JP3507918B2 - イソインドリノン誘導体のラセミ生成物を構成するエナンチオマーの分離に用いる修飾されたパークルタイプの相 - Google Patents
イソインドリノン誘導体のラセミ生成物を構成するエナンチオマーの分離に用いる修飾されたパークルタイプの相Info
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Description
ナンチオマーの状態の式
の塩を製造する際に、ラセミ生成物を構成するエナンチ
オマーの分離に用いる新規なキラル相に関する。
鎮痙、抗てんかん及び筋肉弛緩特性を有する。
ツパ特許第0,274,930号に一般式
るイソインドリン核を形成し、Hetはハロゲン原子で
置換され得るナフチリジニル基を表わし、Yは基COを
表わし、そしてRは炭素原子1〜10個を含む置換もし
くは未置換のアルキル基を表わす、のイソインドリノン
誘導体が記載され、この誘導体は顕著な治療特性を有す
る。
のエナンチオマー、殊に右旋性異性体の状態の、Aがピ
ロール環を有するイソインドリン核を形成し、Hetが
2−(7−クロロ−1,8−ナフチリジニル)基を表わ
し、Yが基COを表わし、そしてRが3−メチルブチル
基を表わすものが低い毒性と共に殊に強い活性を示す。
他方、Rが第1級ヒドロキシル基で置換されるアルキル
基例えば3−ヒドロキシプロピル基を表わす一般式(I
I)の生成物は顕著に低い程度の同じ活性のタイプを示
し、従つてこれらのものは製薬産業に利用することは困
難である。
基で置換されるアルキル基を表わす一般式(II)の生成
物、及び殊にラセミ形またはそのエナンチオマーの状態
の式(I)の生成物は驚くべきことに、そして予期せず
に少なくともRが3−メチルブチル基を表わす対応する
生成物と同様に興味ある活性を示すことが見い出され
た。
式
質中での処理による水和により得ることができる。
ロフランまたはジオキサンを好適に用いる。
る。
20℃程度の温度で行う。 式(I)の生成物のエナン
チオマーは式(I)のラセミ生成物を構成するエナンチ
オマーに適するキラル相上での分離によるか、または式
(III)のラセミ生成物を構成するエナンチオマーに適
するキラル相上での分離によるかのいずれかであり、続
いて得られる各々のエナンチオマーの水和により得るこ
とができる。
チオマーの分離は一般にセルローストリフエニルカルバ
メートで被覆されたシリカのカラム上での高速液体クロ
マトグラフイーにより適当な溶媒例えばエタノール/ヘ
キサン混合物で溶出させながら行う。J.Amer.Chem.S
oc.,106,5357(1984)に記載される条件
下で製造される相を好適に用いる。
ンチオマーの分離は一般に修飾されたパークル(Pirkl
e)タイプの相上での高速液体クロマトグラフイーによ
り適当な溶媒例えばヘキサン/塩化メチレン混合物で溶
出させながら行う。
トロ−L−ベンゾイルロイシンであるキラルセレクター
(Selector)が炭素原子3〜14個を含むアミノアルカ
ノイルアーム(arm)によりシリカから離れ、アミノプ
ロピルシリカのアミン官能基に結合し、そして遊離のシ
ラノール官能基がトリアルキルシリル基でブロツクされ
る相を好適に用いる。
ル相は構造式
R及び同一もしくは相異なることができるR1は炭素原
子1〜10個を含むアルキル基を表わし、G1は電子吸
引性基を表わし、そしてnは3乃至13間の整数を表わ
す、からなる。
10個を含むアルキル基を表わし、他の2つは炭素原子
1または2個を含むアルキル基、好ましくはメチル基を
表わし、記号R1は同一であり、かつメチルまたはエチ
ル基を表わし、G1は好ましくは随時1個またはそれ以
上のニトロ基で置換されていてもよいベンゾイル基例え
ば3,5−ジニトロベンゾイル基を表わし、そしてnは
10に等しい。
キルシリカ上でアミン官能基が保護基例えばt−ブトキ
シカルボニル基により保護された炭素原子3〜14個を
