JP3335404B2 - プロセスフロー作成方法 - Google Patents
プロセスフロー作成方法Info
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Description
ス製造支援システムなどに用いる、複数個の工程を順次
処理する手続きを規定するプロセスフローを作成するシ
ステムに関するものである。
機能ブロック図を示すものであり、半導体の製品開発・
製造を行なう場合のプロセスフローの作成を例に挙げて
従来例を説明する。
を規定するプロセスフロー作成において、工程登録手段
101は、半導体の製品開発・製造を行なう時の基本と
なる処理条件を規定した工程群を工程テーブルに登録す
る。プロセスフロー作成手段102は、製品開発・製造
の目的に合わせて工程テーブルから所望の工程群を抽出
し、工程順序を規定し、各工程の処理条件を再規定し、
図7に示すプロセスフローテーブル103にプロセスフ
ロー名32,工程名33,処理条件104がデータアイ
テムとして登録される。このプロセスフローテーブル1
03の処理条件104はフォーマット化されずに設計者
が自由に記述している。
においては、プロセスフローは工程データおよびプロセ
スフローデータの2階層から構成されている。
では、プロセスおよびデバイスの不良解析の際に処理条
件104をキーとしたデータ検索ができないため、従来
では人手による膨大な時間をかけた検索が行われてい
る。
が可能なプロセスフロー作成方法を提供することを目的
とする。
作成方法は、複数の製造工程からなるプロセスのプロセ
スフロー作成方法であって、前記製造工程を構成する各
々の処理条件を個別に規定して処理条件マスター情報と
して処理条件テーブルに登録し、前記処理条件テーブル
に登録した処理条件群から必要な処理条件を抽出して組
み合わせることによって、前記製造工程を構成する一連
の処理条件を規定して工程マスター情報として工程テー
ブルに登録し、前記工程テーブルに登録した製造工程群
から必要な製造工程を抽出して組み合わせることによっ
て、前記プロセスフローを構成する一連の工程を順序を
含めて規定してプロセスフローテーブルに登録し、前記
処理条件を検索キーとしてプロセスフローデータを検索
することを可能としたことを特徴とする。
いた半導体の製品開発・製造を行なう場合のプロセスフ
ローの作成に適用した例を、図1〜図5に基づいて説明
する。
実施するプロセスフロー作成装置を示し、処理条件登録
手段10、工程作成手段20、プロセスフロー作成手段
30、プロセスフロー検索手段40から構成される。以
下それぞれについて詳しく説明する。
うに処理条件名12、単位13をデータアイテムとして
もつ条件名テーブル11に、レコード毎に半導体の製品
開発・製造を行なう時の基本単位となる工程を構成する
各々の処理条件名、単位を登録する。この時、処理条件
値を数値で表現できるもの(例えば温度、時間など)を
定量処理条件、数値で表現できないもの(例えば装置、
レシピーなど)を定性処理条件と定義し、定性処理条件
の単位13には“ * ”を登録する。また、定性処理
条件の場合(単位が“ * ”)には、図3に示すよう
に定性処理条件名16、定性条件値17をデータアイテ
ムとしてもつ定性条件値テーブル15に、レコード毎に
定性処理条件名、定性条件値を登録する。なお、一つの
定性処理条件名に対し設定可能な定性条件値を全て登録
する。
要な処理条件マスター情報として必要なだけ繰り返えさ
れる。工程作成手段20は、図4に示すように工程名2
2、処理条件名23、処理条件値24をデータアイテム
としてもつ工程テーブル21に、半導体の製品開発・製
造を行なう時の基本単位となる工程の既定処理条件を登
録する。この時、処理条件名は条件名テーブル11か
ら、定性処理条件値は定性条件値テーブル15から各々
選択したものを登録し、定量処理条件値はキーボードな
どから直接に登録する。これらの登録はプロセスフロー
を作成するために必要な工程マスター情報として必要な
だけ繰り返す。
すようにプロセスフロー名32、工程名33、処理条件
名34、処理条件値35をデータアイテムとしてもつプ
ロセスフローテーブル31に、目的とするプロセスおよ
びデバイスを作成するために工程順序および処理条件を
規定してプロセスフローを登録する。この時、工程テー
ブル21から工程を選択し、変更の必要がある処理条件
値は、定性の場合は定性条件値テーブル15から選択
し、定量の場合はキーボードなどから直接入力して登録
する。これらの登録を繰り返し、所望のプロセスフロー
を作成する。
フローテーブル31から処理条件名34、処理条件値3
5を検索キーとして所望の検索を行なう。これらの検索
はプロセスおよびデバイスの不良解析に用いられ、例え
ば洗浄時間が20分以上の不良な工程ばかりをコンピュ
ータで自動検索することもできる。
工程およびプロセスフローの3階層のデータ構造をとる
プロセスフローを作成することができる。なお、条件名
テーブル11,定性条件値テーブル15,工程テーブル
21,プロセスフローテーブル31の各テーブルの記憶
手段としては、補助記憶装置を用いることができるが、
主記憶装置を用いてもよい。またテーブルの代わりにリ
スト構造を用いた記憶手段を用いてもよい。
成方法によると、3階層のプロセスデータ構造をとるこ
とによって、プロセスおよびデバイスの不良解析の際に
は工程の各々の処理条件をキーにした検索を行なうこと
ができ、短時間に不良解析を実施でき、その実用的効果
は大きい。
装置の機能ブロック図
件名テーブルの説明図
性条件値テーブルの説明図
工程テーブルの説明図
ロセスフローテーブルの説明図
ブロック図
明図
Claims (1)
- 【請求項1】 複数の製造工程からなるプロセスのプロ
セスフロー作成方法であって、前記製造工程を構成する
各々の処理条件を個別に規定して処理条件マスター情報
として処理条件テーブルに登録し、前記処理条件テーブ
ルに登録した処理条件群から必要な処理条件を抽出して
組み合わせることによって、前記製造工程を構成する一
連の処理条件を規定して工程マスター情報として工程テ
ーブルに登録し、前記工程テーブルに登録した製造工程
群から必要な製造工程を抽出して組み合わせることによ
って、前記プロセスフローを構成する一連の工程を順序
を含めて規定してプロセスフローテーブルに登録し、前
記処理条件を検索キーとしてプロセスフローデータを検
索することを可能としたことを特徴とするプロセスフロ
ー作成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01779493A JP3335404B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | プロセスフロー作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01779493A JP3335404B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | プロセスフロー作成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06232019A JPH06232019A (ja) | 1994-08-19 |
JP3335404B2 true JP3335404B2 (ja) | 2002-10-15 |
Family
ID=11953623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01779493A Expired - Fee Related JP3335404B2 (ja) | 1993-02-05 | 1993-02-05 | プロセスフロー作成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3335404B2 (ja) |
-
1993
- 1993-02-05 JP JP01779493A patent/JP3335404B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06232019A (ja) | 1994-08-19 |
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