン1.2gが得られた。
次の方法により（R,S）−２−（７−クロロ−1,8−ナ
フチリジン−２−イル）−３−（５−メチル−２−オキ
ソ−５−ヘキセン−１−イル）−１−イソインドリノン
を製造することができた： ジメチルスルホキシド60cm3中の２−［２−（７−ク
ロロ−1,8−ナフチリジン−２−イル）−３−オキソ−
１−イソインドリニル］−６−メチル−３−オキソ−６
−へプテン酸エチル（Ａ及びＢ形の混合物）9.3gの溶液
に25℃程度の温度で塩化リチウム11.5g及び水4.6cm3を
加えた。反応混合物を環流温度に20分間加熱し、30℃程
度の温度に冷却し、水60cm3で希釈し、次の５℃程度の
温度に冷却した。沈殿した固体を濾過により分別し、順
次水25cm3で２回、エタノール20cm3で１回及びジイソプ
ロピルエーテル25cm3で２回洗浄した。空気乾燥後、融
点184℃の（R,S）−２−（７−クロロ−1,8−ナフチリ
ジン−２−イル）−３−（５−メチル−２−オキソ−５
−ヘキセン−１−イル）−１−イソインドリノン7.2gが
かくて得られた。
２−［２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２−
イル）−３−オキソ−１−イソインドリニル］−６−メ
チル−３−オキソ−６−ヘプテン酸エチル（Ａ及びＢ形
の混合物）を次の方法で製造することができた： 水素化ナトリウムの油性懸濁液（50重量％）1.7gをア
ルゴン雰囲気下にて10℃程度の温度で無水ジメチルホル
ムアミド100cm3に加えた。続いて無水ジメチルホルムア
ミド25cm3中の６−メチル−３−オキソ−６−ヘプテン
酸エチル9.8gを加えた。得られた懸濁液を30分間撹拌
し、そして温度を約20℃に戻し、続いて３−クロロ−２
−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２−イル）−１
−イソインドリノン11.6gを加えた。反応混合物を20℃
程度の温度で４時間撹拌し、次に水250cm3中に注いだ。
1N塩酸水溶液25cm3の添加により酸性にした水相をジク
ロロエタン200cm3で２回抽出した。一緒にした有機相を
水50cm3で２回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、
そして減圧下にて40℃で乾固するまで濃縮した。得られ
た油状残渣をシリカ上のクロマトグラフイーにより精製
した［溶離液：酢酸エチル／シクロヘキサン（30/70容
量）］。予期された生成物を含むフラクシヨンを一緒に
し、そして減圧下にて40℃で乾固するまで濃縮した。ジ
イソプロピルエーテル中で結晶化後、融点125℃の２−
［２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２−イル）
−３−オキソ−１−イソインドリニル］−６−メチル−
３−オキソ−６−ヘプテン酸エチル（Ａ及びＢ形の混合
物）9.4gがかくて得られた。
６−メチル−３−オキシ−６−ヘプテン酸エチルをV.