含むアミノアルカン酸無水物を作用させ、続いて上記の
Si(R)3基によりシラノール官能基のあるものをブロ
ツクし、次にアミン官能基に対する保護基の除去後にア
ミン官能基が上記の電子吸引性基G1により保護された
L−ロイシンを用いてアミド化し、そして最後に上記の
Si(R1)3により残留シラノール官能基をブロツクする
ことにより製造し得る。
ノアルカン酸無水物の作用は一般に無水有機溶媒例えば
ジメチルホルムアミド中にて20℃の範囲の温度で処理
することにより行う。
ブロツクは塩基性試薬例えばピリジンの存在下で有機溶
媒例えば塩化メチレン中で処理するアミノアルカノイル
残基がグラフト化されたアミノピロピルシリカ上でのハ
ロトリアルキルシランの作用により行う。
除去は一般に保護基がt−ブトキシカルボニル基である
場合に、有機溶媒例えば塩化メチレン中でトリフルオロ
酢酸の作用により行う。
用いるアミド化は縮合剤例えばN−エトキシカルボニル
−2−エトキシ−1,2−ジヒドロキノリンの存在下で
無水有機溶媒例えばジメチルホルムアミド中で処理する
ことにより行う。
ル基のブロツクは一般にトリアルキルシリルイミダゾー
ルを用い、有機溶媒例えば塩化メチレン中で処理するこ
とにより行う。
応するラセミ生成物の水和に対する上記の条件下で行
う。
チルスルホキシド中にて0乃至50℃間で塩化リチウム
を作用させることにより一般式
もしくは分枝鎖状のアルキル基を表わす、の生成物の脱
アルコキシカルボニル化により得ることができる。
ば水素化ナトリウムの存在下にて無水有機溶媒例えばジ
メチルホルムアミド中にて処理することにより一般式
3−クロロ−2−(7−クロロ−1,8−ナフチリジン
−2−イル)−1−イソインドリノンに作用させること
により得ることができる。
ao)ら、J.Amer.Chem.Soc.,107,5732(1
985)により記載される条件下で得ることができる。
ナフチリジン−2−イル)−1−イソインドリノンはヨ
ーロツパ特許第0,274,930号に記載される条件下
で製造し得る。
びそのエナンチオマー、殊に右旋性エナンチオマーの式
(I)の生成物は抗不安、催眠、鎮痙、抗てんかん及び
筋肉弛緩剤として有用ならしめる殊に有利な製薬学的特
性を示す。殊に、これらのものはスクワイアーズ(Squi
res)及びブラエストラツプ(Braestrup)、Nature,2
66,732(1977)の研究をベースとするJ.
C.ブランチヤード(Blanchard)及びL.ジユロウ(J
ulou)、J.of Neurochemistry,40,601(198
3)により記載される技術により0.5乃至1nM間の
値の濃度でベンゾジアゼピン受容体部位に対して良好な
試験管内親和性を有する。
ett)及びリチヤーズ(Richards)、J.Pharmacol.,8
1,402(1944)と同様の技術によりペンテラゾ
ールにより誘導される痙攣に関して経口経路を介して一
般に0.05乃至0.5mg/kg間の投与でマウスにお
いて活性であることを示した。
毒性のものである。そのLD50はマウスにおいて経口経
路を介して300mg/kgより多い。
そのままでか、または製薬学的に許容し得る塩の状態
で、即ち用いる投薬量で無毒である状態で使用し得る。
との付加塩例えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩及びリン酸塩
または有機酸とのもの例えば酢酸塩、プロピオン酸塩、
コハク酸塩、安息香酸塩、フマール酸塩、マレイン酸
塩、メタンスルホン酸塩、イソチオネート、テオフイリ
ン酢酸塩、サリチル酸塩、フエノールフタレネートもし
くはメチレンビス−β−オキシナフトエートまたはこれ
らの化合物の代替誘導体である。
−クロロ−1,8−ナフチリジン−2−イル)−3−
(5−メチル−2−オキソ−5−ヘキセン−1−イル)
−1−イソインドリノン2.0gの懸濁液に20℃程度
の温度で35%硫酸水溶液(w/v)20cm3を加え
た。得られた黄色の溶液を12時間撹拌し、続いて砕い
た氷20gを加えた。反応混合物のpH値を1N水酸化
ナトリウム水溶液の添加により7の程度に調整した。次
にこのものを酢酸エチル100cm3で3回抽出した。
一緒にした有機相を水50cm3で2回洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、そして減圧下にて40℃程度の
温度で乾固するまで濃縮した。得られた残渣をアセトニ
トリル中で再結晶した後、融点140℃の(R,S)−
2(7−クロロ−1,8−ナフチリジン−2−イル)−
3−(5−メチル−5−ヒドロキシ−2−オキソヘキシ
ル)−1−イソインドリノン1.2gが得られた。
ロロ−1,8−ナフチリジン−2−イル)−3−(5−
メチル−2−オキソ−5−ヘキセン−1−イル)−1−
イソインドリノンを製造することができた:ジメチルス
ルホキシド60cm3中の2−[2−(7−クロロ−1,
8−ナフチリジン−2−イル)−3−オキソ−1−イソ
インドリニル]−6−メチル−3−オキソ−6−ヘプテ
ン酸エチル(A及びB形の混合物)9.3gの溶液に2
5℃程度の温度で塩化リチウム11.5g及び水4.6c
m3を加えた。反応混合物を還流温度に20分間加熱
し、30℃程度の温度に冷却し、水60cm3で希釈
し、次の5℃程度の温度に冷却した。沈殿した固体を濾
過により分別し、順次水25cm3で2回、エタノール
20cm3で1回及びジイソプロピルエーテル25cm3
で2回洗浄した。空気乾燥後、融点184℃の(R,
S)−2−(7−クロロ−1,8−ナフチリジン−2−
イル)−3−(5−メチル−2−オキソ−5−ヘキセン
−1−イル)−1−イソインドリノン7.2gがかくて
得られた。
リジン−2−イル)−3−オキソ−1−イソインドリニ
ル]−6−メチル−3−オキソ−6−ヘプテン酸エチル
(A及びB形の混合物)を次の方法で製造することがで
きた:水素化ナトリウムの油性懸濁液(50重量%)
1.7gをアルゴン雰囲気下にて10℃程度の温度で無
水ジメチルホルムアミド100cm3に加えた。続いて
無水ジメチルホルムアミド25cm3中の6−メチル−
3−オキソ−6−ヘプテン酸エチル9.8gを加えた。
得られた懸濁液を30分間撹拌し、そして温度を約20
℃に戻し、続いて3−クロロ−2−(7−クロロ−1,
8−ナフチリジン−2−イル)−1−イソインドリノン
11.6gを加えた。反応混合物を20℃程度の温度で
4時間撹拌し、次に水250cm3中に注いだ。1N塩
酸水溶液25cm3の添加により酸性にした水相をジク
ロロエタン200cm3で2回抽出した。一緒にした有
機相を水50cm3で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、そして減圧下にて40℃で乾固するまで濃縮
した。得られた油状残渣をシリカ上のクロマトグラフイ
ーにより精製した[溶離液:酢酸エチル/シクロヘキサ
ン(30/70容量)]。予期された生成物を含むフラ
クシヨンを一緒にし、そして減圧下にて40℃で乾固す
るまで濃縮した。ジイソプロピルエーテル中で結晶化
後、融点125℃の2−[2−(7−クロロ−1,8−
ナフチリジン−2−イル)−3−オキソ−1−イソイン
ドリニル]−6−メチル−3−オキソ−6−ヘプテン酸
エチル(A及びB形の混合物)9.4gがかくて得られ
た。
エチルをV.B.ラオら、J. Amer.Chem. Soc., 10
7,5732(1985)により記載される方法により
製造することができた。
載される方法により3−クロロ−2−(7−クロロ−
1,8−ナフチリジン−2−イル)−1−イソインドリ
ノンを製造することができた。
2−イル)−3−(5−メチル−5−ヒドロキシ−2−
オキソヘキシル)−1−イソインドリノン0.86gか