B.ラオら、J.Amer.Chem.Soc.,107,5732（1985）により
記載される方法により製造することができた。
ヨーロツパ特許第0,274,930号に記載される方法によ
り３−クロロ−２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン
−２−イル）−１−イソインドリノンを製造することが
できた。
実施例２ （R,S）−２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２
−イル）−３−（５−メチル−５−ヒドロキシ−２−オ
キソヘキシル）−１−イソインドリノン0.86gから出発
し、J.Amer.Chem.Soc.,106,5357（1984）により製造さ
れ、そして長さ19cm及び直径6cmのカラム中に含有さ
れ、流速30cm3/分の移動相としてエタノール／ヘキサン
（1/1容量）混合物を有するセルローストリスフエニル
カルバメートで被覆されたシリカからなる担体350g上で
の高速液体クロマトグラフイーにより順次次のものが分
離溶出された：融点178℃の（−）−２−（７−クロロ
−1,8−ナフチリジン−２−イル）−３−（５−メチル
−５−ヒドロキシ−２−オキソヘキシル）−１−イソイ
ンドリノン0.38g、その旋光度は▲［α］20 D▼＝−105
゜±２゜（ｃ＝0.75;クロロホルム）、続いて融点178℃
の（＋）−２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２
−イル）−３−（５−メチル−５−ヒドロキシ−２−オ
キソヘキシル）−１−イソインドリノン0.41g、その旋
光度は▲［α］20 D▼＝＋104゜±２゜（ｃ＝0.81;クロ
ロホルム）である。
実施例３ （＋）−２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２
−イル）−３−（５−メチル−２−オキソ−５−ヘキセ
ン−１−イル）−１−イソインドリノン40gを用いる以
外、実施例１と同様に処理することにより（＋）−２−
（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２−イル）−３−
（５−メチル−５−ヒドロキシ−２−オキソヘキシル）
−１−イソインドリノン8mgが得られ、このものの特徴
は実施例２で得られる生成物と同様であつた。
次の方法で（＋）−２−（７−クロロ−1,8−ナフチ
リジン−２−イル）−３−（５−メチル−２−オキソ−
５−ヘキセン−１−イル）−１−イソインドリノンを得
ることができた。
（R,S）−２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２
−イル）−３−（５−メチル−２−オキソ−５−ヘキセ
ン−１−イル）−１−イソインドリノン2.8gから出発
し、長さ26cm及び直径6cmのカラム中に含有され、移動
相として60cm3/分の流速でのヘキサン／塩化メチレン
（100/15容量）混合物を有する、その製造が下に記載さ
れる担体400g上での高速液体クロマトグラフイーにより
次のものが順次溶出分離された：エタノール中での再結
晶後に融点178℃の（＋）−２−（７−クロロ−1,8−ナ
フチリジン−２−イル）−３−（５−メチル−２−オキ
ソ−５−ヘキセン−１−イル）−１−イソインドリノン
0.76g、その旋光度は▲［α］20 D▼＝＋141゜±３゜
（ｃ＝0.53;クロロホルム）、エタノール中での再結晶
後に融点178℃の（−）−２−（７−クロロ−1.8−ナフ
チリジン−２−イル）−３−（５−メチル−２−オキソ
−５−ヘキセン−１−イル）−１−イソインドリノン0.
45g、その旋光度は▲［α］20 D▼＝−136゜±３゜（ｃ
＝0.43;クロロホルム）。
担体を次のように製造することができた： アミノプロピルシリカ（100Å−10μｍ−NH2;Machere
y−Nagel）253gを２入りの三ツ口丸底フラスコ中にて
４Åモレキユラーシーブ上で乾燥させたジメチルホルム
アミド850cm3中に懸濁させた。11−Ｎ−（ｔ−ブトキシ
カルボニル）アミノウンデカン酸無水物40gを加えた。
反応混合物を20℃で16時間撹拌し、次に焼結濾斗上で濾
過した。シリカを順次ジメチルホルムアミド150cm3、テ
トラヒドロフラン200cm3で２回及び塩化メチレン200cm3