ら出発し、J. Amer. Chem. Soc., 106,5357
(1984)により製造され、そして長さ19cm及び
直径6cmのカラム中に含有され、流速30cm3/分
の移動相としてエタノール/ヘキサン(1/1容量)混
合物を有するセルローストリスフエニルカルバメートで
被覆されたシリカからなる担体350g上での高速液体
クロマトグラフイーにより順次次のものが分離溶出され
た:融点178℃の(−)−2−(7−クロロ−1,8
−ナフチリジン−2−イル)−3−(5−メチル−5−
ヒドロキシ−2−オキソヘキシル)−1−イソインドリ
ノン0.38g、その旋光度は[α]D 20=−105°±
2°(c=0.75;クロロホルム)、続いて融点178
℃の(+)−2−(7−クロロ−1,8−ナフチリジン
−2−イル)−3−(5−メチル−5−ヒドロキシ−2
−オキソヘキシル)−1−イソインドリノン0.41
g、その旋光度は[α]D 20=+104°±2°(c=
0.81;クロロホルム)である。
−イル)−3−(5−メチル−2−オキソ−5−ヘキセ
ン−1−イル)−1−イソインドリノン40gを用いる
以外、実施例1と同様に処理することにより(+)−2
−(7−クロロ−1,8−ナフチリジン−2−イル)−
3−(5−メチル−5−ヒドロキシ−2−オキソヘキシ
ル)−1−イソインドリノン8mgが得られ、このもの
の特徴は実施例2で得られる生成物と同様であつた。
1,8−ナフチリジン−2−イル)−3−(5−メチル
−2−オキソ−5−ヘキセン−1−イル)−1−イソイ
ンドリノンを得ることができた。
フチリジン−2−イル)−3−(5−メチル−2−オキ
ソ−5−ヘキセン−1−イル)−1−イソインドリノン
2.8gから出発し、長さ26cm及び直径6cmのカ
ラム中に含有され、移動相として60cm3/分の流速
でのヘキサン/塩化メチレン(100/15容量)混合
物を有する、その製造が下に記載される担体400g上
での高速液体クロマトグラフイーにより次のものが順次
溶出分離された:エタノール中での再結晶後に融点17
8℃の(+)−2−(7−クロロ−1,8−ナフチリジ
ン−2−イル)−3−(5−メチル−2−オキソ−5−
ヘキセン−1−イル)−1−イソインドリノン0.76
g、その旋光度は[α]D 20=+141°±3°(c=
0.53;クロロホルム)、エタノール中での再結晶後
に融点178℃の(−)−2−(7−クロロ−1.8−
ナフチリジン−2−イル)−3−(5−メチル−2−オ
キソ−5−ヘキセン−1−イル)−1−イソインドリノ
ン0.45g、その旋光度は[α]D 20=−136°±3
°(c=0.43;クロロホルム)。
アミノプロピルシリカ(100Å−10μm−NH2;Ma
cherey-Nagel)253gを2リットル入りの三ツ口丸底
フラスコ中にて4Åモレキユラーシーブ上で乾燥させた
ジメチルホルムアミド850cm3中に懸濁させた。1
1−N−(t−ブトキシカルボニル)アミノウンデカン
酸無水物40gを加えた。反応混合物を20℃で16時
間撹拌し、次に焼結濾斗上で濾過した。シリカを順次ジ
メチルホルムアミド150cm3、テトラヒドロフラン
200cm3で2回及び塩化メチレン200cm3で2回
洗浄した。かくて洗浄したシリカをジメチルホルムアミ
ド850cm3中に再懸濁させた。11−N−(t−ブ
トキシカルボニル)アミノウンデカン酸無水物40gを
加え、次に混合物を20℃で6時間撹拌した。シリカを
焼結濾斗上で濾過し、そして順次ジメチルホルムアミド
150cm3、塩化メチレン200cm3で2回、メタノ
ール200cm3及び塩化メチレン150cm3で洗浄し
た。シリカを減圧下(20mm水銀;2.7kPa)にて
20℃で乾燥した後、「BOC−C11−C3−(シリ
カ)」なる名称のシリカ267gが白色粉末の状態で得
られ、その構造は赤外スペクトルにより確認され、そし
てその元素分析(測定値)はC%=8.1;H%=1.
7;N%=1.4であつた。
6g、塩化メチレン800cm3及びピリジン30cm3
を2リットル入り三ツ口丸底フラスコ中に導入した。ジ
メチルオクチルクロロシラン230cm3を10分間に
わたつて滴下しながら加え、続いて一夜撹拌した。得ら
れた固体を濾過により分別し、次に順次塩化メチレン5
00cm3で2回、メタノールで2回、塩化メチレン5
00cm3で2回及びエチルエーテル250cm3で2回
洗浄した。減圧下(20mm水銀;2.7kPa)にて
20℃で乾燥した後、「BOC−C11−C3−(シリ
カ)−O−Si(CH 3)2(CH2)7CH3」なる名称のシ
リカ274gが得られ、その構造は赤外スペクトルによ
り確認され、そしてその元素分析(実測値)はC%=1
0.0;H%=2.1;N%=1.3であつた。「BOC
−C11−C3−(シリカ)−O−Si(CH3)2(CH2)7
CH3」274gを2リットル入り三ツ口丸底フラスコ
中にて塩化メチレン中のトリフルオロ酢酸の6容量%溶
液800cm3中に懸濁させた。反応混合物を20℃で
20時間撹拌した。シリカを焼結濾斗上で濾過により分
別し、塩化メチレン300cm3で2回、塩化メチレン
中の30%ジイソプロピルエチルアミン溶液500cm
3で30分間に2回、メタノール500cm3で2回及び
エチルエーテル500cm3で洗浄した。減圧下(20
mm水銀;2.7kPa)にて20℃で乾燥した後、「C
11−C3−(シリカ)−O−Si(CH3)2(CH2)7CH3」
なる名称のシリカ269gが得られ、その元素分析(実
測値)はC%=8.4;H%=1.7;N%=1.2であ
つた。
3)2(CH2)7CH3」266gを2l入り三ツ口丸底フ
ラスコ中にて4Åモレキユラーシーブ上で乾燥させたジ
メチルホルムアミド800cm3中に懸濁させた。3,5
−ジニトロベンゾイル−L−ロイシン27.5g及び2
−N−エトキシカルボニルエトキシ−1,2−ジヒドロ
キノリン20gを加えた。反応混合物を一夜撹拌した。
シリカを焼結濾斗上にて濾過により分別し、次に塩化メ
チレン500cm3で2回、テトラヒドロフラン500
cm3で2回、ジメチルホルムアミド500cm3及び塩
化メチレン500cm3で洗浄した。かくて洗浄したシ
リカをジメチルホルムアミド800cm3中に再懸濁さ
せた。3,5−ジニトロベンゾイル−L−ロイシン27.
5g及び2−N−エトキシカルボニルエトキシ−1,2
−ジヒドロキノリン20gを順次加え、続いて20℃で
一夜撹拌した。シリカを焼結濾斗上にて濾過により分別
し、そして順次塩化メチレン500cm3で2回、テト
ラヒドロフラン500cm3で2回、メタノール500
cm3で2回及びエチルエーテル500cm3で2回洗浄
した。減圧下(20mm水銀;2.7kPa)にて60
℃で乾燥した後、「DBN−L−Leu−C11−C3−
(シリカ)−O−Si(CH3)2(CH2)7CH3」なる名称
のシリカ273gが得られ、このシリカを塩化メチレン
800cm3中に再懸濁させた。トリメチルシリルイミ
ダゾール350cm3を15分間にわたつて加え、続い
て一夜撹拌した。シリカを濾過により分別し、そして順
次テトラヒドロフラン300cm3で2回、メタノール
300cm3で2回、アセトン300cm 3で2回及び塩
化メチレン300cm3で2回洗浄した。減圧下(20
mm水銀;2.7kPa)にて60℃で乾燥した後、
「DBN−L−Leu−C11−C3−(シリカ)−[O
−Si(CH3)2(CH2)7CH3]−[O−Si(C
H3)3]」なる名称のシリカ275gが淡黄色の粉末の
状態で得られ、その構造を赤外スペクトルにより確認
し、そしてその元素分析(実測値)はC%=12.8;
H%=2.3;N%=2.2であつた。
ミノウンデカン酸無水物を次の方法で製造することがで
きた:11−N−(t−ブトキシカルボニル)アミノウ
ンデカン酸を酢酸エチル480cm3に溶解した。この
溶液を5℃に冷却し、次にこの温度を保持させながら酢
酸エチル120cm3中のジシクロヘキシルカルボジイ
ミド10.63gの溶液を10分間にわたつて加えた。
反応混合物を5℃で1時間、次に20℃程度の温度で1
6時間撹拌した。生じた沈殿を濾過により分別し、そし
て酢酸エチル30cm3で洗浄した。濾液を減圧下(2
0mm水銀;2.7kPa)にて30℃で乾固するまで
濃縮した。得られた固体を減圧下(20mm水銀;2.