で２回洗浄した。かくて洗浄したシリカをジメチルホル
ムアミド850cm3中に再懸濁させた。11−Ｎ−（ｔ−ブト
キシカルボニル）アミノウンデカン酸無水物40gを加
え、次に混合物を20℃で６時間撹拌した。シリカを焼結
濾斗上で濾過し、そして順次ジメチルホルムアミド150c
m3、塩化メチレン200cm3で２回、メタノール200cm3及び
塩化メチレン150cm3で洗浄した。シリカを減圧下（20mm
水銀;2.7kPa）にて20℃で乾燥した後、「BOC−C11−C3
−（シリカ）」なる名称のシリカ267gが白色粉末の状態
で得られ、その構造は赤外スペクトルにより確認され、
そしてその元素分析（測定値）はＣ％＝8.1;H％＝1.7;N
％＝1.4であつた。
「BOC−C11−C3−（シリカ）」266g、塩化メチレン80
0cm3及びピリジン30cm3を２入り三ツ口丸底フラスコ
中に導入した。ジメチルオクチルクロロシラン230cm3を
10分間にわたつて滴下しながら加え、続いて一夜撹拌し
た。得られた固体を濾過により分別し、次に順次塩化メ
チレン500cm3で２回、メタノールで２回、塩化メチレン
500cm3で２回及びエチルエーテル250cm3で２回洗浄し
た。減圧下（20mm水銀;2.7kPa）にて20℃で乾燥した
後、「BOC−C11−C3−（シリカ）−Ｏ−Si（CH3）２（C
H2）7CH3」なる名称のシリカ274gが得られ、その構造は
赤外スペクトルにより確認され、そしてその元素分析
（実測値）はＣ％＝10.0;H％＝2.1;N％＝1.3であつた。
「BOC−C11−C3−（シリカ）−Ｏ−Si（CH3）２（CH2）
7CH3」274gを２入り三ツ口丸底フラスコ中にて塩化メ
チレン中のトリフルオロ酢酸の６容量％溶液800cm3中に
懸濁させた。反応混合物を20℃で20時間撹拌した。シリ
カを焼結濾斗上で濾過により分別し、塩化メチレン300c
m3で２回、塩化メチレン中の30％ジイソプロピルエチル
アミン溶液500cm3で30分間に２回、メタノール500cm3で
２回及びエチルエーテル500cm3で洗浄した。減圧下（20
mm水銀;2.7kPa）にて20℃で乾燥した後、「C11−C3−
（シリカ）−Ｏ−Si（CH3）２（CH2）7CH3」なる名称の
シリカ269gが得られ、その元素分析（実測値）はＣ％＝
8.4;H％＝1.7;N％＝1.2であつた。
「C11−C3−（シリカ）−Ｏ−Si（CH3）２（CH2）7CH
3」266gを２入り三ツ口丸底フラスコ中にて４Åモレ
キユラーシーブ上で乾燥させたジメチルホルムアミド80
0cm3中に懸濁させた。3,5−ジニトロベンゾイル−Ｌ−
ロイシン27.5g及び２−Ｎ−エトキシカルボニルエトキ
シ−1,2−ジヒドロキノリン20gを加えた。反応混合物を
一夜撹拌した。シリカを焼結濾斗上にて濾過により分別
し、次に塩化メチレン500cm3で２回、テトラヒドロフラ
ン500cm3で２回、ジメチルホルムアミド500cm3及び塩化
メチレン500cm3で洗浄した。かくて洗浄したシリカをジ
メチルホルムアミド800cm3中に再懸濁させた。3,5−ジ
ニトロベンゾイル−Ｌ−ロイシン27.5g及び２−Ｎ−エ
トキシカルボニルエトキシ−1,2−ジヒドロキノリン20g
を順次加え、続いて20℃で一夜撹拌した。シリカを焼結
濾斗上にて濾過により分別し、そして順次塩化メチレン
500cm3で２回、テトラヒドロフラン500cm3で２回、メタ
ノール500cm3で２回及びエチルエーテル500cm3で２回洗
浄した。減圧下（20mm水銀;2.7kPa）にて60℃で乾燥し
た後、「DBN−Ｌ−Leu−C11−C3−（シリカ）−Ｏ−Si
（CH3）２（CH2）7CH3」なる名称のシリカ273gが得ら
れ、このシリカを塩化メチレン800cm3中に再懸濁させ
た。トリメチルシリルイミダゾール350cm3を15分間にわ
たつて加え、続いて一夜撹拌した。シリカを濾過により
分別し、そして順次テトラヒドロフラン300cm3で２回、
メタノール300cm3で２回、アセトン300cm3で２回及び塩
化メチレン300cm3で２回洗浄した。減圧下（20mm水銀;
2.7kPa）にて60℃で乾燥した後、「DBN−Ｌ−Leu−C11
−C3−（シリカ）−［Ｏ−Si（CH3）２（CH2）7CH3］−
［Ｏ−Si（CH3）３］」なる名称のシリカ275gが淡黄色
の粉末の状態で得られ、その構造を赤外スペクトルによ
り確認し、そしてその元素分析（実測値）はＣ％＝12.