7kPa)にて20℃で乾燥した。かくて11−N−
(t−ブトキシカルボニル)アミノウンデカン酸無水物
31gが100%程度の収率で得られた。
ミノウンデカン酸を次の方法で製造することができた:
11−アミノウンデカン酸160g、ジオキサン2リッ
トル、蒸留水1.3リットル、炭酸ナトリウム208g
及びジ−t−ブチルカルボネート173gを機械的撹拌
機及び冷却器を備えた4リットル入り三ツ口丸底フラス
コ中に順次導入した。反応混合物を沸点で16時間加熱
した。かくて透明な溶液が得られた。20℃に冷却した
後、反応混合物を氷800g上に注ぎ、次に4N塩酸の
添加によりpH=3〜4の酸性にした。かくて白色の沈
殿が得られ、このものを濾過により分別し、水300c
m3で洗浄し、そして減圧下(20mm水銀;2.7kP
a)にて20℃で乾燥した。かくて11−N−(t−ブ
トキシカルボニル)アミノウンデカン酸232gが95
%の収率で得られ、その融点(68℃)は J. Org.Che
m., 41,1350(1976)に示されるものと一致
した。
かつ製薬学的に許容し得る補助剤、希釈剤及び/または
被覆剤と配合された組成物の状態の式(I)の生成物を
含む薬剤を開示する。これらの薬剤は経口、肛門、非経
口または経皮的に使用し得る。
丸剤、粉末(一般にゼラチンカプセル中)または顆粒を
使用し得る。これらの組成物において、上記活性生成物
は1つまたはそれ以上の不活性希釈剤例えばシヨ糖、ラ
クトースまたは殿粉と混合する。またこれらの組成物は
希釈剤以外の物質例えば潤滑剤例えばステスリン酸マグ
ネシウムを含有し得る。
希釈剤例えば水またはパラフイン油を含む製薬学的に許
容し得る乳化液、溶液、懸濁液、シロツプ及びエリキシ
ルを使用し得る。またこれらの組成物は希釈剤以外の物
質例えば潤滑剤、甘味剤または芳香剤を含有し得る。
たは非水性の滅菌溶液、懸濁液または乳化液であり得
る。溶媒または賦形剤としてプロピレングリコール、ポ
リエチレングリコール、植物油、殊にオリーブ油または
注射可能な有機エステル例えばオレイン酸エチルを使用
し得る。またこれらの組成物は補助剤、殊に潤滑剤、乳
化剤及び分散剤を含有し得る。滅菌は数種の方法で、例
えば細菌学的フイルターを用いるか、滅菌剤を組成物中
に配合するか、照射または加熱により達成し得る。また
これらのものは使用時に滅菌水またはいずれかの他の注
射用滅菌媒質中に溶解し得る滅菌固体組成物の状態で製
造し得る。
に賦形剤例えばココアバターまたはサポシアー(suppoc
ire)を含有し得る坐薬である。
膏、ローシヨン及び塗膏剤であり、その際に活性生成物
は好ましくは経皮泳動を促進する賦形剤と配合した液体
またはペースト状賦形剤と配合する。
その抗不安、催眠、鎮痙、抗てんかん及び筋肉弛緩作用
に殊に有用である。
及び治療の期間に依存し;これらは一般に成人に対して
経口投与を介して1日当り10乃至500mg間であ
る。
体重及び他の全ての個人的要因に依存して最も適当と考
えられる投薬量を決めるであろう。
あり、限定するものではない。
る錠剤を通常の技術により製造した: 2−(7−クロロ−1,8−ナフチリジン−2−イル) −3−(5−メチル−5−ヒドロキシ−2−オキソ ヘキシル)−1−イソインドリノン・・・・・・・・0.01g 殿粉・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.200g 沈殿したシリカ・・・・・・・・・・・・・・・・・・0.036g ステリン酸マグネシウム・・・・・・・・・・・・・・0.004g
Claims (4)
- 【請求項1】 構造式 【化1】 式中、同一もしくは相異なることができるR及び同一も
しくは相異なることができるR1は炭素原子1〜10個
を含むアルキル基を表し、G1は随時1個またはそれ以
上 のニトロ基で置換されていてもよいベンゾイル基を
表し、そしてnは3乃至13間の 整数を表し、 は、セルローストリフェニルカルバメートを表す、から
なる修飾されたパークルタイプの固相。 - 【請求項2】 Rの1つが炭素原子7〜10個を含むア
ルキル基を表し、他の2つが炭素原子1または2個を含
むアルキル基を表し、R1が同一であり、かつメチルま
たはエチル基を表し、G1が場合により1個またはそれ
以上のニトロ基で置換されていてもよいベンゾイル基を
表わし、そしてnが10に等しい、請求項1記載の修飾
されたパークルタイプの固相。 - 【請求項3】 G1が3,5−ジニトロベンゾイル基を表
す、請求項2記載の修飾されたパークルタイプの固相。 - 【請求項4】 Rがメチル基を表す、請求項2記載の修
飾されたパークルタイプの固相。
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