8;H％＝2.3;N％＝2.2であつた。
11−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノウンデカ
ン酸無水物を次の方法で製造することができた： 11−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノウンデカ
ン酸を酢酸エチル480cm3に溶解した。この溶液を５℃に
冷却し、次にこの温度を保持させながら酢酸エチル120c
m3中のジシクロヘキシルカルボジイミド10.63gの溶液を
10分間にわたつて加えた。反応混合物を５℃で１時間、
次に20℃程度の温度で16時間撹拌した。生じた沈殿を濾
過により分別し、そして酢酸エチル30cm3で洗浄した。
濾液を減圧下（20mm水銀;2.7kPa）にて30℃で乾固する
まで濃縮した。得られた固体を減圧下（20mm水銀;2.7kP
a）にて20℃で乾燥した。かくて11−Ｎ−（ｔ−ブトキ
シカルボニル）アミノウンデカン酸無水物31gが100％程
度の収率で得られた。
11−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）アミノウンデカ
ン酸を次の方法で製造することができた： 11−アミノウンデカン酸160g、ジオキサン２、蒸留
水1.3、炭酸ナトリウム208g及びジ−ｔ−ブチルカル
ボネート173gを機械的撹拌機及び冷却器を備えた４入
り三ツ口丸底フラスコ中に順次導入した。反応混合物を
沸点で16時間加熱した。かくて透明な容液が得られた。
20℃に冷却した後、反応混合物を氷800g上に注ぎ、次に
4N塩酸の添加によりpH＝３〜４の酸性にした。かくて白
色の沈殿が得られ、このものを濾過により分別し、水30
0cm3で洗浄し、そして減圧下（20mm水銀;2.7kPa）にて2
0℃で乾燥した。かくて11−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボ
ニル）アミノウンデカン酸232gが95％の収率で得られ、
その融点（68℃）はJ.Org.Chem.,41,1350（1976）に示
されるものと一致した。
また本発明は純粋な状態または適合し、かつ製薬学的
に許容し得る補助剤、希釈剤及び／または被覆剤と配合
された組成物の状態の式（Ｉ）の生成物を含む薬剤に関
する。これらの薬剤は経口、肛門、非経口または経皮的
に使用し得る。
経口投与に対する固体組成物として錠剤、丸剤、粉末
（一般にゼラチンカプセル中）または顆粒を使用し得
る。これらの組成物において、本発明による活性生成物
は１つまたはそれ以上の不活性希釈剤例えばシヨ糖、ラ
クトースまたは澱粉と混合する。またこれらの組成物は
希釈剤以外の物質例えば潤滑剤例えばステスリン酸マグ
ネシウムを含有し得る。
経口投与に対する液体組成物として不活性希釈剤例え
ば水またはパラフイン油を含む製薬学的に許容し得る乳
化液、溶液、懸濁液、シロツプ及びエリキシルを使用し
得る。またこれらの組成物は希釈剤以外の物質例えば潤
滑剤、甘味剤または芳香剤を含有し得る。
非経口的投与に対する本発明による組成物は水性また
は非水性の滅菌溶液、懸濁液または乳化液であり得る。
溶媒または賦形剤としてプロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、植物油、殊にオリーブ油または注射
可能な有機エステル例えばオレイン酸エチルを使用し得
る。またこれらの組成物は補助剤、殊に潤滑剤、乳化剤
及び分散剤を含有し得る。滅菌は数種の方法で、例えば
細菌学的フイルターを用いるか、滅菌剤を組成物中に配
合するか、照射または加熱により達成し得る。またこれ
らのものは使用時に滅菌水またはいずれかの他の注射用
滅菌媒質中に溶解し得る滅菌固体組成物の状態で製造し
得る。
肛門投与に対する組成物は活性生成物以外に賦形剤例
えばココアバターまたはサポシアー（suppocire）を含
有し得る座薬である。
経皮投与に対する組成物はクリーム、軟膏、ローシヨ
ン及び塗膏剤であり、その際に活性生成物は好ましくは
経皮泳動を促進する賦形剤と配合した液体またはペース
ト状賦形剤と配合する。
本発明による薬剤及び組成物はヒトの治療においてそ
の抗不安、催眠、鎮痙、抗てんかん及び筋肉弛緩作用に
殊に有用である。
ヒトの治療において、投与量は所望の効果及び治療の
期間に依存し；これらは一般に成人に対して経口投与を
介して１日当り10乃至500mg間である。
概して、医者は治療される被験者の年令、体重及び他
の全ての個人的要因に依存して最も適当と考えられる投
薬量を決めるであろう。
次の実施例は本発明による組成物を説明するものであ
り、限定するものではない。
実施例 活性生成物10mgの量を含み、そして次の組成を有する
錠剤を通常の技術により製造した： ２−（７−クロロ−1,8−ナフチリジン−２−イル）−
３−（５−メチル−５−ヒドロキシ−２−オキソヘキシ
ル）−１−イソインドリノン ……0.01g 殿粉 ……0.200g 沈殿したシリカ ……0.036g ステリン酸マグネシウム ……0.004g
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｄ 15/08 Ｂ０１Ｄ 15/08 (72)発明者 デユブルーク，マリー−クリステイーヌ フランス国95880アンジヤンレバン・ビ ラドマルビル13 (72)発明者 デユトリユク−ロセ，ジレ フランス国75012パリ・アベニユーデユ ドクトウールアルノルネツテ21 (72)発明者 マンフル，フランコ フランス国94450リメイユブレバンヌ・ プラスシヤトブリヤン３ (56)参考文献 特開 昭63−154681（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 471/04 114 A61K 31/4375 B01D 15/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】ラセミ形またはそのエナンチオマーの状態
    の式 の新規なイソインドリノン誘導体並びにその塩。
  2. 【請求項２】ラセミ形の式 の生成物の水和を酸の存在下にて水性有機媒質中で行う
    ことを特徴とする、ラセミ形の請求の範囲第１項記載の
    生成物の製造方法。
  3. 【請求項３】請求の範囲第１項記載のラセミ生成物の成
    分の分離をセルローストリフエニルカルバメートで被覆
    したシリカのカラム上での高速液体クロマトグラフイー
    により行うことを特徴とする、請求の範囲第１項記載の
    生成物のエナンチオマーの製造方法。
  4. 【請求項４】式 のラセミ生成物の成分を修飾されたパークルタイプの相
    上での高速液体クロマトグラフイーにより分離すること
    を特徴とする、請求の範囲第１項記載の生成物のエナン
    チオマーの製造方法。
  5. 【請求項５】修飾されたパークルタイプの相が構造式 式中、同一もしくは相異なることができるＲ及び同一も
    しくは相異なることができるR1は炭素原子１〜10個を含
    むアルキル基を表わし、G1は電子吸収性基を表わし、そ
    してｎは３乃至13間の整数を表わす、 により定義されることを特徴とする、請求の範囲第４項
    記載の方法。
  6. 【請求項６】修飾されたパークルタイプの相が構造式 式中、Ｒの１つは炭素原子７〜10個を含むアルキル基を
    表わし、他の２つは炭素原子１または２個を含むアルキ
    ル基を表わし、R1は同一であり、かつメチルまたはエチ
    ル基を表わし、G1は随時１個またはそれ以上のニトロ基
    で置換されていてもよいベンゾイル基を表わし、そして
    ｎは10に等しい、 により定義されることを特徴とする、請求の範囲第４項
    記載の方法。
  7. 【請求項７】修飾されたパークル相が構造式 により定義されることを特徴とする、請求の範囲第４項
    記載の方法。
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